JP2004265461A - 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】テクスチャー上でのバリの発生を抑えることができる情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供する
【解決手段】情報記録媒体用ガラス基板は、機械式テクスチャー形成法により、円盤状をなすガラス素板の表面に複数のライン状をなすテクスチャーを形成して製造される。また、このガラス素板は、テクスチャーを形成した後、１００％モジュラスが３〜４０ＭＰａの材料よりなる修正パッドでその表面を、テクスチャーの延びる方向と交差する方向へ擦られることにより、テクスチャー上に発生したバリを除去されている。
【選択図】 なし
【解決手段】情報記録媒体用ガラス基板は、機械式テクスチャー形成法により、円盤状をなすガラス素板の表面に複数のライン状をなすテクスチャーを形成して製造される。また、このガラス素板は、テクスチャーを形成した後、１００％モジュラスが３〜４０ＭＰａの材料よりなる修正パッドでその表面を、テクスチャーの延びる方向と交差する方向へ擦られることにより、テクスチャー上に発生したバリを除去されている。
【選択図】 なし
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えばハードディスク等のような情報記録装置の磁気記録媒体である磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体に用いられる情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法に関するものである。より詳しくは、その表面に複数のテクスチャーが形成された情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、上記のような情報記録媒体の１つである磁気ディスクは、円盤状をなすガラス基板の表面に磁性膜等を積層することによって作製されている。このガラス基板は、磁気ディスクに要求される高密度、大容量の記録を可能とするため、その表面が平滑となるように研磨加工を施される。一方で、表面を平滑に研磨された磁気ディスクは、情報を読み取るためのヘッドが吸着しやすくなる。この吸着の低減を目的とし、テクスチャー処理を施すことにより、ガラス基板の表面に適度な表面凹凸であるテクスチャーを形成したものが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００２−１１７５３２号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来のテクスチャー処理の方法としては、ケミカル式テクスチャー形成法と機械式テクスチャー形成法の主に２通りが挙げられる。ケミカル式テクスチャー形成法とは、ガラス基板を酸性水溶液、アルカリ性水溶液等からなるエッチング液に浸漬する等してその表面をエッチングし、テクスチャーを形成する方法である。機械式テクスチャー形成法とは、テクスチャーマシン等を用い、ガラス基板の表面に研磨スラリーを供給しながら研磨テープ等を摺接させることによってテクスチャーを形成する方法である。
【０００５】
ケミカル式テクスチャー形成法と、機械式テクスチャー形成法とを比較した場合、ケミカル式テクスチャー形成法は、機械式テクスチャー形成法に比べ、テクスチャーの形成を簡単に行うことができるという利点を有する。一方で、ケミカル式テクスチャー形成法においては、エッチング液にガラス基板を浸漬する等の手法では、テクスチャーの形状を精密に制御しながらこれを形成することは極めて難しいものとなる。特に、高密度、大容量の記録を可能とするためには、均一な形状のテクスチャーをガラス基板の表面全体に均一に分散させて形成する必要がある。そして、テクスチャーの形状を精密に制御するには、ケミカル式テクスチャー形成法よりも、機械式テクスチャー形成法が有利となる。
【０００６】
しかし、機械式テクスチャー形成法は、ケミカル式テクスチャー形成法に比べ、テクスチャー上に異常な高さの突起であるバリが発生しやすく、このバリによってテクスチャーの形状が不均一なものとなるという問題がある。つまり、ケミカル式テクスチャー形成法であれば、理論的にはガラス基板の表面が均一にエッチングされることからバリは発生しにくい。これに対し、機械式テクスチャー形成法は、ガラス基板の表面を研磨スラリーで削る際、表面に加わる応力、削り残し等により、バリが発生しやすくなるためである。従って、機械式テクスチャー形成法においては、いかにバリの発生を抑えるかが重要課題となっていた。
【０００７】
この発明は、上記のような従来技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的とするところは、テクスチャー上でのバリの発生を抑えることができる情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、円盤状をなすガラス素板の表面を研磨した後、その表面にテクスチャー処理を施して製造される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記テクスチャー処理は、ガラス素板の表面に研磨スラリーを供給しながら研磨部材を摺接させる機械式テクスチャー形成法により、ガラス素板の表面にその略周方向へ延びるライン状のテクスチャーを形成するための工程と、テクスチャーを形成するときにテクスチャー上に形成される異常な高さの突起であるバリを除去し、テクスチャーの形状を修正するための工程とを備えるとともに、該テクスチャーの形状の修正は、１００％モジュラスが３〜４０ＭＰａの合成樹脂を材料とする発泡体よりなる修正パッドを使用し、この修正パッドでガラス素板の表面をテクスチャーの延びる方向と交差する方向へ擦ることによって行われることを要旨とする。
【０００９】
請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、請求項１に記載の発明において、前記修正パッドには、アスカーＣの硬度で４０〜７０のものを使用することを要旨とする。
【００１０】
請求項３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、請求項１又は請求項２に記載の発明において、前記修正パッドには、その表面の穴の開口径が４８〜６０μｍのものを使用することを要旨とする。
【００１１】
請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の発明において、前記修正パッドでガラス素板の表面を擦る時間が、２〜２０秒であることを要旨とする。
【００１２】
請求項５に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の発明において、前記修正パッドには、ウレタン樹脂を材料とする発泡体よりなるものを使用することを要旨とする。
【００１３】
請求項６に記載の情報記録媒体用ガラス基板の発明は、請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された情報記録媒体用ガラス基板であって、その表面の所定領域を原子間力顕微鏡で測定した際、所定領域の面積を基準面積とし、当該表面と平行な面でテクスチャーを切断した場合のテクスチャーの切断面の面積を測定面積としたときの、基準面積に対する測定面積の割合をベアリングレシオ（ＢＲ）として、該ＢＲが５０％となる位置を基準面とし、ＢＲが所定値（Ｘ％）となるようにテクスチャーを切断する面を測定面としたときの、基準面から測定面までの高さをベアリングハイト（ＢＨ（Ｘ））とした場合、バリの存在はＢＨ（０．０１）からＢＨ（０．４）の範囲で確認されるとともに、テクスチャー上からバリを除去した状態で、ＢＨ（０．０１）とＢＨ（０．４）との差が０．０１〜１．０ｎｍであることを要旨とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、この発明を具体化した一実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１に示すように、情報記録媒体用ガラス基板１１（以下、略して「ガラス基板１１」とも記載する）は、シート状のガラス板から円盤状に切り出されたガラス素板を研磨等することにより、中心に円孔１２を有する円盤状に形成されている。このガラス素板は、フロート法、ダウンドロー法、リドロー法又はプレス法で製造されたソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等の多成分系のガラス材料より形成されている。さらに、このガラス素板にテクスチャー加工を施すことにより、当該ガラス基板１１は、その表面に複数のテクスチャー１３が形成されている。これらテクスチャー１３は、それぞれガラス基板１１の周方向へ延びるライン状をなしている。そして、テクスチャー１３が形成されたガラス基板１１の表面に、例えばコバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）、鉄（Ｆｅ）等の金属又は合金よりなる磁性膜、保護膜等を形成することにより、磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体が構成される。
【００１５】
テクスチャー１３を有するガラス基板１１は、好ましくは表面の微小うねりの高さ（ＮＲａ）が０．２ｎｍ以下であり、表面粗さ（Ｒａ）が０．５ｎｍ以下である。また、この場合の表面のうねりの高さ（Ｗａ）は、好ましくは０．５ｎｍ以下である。なお、ＮＲａとは、Ｚｙｇｏ社製の三次元表面構造解析顕微鏡（ＮｅｗＶｉｅｗ２００）を用い、測定波長（λ）を０．２〜１．４ｍｍとして表面の所定領域を白色光で走査して測定された値を示すものである。Ｒａとは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定された値を示すものである。Ｗａとは、ＰｈａｓｅＭｅｔｒｉｘ社製の多機能ディスク干渉計（Ｏｐｔｉｆｌａｔ）を用い、測定波長（λ）を０．４〜５．０ｍｍとして表面の所定領域を白色光で走査して測定された値を示すものである。
【００１６】
このガラス基板１１において、ＮＲａ、Ｒａ及びＷａのうち、特にＮＲａが０．２ｎｍを超え、Ｒａが０．５ｎｍを超えると、その表面が荒れた平滑性の低いものと判断される。これは、近年の情報記録媒体は、さらなる高密度記録化を図るため、情報記録媒体の表面とヘッドとの距離をさらに接近させる傾向があるためである。このヘッドが情報記録媒体上を移動する際、Ｗａならば、若干大きくとも、うねりの高低差にヘッドが追従することが可能である。しかし、ＮＲａ及びＲａが大きいと、ヘッドは微小うねりの高低差に追従できなかったり、凹凸を飛び越えることができなかったり等して、凹凸に引っ掛かったり、衝突したり等の不具合が頻繁に発生しやすくなる。
【００１７】
一方で、表面の平滑性が過剰に高すぎると、ヘッドが情報記録媒体の表面に吸着され、移動が不可能になったりする等の不具合を発生させる。そこで、テクスチャー１３は、ガラス基板１１の表面を平滑としながらも、ヘッドとの接触面積を低減するために形成されている。図８に示すように、テクスチャー１３が形成されたガラス基板１１の表面は、ほぼ均一な高さの凹凸状をなすことにより、平滑でありながら、ヘッドとの接触面積が低減されている。そして、テクスチャー１３は、ヘッドとの接触面積を低減することにより、情報記録媒体の表面に対するヘッドの吸着を抑制するという機能を発揮する。また、当該テクスチャー１３は、ガラス基板１１を情報記録媒体とした際、高い磁気異方性と保磁力を付与するという機能をも有する。これは、磁性膜を形成する金属の原子が、テクスチャー１３の側面で配向良く並べられることが理由であると考えられる。
【００１８】
次に、前記ガラス基板の製造方法について説明する。
ガラス基板は、円盤加工工程、端面面取り工程、研削工程、研磨工程、洗浄処理工程及びテクスチャー処理工程を経て製造される。
【００１９】
前記円盤加工工程においては、シート状のガラス板を超硬合金又はダイヤモンド製のカッターを用いて切断することにより、その中心に円孔を有する円盤状のガラス素板が形成される。前記端面面取り工程においては、ガラス素板の内外周端面が研削され、外径及び内径寸法が所定長さとされるとともに、内外周端面の角部が研磨されて面取り加工される。
【００２０】
前記研削工程においては、ガラス素板に対し、研磨装置を用いてラップ処理が施されることにより、ガラス素板全体での反りが修正され、ガラス素板が略平坦な板とされる。前記研磨工程においては、ガラス素板に対し、研磨装置を用い、複数段階に分けて研磨処理が施されることにより、ガラス素板の表面が平滑面とされる。前記洗浄処理工程においては、洗浄液を使用し、研磨処理後のガラス素板に洗浄処理が施されることにより、ガラス素板の表面に付着した研磨剤、研磨粉、塵埃等の付着物が除去される。
【００２１】
前記テクスチャー処理工程においては、研磨工程でその表面を平滑とされたガラス素板に対してテクスチャー処理が施され、ガラス素板の表面にテクスチャーが設けられることにより、ガラス基板が製造される。このテクスチャー処理は、テクスチャーを形成するための工程であるテクスチャー形成工程と、テクスチャーの形状を修正するための工程であるスクラブ処理工程との主に２工程に分けて施される。
【００２２】
前記テクスチャー形成工程について説明する。このテクスチャー形成工程では、ガラス素板の表面に研磨スラリーを供給しながら、研磨部材を摺接させるという機械式テクスチャー形成法により、ガラス素板の表面にライン状のテクスチャーが形成される。そして、この機械式テクスチャー形成法では、テクスチャーマシンと呼ばれる装置が使用される。
【００２３】
ここで、テクスチャーマシンについて説明する。
図３（ａ），（ｂ）に示すように、当該テクスチャーマシン内において、ガラス素板１１ａは、図示しないスピンドルにより、その周方向へ回転するように支持されている。ガラス素板１１ａの両側部には、一対のローラ３１がガラス素板１１ａを挟んで対向配置されている。各ローラ３１は、図示しない支持部材に対し、回転軸３２を中心に回動自在に支持されるとともに、それぞれがガラス素板１１ａの半径方向に延びるように配設されている。また、これらローラ３１は、それぞれがガラス素板１１ａに対して接近又は離間可能に構成されている。
【００２４】
ガラス素板１１ａの表面と、各ローラ３１との間には、研磨部材としてのテープ部材３３がそれぞれ配設されている。これらテープ部材３３は、ガラス素板１１ａの表面と各ローラ３１との間を通って、その一端側から他端側へと移動するように構成されている。該テープ部材３３とガラス素板１１ａの表面との間には、図示しない供給部から研磨スラリーが供給されるとともに、テープ部材３３には、この研磨スラリーに含まれる砥粒が付着するように構成されている。
【００２５】
上記のテクスチャーマシンにおいて、テープ部材３３は、回転するガラス素板１１ａの表面に一対のローラ３１が両側方から接近することにより、ガラス素板１１ａの表面に摺接される。このテープ部材３３の摺接により、ガラス素板１１ａの表面には前記砥粒が押し付けられる。このときガラス素板１１ａはスピンドルによって回転された状態であることから、ガラス素板１１ａの表面が砥粒によって削られ、同表面に複数の浅い筋状の微細な溝が同心円状に形成される。そして、これら浅い筋状の微細な溝がテクスチャーマシンでの加工時間に応じてより深く削られ、このような溝の間の部分にテクスチャーが同心円状をなすように形成される。
【００２６】
前記テープ部材３３には、織物、不織布、植毛品等のようなスウェード材等といった、その表面に極微細な凹凸を有するものが使用される。これは、テープ部材３３の極微細な凹凸に砥粒を引っ掛ける等することにより、同テープ部材３３の表面に砥粒を保持するためである。また、テープ部材３３の材料には、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン等の合成樹脂、綿等の天然繊維が使用されている。特にスウェード材よりなるものであれば、合成樹脂製の発泡体を使用することも可能である。
【００２７】
前記研磨スラリーとしては、ダイヤモンド製の砥粒を水等の溶媒に分散させて得られるダイヤモンドスラリーが主に使用される。また、砥粒の粒径は、平均粒径（Ｄ５０）で好ましくは０．０５〜０．３μｍであり、より好ましくは０．０８〜０．２５μｍである。Ｄ５０が０．０５μｍ未満の場合、ガラス素板に対する研磨能力の低下を招き、テクスチャーの形成速度が遅くなるため、歩留まりの低下、加工コストの高騰を招くおそれがある。一方、Ｄ５０が０．３μｍを超えると、一つ一つの砥粒の粒径差が顕著となり、テクスチャーを均一な形状で形成することが難しくなるおそれがある。
【００２８】
また、ガラス素板１１ａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）が、好ましくは０．３５〜１．０ｎｍである。このガラス素板１１ａは、テクスチャー形成工程よりも前の工程である研磨工程でこのようなＲａとなるように研磨される。Ｒａが０．３５ｎｍ未満の場合、ガラス素板１１ａの表面で砥粒が滑りやすくなり、テクスチャーの形状を精密に制御することができなくなるおそれがある。Ｒａが１．０ｎｍを超えると、このガラス素板１１ａから製造されたガラス基板は、表面品質の低いものとなるおそれがある。つまり、表面に大きな凹凸が残されたままの状態でテクスチャーを形成すれば、このような凹凸によってテクスチャーの上端部分に凹み、歪み等の欠陥が修正されず、残ることとなり、このような欠陥がガラス基板の表面の平滑性等といった表面品質を低下させる。
【００２９】
前記スクラブ処理工程について説明する。上記のテクスチャー形成工程で機械式テクスチャー形成法によってテクスチャーを形成する場合、大半のテクスチャーは形状の揃ったものとなるが、一部のテクスチャー上には、異常な高さの突起からなるバリが形成されてまう。そこで、このスクラブ処理工程では、修正パッドとしてのスクラブパッドを使用し、このスクラブパッドでガラス素板の表面が擦られることにより、テクスチャー上に形成されたバリが除去される。
【００３０】
ここで、機械式テクスチャー形成法でテクスチャー上に形成されるバリについて記載する。研磨スラリーに含まれる砥粒には、その粒径に若干の差異があり、一つ一つの砥粒が形成する溝の深さ及び幅に差異を生じることから、テクスチャーの高さ等の形状にもばらつきが生じることとなる。例えば、溝が深く、幅広に形成された箇所では、テクスチャーは低く、細くなる。これとは逆に、溝が浅く、幅狭に形成された箇所では、テクスチャーは高く、太く形成される。特に、機械式テクスチャー形成法においては、ガラス素板の表面が砥粒で削られるとき、砥粒から加わる応力によってその周縁部分が潰れて歪んだり、崖状に切り立ったり、あるいは削り残しが発生したり等する可能性が高い。
【００３１】
このように各テクスチャーの形状がばらつく場合、それぞれの尾根（テクスチャーの頂上）も波状をなすように歪むこととなる。この歪みは不均一なものとなりやすく、歪んだ尾根の一部には、他の尾根の高さと比較して異常に高く、細く鋭い突起状をなすものが存在しており、これが前記バリとなる。また、このようなバリは、テクスチャー上に散逸的に形成されることに限らず、テクスチャーの延びる方向へ複数が連続して形成されることも多々ある。
【００３２】
一方、従来のケミカル式テクスチャー形成法は、ガラス素板の表面をエッチング液でエッチング、つまり溶かしてテクスチャーを形成する方法である。従って、ケミカル式テクスチャー形成法は、機械式テクスチャー形成法に比べてバリが形成されにくい方法ではあるが、ガラス素板の表面が不均一にエッチングされたときにバリが形成されてしまう場合がある。そして、このケミカル式テクスチャー形成法で形成されるバリは、テクスチャーの形成方法が全く異なるものであることから、機械式テクスチャー形成法で形成されるバリとは、その形状及び性質が大きく異なる。
【００３３】
形状について、ケミカル式テクスチャー形成法によるバリを詳細に測定した場合、図５に示すように、このバリ１３ａは、丸みを帯びた山状をなすものとなる。つまり、ケミカル式テクスチャー形成法によるバリ１３ａは、スクラブパッドで擦る際にスクラブパッドから加わる外力を受け流しやすい形状をなし、除去しにくいものとなりやすい。これに対し、機械式テクスチャー形成法によるバリ１３ａは、図４（ａ）に示すように、細く鋭い突起状となすものとなる。従って、機械式テクスチャー形成法によるバリ１３ａは、スクラブパッドから加わる外力を受け流しにくく、十分な外力を加えることが可能であり、除去しやすいものとなる。
【００３４】
性質について、ケミカル式テクスチャー形成法によるバリ１３ａの表面には、これを保護するようにエッチング液によって化学的性質の異なる層が形成されており、強い外力を加えなければ除去することは難しい。これに対し、機械式テクスチャー形成法によるバリ１３ａは、周縁部分が砥粒で削られて形成されたものであることから、その表面に微細なひびを有しており、弱い外力を加えるだけでその基部から折り取り、除去することが十分に可能である。従って、機械式テクスチャー形成法は、ケミカル式テクスチャー形成法に比べてバリは形成されやすいが、しかし形成されたバリは、当該スクラブ処理工程で十分に除去可能なものとなる。
【００３５】
当該スクラブ処理工程では、図２に示すようなスクラブ装置が使用される。すなわち、スクラブ装置内において、ガラス素板１１ａは、その下端部及び両側部の合計３箇所を３本の支持シャフト２１によって支持されている。また、この状態でガラス素板１１ａは、各支持シャフト２１に固定されることなく支持のみされることにより、外力を加えることで３本の支持シャフト２１の内側で、その周方向へ回転可能に構成されている。
【００３６】
ガラス素板１１ａの表面上には円形状をなすスクラブパッド２２が配設されている。このスクラブパッド２２は、支持シャフト２１と平行に延びる軸２３によって支持されている。この軸２３は図示しない駆動装置に接続されており、この駆動装置から軸２３を介して駆動力が伝達されることにより、スクラブパッド２２は軸２３を中心に図中に矢印で示す方向へ回転するように構成されている。また、このスクラブパッド２２は、ガラス素板１１ａに対し、その外周縁がガラス素板１１ａの中心と重なるように、ガラス素板１１ａの直径方向へ位置ずれしており、そのほぼ半分がガラス素板１１ａに接触するように配設されている。
【００３７】
スクラブ装置において、スクラブパッド２２が回転すると、これに接触するガラス素板１１ａは、回転力を付与され、スクラブパッド２２の回転方向と反対方向へ回転する。この状態で、ガラス素板１１ａの表面にはその周方向へ延びるようにテクスチャー１３が形成されていることから、ガラス素板１１ａは、スクラブパッド２２により、テクスチャー１３の延びる方向と交差する方向へ擦られる。このスクラブパッド２２の摺接により、バリは、テクスチャー１３上から折り取られ、除去される。
【００３８】
テクスチャー１３上からバリを確実に除去するためには、上記のように、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａを、そのテクスチャー１３の延びる方向と交差する方向へ擦る必要がある。
【００３９】
すなわち、図７に示すように、機械式テクスチャー形成法によるバリ１３ａは、その大半がテクスチャー１３の延びる方向へ連続しており、テクスチャー１３と同じ方向へ延びる壁のような形状で形成されている。このようなバリ１３ａを除去する場合、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａをテクスチャー１３の延びる方向、つまりは周方向へ擦ると、一部のバリ１３ａが除去されない可能性がある。これは、他のバリ１３ａがスクラブパッド２２の表面を変形させ、一部のバリ１３ａにスクラブパッド２２が接触しなかったり、あるいは除去されたバリ１３ａが邪魔となり、スクラブパッド２２からの外力が受け流されたり等するためと考えられる。これに対し、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａをテクスチャー１３の延びる方向と交差する方向へ擦れば、壁のような形状で形成されたバリ１３ａがスクラブパッド２２からの外力を受け止めるように接触されることとなる。従って、より多くのバリ１３ａを折り取ることができ、バリ１３ａを確実に除去することが可能となる。
【００４０】
当該スクラブパッド２２には、合成樹脂製の発泡体よりなるスポンジ、スウェード材等が使用される。このスクラブパッド２２によってバリ１３ａが除去される状況を詳細に検討すると、バリ１３ａは、スクラブパッド２２の表面に形成された穴の内側に一旦入り込み、この穴を形作る周壁が横方向から接触されることによって折り取られるものと考えられる。そこで、このスクラブパッド２２には、微視的な観点で、バリ１３ａに接触したときにガラス素板１１ａの表面に対するバリ１３ａの強度に押し負けない程度に硬いものが用いられる。この微視的な観点で硬いものとは、表面の穴を形作る周壁が硬いこと、つまりはスクラブパッド２２に使用する材料そのものの硬さが硬いことを示す。
【００４１】
従って、スクラブパッド２２には、材料の硬さを示す値であり、ＪＩＳ Ｋ ６２５６に規定される１００％モジュラスが、３〜４０ＭＰａの合成樹脂を材料とするものが使用される。この１００％モジュラスが３ＭＰａ未満のものを材料とした場合、バリ１３ａを十分に除去することができなくなる。１００％モジュラスが４０ＭＰａを超えるものを材料とした場合、バリ１３ａのみでなく、テクスチャー１３までをも削ってしまうこととなり、テクスチャー１３の形状に影響を与えることとなる。
【００４２】
このような材料としては、ウレタン樹脂を使用することが好ましい。これは、ウレタン樹脂は、種類が同一のものであれば、１００％モジュラスの値が高いものほど、樹脂中における分子の結晶化が進行し、スクラブパッド２２の微視的な観点での硬さが確実に増すためである。このウレタン樹脂には、出発原料によってポリエステル系ウレタン樹脂、ポリエーテル系ウレタン樹脂、ポリカーボネート系ウレタン樹脂等の種類が存在する。これら種類の中でもスクラブパッド２２の材料には、ポリカーボネート系ウレタン樹脂を使用することがより好ましい。これは、ポリカーボネート系ウレタン樹脂は、他のものに比べ耐薬品性に優れており、例えばスクラブ処理工程時に酸性水溶液、アルカリ性水溶液等の洗浄液を使用する場合、その表面の微視的な観点での硬さを維持することが可能となるためである。
【００４３】
また、スクラブパッド２２としては、表面の穴の開口径が４８〜６０μｍのものを使用することが好ましい。この穴の開口径が大きくなるに従って、穴を形作る周壁は薄くなり、微視的な観点での硬さが低くなることから、開口径が６０μｍを超えると、バリ１３ａを十分に除去することができなくなるおそれがある。これに対し、開口径が小さくなるに従って、穴を形作る周壁は厚くなり、微視的な観点での硬さは増すことから、開口径を４８μｍ未満とすれば、テクスチャー１３を削り、その形状に影響を与えるおそれがある。
【００４４】
また一方で、この実施形態では、スクラブ処理工程においてバリを除去するとともに、ガラス素板１１ａの表面に付着した、除去後のバリ１３ａ、テクスチャー形成時の研磨粉、研磨スラリー等といった付着物を除去することも目的とする。このため、この実施形態のスクラブ処理工程は、ガラス素板１１ａの表面に洗浄液をシャワーしつつ、同表面をスクラブパッド２２で擦ることにより、その表面の付着物を擦り落として取り除くものとする。
【００４５】
この洗浄液としては、水、純水、イソプロピルアルコール等のアルコール等の中性水溶液が挙げられる。この他に中性水溶液として、塩化ナトリウム等のアルカリ金属塩等といった無機塩の水溶液を電気分解することにより得られた電解水又はガスが溶解されたガス溶解水等の機能水等の中性水溶液が挙げられる。さらに、ガラス材料に対してエッチング能を有するアルカリ性水溶液、酸性水溶液等を洗浄液として使用してもよい。この場合には、ガラス材料に対するエッチング能が低い、例えば水酸化カリウム水溶液等のアルカリ性水溶液を使用することが好ましい。
【００４６】
バリ１３ａを除去するとともに、付着物を擦り落とし、かつテクスチャー１３の形状に影響を与えないようにするため、スクラブパッド２２には、スクラブパッド２２全体での巨視的な観点で、テクスチャー１３を削り取らない程度の軟らかさが必要とされる。このため、スクラブパッド２２には、前に挙げた材料を用いてこれを形成したとき、スクラブパッド２２全体での硬さを示す値であり、ＳＲＩＳＯ１０１に規定されるアスカーＣの硬度が、４０〜７０のものを使用することが好ましい。アスカーＣの硬度が４０未満の場合、バリ１３ａのみならず、付着物をも十分に除去することができなくなるおそれがある。アスカーＣの硬度が７０を超える場合、バリ１３ａや付着物だけでなくテクスチャー１３までをも削り取ってしまうおそれがある。
【００４７】
当該スクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面を擦る時間は、好ましくは２〜２０秒である。前述したように、機械式テクスチャー形成法によるバリ１３ａは、従来のケミカル式テクスチャー形成法のものに比べれば除去しやすいものである。このため、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面を過剰に長い時間、つまり２０秒を超えて擦れば、バリ１３ａが除去されたテクスチャー１３の上部を削り取ることとなり、テクスチャー１３の形状に影響を与えるおそれがある。一方で、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面を擦る時間を過剰に短く、つまり２秒未満とすれば、バリ１３ａや付着物が十分に除去されていない可能性があり、得られるガラス基板１１の品質を低下させることとなる。
【００４８】
当該スクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面を擦るとき、スクラブパッド２２とガラス素板１１ａとの接触圧力は、好ましくは４．９〜４９ｋＰａである。この接触圧力は、スクラブパッド２２の形状、厚み等を種々変更することによって調整される。つまりは、スクラブパッド２２のガラス素板１１ａへの接触面に同心円状の溝を形成したり、厚みを増減させることによって接触圧力が調整される。接触圧力が４．９ｋＰａより低い場合、スクラブ処理工程に係る作業時間が長くなったり、バリ１３ａ、付着物等を十分に除去できなくなったり等の不具合を生じるおそれがある。接触圧力が４９ｋＰａより高い場合、テクスチャーの形状に影響が与えられたり、表面に接触傷が発生したり、作業時にガラス素板１１ａが割れたり等の不具合を生じるおそれがある。
【００４９】
スクラブパッド２２の回転数は、好ましくは１０〜５００ｒｐｍである。回転数が低すぎたり、高すぎたりすると、ガラス素板１１ａの表面からスクラブパッド２２が浮き上がったり、スクラブパッド２２が過剰に接触したり等して、スクラブパッド２２の接触状態が不均一になり易く、バリ１３ａ、付着物等の不十分な除去、接触傷の発生等のような不具合を生じるおそれがある。
【００５０】
次いで、テクスチャー上でのバリの有無を測定する方法について説明する。
バリの有無の測定には、ＡＦＭでの測定結果を基に求められるベアリングレシオ（ＢＲ）と、ベアリングハイト（ＢＨ）を使用した方法が用いられる。なお、同ＡＦＭでは、ＪＩＳ Ｂ０６０１の規定に従い、その走査線毎に粗さ曲線を求めることが可能であり、同粗さ曲線に基づき、ガラス素板１１ａの表面の凹凸を鳥瞰図として示すことができる。このＢＲと、ＢＨを使用した方法によれば、バリの有無の他、テクスチャーの形状をも測定することが可能である。まず、ＢＲについて、以下に説明する。
【００５１】
ＢＲを求めるためには、まず第１に、ガラス素板１１ａの表面の所定領域内において、その表面状態がＡＦＭを用いて測定される。この測定された所定領域の面積が基準面積とされる。例えば、測定された所定領域が１０μｍ四方の正方形であれば、基準面積は１００μｍ２である。
【００５２】
第２に、図４（ａ）〜（ｃ）に示すように、ガラス素板１１ａの表面と平行な面で各テクスチャー１３が切断される。ここでは、図４（ａ）中の４Ｂ線を含む面で各テクスチャー１３を切断したそれぞれの切断面１４を図４（ｂ）に示し、４Ｃ線を含む面でテクスチャー１３を切断した切断面１４を図４（ｃ）に示す。その後、各テクスチャー１３の切断面１４の面積の合計が算出される。この切断面１４の面積の合計が、測定面積とされる。
【００５３】
そして、前述の基準面積に対する当該測定面積の割合が、ＢＲとして示される。例えば、基準面積に対する測定面積の割合が５０％ならば、ＢＲは５０％であり、割合が０．０１％ならば、ＢＲは０．０１％である。
【００５４】
次に、ＢＨについて、以下に説明する。
ＢＨを求めるためには、まず第１に、前記ＢＲが５０％となる位置が求められる。このＢＲが５０％となる位置が、図４（ａ）中に示した基準面１５とされる。第２に、前記ＢＲが所定値となるときに各テクスチャーを切断する面が求められる。この各テクスチャーを切断する面が測定面とされる。ここでは、図４（ａ）中で、４Ｂ線を含む面又は４Ｃ線を含む面が測定面である。そして、前述の基準面１５から当該測定面までの高さが、ＢＲがＸ％のときのＢＨ（Ｘ）として示される。例えば、４Ｂ線を含む面を測定面としたとき、ここでのＢＲが１０％ならば、ＢＨ（１０）と表記し、基準面１５から４Ｂ線を含む測定面までの高さＨ１が０．５ｎｍならば、ＢＨ（１０）は０．５ｎｍである。また、４Ｃ線を含む面を測定面としたとき、ここでのＢＲが０．１％ならば、ＢＨ（０．１）と表記し、基準面１５から３Ｃ線を含む測定面までの高さＨ２が１．５ｎｍならば、ＢＨ（０．１）は１．５ｎｍである。
【００５５】
図９は、上記のようにして測定したＢＲ（単位は％）とＢＨ（単位はｎｍ）との関係を示すグラフである。図４（ａ）に示したように、テクスチャー１３は尾根状をなすものである。このため、ＢＲが大きくなるに従い、テクスチャー１３の基端側（裾野部）に近づき、これに伴ってＢＨ（Ｘ）は小さくなる。これとは逆に、ＢＲが小さくなるに従い、テクスチャー１３の上端側（頂上部）に近づき、これに伴ってＢＨ（Ｘ）は大きくなる。そして、ＢＲとＢＨ（Ｘ）とは、図９中に実線で示したような関係線を描くこととなる。この実線で示した関係線を以後、基準関係線４１とする。
【００５６】
ここで、図６に示すように、テクスチャー１３が良好な形状、つまりはバリ、凹み等がなく一定の勾配の尾根状をなすとき、基準関係線４１のように、その大半が略直線状に延び、ＢＲがある程度小さくなると傾斜が緩やかになる関係線となる。これに対し、図４（ａ）に示すように、テクスチャー１３上に細く切り立ったバリが存在するとき、ＢＲがある程度小さくなると、ＢＨ（Ｘ）が急激に上昇することから、図９中に一点鎖線で示したような第１異常関係線４２となる。この第１異常関係線４２のような関係線は、機械式テクスチャー形成法でバリが形成された場合に頻繁に見られる関係線である。
【００５７】
また、図５に示すように、テクスチャー１３の頂上部が歪むことによってその一部が突出した大きな尾根状をなし、これがバリ１３ａとなるとき、ＢＨ（Ｘ）がその途中で急激に上昇することから、図９中に一点鎖線で示したような第２異常関係線４３となる。この第２異常関係線４３のような関係線は、ケミカル式テクスチャー形成法でバリが形成された場合に頻繁に見られる関係線である。
【００５８】
従って、異なるＢＲ毎にＢＨ（Ｘ）の差を求め、そのＢＨ（Ｘ）の差を比較検討することにより、バリの有無、テクスチャーの形状を測定することが可能となる。そして、製造時におけるガラス素板について、異なるＢＲ毎のＢＨ（Ｘ）の差を所定値とすることにより、バリの発生を防止し、テクスチャーの形状を一定とすることが可能となる。
【００５９】
具体的に、バリの存在はＢＨ（０．０１）からＢＨ（０．４）の範囲で確認される。これは、本発明者等が図７に示したようなＡＦＭによる鳥瞰図と、図９のグラフに示したようなＢＲとＢＨ（Ｘ）との関係線とを照らし合わせ、その結果、初めて見出したものである。つまり、ＡＦＭによる鳥瞰図を見ると、テクスチャー１３の尾根上に所々細く切り立った部分が観測されており、この細く切り立った部分をバリ１３ａとしたところ、同バリ１３ａはＢＨ（０．０１）〜ＢＨ（０．４）の範囲内に存在していたことによる。
【００６０】
ＢＨ（Ｘ）の差であるＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）は、０．０１〜１．０ｎｍとされる。ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）が０．０１ｎｍ未満の場合、テクスチャー１３がその上端が平坦な断面略台形状をなすように形成されてしまう。ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）が１．０ｎｍを超える場合、テクスチャー１３上に細く切り立った部分、つまりバリ１３ａが形成されることとなる。そして、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）を０．０１〜１．０ｎｍとすることで、バリの形成を防止することが可能となる。
【００６１】
テクスチャーの形状について、ＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）は、好ましくは０．１５〜０．２０ｎｍである。ＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）が０．１５ｎｍ未満の場合、ＢＲが０．４％未満の位置において、ＢＨが急激に上昇する箇所が高い確率で存在することを示し、テクスチャー１３の尾根に高く突出した部分が形成されてしまうおそれがある。ＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）が０．２ｎｍを超えると、ＢＲが０．４％未満の位置において、高い確率でＢＨが上昇せず、テクスチャーの尾根に低く凹んだ部分が形成されてしまうおそれがある。
【００６２】
また、テクスチャーの形状について、ＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）が０．１７〜０．２０ｎｍであり、かつＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）が０．２〜０．７ｎｍであることが好ましい。例えば、ケミカル式テクスチャー形成法によるものと似通った形状のバリが形成された場合、このバリの存在はＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）では十分に確認することができない。また、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）及びＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）の両方が前に挙げた範囲を満たしていても、ＢＲとＢＨの関係線を描くと、同関係線が前記の基準関係線４１のような線を描かない場合もあり得る。そこで、テクスチャーの形状をより詳細に評価するには、ＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）と、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）との関係を確認することが好ましい。そして、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）及びＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）の双方が前に挙げた範囲を満たす場合、関係線は略直線状をなし、勾配の均一なテクスチャーを形成することが可能となる。
【００６３】
加えて、ＢＨ（１．０）−ＢＨ（１５．０）の値は、ＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）の値よりも大きくなることが好ましい。ＢＨ（１．０）−ＢＨ（１５．０）の値がＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）の値よりも小さいと、関係線は下方へ膨らむように湾曲する。この場合には、細く切り立ったバリ１３ａがテクスチャー１３の延びる方向へ連続して形成されてしまうおそれがある。
【００６４】
前記実施形態によって発揮される効果について、以下に記載する。
・ この実施形態のガラス基板１１によれば、その表面にテクスチャー処理を施す際、機械式テクスチャー形成法によるものであることから、テクスチャー１３は、形状を精度よく制御された状態で形成される。しかし、同じく機械式テクスチャー形成法であるため、テクスチャー１３上には異常な高さの突起であるバリ１３ａが高い確率で形成される。同テクスチャー処理においては、テクスチャー１３を形成した後、１００％モジュラスが３〜４０ＭＰａの合成樹脂を材料としたスクラブパッド２２を用い、ガラス素板１１ａの表面を擦ることとしている。このようスクラブパッド２２でガラス素板１１ａを擦ると、バリ１３ａはスクラブパッド２２によって折り取られ、確実に除去される。従って、テクスチャー１３上でのバリ１３ａの発生を抑えることができる。
【００６５】
・ また、製造されるガラス基板１１は、そのＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）が０．０１〜１．０ｎｍとされている。このため、テクスチャー１３上でのバリ１３ａの発生を確実に抑えることができる。
【００６６】
・ また、スクラブパッド２２は、アスカーＣの硬度で４０〜７０とされている。このため、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面を擦るとき、同表面がスクラブパッド２２によって傷つけられることを防止することができる。
【００６７】
・ また、スクラブパッド２２には、その表面の穴の開口径が４８〜６０μｍのものが使用されており、その穴を形作る周壁の厚みが調整されている。このため、スクラブパッド２２によってガラス素板１１ａの表面が傷つけられることを防止しつつ、バリ１３ａを確実に除去することができる。
【００６８】
・ また、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面を擦る時間は、２〜２０秒である。機械式テクスチャー形成法によるバリ１３ａは、容易に折り取り、除去することが可能であるため、擦る時間を適度なものとすることにより、バリ１３ａを確実に除去しつつ、スクラブパッド２２によってガラス素板１１ａの表面が傷つけられることを防止することができる。
【００６９】
・ また、スクラブパッド２２には、ウレタン樹脂を材料とする発泡体よりなるものが使用されている。このため、１００％モジュラスを確実に３〜４０ＭＰａとすることができる。
【００７０】
【実施例】
以下、前記実施形態をさらに具体化した実施例について説明する。
フロート法により得られたアルミノシリケートガラスよりなるガラス素板の表面に、図３（ａ），（ｂ）に示したようなテクスチャーマシンを使用し、機械式テクスチャー形成法により、テクスチャーを形成した。このとき、ガラス素板の組成は、ＳｉＯ２が６３ｍｏｌ％、Ａｌ２Ｏ３が１６ｍｏｌ％、Ｎａ２Ｏが１１ｍｏｌ％、Ｌｉ２Ｏが４ｍｏｌ％、ＭｇＯが２ｍｏｌ％、ＣａＯ ４ｍｏｌ％であった。また、ガラス素板のサイズは、厚み０．６５ｍｍ、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍであった。機械式テクスチャー形成法において、研磨剤にはダイヤモンド製であり、平均粒径が０．２μｍの砥粒を含むものを使用した。
【００７１】
その後、図２に示したようなスクラブ装置で１００％モジュラスが２０ＭＰａのポリウレタンよりなるスクラブパッド２２を使用し、ガラス素板の表面を擦ってバリ１３ａを除去し、ガラス基板を得た。これを実施例１の試料とした。
【００７２】
また、ケミカル式テクスチャー形成法でテクスチャーを形成した以外は、実施例１と同様の処理を施すことにより、ガラス基板を得た。これを比較例１の試料とした。
【００７３】
上記の実施例１及び比較例１について、スクラブパッド２２で擦る前のガラス素板のＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）を測定したところ、実施例１は４．３ｎｍであり、比較例１は４．６ｎｍであった。この後、スクラブパッド２２でガラス素板を０．５秒間擦り、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）を測定したところ、実施例１は３．６ｎｍであり、比較例１は４．１ｎｍであった。つまり、実施例１は０．５秒で０．７ｎｍの高さ分だけバリを除去できたが、これに対し比較例１は０．５ｎｍの高さ分だけしかバリを除去することができなかった。その後、１秒、１．５秒、２秒で測定したところ、実施例１は、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）が２．１ｎｍ、２．０ｎｍ、１．９ｎｍとなった。これに対し、比較例１は３．９ｎｍ、２．５ｎｍ、２．４ｎｍとなった。これらの結果より、機械式テクスチャー形成法によるバリは、ケミカル式テクスチャー形成法によるバリと比較し、明らかに除去しやすいものであることが示された。
【００７４】
次いで、実施例１と同様の処理を施すとともに、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面をテクスチャー１３の延びる方向と交差する方向へ擦ったものを実施例２の試料とし、テクスチャー１３の延びる方向へ擦ったものを比較例２の試料とした。このとき、スクラブパッド２２で擦る前のＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）は、実施例２で４．４ｎｍ、比較例２で４．５ｎｍであった。これに対し、スクラブパッド２２で擦った後のＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）は、実施例２で２．３ｎｍ、比較例２で３．６ｎｍとなった。これらの結果より、修正パッドであるスクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面を擦る際、テクスチャー１３の延びる方向と交差する方向へ擦ることにより、バリが確実に除去されることが示された。
【００７５】
また、比較例３については、スクラブパッド２２で擦らず、比較例４及び５と、実施例３〜２１については、スクラブパッド２２のパット材料及び作業時間を表１に示すように変更し、バリの除去を行った。なお、表１には、各パット材料における１００％モジュラスも合わせて示す。そして、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）を測定した。この結果を表１に示す。
【００７６】
【表１】
表１の結果より、１００％モジュラスが１．５ＭＰａである比較例４及び５は、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）がそれぞれ１．４ｎｍ及び１．３ｎｍと高く、バリがほとんど除去されていないことが示された。これに対し、実施例３〜２１は、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）が０．０１〜１．０ｎｍの範囲内となり、バリが除去されていることが示された。これらの結果より、修正パッドに使用する材料の１００％モジュラスを３〜４０ＭＰａとすることで、バリを有効に除去できることが示された。
【００７７】
なお、前記実施形態を次のように変更して構成してもよい。
・ 情報記録媒体として要求される耐衝撃性、耐振動性、耐熱性等を満たすため、テクスチャー処理よりも前の工程、あるいはテクスチャー処理よりも後の工程でガラス素板に化学強化処理を施してもよい。この化学強化処理とは、ガラス基板の組成中に含まれるリチウムイオンやナトリウムイオン等の一価の金属イオンを、これと比較してそのイオン半径が大きなナトリウムイオンやカリウムイオン等の一価の金属イオンにイオン交換することをいう。そして、ガラス基板の表面に圧縮応力を作用させて化学強化する方法である。この化学強化処理は、化学強化塩を加熱溶融した化学強化処理液にガラス基板を所定時間浸漬することによって行われる。化学強化塩の具体例としては、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸銀等をそれぞれ単独、あるいは少なくとも２種を混合したものが挙げられる。化学強化処理液の温度は、ガラス基板に用いた材料の歪点よりも好ましくは５０〜１５０℃程度低い温度であり、より好ましくは化学強化処理液自身の温度が３００〜４５０℃程度である。ガラス基板の材料の歪点よりも１５０℃程度低い温度未満では、ガラス基板を十分に化学強化処理することができない。一方、ガラス基板の材料の歪点よりも５０℃程度低い温度を超えると、ガラス基板に化学強化処理を施すときに、ガラス基板に歪みが発生するおそれがある。
【００７８】
・ 実施形態のスクラブ処理工程は、バリを除去する処理と、ガラス素板の表面に付着した付着物を取り除く、所謂洗浄処理とを兼ねる工程としたが、これに限らず、バリを除去する処理と、洗浄処理とをそれぞれ別の工程で行ってもよい。すなわち、スクラブ処理工程では洗浄液を使用せず、バリを除去するのみとし、このスクラブ処理工程よりも前の工程又は後の工程として新たに洗浄処理を設け、ガラス素板の表面に付着した付着物を除去するように構成してもよい。
【００７９】
・ 修正パッドは、実施形態で示したスクラブパッド２２に限らず、テクスチャーの延びる方向と交差する方向へガラス素板を擦ることが可能であり、かつ１００％モジュラスが３〜４０ＭＰａの材料よりなるものであれば、いずれを使用してもよい。従って、修正パッドさえこれらの条件を満たすなら、例えばテクスチャーマシンを使用して修正パッドとしての研磨テープで擦る、修正パッドとしてのスポンジを使用して手で擦る等の方法でバリを除去してもよい。
【００８０】
次に、前記実施形態から把握できる技術的思想について以下に記載する。
・ 前記テクスチャーの形状を修正するための工程よりも、前の工程又は後の工程では、ガラス素板の表面に付着した付着物を除去するための洗浄処理を行うことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００８１】
・ 前記テクスチャーの形状を修正するための工程とは、修正パッドとしてのスクラブパッドを使用し、同スクラブパッドでガラス素板の表面を擦るスクラブ処理工程であり、当該スクラブ処理工程では、バリを除去するとともに、スクラブパッドでガラス素板の表面を擦り、その表面に付着した付着物を取り除くことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００８２】
・ 前記ＢＲとＢＨ（Ｘ）との関係をグラフに示した場合、グラフに描かれる関係線が、ＢＲが０．４〜１５．０％の範囲で略直線状に延びることを特徴とする請求項６に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【００８３】
【発明の効果】
以上詳述したように、この発明によれば、次のような効果を奏する。
請求項１又は請求項６に記載の発明によれば、テクスチャー上でのバリの発生を抑えることができる。
【００８４】
請求項２から請求項４のいずれかに記載の発明によれば、請求項１に記載の発明の効果に加えて、バリを確実に除去することができるとともに、ガラス素板の傷つきの発生を押さえることができる。
【００８５】
請求項５に記載の発明によれば、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の発明の効果に加えて、１００％モジュラスを確実に３〜４０ＭＰａとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】情報記録媒体用ガラス基板を示す正面図。
【図２】スクラブ装置を示す概念図。
【図３】（ａ）はテクスチャーマシンを側面から見た状態を示す概念図、（ｂ）はテクスチャーマシンを正面から見た状態を示す概念図。
【図４】（ａ）は機械式テクスチャー形成法のバリが発生したテクスチャーを示す概念図、（ｂ）は図４（ａ）の４Ｂ−４Ｂ線における断面図、（ｃ）は図４（ａ）の４Ｃ−４Ｃ線における断面図。
【図５】ケミカル式テクスチャー形成法のテクスチャーを示す概念図。
【図６】バリを除去したテクスチャーを示す概念図。
【図７】バリが発生したテクスチャーを示すＡＦＭによる鳥瞰図。
【図８】バリを除去したテクスチャーを示すＡＦＭによる鳥瞰図。
【図９】ＢＲとＢＨの関係を示すグラフ。
【符号の説明】
１１…情報記録媒体用ガラス基板、１１ａ…ガラス素板、１３…テクスチャー、１３ａ…バリ、１４…切断面、１５…基準面、２２…修正パッドとしてのスクラブパッド、３３…研磨部材としてのテープ部材。
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えばハードディスク等のような情報記録装置の磁気記録媒体である磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体に用いられる情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法に関するものである。より詳しくは、その表面に複数のテクスチャーが形成された情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、上記のような情報記録媒体の１つである磁気ディスクは、円盤状をなすガラス基板の表面に磁性膜等を積層することによって作製されている。このガラス基板は、磁気ディスクに要求される高密度、大容量の記録を可能とするため、その表面が平滑となるように研磨加工を施される。一方で、表面を平滑に研磨された磁気ディスクは、情報を読み取るためのヘッドが吸着しやすくなる。この吸着の低減を目的とし、テクスチャー処理を施すことにより、ガラス基板の表面に適度な表面凹凸であるテクスチャーを形成したものが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００２−１１７５３２号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来のテクスチャー処理の方法としては、ケミカル式テクスチャー形成法と機械式テクスチャー形成法の主に２通りが挙げられる。ケミカル式テクスチャー形成法とは、ガラス基板を酸性水溶液、アルカリ性水溶液等からなるエッチング液に浸漬する等してその表面をエッチングし、テクスチャーを形成する方法である。機械式テクスチャー形成法とは、テクスチャーマシン等を用い、ガラス基板の表面に研磨スラリーを供給しながら研磨テープ等を摺接させることによってテクスチャーを形成する方法である。
【０００５】
ケミカル式テクスチャー形成法と、機械式テクスチャー形成法とを比較した場合、ケミカル式テクスチャー形成法は、機械式テクスチャー形成法に比べ、テクスチャーの形成を簡単に行うことができるという利点を有する。一方で、ケミカル式テクスチャー形成法においては、エッチング液にガラス基板を浸漬する等の手法では、テクスチャーの形状を精密に制御しながらこれを形成することは極めて難しいものとなる。特に、高密度、大容量の記録を可能とするためには、均一な形状のテクスチャーをガラス基板の表面全体に均一に分散させて形成する必要がある。そして、テクスチャーの形状を精密に制御するには、ケミカル式テクスチャー形成法よりも、機械式テクスチャー形成法が有利となる。
【０００６】
しかし、機械式テクスチャー形成法は、ケミカル式テクスチャー形成法に比べ、テクスチャー上に異常な高さの突起であるバリが発生しやすく、このバリによってテクスチャーの形状が不均一なものとなるという問題がある。つまり、ケミカル式テクスチャー形成法であれば、理論的にはガラス基板の表面が均一にエッチングされることからバリは発生しにくい。これに対し、機械式テクスチャー形成法は、ガラス基板の表面を研磨スラリーで削る際、表面に加わる応力、削り残し等により、バリが発生しやすくなるためである。従って、機械式テクスチャー形成法においては、いかにバリの発生を抑えるかが重要課題となっていた。
【０００７】
この発明は、上記のような従来技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的とするところは、テクスチャー上でのバリの発生を抑えることができる情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、円盤状をなすガラス素板の表面を研磨した後、その表面にテクスチャー処理を施して製造される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記テクスチャー処理は、ガラス素板の表面に研磨スラリーを供給しながら研磨部材を摺接させる機械式テクスチャー形成法により、ガラス素板の表面にその略周方向へ延びるライン状のテクスチャーを形成するための工程と、テクスチャーを形成するときにテクスチャー上に形成される異常な高さの突起であるバリを除去し、テクスチャーの形状を修正するための工程とを備えるとともに、該テクスチャーの形状の修正は、１００％モジュラスが３〜４０ＭＰａの合成樹脂を材料とする発泡体よりなる修正パッドを使用し、この修正パッドでガラス素板の表面をテクスチャーの延びる方向と交差する方向へ擦ることによって行われることを要旨とする。
【０００９】
請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、請求項１に記載の発明において、前記修正パッドには、アスカーＣの硬度で４０〜７０のものを使用することを要旨とする。
【００１０】
請求項３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、請求項１又は請求項２に記載の発明において、前記修正パッドには、その表面の穴の開口径が４８〜６０μｍのものを使用することを要旨とする。
【００１１】
請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の発明において、前記修正パッドでガラス素板の表面を擦る時間が、２〜２０秒であることを要旨とする。
【００１２】
請求項５に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の発明において、前記修正パッドには、ウレタン樹脂を材料とする発泡体よりなるものを使用することを要旨とする。
【００１３】
請求項６に記載の情報記録媒体用ガラス基板の発明は、請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された情報記録媒体用ガラス基板であって、その表面の所定領域を原子間力顕微鏡で測定した際、所定領域の面積を基準面積とし、当該表面と平行な面でテクスチャーを切断した場合のテクスチャーの切断面の面積を測定面積としたときの、基準面積に対する測定面積の割合をベアリングレシオ（ＢＲ）として、該ＢＲが５０％となる位置を基準面とし、ＢＲが所定値（Ｘ％）となるようにテクスチャーを切断する面を測定面としたときの、基準面から測定面までの高さをベアリングハイト（ＢＨ（Ｘ））とした場合、バリの存在はＢＨ（０．０１）からＢＨ（０．４）の範囲で確認されるとともに、テクスチャー上からバリを除去した状態で、ＢＨ（０．０１）とＢＨ（０．４）との差が０．０１〜１．０ｎｍであることを要旨とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、この発明を具体化した一実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１に示すように、情報記録媒体用ガラス基板１１（以下、略して「ガラス基板１１」とも記載する）は、シート状のガラス板から円盤状に切り出されたガラス素板を研磨等することにより、中心に円孔１２を有する円盤状に形成されている。このガラス素板は、フロート法、ダウンドロー法、リドロー法又はプレス法で製造されたソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等の多成分系のガラス材料より形成されている。さらに、このガラス素板にテクスチャー加工を施すことにより、当該ガラス基板１１は、その表面に複数のテクスチャー１３が形成されている。これらテクスチャー１３は、それぞれガラス基板１１の周方向へ延びるライン状をなしている。そして、テクスチャー１３が形成されたガラス基板１１の表面に、例えばコバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）、鉄（Ｆｅ）等の金属又は合金よりなる磁性膜、保護膜等を形成することにより、磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体が構成される。
【００１５】
テクスチャー１３を有するガラス基板１１は、好ましくは表面の微小うねりの高さ（ＮＲａ）が０．２ｎｍ以下であり、表面粗さ（Ｒａ）が０．５ｎｍ以下である。また、この場合の表面のうねりの高さ（Ｗａ）は、好ましくは０．５ｎｍ以下である。なお、ＮＲａとは、Ｚｙｇｏ社製の三次元表面構造解析顕微鏡（ＮｅｗＶｉｅｗ２００）を用い、測定波長（λ）を０．２〜１．４ｍｍとして表面の所定領域を白色光で走査して測定された値を示すものである。Ｒａとは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定された値を示すものである。Ｗａとは、ＰｈａｓｅＭｅｔｒｉｘ社製の多機能ディスク干渉計（Ｏｐｔｉｆｌａｔ）を用い、測定波長（λ）を０．４〜５．０ｍｍとして表面の所定領域を白色光で走査して測定された値を示すものである。
【００１６】
このガラス基板１１において、ＮＲａ、Ｒａ及びＷａのうち、特にＮＲａが０．２ｎｍを超え、Ｒａが０．５ｎｍを超えると、その表面が荒れた平滑性の低いものと判断される。これは、近年の情報記録媒体は、さらなる高密度記録化を図るため、情報記録媒体の表面とヘッドとの距離をさらに接近させる傾向があるためである。このヘッドが情報記録媒体上を移動する際、Ｗａならば、若干大きくとも、うねりの高低差にヘッドが追従することが可能である。しかし、ＮＲａ及びＲａが大きいと、ヘッドは微小うねりの高低差に追従できなかったり、凹凸を飛び越えることができなかったり等して、凹凸に引っ掛かったり、衝突したり等の不具合が頻繁に発生しやすくなる。
【００１７】
一方で、表面の平滑性が過剰に高すぎると、ヘッドが情報記録媒体の表面に吸着され、移動が不可能になったりする等の不具合を発生させる。そこで、テクスチャー１３は、ガラス基板１１の表面を平滑としながらも、ヘッドとの接触面積を低減するために形成されている。図８に示すように、テクスチャー１３が形成されたガラス基板１１の表面は、ほぼ均一な高さの凹凸状をなすことにより、平滑でありながら、ヘッドとの接触面積が低減されている。そして、テクスチャー１３は、ヘッドとの接触面積を低減することにより、情報記録媒体の表面に対するヘッドの吸着を抑制するという機能を発揮する。また、当該テクスチャー１３は、ガラス基板１１を情報記録媒体とした際、高い磁気異方性と保磁力を付与するという機能をも有する。これは、磁性膜を形成する金属の原子が、テクスチャー１３の側面で配向良く並べられることが理由であると考えられる。
【００１８】
次に、前記ガラス基板の製造方法について説明する。
ガラス基板は、円盤加工工程、端面面取り工程、研削工程、研磨工程、洗浄処理工程及びテクスチャー処理工程を経て製造される。
【００１９】
前記円盤加工工程においては、シート状のガラス板を超硬合金又はダイヤモンド製のカッターを用いて切断することにより、その中心に円孔を有する円盤状のガラス素板が形成される。前記端面面取り工程においては、ガラス素板の内外周端面が研削され、外径及び内径寸法が所定長さとされるとともに、内外周端面の角部が研磨されて面取り加工される。
【００２０】
前記研削工程においては、ガラス素板に対し、研磨装置を用いてラップ処理が施されることにより、ガラス素板全体での反りが修正され、ガラス素板が略平坦な板とされる。前記研磨工程においては、ガラス素板に対し、研磨装置を用い、複数段階に分けて研磨処理が施されることにより、ガラス素板の表面が平滑面とされる。前記洗浄処理工程においては、洗浄液を使用し、研磨処理後のガラス素板に洗浄処理が施されることにより、ガラス素板の表面に付着した研磨剤、研磨粉、塵埃等の付着物が除去される。
【００２１】
前記テクスチャー処理工程においては、研磨工程でその表面を平滑とされたガラス素板に対してテクスチャー処理が施され、ガラス素板の表面にテクスチャーが設けられることにより、ガラス基板が製造される。このテクスチャー処理は、テクスチャーを形成するための工程であるテクスチャー形成工程と、テクスチャーの形状を修正するための工程であるスクラブ処理工程との主に２工程に分けて施される。
【００２２】
前記テクスチャー形成工程について説明する。このテクスチャー形成工程では、ガラス素板の表面に研磨スラリーを供給しながら、研磨部材を摺接させるという機械式テクスチャー形成法により、ガラス素板の表面にライン状のテクスチャーが形成される。そして、この機械式テクスチャー形成法では、テクスチャーマシンと呼ばれる装置が使用される。
【００２３】
ここで、テクスチャーマシンについて説明する。
図３（ａ），（ｂ）に示すように、当該テクスチャーマシン内において、ガラス素板１１ａは、図示しないスピンドルにより、その周方向へ回転するように支持されている。ガラス素板１１ａの両側部には、一対のローラ３１がガラス素板１１ａを挟んで対向配置されている。各ローラ３１は、図示しない支持部材に対し、回転軸３２を中心に回動自在に支持されるとともに、それぞれがガラス素板１１ａの半径方向に延びるように配設されている。また、これらローラ３１は、それぞれがガラス素板１１ａに対して接近又は離間可能に構成されている。
【００２４】
ガラス素板１１ａの表面と、各ローラ３１との間には、研磨部材としてのテープ部材３３がそれぞれ配設されている。これらテープ部材３３は、ガラス素板１１ａの表面と各ローラ３１との間を通って、その一端側から他端側へと移動するように構成されている。該テープ部材３３とガラス素板１１ａの表面との間には、図示しない供給部から研磨スラリーが供給されるとともに、テープ部材３３には、この研磨スラリーに含まれる砥粒が付着するように構成されている。
【００２５】
上記のテクスチャーマシンにおいて、テープ部材３３は、回転するガラス素板１１ａの表面に一対のローラ３１が両側方から接近することにより、ガラス素板１１ａの表面に摺接される。このテープ部材３３の摺接により、ガラス素板１１ａの表面には前記砥粒が押し付けられる。このときガラス素板１１ａはスピンドルによって回転された状態であることから、ガラス素板１１ａの表面が砥粒によって削られ、同表面に複数の浅い筋状の微細な溝が同心円状に形成される。そして、これら浅い筋状の微細な溝がテクスチャーマシンでの加工時間に応じてより深く削られ、このような溝の間の部分にテクスチャーが同心円状をなすように形成される。
【００２６】
前記テープ部材３３には、織物、不織布、植毛品等のようなスウェード材等といった、その表面に極微細な凹凸を有するものが使用される。これは、テープ部材３３の極微細な凹凸に砥粒を引っ掛ける等することにより、同テープ部材３３の表面に砥粒を保持するためである。また、テープ部材３３の材料には、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン等の合成樹脂、綿等の天然繊維が使用されている。特にスウェード材よりなるものであれば、合成樹脂製の発泡体を使用することも可能である。
【００２７】
前記研磨スラリーとしては、ダイヤモンド製の砥粒を水等の溶媒に分散させて得られるダイヤモンドスラリーが主に使用される。また、砥粒の粒径は、平均粒径（Ｄ５０）で好ましくは０．０５〜０．３μｍであり、より好ましくは０．０８〜０．２５μｍである。Ｄ５０が０．０５μｍ未満の場合、ガラス素板に対する研磨能力の低下を招き、テクスチャーの形成速度が遅くなるため、歩留まりの低下、加工コストの高騰を招くおそれがある。一方、Ｄ５０が０．３μｍを超えると、一つ一つの砥粒の粒径差が顕著となり、テクスチャーを均一な形状で形成することが難しくなるおそれがある。
【００２８】
また、ガラス素板１１ａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）が、好ましくは０．３５〜１．０ｎｍである。このガラス素板１１ａは、テクスチャー形成工程よりも前の工程である研磨工程でこのようなＲａとなるように研磨される。Ｒａが０．３５ｎｍ未満の場合、ガラス素板１１ａの表面で砥粒が滑りやすくなり、テクスチャーの形状を精密に制御することができなくなるおそれがある。Ｒａが１．０ｎｍを超えると、このガラス素板１１ａから製造されたガラス基板は、表面品質の低いものとなるおそれがある。つまり、表面に大きな凹凸が残されたままの状態でテクスチャーを形成すれば、このような凹凸によってテクスチャーの上端部分に凹み、歪み等の欠陥が修正されず、残ることとなり、このような欠陥がガラス基板の表面の平滑性等といった表面品質を低下させる。
【００２９】
前記スクラブ処理工程について説明する。上記のテクスチャー形成工程で機械式テクスチャー形成法によってテクスチャーを形成する場合、大半のテクスチャーは形状の揃ったものとなるが、一部のテクスチャー上には、異常な高さの突起からなるバリが形成されてまう。そこで、このスクラブ処理工程では、修正パッドとしてのスクラブパッドを使用し、このスクラブパッドでガラス素板の表面が擦られることにより、テクスチャー上に形成されたバリが除去される。
【００３０】
ここで、機械式テクスチャー形成法でテクスチャー上に形成されるバリについて記載する。研磨スラリーに含まれる砥粒には、その粒径に若干の差異があり、一つ一つの砥粒が形成する溝の深さ及び幅に差異を生じることから、テクスチャーの高さ等の形状にもばらつきが生じることとなる。例えば、溝が深く、幅広に形成された箇所では、テクスチャーは低く、細くなる。これとは逆に、溝が浅く、幅狭に形成された箇所では、テクスチャーは高く、太く形成される。特に、機械式テクスチャー形成法においては、ガラス素板の表面が砥粒で削られるとき、砥粒から加わる応力によってその周縁部分が潰れて歪んだり、崖状に切り立ったり、あるいは削り残しが発生したり等する可能性が高い。
【００３１】
このように各テクスチャーの形状がばらつく場合、それぞれの尾根（テクスチャーの頂上）も波状をなすように歪むこととなる。この歪みは不均一なものとなりやすく、歪んだ尾根の一部には、他の尾根の高さと比較して異常に高く、細く鋭い突起状をなすものが存在しており、これが前記バリとなる。また、このようなバリは、テクスチャー上に散逸的に形成されることに限らず、テクスチャーの延びる方向へ複数が連続して形成されることも多々ある。
【００３２】
一方、従来のケミカル式テクスチャー形成法は、ガラス素板の表面をエッチング液でエッチング、つまり溶かしてテクスチャーを形成する方法である。従って、ケミカル式テクスチャー形成法は、機械式テクスチャー形成法に比べてバリが形成されにくい方法ではあるが、ガラス素板の表面が不均一にエッチングされたときにバリが形成されてしまう場合がある。そして、このケミカル式テクスチャー形成法で形成されるバリは、テクスチャーの形成方法が全く異なるものであることから、機械式テクスチャー形成法で形成されるバリとは、その形状及び性質が大きく異なる。
【００３３】
形状について、ケミカル式テクスチャー形成法によるバリを詳細に測定した場合、図５に示すように、このバリ１３ａは、丸みを帯びた山状をなすものとなる。つまり、ケミカル式テクスチャー形成法によるバリ１３ａは、スクラブパッドで擦る際にスクラブパッドから加わる外力を受け流しやすい形状をなし、除去しにくいものとなりやすい。これに対し、機械式テクスチャー形成法によるバリ１３ａは、図４（ａ）に示すように、細く鋭い突起状となすものとなる。従って、機械式テクスチャー形成法によるバリ１３ａは、スクラブパッドから加わる外力を受け流しにくく、十分な外力を加えることが可能であり、除去しやすいものとなる。
【００３４】
性質について、ケミカル式テクスチャー形成法によるバリ１３ａの表面には、これを保護するようにエッチング液によって化学的性質の異なる層が形成されており、強い外力を加えなければ除去することは難しい。これに対し、機械式テクスチャー形成法によるバリ１３ａは、周縁部分が砥粒で削られて形成されたものであることから、その表面に微細なひびを有しており、弱い外力を加えるだけでその基部から折り取り、除去することが十分に可能である。従って、機械式テクスチャー形成法は、ケミカル式テクスチャー形成法に比べてバリは形成されやすいが、しかし形成されたバリは、当該スクラブ処理工程で十分に除去可能なものとなる。
【００３５】
当該スクラブ処理工程では、図２に示すようなスクラブ装置が使用される。すなわち、スクラブ装置内において、ガラス素板１１ａは、その下端部及び両側部の合計３箇所を３本の支持シャフト２１によって支持されている。また、この状態でガラス素板１１ａは、各支持シャフト２１に固定されることなく支持のみされることにより、外力を加えることで３本の支持シャフト２１の内側で、その周方向へ回転可能に構成されている。
【００３６】
ガラス素板１１ａの表面上には円形状をなすスクラブパッド２２が配設されている。このスクラブパッド２２は、支持シャフト２１と平行に延びる軸２３によって支持されている。この軸２３は図示しない駆動装置に接続されており、この駆動装置から軸２３を介して駆動力が伝達されることにより、スクラブパッド２２は軸２３を中心に図中に矢印で示す方向へ回転するように構成されている。また、このスクラブパッド２２は、ガラス素板１１ａに対し、その外周縁がガラス素板１１ａの中心と重なるように、ガラス素板１１ａの直径方向へ位置ずれしており、そのほぼ半分がガラス素板１１ａに接触するように配設されている。
【００３７】
スクラブ装置において、スクラブパッド２２が回転すると、これに接触するガラス素板１１ａは、回転力を付与され、スクラブパッド２２の回転方向と反対方向へ回転する。この状態で、ガラス素板１１ａの表面にはその周方向へ延びるようにテクスチャー１３が形成されていることから、ガラス素板１１ａは、スクラブパッド２２により、テクスチャー１３の延びる方向と交差する方向へ擦られる。このスクラブパッド２２の摺接により、バリは、テクスチャー１３上から折り取られ、除去される。
【００３８】
テクスチャー１３上からバリを確実に除去するためには、上記のように、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａを、そのテクスチャー１３の延びる方向と交差する方向へ擦る必要がある。
【００３９】
すなわち、図７に示すように、機械式テクスチャー形成法によるバリ１３ａは、その大半がテクスチャー１３の延びる方向へ連続しており、テクスチャー１３と同じ方向へ延びる壁のような形状で形成されている。このようなバリ１３ａを除去する場合、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａをテクスチャー１３の延びる方向、つまりは周方向へ擦ると、一部のバリ１３ａが除去されない可能性がある。これは、他のバリ１３ａがスクラブパッド２２の表面を変形させ、一部のバリ１３ａにスクラブパッド２２が接触しなかったり、あるいは除去されたバリ１３ａが邪魔となり、スクラブパッド２２からの外力が受け流されたり等するためと考えられる。これに対し、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａをテクスチャー１３の延びる方向と交差する方向へ擦れば、壁のような形状で形成されたバリ１３ａがスクラブパッド２２からの外力を受け止めるように接触されることとなる。従って、より多くのバリ１３ａを折り取ることができ、バリ１３ａを確実に除去することが可能となる。
【００４０】
当該スクラブパッド２２には、合成樹脂製の発泡体よりなるスポンジ、スウェード材等が使用される。このスクラブパッド２２によってバリ１３ａが除去される状況を詳細に検討すると、バリ１３ａは、スクラブパッド２２の表面に形成された穴の内側に一旦入り込み、この穴を形作る周壁が横方向から接触されることによって折り取られるものと考えられる。そこで、このスクラブパッド２２には、微視的な観点で、バリ１３ａに接触したときにガラス素板１１ａの表面に対するバリ１３ａの強度に押し負けない程度に硬いものが用いられる。この微視的な観点で硬いものとは、表面の穴を形作る周壁が硬いこと、つまりはスクラブパッド２２に使用する材料そのものの硬さが硬いことを示す。
【００４１】
従って、スクラブパッド２２には、材料の硬さを示す値であり、ＪＩＳ Ｋ ６２５６に規定される１００％モジュラスが、３〜４０ＭＰａの合成樹脂を材料とするものが使用される。この１００％モジュラスが３ＭＰａ未満のものを材料とした場合、バリ１３ａを十分に除去することができなくなる。１００％モジュラスが４０ＭＰａを超えるものを材料とした場合、バリ１３ａのみでなく、テクスチャー１３までをも削ってしまうこととなり、テクスチャー１３の形状に影響を与えることとなる。
【００４２】
このような材料としては、ウレタン樹脂を使用することが好ましい。これは、ウレタン樹脂は、種類が同一のものであれば、１００％モジュラスの値が高いものほど、樹脂中における分子の結晶化が進行し、スクラブパッド２２の微視的な観点での硬さが確実に増すためである。このウレタン樹脂には、出発原料によってポリエステル系ウレタン樹脂、ポリエーテル系ウレタン樹脂、ポリカーボネート系ウレタン樹脂等の種類が存在する。これら種類の中でもスクラブパッド２２の材料には、ポリカーボネート系ウレタン樹脂を使用することがより好ましい。これは、ポリカーボネート系ウレタン樹脂は、他のものに比べ耐薬品性に優れており、例えばスクラブ処理工程時に酸性水溶液、アルカリ性水溶液等の洗浄液を使用する場合、その表面の微視的な観点での硬さを維持することが可能となるためである。
【００４３】
また、スクラブパッド２２としては、表面の穴の開口径が４８〜６０μｍのものを使用することが好ましい。この穴の開口径が大きくなるに従って、穴を形作る周壁は薄くなり、微視的な観点での硬さが低くなることから、開口径が６０μｍを超えると、バリ１３ａを十分に除去することができなくなるおそれがある。これに対し、開口径が小さくなるに従って、穴を形作る周壁は厚くなり、微視的な観点での硬さは増すことから、開口径を４８μｍ未満とすれば、テクスチャー１３を削り、その形状に影響を与えるおそれがある。
【００４４】
また一方で、この実施形態では、スクラブ処理工程においてバリを除去するとともに、ガラス素板１１ａの表面に付着した、除去後のバリ１３ａ、テクスチャー形成時の研磨粉、研磨スラリー等といった付着物を除去することも目的とする。このため、この実施形態のスクラブ処理工程は、ガラス素板１１ａの表面に洗浄液をシャワーしつつ、同表面をスクラブパッド２２で擦ることにより、その表面の付着物を擦り落として取り除くものとする。
【００４５】
この洗浄液としては、水、純水、イソプロピルアルコール等のアルコール等の中性水溶液が挙げられる。この他に中性水溶液として、塩化ナトリウム等のアルカリ金属塩等といった無機塩の水溶液を電気分解することにより得られた電解水又はガスが溶解されたガス溶解水等の機能水等の中性水溶液が挙げられる。さらに、ガラス材料に対してエッチング能を有するアルカリ性水溶液、酸性水溶液等を洗浄液として使用してもよい。この場合には、ガラス材料に対するエッチング能が低い、例えば水酸化カリウム水溶液等のアルカリ性水溶液を使用することが好ましい。
【００４６】
バリ１３ａを除去するとともに、付着物を擦り落とし、かつテクスチャー１３の形状に影響を与えないようにするため、スクラブパッド２２には、スクラブパッド２２全体での巨視的な観点で、テクスチャー１３を削り取らない程度の軟らかさが必要とされる。このため、スクラブパッド２２には、前に挙げた材料を用いてこれを形成したとき、スクラブパッド２２全体での硬さを示す値であり、ＳＲＩＳＯ１０１に規定されるアスカーＣの硬度が、４０〜７０のものを使用することが好ましい。アスカーＣの硬度が４０未満の場合、バリ１３ａのみならず、付着物をも十分に除去することができなくなるおそれがある。アスカーＣの硬度が７０を超える場合、バリ１３ａや付着物だけでなくテクスチャー１３までをも削り取ってしまうおそれがある。
【００４７】
当該スクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面を擦る時間は、好ましくは２〜２０秒である。前述したように、機械式テクスチャー形成法によるバリ１３ａは、従来のケミカル式テクスチャー形成法のものに比べれば除去しやすいものである。このため、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面を過剰に長い時間、つまり２０秒を超えて擦れば、バリ１３ａが除去されたテクスチャー１３の上部を削り取ることとなり、テクスチャー１３の形状に影響を与えるおそれがある。一方で、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面を擦る時間を過剰に短く、つまり２秒未満とすれば、バリ１３ａや付着物が十分に除去されていない可能性があり、得られるガラス基板１１の品質を低下させることとなる。
【００４８】
当該スクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面を擦るとき、スクラブパッド２２とガラス素板１１ａとの接触圧力は、好ましくは４．９〜４９ｋＰａである。この接触圧力は、スクラブパッド２２の形状、厚み等を種々変更することによって調整される。つまりは、スクラブパッド２２のガラス素板１１ａへの接触面に同心円状の溝を形成したり、厚みを増減させることによって接触圧力が調整される。接触圧力が４．９ｋＰａより低い場合、スクラブ処理工程に係る作業時間が長くなったり、バリ１３ａ、付着物等を十分に除去できなくなったり等の不具合を生じるおそれがある。接触圧力が４９ｋＰａより高い場合、テクスチャーの形状に影響が与えられたり、表面に接触傷が発生したり、作業時にガラス素板１１ａが割れたり等の不具合を生じるおそれがある。
【００４９】
スクラブパッド２２の回転数は、好ましくは１０〜５００ｒｐｍである。回転数が低すぎたり、高すぎたりすると、ガラス素板１１ａの表面からスクラブパッド２２が浮き上がったり、スクラブパッド２２が過剰に接触したり等して、スクラブパッド２２の接触状態が不均一になり易く、バリ１３ａ、付着物等の不十分な除去、接触傷の発生等のような不具合を生じるおそれがある。
【００５０】
次いで、テクスチャー上でのバリの有無を測定する方法について説明する。
バリの有無の測定には、ＡＦＭでの測定結果を基に求められるベアリングレシオ（ＢＲ）と、ベアリングハイト（ＢＨ）を使用した方法が用いられる。なお、同ＡＦＭでは、ＪＩＳ Ｂ０６０１の規定に従い、その走査線毎に粗さ曲線を求めることが可能であり、同粗さ曲線に基づき、ガラス素板１１ａの表面の凹凸を鳥瞰図として示すことができる。このＢＲと、ＢＨを使用した方法によれば、バリの有無の他、テクスチャーの形状をも測定することが可能である。まず、ＢＲについて、以下に説明する。
【００５１】
ＢＲを求めるためには、まず第１に、ガラス素板１１ａの表面の所定領域内において、その表面状態がＡＦＭを用いて測定される。この測定された所定領域の面積が基準面積とされる。例えば、測定された所定領域が１０μｍ四方の正方形であれば、基準面積は１００μｍ２である。
【００５２】
第２に、図４（ａ）〜（ｃ）に示すように、ガラス素板１１ａの表面と平行な面で各テクスチャー１３が切断される。ここでは、図４（ａ）中の４Ｂ線を含む面で各テクスチャー１３を切断したそれぞれの切断面１４を図４（ｂ）に示し、４Ｃ線を含む面でテクスチャー１３を切断した切断面１４を図４（ｃ）に示す。その後、各テクスチャー１３の切断面１４の面積の合計が算出される。この切断面１４の面積の合計が、測定面積とされる。
【００５３】
そして、前述の基準面積に対する当該測定面積の割合が、ＢＲとして示される。例えば、基準面積に対する測定面積の割合が５０％ならば、ＢＲは５０％であり、割合が０．０１％ならば、ＢＲは０．０１％である。
【００５４】
次に、ＢＨについて、以下に説明する。
ＢＨを求めるためには、まず第１に、前記ＢＲが５０％となる位置が求められる。このＢＲが５０％となる位置が、図４（ａ）中に示した基準面１５とされる。第２に、前記ＢＲが所定値となるときに各テクスチャーを切断する面が求められる。この各テクスチャーを切断する面が測定面とされる。ここでは、図４（ａ）中で、４Ｂ線を含む面又は４Ｃ線を含む面が測定面である。そして、前述の基準面１５から当該測定面までの高さが、ＢＲがＸ％のときのＢＨ（Ｘ）として示される。例えば、４Ｂ線を含む面を測定面としたとき、ここでのＢＲが１０％ならば、ＢＨ（１０）と表記し、基準面１５から４Ｂ線を含む測定面までの高さＨ１が０．５ｎｍならば、ＢＨ（１０）は０．５ｎｍである。また、４Ｃ線を含む面を測定面としたとき、ここでのＢＲが０．１％ならば、ＢＨ（０．１）と表記し、基準面１５から３Ｃ線を含む測定面までの高さＨ２が１．５ｎｍならば、ＢＨ（０．１）は１．５ｎｍである。
【００５５】
図９は、上記のようにして測定したＢＲ（単位は％）とＢＨ（単位はｎｍ）との関係を示すグラフである。図４（ａ）に示したように、テクスチャー１３は尾根状をなすものである。このため、ＢＲが大きくなるに従い、テクスチャー１３の基端側（裾野部）に近づき、これに伴ってＢＨ（Ｘ）は小さくなる。これとは逆に、ＢＲが小さくなるに従い、テクスチャー１３の上端側（頂上部）に近づき、これに伴ってＢＨ（Ｘ）は大きくなる。そして、ＢＲとＢＨ（Ｘ）とは、図９中に実線で示したような関係線を描くこととなる。この実線で示した関係線を以後、基準関係線４１とする。
【００５６】
ここで、図６に示すように、テクスチャー１３が良好な形状、つまりはバリ、凹み等がなく一定の勾配の尾根状をなすとき、基準関係線４１のように、その大半が略直線状に延び、ＢＲがある程度小さくなると傾斜が緩やかになる関係線となる。これに対し、図４（ａ）に示すように、テクスチャー１３上に細く切り立ったバリが存在するとき、ＢＲがある程度小さくなると、ＢＨ（Ｘ）が急激に上昇することから、図９中に一点鎖線で示したような第１異常関係線４２となる。この第１異常関係線４２のような関係線は、機械式テクスチャー形成法でバリが形成された場合に頻繁に見られる関係線である。
【００５７】
また、図５に示すように、テクスチャー１３の頂上部が歪むことによってその一部が突出した大きな尾根状をなし、これがバリ１３ａとなるとき、ＢＨ（Ｘ）がその途中で急激に上昇することから、図９中に一点鎖線で示したような第２異常関係線４３となる。この第２異常関係線４３のような関係線は、ケミカル式テクスチャー形成法でバリが形成された場合に頻繁に見られる関係線である。
【００５８】
従って、異なるＢＲ毎にＢＨ（Ｘ）の差を求め、そのＢＨ（Ｘ）の差を比較検討することにより、バリの有無、テクスチャーの形状を測定することが可能となる。そして、製造時におけるガラス素板について、異なるＢＲ毎のＢＨ（Ｘ）の差を所定値とすることにより、バリの発生を防止し、テクスチャーの形状を一定とすることが可能となる。
【００５９】
具体的に、バリの存在はＢＨ（０．０１）からＢＨ（０．４）の範囲で確認される。これは、本発明者等が図７に示したようなＡＦＭによる鳥瞰図と、図９のグラフに示したようなＢＲとＢＨ（Ｘ）との関係線とを照らし合わせ、その結果、初めて見出したものである。つまり、ＡＦＭによる鳥瞰図を見ると、テクスチャー１３の尾根上に所々細く切り立った部分が観測されており、この細く切り立った部分をバリ１３ａとしたところ、同バリ１３ａはＢＨ（０．０１）〜ＢＨ（０．４）の範囲内に存在していたことによる。
【００６０】
ＢＨ（Ｘ）の差であるＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）は、０．０１〜１．０ｎｍとされる。ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）が０．０１ｎｍ未満の場合、テクスチャー１３がその上端が平坦な断面略台形状をなすように形成されてしまう。ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）が１．０ｎｍを超える場合、テクスチャー１３上に細く切り立った部分、つまりバリ１３ａが形成されることとなる。そして、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）を０．０１〜１．０ｎｍとすることで、バリの形成を防止することが可能となる。
【００６１】
テクスチャーの形状について、ＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）は、好ましくは０．１５〜０．２０ｎｍである。ＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）が０．１５ｎｍ未満の場合、ＢＲが０．４％未満の位置において、ＢＨが急激に上昇する箇所が高い確率で存在することを示し、テクスチャー１３の尾根に高く突出した部分が形成されてしまうおそれがある。ＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）が０．２ｎｍを超えると、ＢＲが０．４％未満の位置において、高い確率でＢＨが上昇せず、テクスチャーの尾根に低く凹んだ部分が形成されてしまうおそれがある。
【００６２】
また、テクスチャーの形状について、ＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）が０．１７〜０．２０ｎｍであり、かつＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）が０．２〜０．７ｎｍであることが好ましい。例えば、ケミカル式テクスチャー形成法によるものと似通った形状のバリが形成された場合、このバリの存在はＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）では十分に確認することができない。また、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）及びＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）の両方が前に挙げた範囲を満たしていても、ＢＲとＢＨの関係線を描くと、同関係線が前記の基準関係線４１のような線を描かない場合もあり得る。そこで、テクスチャーの形状をより詳細に評価するには、ＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）と、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）との関係を確認することが好ましい。そして、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）及びＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）の双方が前に挙げた範囲を満たす場合、関係線は略直線状をなし、勾配の均一なテクスチャーを形成することが可能となる。
【００６３】
加えて、ＢＨ（１．０）−ＢＨ（１５．０）の値は、ＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）の値よりも大きくなることが好ましい。ＢＨ（１．０）−ＢＨ（１５．０）の値がＢＨ（０．４）−ＢＨ（１．０）の値よりも小さいと、関係線は下方へ膨らむように湾曲する。この場合には、細く切り立ったバリ１３ａがテクスチャー１３の延びる方向へ連続して形成されてしまうおそれがある。
【００６４】
前記実施形態によって発揮される効果について、以下に記載する。
・ この実施形態のガラス基板１１によれば、その表面にテクスチャー処理を施す際、機械式テクスチャー形成法によるものであることから、テクスチャー１３は、形状を精度よく制御された状態で形成される。しかし、同じく機械式テクスチャー形成法であるため、テクスチャー１３上には異常な高さの突起であるバリ１３ａが高い確率で形成される。同テクスチャー処理においては、テクスチャー１３を形成した後、１００％モジュラスが３〜４０ＭＰａの合成樹脂を材料としたスクラブパッド２２を用い、ガラス素板１１ａの表面を擦ることとしている。このようスクラブパッド２２でガラス素板１１ａを擦ると、バリ１３ａはスクラブパッド２２によって折り取られ、確実に除去される。従って、テクスチャー１３上でのバリ１３ａの発生を抑えることができる。
【００６５】
・ また、製造されるガラス基板１１は、そのＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）が０．０１〜１．０ｎｍとされている。このため、テクスチャー１３上でのバリ１３ａの発生を確実に抑えることができる。
【００６６】
・ また、スクラブパッド２２は、アスカーＣの硬度で４０〜７０とされている。このため、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面を擦るとき、同表面がスクラブパッド２２によって傷つけられることを防止することができる。
【００６７】
・ また、スクラブパッド２２には、その表面の穴の開口径が４８〜６０μｍのものが使用されており、その穴を形作る周壁の厚みが調整されている。このため、スクラブパッド２２によってガラス素板１１ａの表面が傷つけられることを防止しつつ、バリ１３ａを確実に除去することができる。
【００６８】
・ また、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面を擦る時間は、２〜２０秒である。機械式テクスチャー形成法によるバリ１３ａは、容易に折り取り、除去することが可能であるため、擦る時間を適度なものとすることにより、バリ１３ａを確実に除去しつつ、スクラブパッド２２によってガラス素板１１ａの表面が傷つけられることを防止することができる。
【００６９】
・ また、スクラブパッド２２には、ウレタン樹脂を材料とする発泡体よりなるものが使用されている。このため、１００％モジュラスを確実に３〜４０ＭＰａとすることができる。
【００７０】
【実施例】
以下、前記実施形態をさらに具体化した実施例について説明する。
フロート法により得られたアルミノシリケートガラスよりなるガラス素板の表面に、図３（ａ），（ｂ）に示したようなテクスチャーマシンを使用し、機械式テクスチャー形成法により、テクスチャーを形成した。このとき、ガラス素板の組成は、ＳｉＯ２が６３ｍｏｌ％、Ａｌ２Ｏ３が１６ｍｏｌ％、Ｎａ２Ｏが１１ｍｏｌ％、Ｌｉ２Ｏが４ｍｏｌ％、ＭｇＯが２ｍｏｌ％、ＣａＯ ４ｍｏｌ％であった。また、ガラス素板のサイズは、厚み０．６５ｍｍ、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍであった。機械式テクスチャー形成法において、研磨剤にはダイヤモンド製であり、平均粒径が０．２μｍの砥粒を含むものを使用した。
【００７１】
その後、図２に示したようなスクラブ装置で１００％モジュラスが２０ＭＰａのポリウレタンよりなるスクラブパッド２２を使用し、ガラス素板の表面を擦ってバリ１３ａを除去し、ガラス基板を得た。これを実施例１の試料とした。
【００７２】
また、ケミカル式テクスチャー形成法でテクスチャーを形成した以外は、実施例１と同様の処理を施すことにより、ガラス基板を得た。これを比較例１の試料とした。
【００７３】
上記の実施例１及び比較例１について、スクラブパッド２２で擦る前のガラス素板のＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）を測定したところ、実施例１は４．３ｎｍであり、比較例１は４．６ｎｍであった。この後、スクラブパッド２２でガラス素板を０．５秒間擦り、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）を測定したところ、実施例１は３．６ｎｍであり、比較例１は４．１ｎｍであった。つまり、実施例１は０．５秒で０．７ｎｍの高さ分だけバリを除去できたが、これに対し比較例１は０．５ｎｍの高さ分だけしかバリを除去することができなかった。その後、１秒、１．５秒、２秒で測定したところ、実施例１は、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）が２．１ｎｍ、２．０ｎｍ、１．９ｎｍとなった。これに対し、比較例１は３．９ｎｍ、２．５ｎｍ、２．４ｎｍとなった。これらの結果より、機械式テクスチャー形成法によるバリは、ケミカル式テクスチャー形成法によるバリと比較し、明らかに除去しやすいものであることが示された。
【００７４】
次いで、実施例１と同様の処理を施すとともに、スクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面をテクスチャー１３の延びる方向と交差する方向へ擦ったものを実施例２の試料とし、テクスチャー１３の延びる方向へ擦ったものを比較例２の試料とした。このとき、スクラブパッド２２で擦る前のＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）は、実施例２で４．４ｎｍ、比較例２で４．５ｎｍであった。これに対し、スクラブパッド２２で擦った後のＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）は、実施例２で２．３ｎｍ、比較例２で３．６ｎｍとなった。これらの結果より、修正パッドであるスクラブパッド２２でガラス素板１１ａの表面を擦る際、テクスチャー１３の延びる方向と交差する方向へ擦ることにより、バリが確実に除去されることが示された。
【００７５】
また、比較例３については、スクラブパッド２２で擦らず、比較例４及び５と、実施例３〜２１については、スクラブパッド２２のパット材料及び作業時間を表１に示すように変更し、バリの除去を行った。なお、表１には、各パット材料における１００％モジュラスも合わせて示す。そして、ＢＨ（０．０１）−ＢＨ（０．４）を測定した。この結果を表１に示す。
【００７６】
【表１】
【００７７】
なお、前記実施形態を次のように変更して構成してもよい。
・ 情報記録媒体として要求される耐衝撃性、耐振動性、耐熱性等を満たすため、テクスチャー処理よりも前の工程、あるいはテクスチャー処理よりも後の工程でガラス素板に化学強化処理を施してもよい。この化学強化処理とは、ガラス基板の組成中に含まれるリチウムイオンやナトリウムイオン等の一価の金属イオンを、これと比較してそのイオン半径が大きなナトリウムイオンやカリウムイオン等の一価の金属イオンにイオン交換することをいう。そして、ガラス基板の表面に圧縮応力を作用させて化学強化する方法である。この化学強化処理は、化学強化塩を加熱溶融した化学強化処理液にガラス基板を所定時間浸漬することによって行われる。化学強化塩の具体例としては、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸銀等をそれぞれ単独、あるいは少なくとも２種を混合したものが挙げられる。化学強化処理液の温度は、ガラス基板に用いた材料の歪点よりも好ましくは５０〜１５０℃程度低い温度であり、より好ましくは化学強化処理液自身の温度が３００〜４５０℃程度である。ガラス基板の材料の歪点よりも１５０℃程度低い温度未満では、ガラス基板を十分に化学強化処理することができない。一方、ガラス基板の材料の歪点よりも５０℃程度低い温度を超えると、ガラス基板に化学強化処理を施すときに、ガラス基板に歪みが発生するおそれがある。
【００７８】
・ 実施形態のスクラブ処理工程は、バリを除去する処理と、ガラス素板の表面に付着した付着物を取り除く、所謂洗浄処理とを兼ねる工程としたが、これに限らず、バリを除去する処理と、洗浄処理とをそれぞれ別の工程で行ってもよい。すなわち、スクラブ処理工程では洗浄液を使用せず、バリを除去するのみとし、このスクラブ処理工程よりも前の工程又は後の工程として新たに洗浄処理を設け、ガラス素板の表面に付着した付着物を除去するように構成してもよい。
【００７９】
・ 修正パッドは、実施形態で示したスクラブパッド２２に限らず、テクスチャーの延びる方向と交差する方向へガラス素板を擦ることが可能であり、かつ１００％モジュラスが３〜４０ＭＰａの材料よりなるものであれば、いずれを使用してもよい。従って、修正パッドさえこれらの条件を満たすなら、例えばテクスチャーマシンを使用して修正パッドとしての研磨テープで擦る、修正パッドとしてのスポンジを使用して手で擦る等の方法でバリを除去してもよい。
【００８０】
次に、前記実施形態から把握できる技術的思想について以下に記載する。
・ 前記テクスチャーの形状を修正するための工程よりも、前の工程又は後の工程では、ガラス素板の表面に付着した付着物を除去するための洗浄処理を行うことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００８１】
・ 前記テクスチャーの形状を修正するための工程とは、修正パッドとしてのスクラブパッドを使用し、同スクラブパッドでガラス素板の表面を擦るスクラブ処理工程であり、当該スクラブ処理工程では、バリを除去するとともに、スクラブパッドでガラス素板の表面を擦り、その表面に付着した付着物を取り除くことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００８２】
・ 前記ＢＲとＢＨ（Ｘ）との関係をグラフに示した場合、グラフに描かれる関係線が、ＢＲが０．４〜１５．０％の範囲で略直線状に延びることを特徴とする請求項６に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【００８３】
【発明の効果】
以上詳述したように、この発明によれば、次のような効果を奏する。
請求項１又は請求項６に記載の発明によれば、テクスチャー上でのバリの発生を抑えることができる。
【００８４】
請求項２から請求項４のいずれかに記載の発明によれば、請求項１に記載の発明の効果に加えて、バリを確実に除去することができるとともに、ガラス素板の傷つきの発生を押さえることができる。
【００８５】
請求項５に記載の発明によれば、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の発明の効果に加えて、１００％モジュラスを確実に３〜４０ＭＰａとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】情報記録媒体用ガラス基板を示す正面図。
【図２】スクラブ装置を示す概念図。
【図３】（ａ）はテクスチャーマシンを側面から見た状態を示す概念図、（ｂ）はテクスチャーマシンを正面から見た状態を示す概念図。
【図４】（ａ）は機械式テクスチャー形成法のバリが発生したテクスチャーを示す概念図、（ｂ）は図４（ａ）の４Ｂ−４Ｂ線における断面図、（ｃ）は図４（ａ）の４Ｃ−４Ｃ線における断面図。
【図５】ケミカル式テクスチャー形成法のテクスチャーを示す概念図。
【図６】バリを除去したテクスチャーを示す概念図。
【図７】バリが発生したテクスチャーを示すＡＦＭによる鳥瞰図。
【図８】バリを除去したテクスチャーを示すＡＦＭによる鳥瞰図。
【図９】ＢＲとＢＨの関係を示すグラフ。
【符号の説明】
１１…情報記録媒体用ガラス基板、１１ａ…ガラス素板、１３…テクスチャー、１３ａ…バリ、１４…切断面、１５…基準面、２２…修正パッドとしてのスクラブパッド、３３…研磨部材としてのテープ部材。
Claims (6)
- 円盤状をなすガラス素板の表面を研磨した後、その表面にテクスチャー処理を施して製造される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記テクスチャー処理は、ガラス素板の表面に研磨スラリーを供給しながら研磨部材を摺接させる機械式テクスチャー形成法により、ガラス素板の表面にその略周方向へ延びるライン状のテクスチャーを形成するための工程と、テクスチャーを形成するときにテクスチャー上に形成される異常な高さの突起であるバリを除去し、テクスチャーの形状を修正するための工程とを備えるとともに、該テクスチャーの形状の修正は、１００％モジュラスが３〜４０ＭＰａの合成樹脂を材料とする発泡体よりなる修正パッドを使用し、この修正パッドでガラス素板の表面をテクスチャーの延びる方向と交差する方向へ擦ることによって行われることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記修正パッドには、アスカーＣの硬度で４０〜７０のものを使用することを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記修正パッドには、その表面の穴の開口径が４８〜６０μｍのものを使用することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記修正パッドでガラス素板の表面を擦る時間が、２〜２０秒であることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記修正パッドには、ウレタン樹脂を材料とする発泡体よりなるものを使用することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された情報記録媒体用ガラス基板であって、
その表面の所定領域を原子間力顕微鏡で測定した際、所定領域の面積を基準面積とし、当該表面と平行な面でテクスチャーを切断した場合のテクスチャーの切断面の面積を測定面積としたときの、基準面積に対する測定面積の割合をベアリングレシオ（ＢＲ）として、該ＢＲが５０％となる位置を基準面とし、ＢＲが所定値（Ｘ％）となるようにテクスチャーを切断する面を測定面としたときの、基準面から測定面までの高さをベアリングハイト（ＢＨ（Ｘ））とした場合、バリの存在はＢＨ（０．０１）からＢＨ（０．４）の範囲で確認されるとともに、テクスチャー上からバリを除去した状態で、ＢＨ（０．０１）とＢＨ（０．４）との差が０．０１〜１．０ｎｍであることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
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