JPH05309319A - 回転塗布方法 - Google Patents
回転塗布方法Info
- Publication number
- JPH05309319A JPH05309319A JP11605492A JP11605492A JPH05309319A JP H05309319 A JPH05309319 A JP H05309319A JP 11605492 A JP11605492 A JP 11605492A JP 11605492 A JP11605492 A JP 11605492A JP H05309319 A JPH05309319 A JP H05309319A
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- Japan
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- coating
- disk
- paint
- resin
- coating agent
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 円盤状基板に紫外線硬化型樹脂等の塗料をス
ピンコート法により塗布する回転塗布方法において、塗
料塗布後のすじの発生を無くし外観不良を皆無として、
スピンコート工程における収率を向上させる。 【構成】 円盤状基板を低速回転させながら一定速度で
一定位置から一定量の塗料を円盤状基板に塗布した後、
高速回転させて余分な塗料を振り切って均一な被膜を形
成する回転塗布方法において、低速回転させながら塗料
を塗布する際に段階的にあるいは連続的に回転速度を落
として塗料を塗布する回転塗布方法。
ピンコート法により塗布する回転塗布方法において、塗
料塗布後のすじの発生を無くし外観不良を皆無として、
スピンコート工程における収率を向上させる。 【構成】 円盤状基板を低速回転させながら一定速度で
一定位置から一定量の塗料を円盤状基板に塗布した後、
高速回転させて余分な塗料を振り切って均一な被膜を形
成する回転塗布方法において、低速回転させながら塗料
を塗布する際に段階的にあるいは連続的に回転速度を落
として塗料を塗布する回転塗布方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は円盤状基板に紫外線硬化
型樹脂等の塗料をスピンコート法により塗布する回転塗
布方法に関するものである。
型樹脂等の塗料をスピンコート法により塗布する回転塗
布方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来知られている円盤状基板の樹脂被膜
方法は、例えば、光ディスクではグルーブと称される溝
が形成されたポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタク
リルレート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレ
フィン樹脂等の円盤状のプラスチック基板に、グルーブ
が形成された側とは反対側の面にハードコート剤と称さ
れる紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により回転塗布
してプラスチック基板全面に均一に行きわたらせた後、
紫外線を照射してハードコート膜を製膜する。
方法は、例えば、光ディスクではグルーブと称される溝
が形成されたポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタク
リルレート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレ
フィン樹脂等の円盤状のプラスチック基板に、グルーブ
が形成された側とは反対側の面にハードコート剤と称さ
れる紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により回転塗布
してプラスチック基板全面に均一に行きわたらせた後、
紫外線を照射してハードコート膜を製膜する。
【０００３】次に、真空蒸着法やスパッタ法等によりグ
ルーブが形成された側に記録膜を製膜して光ディスクを
作製する。この光ディスクの記録膜形成面側に保護コー
ト剤と称される紫外線硬化型樹脂をスピンコート法によ
り回転塗布して光ディスク全面に保護膜を製膜してい
た。
ルーブが形成された側に記録膜を製膜して光ディスクを
作製する。この光ディスクの記録膜形成面側に保護コー
ト剤と称される紫外線硬化型樹脂をスピンコート法によ
り回転塗布して光ディスク全面に保護膜を製膜してい
た。
【０００４】また、コンパクトディスクでは、予め所定
の情報信号が刻印された円盤状のプラスチック基板に、
情報信号が刻印されている側の面に真空蒸着法やスパッ
タ法により反射膜を製膜して、この反射膜形成面側に保
護コート剤と称される紫外線硬化型樹脂をスピンコート
法により回転塗布してコンパクトディスク全面に保護膜
を製膜していた。
の情報信号が刻印された円盤状のプラスチック基板に、
情報信号が刻印されている側の面に真空蒸着法やスパッ
タ法により反射膜を製膜して、この反射膜形成面側に保
護コート剤と称される紫外線硬化型樹脂をスピンコート
法により回転塗布してコンパクトディスク全面に保護膜
を製膜していた。
【０００５】このようにハードコート剤や保護コート剤
等の紫外線硬化型樹脂を円盤状基板にスピンコート法に
より回転塗布する場合には、低速回転時に一定速度で紫
外線硬化型樹脂を一定位置から一定量円盤状基板に塗布
し、その後、高速回転させて余分な紫外線硬化型樹脂を
振り切って均一な被膜を形成していた。
等の紫外線硬化型樹脂を円盤状基板にスピンコート法に
より回転塗布する場合には、低速回転時に一定速度で紫
外線硬化型樹脂を一定位置から一定量円盤状基板に塗布
し、その後、高速回転させて余分な紫外線硬化型樹脂を
振り切って均一な被膜を形成していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では、低速回転時に一定速度で紫外線硬化型樹脂を一
定位置から一定量円盤状基板に塗布すると、塗布開始時
には樹脂がノズルから定常状態時よりも多く塗布される
ため必然的に膨らんでしまい、一定量塗布終了後高速回
転で余分な樹脂を振り切る時に、前記膨らみ部分の樹脂
が外周方向へ振り切られるために、すじが発生し、その
まま硬化させると樹脂塗布面にすじが残って外観不良の
原因となっていた。
法では、低速回転時に一定速度で紫外線硬化型樹脂を一
定位置から一定量円盤状基板に塗布すると、塗布開始時
には樹脂がノズルから定常状態時よりも多く塗布される
ため必然的に膨らんでしまい、一定量塗布終了後高速回
転で余分な樹脂を振り切る時に、前記膨らみ部分の樹脂
が外周方向へ振り切られるために、すじが発生し、その
まま硬化させると樹脂塗布面にすじが残って外観不良の
原因となっていた。
【０００７】また、すじが発生しても硬化させる前に十
分な時間をとっていれば、このすじは消滅するが、これ
では著しく生産能力が低下してしまう。
分な時間をとっていれば、このすじは消滅するが、これ
では著しく生産能力が低下してしまう。
【０００８】本発明が解決しようとする課題は、円盤状
基板に紫外線硬化型樹脂等の塗料をスピンコート法によ
り塗布する回転塗布方法において、生産能力を低下させ
ることなく塗料塗布後のすじの発生をなくし外観不良を
皆無として、スピンコート工程における収率を向上させ
ることにある。
基板に紫外線硬化型樹脂等の塗料をスピンコート法によ
り塗布する回転塗布方法において、生産能力を低下させ
ることなく塗料塗布後のすじの発生をなくし外観不良を
皆無として、スピンコート工程における収率を向上させ
ることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するため、円盤状基板を低速回転させながら一定速度で
一定位置から一定量の塗料を円盤状基板に塗布した後、
高速回転させて余分な塗料を振り切って均一な被膜を形
成する回転塗布方法において、低速回転させながら塗料
を塗布する際に段階的にあるいは連続的に回転速度を落
として塗料を塗布することを特徴とする回転塗布方法を
提供する。
するため、円盤状基板を低速回転させながら一定速度で
一定位置から一定量の塗料を円盤状基板に塗布した後、
高速回転させて余分な塗料を振り切って均一な被膜を形
成する回転塗布方法において、低速回転させながら塗料
を塗布する際に段階的にあるいは連続的に回転速度を落
として塗料を塗布することを特徴とする回転塗布方法を
提供する。
【００１０】本発明で使用する塗料は、スピンコート法
に適用できる塗料で有れば、熱硬化型塗料及び紫外線硬
化型塗料とも、特に制限なく使用することができるが、
光ディスクの分野の如き熱による基板等の変形が製品の
欠陥に直結する分野では、紫外線硬化型塗料を使用する
ことが望ましい。
に適用できる塗料で有れば、熱硬化型塗料及び紫外線硬
化型塗料とも、特に制限なく使用することができるが、
光ディスクの分野の如き熱による基板等の変形が製品の
欠陥に直結する分野では、紫外線硬化型塗料を使用する
ことが望ましい。
【００１１】
【作用】本発明によれば、円盤状基板を低速回転させな
がら一定速度で一定位置から一定量の塗料を円盤状基板
に塗布した後、高速回転させて余分な塗料を振り切って
均一な被膜を形成する回転塗布方法において、低速回転
させて塗料を塗布する際に段階的にあるいは連続的に回
転速度を落として塗料を塗布するので、塗布開始時に樹
脂がノズルから定常状態時よりも多く塗布されても次の
段階の回転速度の方が遅いためディスク上での塗料の塗
布状態は常に一定状態となり、従って、塗料塗布開始時
の膨らみが生じることがなく一定量塗布終了後高速回転
で余分な樹脂を振り切っても、樹脂が均一に外周方向へ
振り切られるためにすじが発生することはなく外観不良
は皆無となる。
がら一定速度で一定位置から一定量の塗料を円盤状基板
に塗布した後、高速回転させて余分な塗料を振り切って
均一な被膜を形成する回転塗布方法において、低速回転
させて塗料を塗布する際に段階的にあるいは連続的に回
転速度を落として塗料を塗布するので、塗布開始時に樹
脂がノズルから定常状態時よりも多く塗布されても次の
段階の回転速度の方が遅いためディスク上での塗料の塗
布状態は常に一定状態となり、従って、塗料塗布開始時
の膨らみが生じることがなく一定量塗布終了後高速回転
で余分な樹脂を振り切っても、樹脂が均一に外周方向へ
振り切られるためにすじが発生することはなく外観不良
は皆無となる。
【００１２】
【実施例】以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
【００１３】（実施例１）図１に示したように円盤状基
板である光ディスク１を記録膜２の形成面側を上にして
ターンテーブル３に設置し、次に記録膜２の形成面側を
保護するために保護コート剤「ＳＤ−３０１」（大日本
インキ化学工業社製）４を塗布した。
板である光ディスク１を記録膜２の形成面側を上にして
ターンテーブル３に設置し、次に記録膜２の形成面側を
保護するために保護コート剤「ＳＤ−３０１」（大日本
インキ化学工業社製）４を塗布した。
【００１４】この場合、ターンテーブル３を ９０rpmの
低速で回転させると同時に、１．９kgf／cm2の圧力でφ
１．０５mmの塗布用ノズル５を光ディスク１の中心より
半径２３mmの位置であって、光ディスクの面上１mmの位
置に移動させて保護コート剤４の塗布を開始し、塗布開
始後０．４秒後に回転を ７５rpmまで減速し、さらに
０．２秒後に回転を ６０rpmまで減速して、その後２秒
間６０rpm の低速回転のままで樹脂の塗布を行った。
低速で回転させると同時に、１．９kgf／cm2の圧力でφ
１．０５mmの塗布用ノズル５を光ディスク１の中心より
半径２３mmの位置であって、光ディスクの面上１mmの位
置に移動させて保護コート剤４の塗布を開始し、塗布開
始後０．４秒後に回転を ７５rpmまで減速し、さらに
０．２秒後に回転を ６０rpmまで減速して、その後２秒
間６０rpm の低速回転のままで樹脂の塗布を行った。
【００１５】この状態を目視観察したところ、図２及び
図３に示すように塗布開始時の樹脂の膨らみは一切見ら
れなかった。
図３に示すように塗布開始時の樹脂の膨らみは一切見ら
れなかった。
【００１６】塗布終了後、 ６０００rpmの高速回転で光
ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ちに紫
外線を照射して樹脂を硬化させて保護コート膜を形成し
たが、保護コート膜には、すじは全く見られなかった。
ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ちに紫
外線を照射して樹脂を硬化させて保護コート膜を形成し
たが、保護コート膜には、すじは全く見られなかった。
【００１７】（実施例２）図４に示したように、円盤状
基板である光ディスク１を記録膜２の形成面側を下にし
てターンテーブル３に設置し、次に記録膜２の形成面側
とは反対側の面にハードコート剤「ＥＸ−７０４」（大
日本インキ化学工業社製）６を塗布した。
基板である光ディスク１を記録膜２の形成面側を下にし
てターンテーブル３に設置し、次に記録膜２の形成面側
とは反対側の面にハードコート剤「ＥＸ−７０４」（大
日本インキ化学工業社製）６を塗布した。
【００１８】この場合、ターンテーブル３を １２０rpm
の低速で回転させると同時に０．４kgf／cm2の圧力でφ
１．０５mmの塗布用ノズル５を光ディスク１の中心より
半径２２．５mmの位置であって、光ディスクの面上１mm
の位置に移動させてハードコート剤６の塗布を開始し、
塗布開始後０．５秒後に回転を ９０rpmまで減速し、さ
らに０．３秒後に回転を ６０rpmまで減速して、その後
１秒間 ６０rpmの低速回転のままで樹脂の塗布を行っ
た。
の低速で回転させると同時に０．４kgf／cm2の圧力でφ
１．０５mmの塗布用ノズル５を光ディスク１の中心より
半径２２．５mmの位置であって、光ディスクの面上１mm
の位置に移動させてハードコート剤６の塗布を開始し、
塗布開始後０．５秒後に回転を ９０rpmまで減速し、さ
らに０．３秒後に回転を ６０rpmまで減速して、その後
１秒間 ６０rpmの低速回転のままで樹脂の塗布を行っ
た。
【００１９】この状態を目視観察したところ、図２及び
図３に示したのと同様に塗布開始時の樹脂の膨らみは一
切見られなかった。
図３に示したのと同様に塗布開始時の樹脂の膨らみは一
切見られなかった。
【００２０】塗布終了後、 ６０００rpmの高速回転で光
ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ちに紫
外線を照射して樹脂を硬化させてハードコート膜を形成
したが、ハードコート膜には,すじは全く見られなかっ
た。
ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ちに紫
外線を照射して樹脂を硬化させてハードコート膜を形成
したが、ハードコート膜には,すじは全く見られなかっ
た。
【００２１】（比較例１）図１に示したように、円盤状
基板である光ディスク１を記録膜２の形成面側を上にし
てターンテーブル３に設置し、次に記録膜２の形成面側
を保護するために保護コート剤「ＳＤ−３０１」（大日
本インキ化学工業社製）４を塗布した。
基板である光ディスク１を記録膜２の形成面側を上にし
てターンテーブル３に設置し、次に記録膜２の形成面側
を保護するために保護コート剤「ＳＤ−３０１」（大日
本インキ化学工業社製）４を塗布した。
【００２２】この場合、ターンテーブル３を ６０rpmの
低速で回転させると同時に、１．９kgf／cm2の圧力でφ
１．０５mmの塗布用ノズル５を光ディスク１の中心より
半径２３mmの位置であって、光ディスクの面上１mmの位
置に移動させて保護コート剤４の塗布を開始し、２．６
秒間 ６０rpmの一定速度のままで樹脂の塗布を行った。
低速で回転させると同時に、１．９kgf／cm2の圧力でφ
１．０５mmの塗布用ノズル５を光ディスク１の中心より
半径２３mmの位置であって、光ディスクの面上１mmの位
置に移動させて保護コート剤４の塗布を開始し、２．６
秒間 ６０rpmの一定速度のままで樹脂の塗布を行った。
【００２３】この状態を目視観察したところ、図５及び
図６に示すように塗布開始時の樹脂の膨らみ７が見られ
た。
図６に示すように塗布開始時の樹脂の膨らみ７が見られ
た。
【００２４】塗布終了後、 ６０００rpmの高速回転で光
ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ちに紫
外線を照射して樹脂を硬化させて保護コート膜を形成し
たところ保護コート膜にすじが見られた。
ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ちに紫
外線を照射して樹脂を硬化させて保護コート膜を形成し
たところ保護コート膜にすじが見られた。
【００２５】また塗布終了後、 ６０００rpmの高速回転
で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切るとすじ
が発生するので、このすじが消滅するまで待ったところ
６０秒以上の時間がかかってしまった。
で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切るとすじ
が発生するので、このすじが消滅するまで待ったところ
６０秒以上の時間がかかってしまった。
【００２６】（比較例２）図５に示したように、円盤状
基板である光ディスク１を記録膜２の形成面側を下にし
てターンテーブル３に設置し、次に記録膜２の形成面側
とは反対側の面にハードコート剤「ＥＸ−７０４」（大
日本インキ化学工業社製）６を塗布した。
基板である光ディスク１を記録膜２の形成面側を下にし
てターンテーブル３に設置し、次に記録膜２の形成面側
とは反対側の面にハードコート剤「ＥＸ−７０４」（大
日本インキ化学工業社製）６を塗布した。
【００２７】この場合、ターンテーブル３を ６０rpmの
低速で回転させると同時に、０．４kgf／cm2の圧力でφ
１．０５mmの塗布用ノズル５を光ディスク１の中心より
半径２２．５mmの位置であって、光ディスクの面上１mm
の位置に移動させてハードコート剤６の塗布を開始し、
１．８秒間 ６０rpmの一定速度のままで樹脂の塗布を行
った。
低速で回転させると同時に、０．４kgf／cm2の圧力でφ
１．０５mmの塗布用ノズル５を光ディスク１の中心より
半径２２．５mmの位置であって、光ディスクの面上１mm
の位置に移動させてハードコート剤６の塗布を開始し、
１．８秒間 ６０rpmの一定速度のままで樹脂の塗布を行
った。
【００２８】この状態を目視観察したところ、図５及び
図６に示したのと同様に塗布開始時の樹脂の膨らみ７が
見られた。
図６に示したのと同様に塗布開始時の樹脂の膨らみ７が
見られた。
【００２９】塗布終了後、 ６０００rpmの高速回転で光
ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ちに紫
外線を照射して樹脂を硬化させてハードコート膜を形成
したところハードコート膜にすじが見られた。
ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ちに紫
外線を照射して樹脂を硬化させてハードコート膜を形成
したところハードコート膜にすじが見られた。
【００３０】また塗布終了後、 ６０００rpmの高速回転
で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切るとすじ
が発生するので、このすじが消滅するまで待ったところ
６０秒以上の時間がかかってしまった。
で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切るとすじ
が発生するので、このすじが消滅するまで待ったところ
６０秒以上の時間がかかってしまった。
【００３１】
【発明の効果】本発明の回転塗布方法によれば、塗布開
始時に樹脂がノズルから定常状態時よりも多く塗布され
ても次の段階の回転速度の方が遅いため、ディスク上で
の塗料の塗布状態は常に一定状態となり、従って、塗料
塗布開始時の膨らみが生じることがなく、一定量塗布終
了後、高速回転で余分な樹脂を振り切っても、樹脂が均
一に外周方向へ振り切られるために、すじが発生するこ
とがなく、外観不良が皆無となる。
始時に樹脂がノズルから定常状態時よりも多く塗布され
ても次の段階の回転速度の方が遅いため、ディスク上で
の塗料の塗布状態は常に一定状態となり、従って、塗料
塗布開始時の膨らみが生じることがなく、一定量塗布終
了後、高速回転で余分な樹脂を振り切っても、樹脂が均
一に外周方向へ振り切られるために、すじが発生するこ
とがなく、外観不良が皆無となる。
【図１】スピンコート法により円盤状基板に塗料を塗布
する場合の概念図であって、実施例１及び比較例１に記
載した保護コート剤を塗布する場合の光ディスクをター
ンテーブルに設置したときの側面図である。
する場合の概念図であって、実施例１及び比較例１に記
載した保護コート剤を塗布する場合の光ディスクをター
ンテーブルに設置したときの側面図である。
【図２】実施例１又は実施例２に記載の本発明による塗
布方法により光ディスクに保護コート剤又はハードコー
ト剤を塗布した場合、一定量の樹脂を塗布した後の塗布
状態を示す平面図である。
布方法により光ディスクに保護コート剤又はハードコー
ト剤を塗布した場合、一定量の樹脂を塗布した後の塗布
状態を示す平面図である。
【図３】実施例１又は実施例２に記載の本発明による塗
布方法により光ディスクに保護コート剤又はハードコー
ト剤を塗布した場合、一定量の樹脂を塗布した後の塗布
状態を示す側面図である。
布方法により光ディスクに保護コート剤又はハードコー
ト剤を塗布した場合、一定量の樹脂を塗布した後の塗布
状態を示す側面図である。
【図４】スピンコート法により円盤状基板に塗料を塗布
する場合の概念的な図で、実施例２及び比較例２に記載
したハードコート剤を塗布する場合の光ディスクをター
ンテーブルに設置したときの側面図である。
する場合の概念的な図で、実施例２及び比較例２に記載
したハードコート剤を塗布する場合の光ディスクをター
ンテーブルに設置したときの側面図である。
【図５】比較例１又は比較例２に記載の本発明による塗
布方法により光ディスクに保護コート剤又はハードコー
ト剤を塗布した場合、一定量の樹脂を塗布した後の塗布
状態を示す平面図である。
布方法により光ディスクに保護コート剤又はハードコー
ト剤を塗布した場合、一定量の樹脂を塗布した後の塗布
状態を示す平面図である。
【図６】比較例１又は比較例２に記載の本発明による塗
布方法により光ディスクに保護コート剤又はハードコー
ト剤を塗布した場合、一定量の樹脂を塗布した後の塗布
状態を示す側面図である。
布方法により光ディスクに保護コート剤又はハードコー
ト剤を塗布した場合、一定量の樹脂を塗布した後の塗布
状態を示す側面図である。
１ 光ディスク ２ 記録膜 ３ ターンテーブル ４ 保護コート剤 ５ 塗料塗布用ノズル ６ ハードコート剤 ７ 塗布開始時の塗料の膨らみ
Claims (1)
- 【請求項１】 円盤状基板を低速回転させながら一定速
度で一定位置から一定量の塗料を円盤状基板に塗布した
後、高速回転させて余分な塗料を振り切って均一な被膜
を形成する回転塗布方法において、低速回転させながら
塗料を塗布する際に段階的にあるいは連続的に回転速度
を落として塗料を塗布することを特徴とする回転塗布方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11605492A JPH05309319A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 回転塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11605492A JPH05309319A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 回転塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05309319A true JPH05309319A (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=14677565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11605492A Pending JPH05309319A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 回転塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05309319A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022158627A1 (ko) * | 2021-01-20 | 2022-07-28 | 한밭대학교 산학협력단 | Bipv용 컬러유리 제조방법 |
-
1992
- 1992-05-08 JP JP11605492A patent/JPH05309319A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022158627A1 (ko) * | 2021-01-20 | 2022-07-28 | 한밭대학교 산학협력단 | Bipv용 컬러유리 제조방법 |
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