JP2603361B2 - 磁気ディスク装置 - Google Patents

磁気ディスク装置

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JP2603361B2 JP2237867A JP23786790A JP2603361B2 JP 2603361 B2 JP2603361 B2 JP 2603361B2 JP 2237867 A JP2237867 A JP 2237867A JP 23786790 A JP23786790 A JP 23786790A JP 2603361 B2 JP2603361 B2 JP 2603361B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、浮上型磁気ヘッドを備えた磁気ディスク装
置(光磁気ディスク装置を含む)に関するものである。
〔従来の技術〕
浮上型磁気ヘッドを備えた磁気ディスク装置、例え
ば、光磁気ディスク装置では、第8図に示すように、小
型の磁気ヘッド1を浮上スライダ2に搭載して浮上型磁
気ヘッド3を構成し、基板4aと、垂直磁化膜を含む記録
層4bと、保護層4cとを有する光磁気ディスク4をモータ
5により回転させ、光磁気ディスク4と浮上スライダ2
との間に流れる空気により、浮上型磁気ヘッド3をサス
ペンション6による図中下向きの押圧とバランスさせな
がら、光磁気ディスク4から数μm〜数10μm程度のほ
ぼ一定の浮上量で浮上させるようになっている。
この状態で、光ヘッド7から光磁気ディスク4の記録
層4bにレーザ光を集光して昇温させながら、駆動回路8
から浮上型磁気ヘッド3に磁界駆動電流を供給し、光磁
気ディスク4の厚み方向の上向き又は下向きに反転する
磁界を光磁気ディスク4に印加する。これにより、磁界
変調記録方式によるオーバライトを行って、既に記録さ
れている情報の消去過程を経ることなく、新たな情報を
記録することができる。
ところで、光磁気ディスク装置において、光磁気ディ
スク4の回転停止時には浮上スライダ2が光磁気ディス
ク4の表面に接触した状態にあり、光磁気ディスク4の
回転の開始に伴って浮上型磁気ヘッド3が光磁気ディス
ク4上で滑走しながら浮上を開始する、いわゆるコンタ
クトスタートストップ方式(以下、CSS方式と呼ぶ)を
採用している場合、記録層4bの設けられている領域を覆
う保護層4c上で光磁気ディスク4を滑走させると、記録
層4bに損傷が生じやすい。
そこで、浮上型磁気ヘッド3の浮上の開始及び終了時
における滑走を記録層4bの設けられている領域以外の領
域に設定された滑走領域上で行うことにより、記録層4b
の損傷を回避する構成が本件出願人により特許出願され
ている(特願平1−288321号参照)。
なお、その場合、保護層4cを形成した後、保護層4c上
に浮上型磁気ヘッド3と保護層4cとの間の摩擦力を低減
させるための潤滑剤を塗布することが好ましい。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、上記の構成では、滑走領域上で繰返し浮上
スライダ2の滑走を行わせている間に、浮上スライダ2
と滑走領域における潤滑剤との間の摩擦力により潤滑剤
が磨耗して次第に剥離し、浮上スライダ2と滑走領域と
の間で吸着が生じたり、磁気ヘッド1が破損する等の不
具合が発生する恐れがあった。
すなわち、第9図は滑走を3万回行った後の光磁気デ
ィスク4の滑走領域を模式的に示すものであって、同図
中領域Aは潤滑剤が充分に残存しており、領域Bは潤滑
剤が僅かに残存しており、又、領域Cは潤滑剤が殆ど残
っていない。
一方、第10図は滑走を3万回行った後の浮上スライダ
2の滑走領域に対向する側の表面状態を模式的に示すも
のであり、ハッチングを施した領域Aに滑走領域から剥
離した潤滑剤が付着している。浮上スライダ2には、特
に、サイドエッジ部に潤滑剤が多量に付着しているが、
このサイドエッジ部は第9図の滑走領域における潤滑剤
の残っていない領域Cに対応する。
このように、記録領域以外に設けた滑走領域で浮上ス
ライダ2の滑走を行わせるようにすると、記録層4bの損
傷は生じにくくなるが、浮上スライダ2の吸着、磁気ヘ
ッド1の損傷等の問題は充分に解決できないものであっ
た。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る磁気ディスク装置は、上記の課題を解決
するために、磁気ディスクの回転に伴う空気流により浮
上圧を受けて上記磁気ディスクの表面から浮上する浮上
型磁気ヘッドを備えた磁気ディスク装置において、磁気
ディスクの回転の開始時及び終了時における磁気ディス
ク上での浮上型磁気ヘッドの滑走が記録領域以外に設定
した滑走領域内で行われ、かつ、滑走領域内での浮上型
磁気ヘッドの走行半径位置が不定位置となるように制御
されることを基本的な特徴とするものである。ここで、
磁気ディスク装置は、通常の磁気ディスク装置及び記録
又は再生時に光ヘッドにより光の照射を行う光磁気ディ
スク装置を含むものである。
なお、上記磁気ディスクが磁気ディスク装置から取出
し可能とされて複数の磁気ディスク装置で使用できるよ
うにされている場合、滑走領域内における浮上型磁気ヘ
ッドの滑走半径位置を個々の磁気ディスク装置により変
化させることが好ましい。
上記磁気ディスク装置は、例えば、磁気ディスクの回
転の開始時及び終了時における浮上型磁気ヘッドの滑走
半径位置が滑走領域内の異なる半径位置となるように制
御する制御手段を備えることができる。
又、磁気ディスク装置は、滑走領域内での浮上型磁気
ヘッドの滑走半径位置がランダムに変化するように制御
する制御手段を備えていても良い。
〔作 用〕
上記の磁気ディスク装置においては、浮上型磁気ヘッ
ドを記録領域とは異なる半径位置に設定した滑走領域内
で滑走させるようにしたので、浮上型磁気ヘッドによる
記録領域の損傷は生じにくくなる。
更に、滑走領域内における浮上型磁気ヘッドの滑走半
径位置を一定半径位置とはせずに不定の半径位置とした
ので、滑走領域内の磨耗が各半径位置に分散され、各半
径位置の磨耗量が減少するので、浮上型磁気ヘッド及び
磁気ディスクの寿命が伸びるようになる。
又、浮上型磁気ヘッドの他に光ヘッドを備えた磁気デ
ィスク装置(光磁気ディスク装置)等においては、磁気
ヘッドを磁気ディスク装置から取り出すことができ、従
って、1枚の磁気ディスクを複数の磁気ディスク装置で
使用できるようになっている。
この場合、個々の磁気ディスク装置で滑走領域内にお
ける滑走半径位置をそれぞれ相違させることにより、滑
走領域内の各半径位置の磨耗を分散させることができ
る。
又、上記のように浮上型磁気ヘッドの滑走半径位置を
滑走領域内で変化させる場合に、磁気ディスクの回転の
開始時及び終了時における浮上型磁気ヘッドの滑走半径
位置が滑走領域内の互いに異なる半径位置となるように
制御すると、滑走半径位置を2つの半径位置間で交互に
変化させるのみで良いから、滑走半径位置の制御が比較
的容易に行え、かつ、一定半径位置で滑走させる場合に
比べて各半径位置の磨耗を減少させることができる。
又、滑走半径位置を滑走領域内でランダムに変化させ
るようにすると、滑走領域及び浮上型磁気ヘッドの磨耗
を一層低減させることができる。
〔実施例1〕 請求項第1項及び第2項に関連する本発明の一実施例
を第1図乃至第3図に基づいて説明すれば、以下の通り
である。
第1図(a)及び第2図に示すように、光磁気ディス
ク11は、レーザビームを案内するための案内溝及びアド
レスを示すピット等(図示せず)が予め形成されたガラ
ス、ポリカーボネイト又はアモルファスポリオレフィン
等からなる透光性の基板11a上に、垂直磁化膜を有する
記録層11bが形成され、更に、記録層11bが紫外線硬化樹
脂等からなる保護層11cによ被覆された構成である。
記録層11bは、例えば、基板11a側から、第1の透光性
誘電体膜としてのAlN膜(膜厚800Å)、垂直磁化膜とし
てのDyFeCo膜(膜厚200Å)、第2の透光性誘電体膜と
してのAlN膜(膜厚250Å)及び反射膜としてのAl膜(膜
厚500Å)が順次スパッタリング等により形成されてな
り、4層構造をなしている。
又、保護層11cは、例えば、ウレタンアクリレートと
アクリル酸エステルモノマーの混合物(粘度300cps)を
スピンコート法等で塗布した後、紫外線を約600mJ/cm2
の強度で照射して硬化させたものである。
光磁気ディスク11はデータの記録を行う記録領域D及
び記録領域Dより内周寄りの滑走領域Eを有し、滑走領
域Eより更に内周側の領域はチャッキング領域となって
いる。後述する浮上スライダ15と滑走領域Eにおける保
護層11cとの間の摩擦を低減させるため、滑走領域Eに
おける保護層11cの表面に、例えば、3000メッシュ程度
のラッピングペーパーにより微細な凹凸を設けたり、或
いは、滑走領域Eにおける保護層11cの表面にパーフル
オロポリエーテル(例えば、デュポン社製の「クライト
ックス」)等の潤滑剤が塗布される。なお、記録層11b
は少なくとも記録領域Dに形成されていれば良く、滑走
領域Eには記録層11bが形成されていなくても良い。
光磁気ディスク11に記録・再生を行う光磁気ディスク
装置は、記録及び再生時にレーザ光を照射するレーザ光
源、及び記録又は再生時に光磁気ディスク11からの反射
光を受光する受光素子等を内蔵した光ヘッド12と、大略
コ字形状のアーム部材13を介して光ヘッド12と連結され
た浮上型磁気ヘッド14とを備えている。
浮上型磁気ヘッド14は、第3図にも示すように、光磁
気ディスク11の滑走領域E上で滑走する浮上スライダ15
を備え、浮上スライダ15は、例えば、CaTiO3等のセラミ
ックスにより形成されている。
浮上スライダ15のディスク回転方向における前端部に
は、この浮上スライダ15と光磁気ディスク11との間に空
気を流入させるための、10゜以内の傾斜が付与された傾
斜面15aが形成されている。傾斜面15aの後方には、傾斜
面15aから流入する空気による浮上圧を受けて、安定し
た浮上状態を保つための平坦な底面15bが設けられてい
る。
浮上スライダ15の長手方向中間部の上部に設けられた
取付け溝15cには、浮上スライダ15を光磁気ディスク11
側に押圧するサスペンション16の一端部が取り付けられ
るようになっている。このサスペンション16の他端部
は、アーム部材13により支持されている。
浮上スライダ15の後端部近傍には、磁気ヘッド17が取
り付けられている。磁気ヘッド17は、例えば、MnZnフェ
ライト等からなるコアにコイルが巻回されたものであ
る。なお、光磁気ディスク11はモータ18により回転駆動
されるようになっている。
上記の構成において、光磁気ディスク11が光磁気ディ
スク装置における所定位置にセットされると、まず、浮
上スライダ15が滑走領域E内における浮上開始半径位置
(滑走開始半径位置)に移動させられる。この浮上開始
半径位置は、個々の光磁気ディスク装置により、それぞ
れ異なる位置となるように設定されている。
例えば、第1図(a)に示す光磁気ディスク装置で
は、滑走開始半径位置が滑走領域Eにおける内周寄りの
位置に設定されている。又、第1図(b)に示す他の光
磁気ディスク装置では、滑走開始半径位置が滑走領域E
における半径方向中間部に設定されている。一方、第1
図(c)に示す更に別の光磁気ディスク装置では、滑走
開始半径位置が滑走領域Eにおける外周寄りに設定され
ている。
浮上スライダ15の浮上開始半径位置への移動が完了す
ると、モータ18による光磁気ディスク11の回転駆動が開
始される。回転速度の上昇に伴って、光磁気ディスク11
と浮上スライダ15との間に流れる空気により、浮上スラ
イダ15は浮上圧を受ける一方、サスペンション16により
浮上圧と逆方向の一定の押圧を受けることにより、所定
の高さ、例えば、光磁気ディスク11との間で数μm〜数
10μm程度の一定の間隙を有する高さで浮上する。
この状態で、浮上スライダ15及び光ヘッド12を記録領
域D内の所望の半径位置に移動させ、光ヘッド12から光
磁気ディスク11の記録層11bにレーザパワー2.5〜6mW程
度のレーザ光を集光して照射し、記録層11b中のDyFeCo
等の垂直磁化膜をキュリー温度(又は保磁力がほぼ“0"
になる温度)近傍まで昇温させた上で、記録すべき情報
に応じて第1図(a)の上向きと下向きとに反転する磁
界を磁気ヘッド17により印加する。これにより、既に記
録されている情報の消去過程を経ることなく、オーバラ
イト方式で情報の記録を行うことができる。
一方、記録された情報の再生は、光ヘッド12からレー
ザパワー0.5〜1.0mW程度の直線偏光のレーザ光を集光し
て照射し、光ヘッド12からの反射光における偏光面の回
転方向を検出することにより行われる。
光磁気ディスク11に対する記録又は再生を終了する
時、或いは光磁気ディスク11を取り出す時には、浮上ス
ライダ15を滑走領域E内の元の浮上開始半径位置に移動
させた後、モータ18の回転を終了させる。これにより、
浮上スライダ15は滑走領域E内の上記浮上開始半径位置
で滑走した後、光磁気ディスク11の回転の停止に伴って
停止する。
上記の構成によれば、浮上スライダ15の浮上開始半径
位置が個々の光磁気ディスク装置により異なるので、1
枚の光磁気ディスク11を複数の光磁気ディスク装置で使
用する場合、滑走領域E内における磨耗が各半径位置に
分散される。これにより、光磁気ディスク11及び磁気ヘ
ッド17が長寿命化されるものである。
〔実施例2〕 次に、請求項第1項及び第3項に関連する本発明の第
2実施例を第4図及び第5図に基づいて説明する。
第4図及び第5図に示すように、この第2実施例は光
ヘッドを使用しない通常の磁気ディスク21に記録再生を
行う磁気ディスク装置に関するものである。磁気ディス
ク21は基板21aと、基板21a上に形成された磁気記録層21
bと、磁気記録層21bを覆う保護層21cとを備えている。
基板21aは、例えば、Al−Mg合金又はAlからなる円板
を充分に研磨した後、Ni−P系の下地を形成して3000〜
6000メッシュのラッピングペーパーにより200〜500Åの
凹凸を付与(メカニカルテクスチャー処理)するか、或
いは、酸化処理(いわゆる、アルマイト処理)等で200
〜500Åの凹凸を付与(ケミカルテクスチャー処理)す
ることにより製造される。
上記の基板21a上にCo−Cr−Ta膜(膜厚500Å)及びカ
ーボン膜(膜厚200Å)を順次スパッタリングにより形
成し、磁気記録層21b及び保護層21cを形成する。更に、
磁気ディスク21の表面の潤滑性を向上させ、磁気ディス
ク21と浮上型磁気ヘッド14との間の吸着と磨耗を低減さ
せるため、保護層21c上にパーフルオロポリエーテル等
の潤滑剤(図示せず)が塗布される。
磁気ディスク21上には、上記の実施例と同様に、記録
領域Dと、それより内周側の滑走領域Eとが設定され、
磁気記録層21bは少なくとも記録領域Dに形成されると
ともに、浮上スライダ15の滑走は、記録の行われない滑
走領域E内のみで行われるようになっている。
磁気ディスク21に記録再生を行う浮上型磁気ヘッド14
(第3図参照)、基本的に上記の実施例と同様に構成さ
れている(上記の実施例と同様の構成を有する部位に同
一参照番号を付して説明を省略する)。但し、ここで
は、サスペンション16により支持される浮上スライダ15
はAl2O3−TiC等のセラミックス又はフェライト等により
形成される。又、磁気ディスク装置においては、一般
に、光磁気ディスク装置より浮上スライダ15の浮上量が
小さく設定されるので、必要に応じて浮上スライダ15の
底面15bに磁気ディスク21の回転方向に沿う溝(第3図
には図示せず)が形成される。
サスペンション16を支持するアーム部材13は駆動部22
により磁気ディスク21の半径方向に移動させられるよう
になっている。又、コントローラ23はモータ18の起動或
いは停止を指示する起動或いは停止信号及び浮上型磁気
ヘッド14の半径位置を示す位置信号等に基づいて、駆動
部22に駆動信号を供給するようになっている。
上記の構成において、磁気ディスク装置の電源が投入
されると、モータ18による磁気ディスク21の回転駆動が
開始される。この時、浮上スライダ15は、滑走領域E内
における実線で示すIの半径位置にあり、滑走領域E上
で滑走した後、磁気ディスク21の回転速度の上昇に伴っ
て空気流により浮上圧を受け、サスペンション16による
図中下向きの押圧とバランスする高さ、すなわち、磁気
ディスク21との間に0.1μm〜数μm程度の間隔を保つ
高さまで浮上する。
この状態で、浮上スライダ15が記録領域D内の所望の
半径位置に移動させられ、磁気ヘッド17により記録すべ
きデータに応じて反転する高周波磁界が磁気記録層21b
に印加されて、記録が行われる。一方、再生は、記録状
態と未記録状態で磁束密度が異なることに基づいて磁気
ヘッド17により行われる。
磁気ディスク21の回転を終了する際には、コントロー
ラ23からの駆動部22に対する指令に基づいて、浮上スラ
イダ15が滑走領域E内の仮想線IIで示す半径位置に移動
させられる。この状態で、モータ18の回転速度が次第に
低下させられると、浮上スライダ15は滑走領域E上で滑
走した後、モータ18の回転の停止に伴って滑走領域E上
で停止する。このように、磁気ディスク21の回転の終了
時には、滑走領域E内における回転の開始時とは異なる
半径位置IIで浮上スライダ15の滑走が行われる。
なお、浮上スライダ15をIIの半径位置で滑走させて停
止させた後、再度、磁気ディスク21の回転が開始されれ
ば、今度は浮上スライダ15がIIの半径位置で滑走して浮
上し、次の停止時にはIの半径位置で滑走して停止す
る。以下、磁気ディスク21の回転を開始させる毎に、回
転開始時の滑走位置をIとIIの間で交互に反転させ、回
転終了時の滑走位置はその直前の回転開始時の滑走位置
と逆の半径位置とすれば良い。
以上では、磁気ディスク装置について説明したが、こ
れに限らず、本実施例は光磁気ディスク装置にも適用で
きるものである。なお、光磁気ディスク装置では、光磁
気ディスクが取出し可能となっているので、例えば、上
記のIの半径位置を回転開始時の滑走位置として固定
し、IIの半径位置を回転終了時の滑走位置として固定し
ても良い。
〔実施例3〕 次に、請求項第1項及び第4項に関連する本発明の第
3実施例を説明する。
第6図及び第7図に示すように、この実施例は光磁気
ディスク装置に関するものである。光磁気ディスク31は
透光性の基板31aと、基板31a上に形成される記録層31b
と、紫外線硬化型樹脂等からなり記録層31bを被覆する
保護層31cとを備えている。
記録層31bは、例えば、基板31a側から第1のSiAlON膜
(800Å)、垂直磁化膜としてのTbCo(1000Å)及び第
2のSiAlON膜(800Å)を順次積層してなる。
又、保護層31c上には、潤滑剤としてのポリテトラフ
ルオロエチレンの粉体(例えば、ダイキン社製「ルブロ
ンLA」)が塗布されている。
浮上型磁気ヘッド14及び光ヘッド12は、第1実施例と
同様に構成され、又、浮上型磁気ヘッド14及び光ヘッド
12を一体的に光磁気ディスク31の半径方向に移動させる
駆動部22と、駆動部22に駆動信号を供給するコントロー
ラ23とが設けられている。コントローラ23には、浮上ス
ライダ15の浮上開始半径位置を決定するためのランダム
信号が図示しない乱数発生器等から入力され、かつ、こ
のランダム信号に対応する滑走領域E内の浮上スライダ
15の半径位置を示す位置信号が図示しない半径位置設定
手段から入力されるようになっている。
上記の構成において、光磁気ディスク装置に光磁気デ
ィスク31が装着されると、コントローラ23にランダム信
号が送られ、このランダム信号に基づいて滑走領域E内
での浮上スライダ15の浮上開始半径位置が決定され、駆
動部22により浮上スライダ15が上記の浮上開始半径位置
に移動させられる。この状態で、光磁気ディスク31の回
転が開始され、浮上スライダ15は滑走領域E上で滑走し
た後、浮上する。その後、浮上スライダ15及びヘッド12
を記録領域D上の所望の半径位置に移動させ、記録又は
再生を行う。
光磁気ディスク31の回転を終了する際には、浮上スラ
イダ15を元の浮上開始半径位置に移動させた上で、モー
タ18の回転を終了する。
或いは、又、コントローラ23にランダム信号を送り、
このランダム信号に基づいて滑走領域内での浮上スライ
ダ15の浮上停止半径位置を決定し、駆動部22によりその
浮上停止半径位置に移動させた上で、モータ18の回転を
終了させるようにしても良い。
本実施例では、滑走領域E内での浮上開始半径位置
(或いは、浮上停止半径位置)をランダム信号によりラ
ンダムに変化させるようにしたので、浮上開始半径位置
が毎回異なることとなり、磨耗領域が各半径位置に分散
されて、浮上型磁気ヘッド14及び光磁気ディスク31の長
寿命化が図られる。
なお、本実施例は、光磁気ディスク装置ばかりでな
く、通常の磁気ディスク装置にも適用できるものであ
る。
〔発明の効果〕
本発明に係る磁気ディスク装置は、以上のように、磁
気ディスクの回転の開始時及び終了時における上記磁気
ディスク上での浮上型磁気ヘッドの滑走が記録領域以外
に設定した滑走領域内で行われ、かつ、滑走領域内での
浮上型磁気ヘッドの滑走半径位置が不定位置となるよう
に制御される基本構成である。
これにより、浮上型磁気ヘッドを記録領域とは異なる
領域に設けた滑走領域内で滑走させるようにしたので、
浮上型磁気ヘッドにより記録領域が損傷する恐れはなく
なる。
又、滑走領域内における浮上型磁気ヘッドの滑走半径
位置を一定半径位置とはせずに不定の半径位置としたの
で、滑走領域内の磨設が各半径位置に分散され、磨耗量
が減少するので、浮上型磁気ヘッド及び磁気ディスクの
寿命が伸びるという効果を奏する。
又、本発明に係る他の磁気ディスク装置は、上記の基
本構成に加えて、浮上型磁気ヘッド以外に光ヘッドとを
備え、光ヘッドから光の照射を行いながら浮上型磁気ヘ
ッドにより記録又は再生を行う磁気ディスク装置(光磁
気ディスク装置)等において、磁気ディスクが磁気ディ
スク装置から取り出し可能とされ、従って、磁気ディス
クを複数の磁気ディスク装置で使用できるようにされる
とともに、滑走領域内における浮上型磁気ヘッドの滑走
半径位置を個々の磁気ディスク装置により変化させるよ
うにした構成である。
これにより、滑走領域の磨耗を各半径位置に分散させ
ることができるので、滑走領域の磨耗を低減させること
ができる。
本発明に係る更に別の磁気ディスク装置は、上記の基
本構成において、磁気ディスクの回転の開始時及び終了
時における浮上型磁気ヘッドの滑走半径位置が滑走領域
内の異なる半径位置となるように制御する制御手段を設
けた構成である。このようにすると、滑走半径位置を2
つの半径位置間で交互に変化させるのみで良いから、滑
走半径位置の制御が比較的容易に行え、かつ、一定位置
で滑走させる場合に比べて磨耗を低減させることができ
る。
又、本発明に係る他の磁気ディスク装置は、上記の基
本構成において、浮上型磁気ヘッドの滑走半径位置を滑
走領域内でランダムに変化させる制御手段を設けた構成
である。これにより、滑走領域及び浮上型磁気ヘッドの
磨耗を一層低減させることができる。
【図面の簡単な説明】 第1図乃至第3図は本発明の一実施例を示すものであ
る。 第1図(a)は光磁気ディスク装置の概略正面図であ
る。 第1図(b)及び(c)はそれぞれ他の光磁気ディスク
装置の概略正面図である。 第2図は第1図(a)の光磁気ディスク装置の概略平面
図である。 第3図は浮上型磁気ヘッドの斜視図である。 第4図及び第5図は本発明の第2実施例を示すものであ
る。 第4図は磁気ディスク装置の概略正面図である。 第5図は同概略平面図である。 第6図及び第7図は本発明の第3実施例を示すものであ
る。 第6図は光磁気ディスク装置の概略正面図である。 第7図は同概略平面図である。 第8図乃至第10図は従来例を示すものである。 第8図は光磁気ディスク装置の概略正面図である。 第9図は光磁気ディスク表面の潤滑剤の残存状態を模式
的に示す平面図である。 第10図は浮上スライダへの潤滑剤の付着状態を模式的に
示す平面図である。 11・31は光磁気ディスク、12は光ヘッド、14は浮上型磁
気ヘッド、15は浮上スライダ、17は磁気ヘッド、21は磁
気ディスク、Eは滑走領域である。

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】磁気ディスクの回転に伴う空気流により浮
    上圧を受けて上記磁気ディスクの表面から浮上する浮上
    型磁気ヘッドを備えた磁気ディスク装置において、 磁気ディスクの回転の開始時及び終了時における磁気デ
    ィスク上での浮上型磁気ヘッドの滑走が記録領域以外に
    設定した滑走領域内で行われ、かつ、滑走領域内での浮
    上型磁気ヘッドの滑走半径位置が不定位置となるように
    制御されることを特徴とする磁気ディスク装置。
  2. 【請求項2】上記磁気ディスクは磁気ディスク装置から
    取出し可能とされて複数の磁気ディスク装置で使用でき
    るようにされており、かつ、滑走領域内における浮上型
    磁気ヘッドの滑走半径位置が個々の磁気ディスク装置に
    より変化するようにされていることを特徴とする請求項
    第1項に記載の磁気ディスク装置。
  3. 【請求項3】磁気ディスクの回転の開始時及び終了時に
    おける浮上型磁気ヘッドの滑走半径位置が滑走領域内の
    異なる半径位置となるように制御する制御手段が備えら
    れていることを特徴とする請求項第1項に記載の磁気デ
    ィスク装置。
  4. 【請求項4】滑走領域内での浮上型磁気ヘッドの滑走半
    径位置がランダムに変化するように制御する制御手段が
    備えられていることを特徴とする請求項第1項に記載の
    磁気ディスク装置。
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