JP3125127B2 - 浮動型磁気ヘッドの表面仕上げ方法 - Google Patents
浮動型磁気ヘッドの表面仕上げ方法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 61
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 23
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 claims description 22
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 21
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 11
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 11
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 6
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 3
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 3
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 229910017401 Au—Ge Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015363 Au—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-XIXRPRMCSA-N Mesotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-XIXRPRMCSA-N 0.000 description 1
- 229910020018 Nb Zr Inorganic materials 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007541 Zn O Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004715 keto acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 230000001795 light effect Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
- G11B5/102—Manufacture of housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11B5/105—Mounting of head within housing or assembling of head and housing
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- G—PHYSICS
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/133—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores composed of particles, e.g. with dust cores, with ferrite cores with cores composed of isolated magnetic particles
- G11B5/1335—Assembling or shaping of elements
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置等の
磁気記録装置に用いられる浮動型磁気ヘッドに係り、よ
り詳しくは、浮動型磁気ヘッドの磁気ディスク等と対向
する摺接面を適度の表面粗さに調整されるように仕上げ
る方法に関する。並びに、本発明はかかる表面仕上げが
なされた浮動型磁気ヘッドに関する。
磁気記録装置に用いられる浮動型磁気ヘッドに係り、よ
り詳しくは、浮動型磁気ヘッドの磁気ディスク等と対向
する摺接面を適度の表面粗さに調整されるように仕上げ
る方法に関する。並びに、本発明はかかる表面仕上げが
なされた浮動型磁気ヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】固定型磁気ディスク装置は、一般に、コ
ンタクトスタートストップ( ContactStart and Stop
、以下CSSと略する。)方式を採用しており、磁気
ディスクの高速回転の間は、磁気ヘッドが空気ベアリン
グの作用によりディスクより浮上し、そして回転が停止
すると、磁気ヘッドが下がり磁気ディスクと摺接するよ
うになっている。
ンタクトスタートストップ( ContactStart and Stop
、以下CSSと略する。)方式を採用しており、磁気
ディスクの高速回転の間は、磁気ヘッドが空気ベアリン
グの作用によりディスクより浮上し、そして回転が停止
すると、磁気ヘッドが下がり磁気ディスクと摺接するよ
うになっている。
【0003】この種の磁気ディスク装置について良好な
電磁変換特性を得るためには、基本的には、磁気ヘッド
の磁気ディスクと対向する摺接面がより高精度の鏡面に
仕上げられ、磁気ヘッドの安定した浮上特性を確保する
ことが求められる。その反面、その摺接面を完全な鏡面
に仕上げると、本装置の停止時において磁気ヘッドの摺
接面が磁気ディスクの表面に吸着する現象が生じ、この
ため、磁気ディスク装置のCSS性能が低下し、よって
装置寿命が短くなる。これは、近年では磁気ディスクの
表面がメッキまたはスパッタリングで仕上げられ、その
面精度が大変向上したことによるものであり、また、電
力消費の低減のため磁気ディスクの駆動用として最近も
っぱら低トルク型のモータを採用するようになったとい
う事情が、上述のCSS性能の低下をより重大な問題に
している。
電磁変換特性を得るためには、基本的には、磁気ヘッド
の磁気ディスクと対向する摺接面がより高精度の鏡面に
仕上げられ、磁気ヘッドの安定した浮上特性を確保する
ことが求められる。その反面、その摺接面を完全な鏡面
に仕上げると、本装置の停止時において磁気ヘッドの摺
接面が磁気ディスクの表面に吸着する現象が生じ、この
ため、磁気ディスク装置のCSS性能が低下し、よって
装置寿命が短くなる。これは、近年では磁気ディスクの
表面がメッキまたはスパッタリングで仕上げられ、その
面精度が大変向上したことによるものであり、また、電
力消費の低減のため磁気ディスクの駆動用として最近も
っぱら低トルク型のモータを採用するようになったとい
う事情が、上述のCSS性能の低下をより重大な問題に
している。
【0004】したがって、良好な電磁変換特性を維持す
るとともに満足なCSS性能を確保するためには、かか
る浮動型磁気ヘッドの磁気ディスクと対向する摺接面
を、適度の面粗さを有する鏡面に仕上げることが要求さ
れる。すなわち、該磁気ヘッドの摺接面を研磨により鏡
面(普通、面粗さ10〜40Å)に加工した後、その鏡
面加工された摺接面をある程度粗く成るように、さらに
処理することが必要とされる。
るとともに満足なCSS性能を確保するためには、かか
る浮動型磁気ヘッドの磁気ディスクと対向する摺接面
を、適度の面粗さを有する鏡面に仕上げることが要求さ
れる。すなわち、該磁気ヘッドの摺接面を研磨により鏡
面(普通、面粗さ10〜40Å)に加工した後、その鏡
面加工された摺接面をある程度粗く成るように、さらに
処理することが必要とされる。
【0005】而して、かかる要求に応えるべく、従来、
いくつかの方法が提案されている。一つの方法は、特公
平 4-34203号公報に記載されるように、研磨仕上げされ
た磁気ヘッドの浮揚面をリアクティブイオンエッチング
法に従ってエッチングしてある程度粗い表面にするとい
う方法である。また、別の方法は、特開平 2-276074号
公報に開示されるように、ヘッドスライダの記録媒体に
対向する摺接面を鏡面仕上げした後、これに逆スパッタ
リングを施して、例えば深さ50@100Åのビットが形成さ
れた面にする方法である。
いくつかの方法が提案されている。一つの方法は、特公
平 4-34203号公報に記載されるように、研磨仕上げされ
た磁気ヘッドの浮揚面をリアクティブイオンエッチング
法に従ってエッチングしてある程度粗い表面にするとい
う方法である。また、別の方法は、特開平 2-276074号
公報に開示されるように、ヘッドスライダの記録媒体に
対向する摺接面を鏡面仕上げした後、これに逆スパッタ
リングを施して、例えば深さ50@100Åのビットが形成さ
れた面にする方法である。
【0006】しかし、前者の方法は、プラズマエッチン
グ装置という高価な設備の使用が不可欠であり、かつ、
エッチングの前に、磁気ヘッドが置かれた本装置の内部
の空間を減圧し、これによりプラズマ放電可能な真空の
状態(通常、約10-5 Torr以下の雰囲気)を作る必要
があるので、作業時間が相対的に長くなり、よって生産
性が悪いという不利がある。また、後者の方法も、広義
のドライエッチングに属する逆スパッタリングを行なう
ための特別な設備の使用が不可欠であり、かつ、上記と
同様に、その処理の前に、磁気ヘッドがセットされたチ
ャンバ内の空間を普通、約10-3Torr程度にまで減圧す
る所謂真空引きの作業を行なう必要があり、作業性およ
び生産性が低い点で問題がある。
グ装置という高価な設備の使用が不可欠であり、かつ、
エッチングの前に、磁気ヘッドが置かれた本装置の内部
の空間を減圧し、これによりプラズマ放電可能な真空の
状態(通常、約10-5 Torr以下の雰囲気)を作る必要
があるので、作業時間が相対的に長くなり、よって生産
性が悪いという不利がある。また、後者の方法も、広義
のドライエッチングに属する逆スパッタリングを行なう
ための特別な設備の使用が不可欠であり、かつ、上記と
同様に、その処理の前に、磁気ヘッドがセットされたチ
ャンバ内の空間を普通、約10-3Torr程度にまで減圧す
る所謂真空引きの作業を行なう必要があり、作業性およ
び生産性が低い点で問題がある。
【0007】また、上記2法とは異なる他の方法も、既
に提案されている。それは、特開平2-310869 号公報に
示されるような、凹凸付けした多結晶材からなる浮動型
磁気ヘッドの磁気記録媒体と対向する面を、ケミカル・
エッチング法を用い、所定の面粗さに処理するという方
法である。この方法は、ウェットエッチングに相当する
ため、特別な、高価な設備が不要であり、かつ、作業時
間も相対的に短くて済むことから、有利な方法である。
に提案されている。それは、特開平2-310869 号公報に
示されるような、凹凸付けした多結晶材からなる浮動型
磁気ヘッドの磁気記録媒体と対向する面を、ケミカル・
エッチング法を用い、所定の面粗さに処理するという方
法である。この方法は、ウェットエッチングに相当する
ため、特別な、高価な設備が不要であり、かつ、作業時
間も相対的に短くて済むことから、有利な方法である。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法は、適用できるものが、特開平 2-310869 号公報に
挙げられているような、Mn-Zn フェライトおよびNi-
Zn フェライト等の磁性セラミック材料をスライダ材と
して使用してなるところの磁気ヘッド(即ち、一般的な
モノリシック形磁気ヘッド)に限定されるという問題が
あった。現在、磁気ヘッドのスライダ材としては、上記
フェライト等の磁性セラミックの他、CaTiO3 系、
AlTiC系およびMnO−NiO系などの非磁性型セ
ラミックもまた、よく利用されている。インダクタンス
の低減を図るという観点から、今後、非磁性型セラミッ
クが磁気ヘッドのスライダ構成材料としてますます主流
になるであろう。したがって、スライダが非磁性型セラ
ミックにより構成される磁気ヘッドについても、ウェッ
トエッチングにより、磁気記録媒体と対向する摺接面を
粗面化できるところの表面仕上げ方法の開発が求められ
ていた。
方法は、適用できるものが、特開平 2-310869 号公報に
挙げられているような、Mn-Zn フェライトおよびNi-
Zn フェライト等の磁性セラミック材料をスライダ材と
して使用してなるところの磁気ヘッド(即ち、一般的な
モノリシック形磁気ヘッド)に限定されるという問題が
あった。現在、磁気ヘッドのスライダ材としては、上記
フェライト等の磁性セラミックの他、CaTiO3 系、
AlTiC系およびMnO−NiO系などの非磁性型セ
ラミックもまた、よく利用されている。インダクタンス
の低減を図るという観点から、今後、非磁性型セラミッ
クが磁気ヘッドのスライダ構成材料としてますます主流
になるであろう。したがって、スライダが非磁性型セラ
ミックにより構成される磁気ヘッドについても、ウェッ
トエッチングにより、磁気記録媒体と対向する摺接面を
粗面化できるところの表面仕上げ方法の開発が求められ
ていた。
【0009】本発明は、この要請に応えるべくなされた
もので、その目的は、浮動型磁気ヘッドのうち、磁気記
録媒体と対向する摺接面が組成の異なる少なくとも2種
の相が混在する多結晶材、例えば非磁性型多結晶セラミ
ック、から成る磁気ヘッドについても、その摺接面を適
度の面粗さを有する鏡面に仕上げることができる、浮動
型磁気ヘッドの表面仕上げ方法を提供することにある。
これを他の言葉で表現すると、本発明の目的は、上記の
種類の浮動型磁気ヘッドについて、良好な電磁変換特性
を維持するとともに、十分なCSS性能を確保すること
ができるところの、磁気記録媒体と対向する摺接面の仕
上げ方法を提供することにある。また、別の側面におい
て、本発明の目的は、磁気記録媒体との摺接面が上記の
方法により仕上げられて成る浮動型磁気ヘッドを提供す
ることにある。
もので、その目的は、浮動型磁気ヘッドのうち、磁気記
録媒体と対向する摺接面が組成の異なる少なくとも2種
の相が混在する多結晶材、例えば非磁性型多結晶セラミ
ック、から成る磁気ヘッドについても、その摺接面を適
度の面粗さを有する鏡面に仕上げることができる、浮動
型磁気ヘッドの表面仕上げ方法を提供することにある。
これを他の言葉で表現すると、本発明の目的は、上記の
種類の浮動型磁気ヘッドについて、良好な電磁変換特性
を維持するとともに、十分なCSS性能を確保すること
ができるところの、磁気記録媒体と対向する摺接面の仕
上げ方法を提供することにある。また、別の側面におい
て、本発明の目的は、磁気記録媒体との摺接面が上記の
方法により仕上げられて成る浮動型磁気ヘッドを提供す
ることにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明による浮動型磁気
ヘッドの表面仕上げ方法は、明確には、磁気記録媒体
(磁気ディスク、磁気ドラム等)と対向する摺接面が、
組成の異なる少なくとも2種の相が混在する多結晶材か
ら成るところの浮動型磁気ヘッドにおいて、該摺接面を
ケミカルエッチング法に従い、エッチング液により処理
して粗面化することを特徴とするものである。
ヘッドの表面仕上げ方法は、明確には、磁気記録媒体
(磁気ディスク、磁気ドラム等)と対向する摺接面が、
組成の異なる少なくとも2種の相が混在する多結晶材か
ら成るところの浮動型磁気ヘッドにおいて、該摺接面を
ケミカルエッチング法に従い、エッチング液により処理
して粗面化することを特徴とするものである。
【0011】本発明で対象となる浮動型磁気ヘッドは、
スライダの磁気記録媒体と対向する摺接面(一般にベア
リング面と呼ばれる表面)が、組成の異なる少なくとも
2種の相が混在する多結晶材より成る種類の磁気ヘッド
であって、例えばコンポジット形磁気ヘッドであり、ま
た、最近開発されたサイドコア形磁気ヘッドである。ま
た、モノリシック形磁気ヘッドのうち、フェライトを使
用しないラミネート形磁気ヘッド(磁性体にはセンダイ
トのような金属を採用する。)にも、本発明による方法
が適用される。上記の、組成の異なる少なくとも2種の
相が混在する多結晶材としては、一般に、CaTiO3
系セラミック、AlTiC系セラミック、MnO−Ni
O系セラミック、およびCaTiO3 −NiO系セラミ
ック等の、非磁性型セラミックの多結晶材が相当する
が、しかしMn-Zn フェライトおよびNi-Zn フェライ
ト等の多結晶材は本発明における多結晶材に該当しな
い。従って、本発明は好ましくは、磁気記録媒体と対向
する摺接面が、それぞれ多結晶の、CaTiO3 系、A
lTiC系、MnO−NiO系およびCaTiO3−N
iO系の各セラミックよりなる群から選択された非磁性
型セラミック、特に好ましくは、多結晶のCaTiO3
系セラミック、から成るところの浮動型磁気ヘッドにつ
いて、該摺接面をケミカルエッチング法に従い、エッチ
ング液により処理して粗面化することを特徴とする浮動
型磁気ヘッドの表面仕上げ方法に関する。
スライダの磁気記録媒体と対向する摺接面(一般にベア
リング面と呼ばれる表面)が、組成の異なる少なくとも
2種の相が混在する多結晶材より成る種類の磁気ヘッド
であって、例えばコンポジット形磁気ヘッドであり、ま
た、最近開発されたサイドコア形磁気ヘッドである。ま
た、モノリシック形磁気ヘッドのうち、フェライトを使
用しないラミネート形磁気ヘッド(磁性体にはセンダイ
トのような金属を採用する。)にも、本発明による方法
が適用される。上記の、組成の異なる少なくとも2種の
相が混在する多結晶材としては、一般に、CaTiO3
系セラミック、AlTiC系セラミック、MnO−Ni
O系セラミック、およびCaTiO3 −NiO系セラミ
ック等の、非磁性型セラミックの多結晶材が相当する
が、しかしMn-Zn フェライトおよびNi-Zn フェライ
ト等の多結晶材は本発明における多結晶材に該当しな
い。従って、本発明は好ましくは、磁気記録媒体と対向
する摺接面が、それぞれ多結晶の、CaTiO3 系、A
lTiC系、MnO−NiO系およびCaTiO3−N
iO系の各セラミックよりなる群から選択された非磁性
型セラミック、特に好ましくは、多結晶のCaTiO3
系セラミック、から成るところの浮動型磁気ヘッドにつ
いて、該摺接面をケミカルエッチング法に従い、エッチ
ング液により処理して粗面化することを特徴とする浮動
型磁気ヘッドの表面仕上げ方法に関する。
【0012】本発明の特徴的な表面仕上げ方法は、エッ
チング液として、酸化剤を含む酸またはアルカリ溶液を
使用して、ケミカルエッチング法に従い前記摺接面を処
理する方法である。本発明において適用することができ
る酸またはアルカリ溶液としては、フッ化水素酸、希塩
酸、濃厚塩酸、燐酸、hot 燐酸、濃硫酸、硫酸+燐酸
(好ましくは加熱条件下)、酢酸、硝酸、硝酸+燐酸、
次亜塩素酸、酒石酸、クエン酸等の酸溶液、並びに水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、ヒドラジン、エチレン
ジアミン、アンモニア等のアルカリ溶液が挙げられる。
例えば、 0.01 N 塩酸、 10 N燐酸、 0.5M 酒石酸、 0.
5M クエン酸、 1N 水酸化カリウム、 0.5 N 水酸化ナト
リウム、および、約 0.1〜 10 Nアンモニア等である。
これら溶液のうち、好ましいものとしては、塩酸、燐
酸、酒石酸、クエン酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、アンモニアの各水溶液が挙げられる。特に好まし
いものは、水酸化カリウム、酒石酸、クエン酸、および
アンモニアの各水溶液であり、とりわけ好ましいもの
は、アンモニア水溶液である。また、本発明において適
用することができる酸化剤としては、オゾン、過マンガ
ン酸、クロム酸、およびオキソ酸、並びに、各種の過酸
化物例えば、過酢酸、過酸化ベンゾイル、過酸化水素が
挙げられる。その中でより好ましいものは、前記の過酸
化物であり、とりわけ過酸化水素水である。従って、本
発明の最も好ましい態様の方法は、エッチング液とし
て、過酸化水素/アンモニア水溶液を使用するものであ
る。もっとも、上記の酸またはアルカリ溶液および酸化
剤は、ともに、浮動型磁気ヘッドのスライダ構成材料の
性質に依って、即ち、磁気記録材料と対向する摺接面が
いかなる多結晶材であるのかに依って適宜選択されるべ
きものである。
チング液として、酸化剤を含む酸またはアルカリ溶液を
使用して、ケミカルエッチング法に従い前記摺接面を処
理する方法である。本発明において適用することができ
る酸またはアルカリ溶液としては、フッ化水素酸、希塩
酸、濃厚塩酸、燐酸、hot 燐酸、濃硫酸、硫酸+燐酸
(好ましくは加熱条件下)、酢酸、硝酸、硝酸+燐酸、
次亜塩素酸、酒石酸、クエン酸等の酸溶液、並びに水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、ヒドラジン、エチレン
ジアミン、アンモニア等のアルカリ溶液が挙げられる。
例えば、 0.01 N 塩酸、 10 N燐酸、 0.5M 酒石酸、 0.
5M クエン酸、 1N 水酸化カリウム、 0.5 N 水酸化ナト
リウム、および、約 0.1〜 10 Nアンモニア等である。
これら溶液のうち、好ましいものとしては、塩酸、燐
酸、酒石酸、クエン酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、アンモニアの各水溶液が挙げられる。特に好まし
いものは、水酸化カリウム、酒石酸、クエン酸、および
アンモニアの各水溶液であり、とりわけ好ましいもの
は、アンモニア水溶液である。また、本発明において適
用することができる酸化剤としては、オゾン、過マンガ
ン酸、クロム酸、およびオキソ酸、並びに、各種の過酸
化物例えば、過酢酸、過酸化ベンゾイル、過酸化水素が
挙げられる。その中でより好ましいものは、前記の過酸
化物であり、とりわけ過酸化水素水である。従って、本
発明の最も好ましい態様の方法は、エッチング液とし
て、過酸化水素/アンモニア水溶液を使用するものであ
る。もっとも、上記の酸またはアルカリ溶液および酸化
剤は、ともに、浮動型磁気ヘッドのスライダ構成材料の
性質に依って、即ち、磁気記録材料と対向する摺接面が
いかなる多結晶材であるのかに依って適宜選択されるべ
きものである。
【0013】また、本発明におけるケミカルエッチング
法には、従来なされている総ての種類のケミカルエッチ
ング法を適宜利用することができる。すなわち、本発明
におけるケミカルエッチングは、普通、浮動型磁気ヘッ
ドそれ全体を、所定の濃度に調整されたエッチング液の
中に所定の時間の間浸漬することにより、為される。従
って、本発明の方法は、室温のような常温の下で、エッ
チング処理を行なうことができるという点で有利であ
る。
法には、従来なされている総ての種類のケミカルエッチ
ング法を適宜利用することができる。すなわち、本発明
におけるケミカルエッチングは、普通、浮動型磁気ヘッ
ドそれ全体を、所定の濃度に調整されたエッチング液の
中に所定の時間の間浸漬することにより、為される。従
って、本発明の方法は、室温のような常温の下で、エッ
チング処理を行なうことができるという点で有利であ
る。
【0014】また、別の側面において、本発明は、磁気
記録媒体との摺接面が上記した種々態様でのケミカルエ
ッチング法により仕上げられてなる浮動型磁気ヘッドに
も関する。
記録媒体との摺接面が上記した種々態様でのケミカルエ
ッチング法により仕上げられてなる浮動型磁気ヘッドに
も関する。
【0015】
【実施例】以下、本発明を実施例に従って詳細に説明す
る。
る。
【0016】−実施例1− この実施例は、図1に示すようなサイドコア形磁気ヘッ
ド1についてなされた表面仕上げの方法の例である。図
示された浮動型磁気ヘッド1は、スライダ2の上面に、
突条のベアリング面3、4を互いに平行に形成するとと
もに、その一方のベアリング面4の後端側において、薄
板形状のコア5をスライダ2の外周側面に付着して成
る。この付着には、低融点ガラス、エポキシ樹脂接着
剤、またはAu−Sn、Au−Ge等の共晶金属よりな
る接合剤が用いられている。スライダ2は、その後端面
から外周側面に通じるチャンネル6を形成し、これが、
外周側面に付着されたコア5の中央の窓7に連通するよ
うになっており、そして、巻き線8がチャンネル6およ
び窓7を通り抜けて、所定の巻き回数で以て施されてい
る。コア5は、記録再生用のギャップ9を有し、そし
て、ギャップ9の表面には、高透磁率の磁性合金膜を形
成することができる。その磁性合金としては、Fe−A
l−Si系合金(センダスト)およびCo−Nb−Zr
系アモルファス合金が好適である。本実施例において
は、ベアリング面3、4は、CaTiO3 系セラミック
の多結晶材により構成されている。この材料は、組成の
異なる少なくとも2種の相が混在する非磁性型の多結晶
材である。なお、図1に示すように、ベアリング面3、
4のうち、本装置の停止時において静止状態の磁気ディ
スクと実際に摺接する部分は、それらの面の中央の領域
aであって、ヘッドの前端側の領域bおよび後端側の領
域cは、磁気ディスクと接触しない。本実施例において
は、磁気ディスクと対向する摺接面3および4、特に領
域aの表面を研磨により鏡面(面粗さ10〜40Å)に
加工し、その後、鏡面加工された摺接面3および4につ
いて、下記のケミカルエッチング処理により粗面化せし
めた。
ド1についてなされた表面仕上げの方法の例である。図
示された浮動型磁気ヘッド1は、スライダ2の上面に、
突条のベアリング面3、4を互いに平行に形成するとと
もに、その一方のベアリング面4の後端側において、薄
板形状のコア5をスライダ2の外周側面に付着して成
る。この付着には、低融点ガラス、エポキシ樹脂接着
剤、またはAu−Sn、Au−Ge等の共晶金属よりな
る接合剤が用いられている。スライダ2は、その後端面
から外周側面に通じるチャンネル6を形成し、これが、
外周側面に付着されたコア5の中央の窓7に連通するよ
うになっており、そして、巻き線8がチャンネル6およ
び窓7を通り抜けて、所定の巻き回数で以て施されてい
る。コア5は、記録再生用のギャップ9を有し、そし
て、ギャップ9の表面には、高透磁率の磁性合金膜を形
成することができる。その磁性合金としては、Fe−A
l−Si系合金(センダスト)およびCo−Nb−Zr
系アモルファス合金が好適である。本実施例において
は、ベアリング面3、4は、CaTiO3 系セラミック
の多結晶材により構成されている。この材料は、組成の
異なる少なくとも2種の相が混在する非磁性型の多結晶
材である。なお、図1に示すように、ベアリング面3、
4のうち、本装置の停止時において静止状態の磁気ディ
スクと実際に摺接する部分は、それらの面の中央の領域
aであって、ヘッドの前端側の領域bおよび後端側の領
域cは、磁気ディスクと接触しない。本実施例において
は、磁気ディスクと対向する摺接面3および4、特に領
域aの表面を研磨により鏡面(面粗さ10〜40Å)に
加工し、その後、鏡面加工された摺接面3および4につ
いて、下記のケミカルエッチング処理により粗面化せし
めた。
【0017】−実施例2− この実施例は、図2に示すようなコンポジット形磁気ヘ
ッド10についてなされた表面仕上げの方法の例であ
る。図示された浮動型磁気ヘッド10は、スライダ11
の上面に、突条のベアリング面12、13を互いに平行
に形成して成り、その一方のベアリング面13はその後
端側において、チップ14をスリット15の中に収容
し、ガラス等の充填により固定して成る。本実施例にお
いては、ベアリング面12、13は、実施例1と同様、
CaTiO3 系セラミックの多結晶材により構成されて
いる。チップ14は、図3に示すように、C形コア16
とI形コア17とを適当なギャップを介してガラスによ
り接合してなる。C形コア16とI形コア17は、それ
ぞれ、その表面上にスパッタ膜18、19を形成して成
り、また両コア16、17間のガラス体20は、その中
央に窓21を有し、そして巻き線がその窓21を通り抜
けて、所定の巻き回数で以て、施されている。また、チ
ップ14の構成材料としては、多結晶の磁性セラミッ
ク、例えばMn-Zn フェライト、Ni-Zn フェライト等
の磁性多結晶材が好適に用いられる。好ましいチップ材
料は、Mn-Zn フェライトであり、特には、Mn O:2
5〜37%、Zn O:8〜23%、Fe2O3 :51〜5
7%の組成よりなるMn-Zn フェライトである。また、
図2に示すように、ベアリング面12、13のうち、本
装置の停止時において静止状態の磁気ディスクと実際に
摺接するのは、それらの面の中央の領域aであって、ヘ
ッドの前端側の領域bおよび後端側の領域cは磁気ディ
スクと接触しない。本実施例においては、実施例1と同
様、磁気ディスクと対向する摺接面12、13、特に領
域aの表面を研磨により鏡面(面粗さ10〜40Å)に
加工し、その後、鏡面加工された摺接面12、13につ
いて、下記のケミカルエッチング処理により粗面化せし
めた。
ッド10についてなされた表面仕上げの方法の例であ
る。図示された浮動型磁気ヘッド10は、スライダ11
の上面に、突条のベアリング面12、13を互いに平行
に形成して成り、その一方のベアリング面13はその後
端側において、チップ14をスリット15の中に収容
し、ガラス等の充填により固定して成る。本実施例にお
いては、ベアリング面12、13は、実施例1と同様、
CaTiO3 系セラミックの多結晶材により構成されて
いる。チップ14は、図3に示すように、C形コア16
とI形コア17とを適当なギャップを介してガラスによ
り接合してなる。C形コア16とI形コア17は、それ
ぞれ、その表面上にスパッタ膜18、19を形成して成
り、また両コア16、17間のガラス体20は、その中
央に窓21を有し、そして巻き線がその窓21を通り抜
けて、所定の巻き回数で以て、施されている。また、チ
ップ14の構成材料としては、多結晶の磁性セラミッ
ク、例えばMn-Zn フェライト、Ni-Zn フェライト等
の磁性多結晶材が好適に用いられる。好ましいチップ材
料は、Mn-Zn フェライトであり、特には、Mn O:2
5〜37%、Zn O:8〜23%、Fe2O3 :51〜5
7%の組成よりなるMn-Zn フェライトである。また、
図2に示すように、ベアリング面12、13のうち、本
装置の停止時において静止状態の磁気ディスクと実際に
摺接するのは、それらの面の中央の領域aであって、ヘ
ッドの前端側の領域bおよび後端側の領域cは磁気ディ
スクと接触しない。本実施例においては、実施例1と同
様、磁気ディスクと対向する摺接面12、13、特に領
域aの表面を研磨により鏡面(面粗さ10〜40Å)に
加工し、その後、鏡面加工された摺接面12、13につ
いて、下記のケミカルエッチング処理により粗面化せし
めた。
【0018】−ケミカルエッチング処理− 磁気ヘッド1および磁気ヘッド10それら全体を、過酸
化水素/アンモニア水溶液(H2 O2 :NH4 OH=
7:1)よりなるエッチング液の中に、室温にて(25
℃にて)一定の時間の間浸漬し、その後磁気ヘッド1、
10をエッチング液より取り出し、洗浄によりエッチン
グ液をヘッド1、10より、特にヘッド1の磁気ディス
クと対向する摺接面3、4、並びにヘッド10の磁気デ
ィスクと対向する摺接面12、13より除去した。
化水素/アンモニア水溶液(H2 O2 :NH4 OH=
7:1)よりなるエッチング液の中に、室温にて(25
℃にて)一定の時間の間浸漬し、その後磁気ヘッド1、
10をエッチング液より取り出し、洗浄によりエッチン
グ液をヘッド1、10より、特にヘッド1の磁気ディス
クと対向する摺接面3、4、並びにヘッド10の磁気デ
ィスクと対向する摺接面12、13より除去した。
【0019】−結果− 光学式非接触表面形状測定装置(型式TOPO−3D、
WYKO社製)を用いて、ケミカルエッチング処理の前
後における、磁気ヘッド1の摺接面3、4および磁気ヘ
ッド10の摺接面12、13の表面状態を調べ、その表
面についての粗さ曲線を測定した。そして、摺接面の粗
さは、その粗さ曲線から求められる中心線平均粗さRa
で以て評価することとした。中心線平均粗さRaとは、
粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さLの部分を抜
き取り、この抜き取り部分の中心線をX軸、その縦倍率
の方向をY軸とし、粗さ曲線をy=f(x)の関数で表
わすとき、次式
WYKO社製)を用いて、ケミカルエッチング処理の前
後における、磁気ヘッド1の摺接面3、4および磁気ヘ
ッド10の摺接面12、13の表面状態を調べ、その表
面についての粗さ曲線を測定した。そして、摺接面の粗
さは、その粗さ曲線から求められる中心線平均粗さRa
で以て評価することとした。中心線平均粗さRaとは、
粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さLの部分を抜
き取り、この抜き取り部分の中心線をX軸、その縦倍率
の方向をY軸とし、粗さ曲線をy=f(x)の関数で表
わすとき、次式
【数1】 で表わされるものをいう。その結果を図4および図5に
示す。この図より、磁気ヘッド1の摺接面3、4は、処
理前にあっては中心線平均粗さRa:0.734nm
(図4)であったものが、処理後にあっては中心線平均
粗さRa:2.56nm(図5)にまでより一層粗面化
されたことがわかる。また、磁気ヘッド10の摺接面1
2、13についてもまた同様であった。
示す。この図より、磁気ヘッド1の摺接面3、4は、処
理前にあっては中心線平均粗さRa:0.734nm
(図4)であったものが、処理後にあっては中心線平均
粗さRa:2.56nm(図5)にまでより一層粗面化
されたことがわかる。また、磁気ヘッド10の摺接面1
2、13についてもまた同様であった。
【0020】−中心線平均粗さRaとエッチング処理時
間の関係− 上記のケミカルエッチング処理の時間を順次変えなが
ら、各時間における、磁気ヘッド1の摺接面3、4およ
び磁気ヘッド10の摺接面12、13の中心線平均粗さ
Raを上記の同様の手法で測定した。その結果を図6に
示した。この図より、中心線平均粗さRaの程度はエッ
チング時間の長さとほぼ正比例の関係にあることがわか
る。従って、中心線平均粗さRaの高低の程度はエッチ
ング時間の長短により正確に制御することが可能である
ことが確認された。なお、過酸化水素/アンモニア水の
エッチング液を用いたケミカルエッチング処理におい
て、そのエッチング速度はエッチング液の温度に依存し
て、図7に示すように変化することが確認された。従っ
て、本ケミカルエッチング処理はエッチング液の温度を
一定に保って行なう必要がある。
間の関係− 上記のケミカルエッチング処理の時間を順次変えなが
ら、各時間における、磁気ヘッド1の摺接面3、4およ
び磁気ヘッド10の摺接面12、13の中心線平均粗さ
Raを上記の同様の手法で測定した。その結果を図6に
示した。この図より、中心線平均粗さRaの程度はエッ
チング時間の長さとほぼ正比例の関係にあることがわか
る。従って、中心線平均粗さRaの高低の程度はエッチ
ング時間の長短により正確に制御することが可能である
ことが確認された。なお、過酸化水素/アンモニア水の
エッチング液を用いたケミカルエッチング処理におい
て、そのエッチング速度はエッチング液の温度に依存し
て、図7に示すように変化することが確認された。従っ
て、本ケミカルエッチング処理はエッチング液の温度を
一定に保って行なう必要がある。
【0021】−中心線平均粗さRaと摩擦係数の関係− 上述の表面仕上げがなされた磁気ヘッド1を磁気ディス
ク装置に組み込み、運転開始時に磁気ヘッド1の摺接面
3、4と磁気ディスクの表面との間に発生する静止摩擦
力を、中心線平均粗さRaが異なる各場合についてそれ
ぞれ、測定し、摩擦係数と中心線平均粗さRaとの関係
を求めた。その結果を図8に示した。この図より、中心
線平均粗さRaをより大きくすることにより、摩擦係数
がより減少し、そして、摩擦係数が約0.2に達する
と、Raの値が約2.5nmを超えても摩擦係数はほぼ
一定の値になることがわかる。従って、中心線平均粗さ
Ra(即ち、エッチング時間)の調節により、ヘッド摺
接面3、4の静止摩擦係数を容易に約0.2にまで減少
することができ、よって、装置の停止時に磁気ヘッドが
磁気ディスクに吸着してしまう現象を有効に防止できる
ことが確認された。また、同じく表面仕上げされた磁気
ヘッド10についても、上記と同様な、摺接面12、1
3の中心線平均粗さRaと静止摩擦係数との関係が成り
立つことが観察された。
ク装置に組み込み、運転開始時に磁気ヘッド1の摺接面
3、4と磁気ディスクの表面との間に発生する静止摩擦
力を、中心線平均粗さRaが異なる各場合についてそれ
ぞれ、測定し、摩擦係数と中心線平均粗さRaとの関係
を求めた。その結果を図8に示した。この図より、中心
線平均粗さRaをより大きくすることにより、摩擦係数
がより減少し、そして、摩擦係数が約0.2に達する
と、Raの値が約2.5nmを超えても摩擦係数はほぼ
一定の値になることがわかる。従って、中心線平均粗さ
Ra(即ち、エッチング時間)の調節により、ヘッド摺
接面3、4の静止摩擦係数を容易に約0.2にまで減少
することができ、よって、装置の停止時に磁気ヘッドが
磁気ディスクに吸着してしまう現象を有効に防止できる
ことが確認された。また、同じく表面仕上げされた磁気
ヘッド10についても、上記と同様な、摺接面12、1
3の中心線平均粗さRaと静止摩擦係数との関係が成り
立つことが観察された。
【0022】−中心線平均粗さRaとCSS耐久性能の
関係− 上述の表面仕上げが施された磁気ヘッド1について、以
下の条件(a) 、(b) に従って、CSS性能試験を行な
い、CSS繰り返し回数を、中心線平均粗さRaが異な
る各場合についてそれぞれ、測定した。その結果を下記
(c) の表1に示した。 (a) 供試磁気ディスク 基板:アルミニウム 下地:Cr 磁性層:Co-Ni スパッタ膜 表面層:フッ素樹脂系潤滑剤(上層)およびCスパッタ
層(下層) 表面粗さ:400〜600Å (中心線平均粗さRa:6.5nm) (b) 磁気ディスクの駆動 回転速度:3600rpm 一回の回転時間:7秒 回転と次の回転との間の停止時間:3秒 (c) 表1 中心線平均粗さRa(nm) CSS繰り返し回数 (回) 0.8 13000 1.1 40000 1.6 80000 2.1 >100000 2.3 >100000 この表1よりわかるように、本実施例では、約2.0n
m以上の表面粗さRaであるとき、10万回のCSSを
行なっても、磁気ヘッド1の摺接面3、4および磁気デ
ィスクの表面のいずれも損傷、異常の発生が無かった。
即ち、CSS耐久性の向上が確認された。
関係− 上述の表面仕上げが施された磁気ヘッド1について、以
下の条件(a) 、(b) に従って、CSS性能試験を行な
い、CSS繰り返し回数を、中心線平均粗さRaが異な
る各場合についてそれぞれ、測定した。その結果を下記
(c) の表1に示した。 (a) 供試磁気ディスク 基板:アルミニウム 下地:Cr 磁性層:Co-Ni スパッタ膜 表面層:フッ素樹脂系潤滑剤(上層)およびCスパッタ
層(下層) 表面粗さ:400〜600Å (中心線平均粗さRa:6.5nm) (b) 磁気ディスクの駆動 回転速度:3600rpm 一回の回転時間:7秒 回転と次の回転との間の停止時間:3秒 (c) 表1 中心線平均粗さRa(nm) CSS繰り返し回数 (回) 0.8 13000 1.1 40000 1.6 80000 2.1 >100000 2.3 >100000 この表1よりわかるように、本実施例では、約2.0n
m以上の表面粗さRaであるとき、10万回のCSSを
行なっても、磁気ヘッド1の摺接面3、4および磁気デ
ィスクの表面のいずれも損傷、異常の発生が無かった。
即ち、CSS耐久性の向上が確認された。
【0023】−電磁変換特性への影響− 上述の表面仕上げが施された磁気ヘッド1においては、
磁性材料で構成されるコア6およびその近傍部分につい
て、過酸化水素/アンモニア水よりなるエッチング液に
よる侵食は何ら観察されなかった。また、同様に表面仕
上げされた磁気ヘッド10においても、磁性材料より成
るチップ14について、エッチング液による侵食は何ら
観察されなかった。かかる無侵食に加え、電磁変換特性
がより向上していることが確認された。これは、ヘッド
摺接面3、4およびヘッド摺接面12、13がより一層
粗面化され、このためチップ14のギャップ部の磁気デ
ィスクに対する浮上量が実効的に減少したことによると
推定される。
磁性材料で構成されるコア6およびその近傍部分につい
て、過酸化水素/アンモニア水よりなるエッチング液に
よる侵食は何ら観察されなかった。また、同様に表面仕
上げされた磁気ヘッド10においても、磁性材料より成
るチップ14について、エッチング液による侵食は何ら
観察されなかった。かかる無侵食に加え、電磁変換特性
がより向上していることが確認された。これは、ヘッド
摺接面3、4およびヘッド摺接面12、13がより一層
粗面化され、このためチップ14のギャップ部の磁気デ
ィスクに対する浮上量が実効的に減少したことによると
推定される。
【0024】−NH4 OH/H2 O2 の濃度比の依存性
− また、本発明者は、アンモニア(NH4 OH)と過酸化
水素(H2 O2 )の濃度比が異なる種々の上記エッチン
グ液を使用して、それぞれ、上記と同じ手順に従ってケ
ミカルエッチング処理を行ない、処理された磁気ヘッド
1の摺接面3、4および磁気ヘッド10の摺接面12、
13の表面粗さRaを上記と同様に測定した。それによ
り、NH4 OH/H2 O2 の濃度比が0.03〜0.
2:1の範囲にあるときは、エッチング速度がほぼ一定
であるという結果が得られた。よって、エッチング速度
はNH4 OH/H2 O2 の濃度比に依存しない傾向にあ
ることが確認された。また、上記のNH4 OH/H2 O
2 の濃度を1/2倍に希釈しても、エッチング速度はほ
ぼ一定に維持され、その濃度の高低がエッチング速度に
与える影響は大変小さいことが確認された。
− また、本発明者は、アンモニア(NH4 OH)と過酸化
水素(H2 O2 )の濃度比が異なる種々の上記エッチン
グ液を使用して、それぞれ、上記と同じ手順に従ってケ
ミカルエッチング処理を行ない、処理された磁気ヘッド
1の摺接面3、4および磁気ヘッド10の摺接面12、
13の表面粗さRaを上記と同様に測定した。それによ
り、NH4 OH/H2 O2 の濃度比が0.03〜0.
2:1の範囲にあるときは、エッチング速度がほぼ一定
であるという結果が得られた。よって、エッチング速度
はNH4 OH/H2 O2 の濃度比に依存しない傾向にあ
ることが確認された。また、上記のNH4 OH/H2 O
2 の濃度を1/2倍に希釈しても、エッチング速度はほ
ぼ一定に維持され、その濃度の高低がエッチング速度に
与える影響は大変小さいことが確認された。
【0025】−実施例3ないし9− 実施例1に使用されたサイドコア形磁気ヘッド1につい
て、鏡面化の後、各種のエッチング液(酸化剤として過
酸化水素を含む。)を使用して、ケミカルエッチング処
理を実施例1と同様の手順および条件で行ない、磁気ヘ
ッド1の磁気ディスクと対向する摺接面3および4を粗
面化した。そして、エッチング時間20分および90分
のそれぞれの場合における中心線平均粗さRaを導出し
た。エッチング液としては、実施例3については、過酸
化水素/アンモニア水を使用し、実施例4ないし9につ
いては、これに代えて、以下の表2に示すエッチング液
を使用した。結果を以下の表2に示す。 この表に示されるように、実施例4ないし9について
も、実施例3の場合と同様に、磁気ヘッド1の摺接面3
および4が高い中心線平均粗さRaを有するものに仕上
げられ、十分なCSS特性が得られると同時に、電磁変
換特性も満足な結果が得られた。但し、いずれの実施例
も、エッチング速度が実施例3の場合よりも、より遅い
ものであった。
て、鏡面化の後、各種のエッチング液(酸化剤として過
酸化水素を含む。)を使用して、ケミカルエッチング処
理を実施例1と同様の手順および条件で行ない、磁気ヘ
ッド1の磁気ディスクと対向する摺接面3および4を粗
面化した。そして、エッチング時間20分および90分
のそれぞれの場合における中心線平均粗さRaを導出し
た。エッチング液としては、実施例3については、過酸
化水素/アンモニア水を使用し、実施例4ないし9につ
いては、これに代えて、以下の表2に示すエッチング液
を使用した。結果を以下の表2に示す。 この表に示されるように、実施例4ないし9について
も、実施例3の場合と同様に、磁気ヘッド1の摺接面3
および4が高い中心線平均粗さRaを有するものに仕上
げられ、十分なCSS特性が得られると同時に、電磁変
換特性も満足な結果が得られた。但し、いずれの実施例
も、エッチング速度が実施例3の場合よりも、より遅い
ものであった。
【0026】−実施例10ないし12− これら実施例は、ヘッド摺接面3、4および5がAlT
iC系セラミック(実施例10)、MnO−NiO系セ
ラミック(実施例11)またはCaTiO3 −NiO系
セラミック(実施例12)の多結晶材より構成される点
を除いて、実施例1で使用されたのと同種のサイドコア
形磁気ヘッド1について、鏡面化の後、実施例1の方法
と同じ手順および条件で以てケミカルエッチング処理を
行なった例である。これらの例の場合も、摺接面3およ
び4は実施例1の場合と同様、高い中心線平均粗さRa
を有するものに仕上げられ、良好な電磁変換特性ととも
に、十分なCSS性能が得られた。
iC系セラミック(実施例10)、MnO−NiO系セ
ラミック(実施例11)またはCaTiO3 −NiO系
セラミック(実施例12)の多結晶材より構成される点
を除いて、実施例1で使用されたのと同種のサイドコア
形磁気ヘッド1について、鏡面化の後、実施例1の方法
と同じ手順および条件で以てケミカルエッチング処理を
行なった例である。これらの例の場合も、摺接面3およ
び4は実施例1の場合と同様、高い中心線平均粗さRa
を有するものに仕上げられ、良好な電磁変換特性ととも
に、十分なCSS性能が得られた。
【0027】
【発明の効果】以上の記載よりわかるように、本発明に
よれば、磁気記録媒体と対向する摺接面が組成の異なる
少なくとも2種の相が混在する多結晶材(非磁性型多結
晶セラミック)から成る浮動型磁気ヘッドについて、そ
の摺接面を適度の面粗さを有する鏡面に仕上げることが
でき、従って、十分満足なCSS性能を確保することが
でき、同時に、良好な電磁変換特性をも維持することが
できる。また、本発明によれば、かかる表面仕上げがな
された浮動型磁気ヘッドを提供することができる。本発
明の効果はCSS方式で動作する浮動型磁気ヘッドにお
いて磁気媒体が磁気ヘッドと接触して摺動する際に発揮
される。従って、本発明の表面仕上げ方法は浮動型磁気
ヘッドの他に磁気媒体に摺動して動作するタイプの磁気
ヘッドにも適用可能である。そして本発明の方法をその
ような磁気ヘッドに適用した際にも、浮動型磁気ヘッド
に適用した場合と同様な効果を得ることができると推考
される。
よれば、磁気記録媒体と対向する摺接面が組成の異なる
少なくとも2種の相が混在する多結晶材(非磁性型多結
晶セラミック)から成る浮動型磁気ヘッドについて、そ
の摺接面を適度の面粗さを有する鏡面に仕上げることが
でき、従って、十分満足なCSS性能を確保することが
でき、同時に、良好な電磁変換特性をも維持することが
できる。また、本発明によれば、かかる表面仕上げがな
された浮動型磁気ヘッドを提供することができる。本発
明の効果はCSS方式で動作する浮動型磁気ヘッドにお
いて磁気媒体が磁気ヘッドと接触して摺動する際に発揮
される。従って、本発明の表面仕上げ方法は浮動型磁気
ヘッドの他に磁気媒体に摺動して動作するタイプの磁気
ヘッドにも適用可能である。そして本発明の方法をその
ような磁気ヘッドに適用した際にも、浮動型磁気ヘッド
に適用した場合と同様な効果を得ることができると推考
される。
【図1】本発明の実施例の方法に使用されたモノリシッ
ク形磁気ヘッドを示す斜視図である。
ク形磁気ヘッドを示す斜視図である。
【図2】実施例の方法に使用されたコンポジット形磁気
ヘッドを示す斜視図である。
ヘッドを示す斜視図である。
【図3】図2の浮動型磁気ヘッドに組み込まれたチップ
のみを拡大して示す斜視図である。
のみを拡大して示す斜視図である。
【図4】実施例1において、ケミカルエッチング処理前
における、磁気ヘッドの磁気ディスクと対向する摺接面
の表面状態を、光学式非接触表面形状測定装置により画
像化して映し出された図である。
における、磁気ヘッドの磁気ディスクと対向する摺接面
の表面状態を、光学式非接触表面形状測定装置により画
像化して映し出された図である。
【図5】実施例1において、ケミカルエッチング処理後
における、磁気ヘッドの磁気ディスクと対向する摺接面
の表面状態を、光学式非接触表面形状測定装置により画
像化して映し出された図である。
における、磁気ヘッドの磁気ディスクと対向する摺接面
の表面状態を、光学式非接触表面形状測定装置により画
像化して映し出された図である。
【図6】磁気ヘッドの摺接面の中心線平均粗さRaとケ
ミカルエッチング処理の時間との関係を示すグラフであ
る。
ミカルエッチング処理の時間との関係を示すグラフであ
る。
【図7】磁気ヘッドの摺接面の中心線平均粗さRaとケ
ミカルエッチング液の温度との関係を示すグラフであ
る。
ミカルエッチング液の温度との関係を示すグラフであ
る。
【図8】磁気ヘッドの摺接面の中心線平均粗さRaと、
その摺接面と磁気ディスク表面の間における静止摩擦係
数との関係を示すグラフである。
その摺接面と磁気ディスク表面の間における静止摩擦係
数との関係を示すグラフである。
1 サイドコア形磁気ヘッド 2 スライダ 3 磁気ディスクと対向する摺接面 4 磁気ディスクと対向する摺接面 5 コア 10 コンポジット形磁気ヘッド 11 スライダ 12 磁気ディスクと対向する摺接面 13 磁気ディスクと対向する摺接面 14 チップ Ra 中心線平均粗さ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−78076(JP,A) 特開 昭61−204384(JP,A) 特開 平5−290347(JP,A) 特開 平2−122084(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/60 G11B 21/21
Claims (4)
- 【請求項1】 磁気記録媒体と対向する摺接面が、Ca
TiO 3 系、AlTiC系、MnO−NiO系およびC
aTiO 3 −NiO系の各セラミックよりなる群から選
択された非磁性型セラミックの多結晶であって組成の異
なる少なくとも2種の相が混在する多結晶材から成ると
ころの浮動型磁気ヘッドにおいて、該摺接面をケミカル
エッチング法に従い、酸化剤を含む酸またはアルカリ溶
液より成るエッチング液により処理して粗面化すること
を特徴とする浮動型磁気ヘッドの表面仕上げ方法。 - 【請求項2】 酸化剤として、過酸化水素水を使用する
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 エッチング液として、過酸化水素/アン
モニア水溶液を使用することを特徴とする請求項1に記
載の方法。 - 【請求項4】 磁気記録媒体との摺接面が請求項1ない
し請求項3のうちのいずれか一項に記載された方法によ
り仕上げられて成る浮動型磁気ヘッド。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06191172A JP3125127B2 (ja) | 1994-07-21 | 1994-07-21 | 浮動型磁気ヘッドの表面仕上げ方法 |
US08/889,006 US5833871A (en) | 1994-07-21 | 1997-07-07 | Method of finishing the surface of a floating type magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06191172A JP3125127B2 (ja) | 1994-07-21 | 1994-07-21 | 浮動型磁気ヘッドの表面仕上げ方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0836852A JPH0836852A (ja) | 1996-02-06 |
JP3125127B2 true JP3125127B2 (ja) | 2001-01-15 |
Family
ID=16270102
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP06191172A Expired - Fee Related JP3125127B2 (ja) | 1994-07-21 | 1994-07-21 | 浮動型磁気ヘッドの表面仕上げ方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5833871A (ja) |
JP (1) | JP3125127B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6132813A (en) * | 1997-12-11 | 2000-10-17 | International Business Machines Corporation | High density plasma surface modification for improving antiwetting properties |
US6231676B1 (en) * | 1998-01-27 | 2001-05-15 | Seagate Technology Llc | Cleaning process for disc drive components |
CN1114901C (zh) * | 1998-07-24 | 2003-07-16 | 住友特殊金属株式会社 | 磁头及其制造方法 |
SG84541A1 (en) | 1998-08-19 | 2001-11-20 | Hoya Corp | Glass substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium, and method of manufacturing the same |
JP2000215430A (ja) | 1999-01-26 | 2000-08-04 | Tdk Corp | 磁気ヘッドおよびその製造方法並びに磁気ディスク装置 |
US6503405B1 (en) * | 1999-04-14 | 2003-01-07 | Seagate Technology Llc | Surface treatment with ZP process for GMR media |
US6440531B1 (en) * | 1999-05-13 | 2002-08-27 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd | Hydrofluoric acid etched substrate for information recording medium |
US6867148B2 (en) * | 2001-05-16 | 2005-03-15 | Micron Technology, Inc. | Removal of organic material in integrated circuit fabrication using ozonated organic acid solutions |
JP2004265461A (ja) * | 2003-01-31 | 2004-09-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4322264A (en) * | 1975-12-09 | 1982-03-30 | U.S. Philips Corporation | Method for selective etching of titaniumdioxide relative to aluminum |
JPH0692263B2 (ja) * | 1989-02-16 | 1994-11-16 | 伊藤忠商事株式会社 | 記録ディスク基板及びその製造方法 |
JPH02276074A (ja) * | 1989-04-18 | 1990-11-09 | Teac Corp | ヘッドスライダ |
JPH02310869A (ja) * | 1989-05-24 | 1990-12-26 | Hitachi Metals Ltd | 浮動型磁気ヘッドの製造方法 |
US5079657A (en) * | 1990-02-15 | 1992-01-07 | Applied Magnetics Corporation | Textured air bearing surface |
JPH0434203A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-05 | T V Valve Kk | ピストン型揺動アクチュエータ |
JP2603361B2 (ja) * | 1990-09-07 | 1997-04-23 | シャープ株式会社 | 磁気ディスク装置 |
JP3135185B2 (ja) * | 1993-03-19 | 2001-02-13 | 三菱電機株式会社 | 半導体エッチング液,半導体エッチング方法,及びGaAs面の判定方法 |
-
1994
- 1994-07-21 JP JP06191172A patent/JP3125127B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-07-07 US US08/889,006 patent/US5833871A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5833871A (en) | 1998-11-10 |
JPH0836852A (ja) | 1996-02-06 |
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