JP4189383B2 - 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
図1に示すように、磁気記録媒体用ガラス基板21は、中心円孔21bを有する円盤である。ガラス基板21は、珪素酸化物と、アルミニウム酸化物及びアルカリ土類金属酸化物のうちの少なくとも1種とを少なくとも含む多成分系のガラス材料製である。
図3は、ガラス基板21の製造方法を示すフローチャートである。その製造方法は、円盤加工工程S11、端面面取り工程S12、研磨工程S13、表面層形成工程S14、テクスチャー加工工程S15及び表面層除去工程S16を含む。
研磨工程S13においては、ガラス板21aの表面が研磨によって平滑にされる。研磨工程S13は、前段研磨加工と後段研磨加工の2段階に分けて行なうことが好ましい。前段研磨加工では、ガラス板21aの反り、うねり、及び、凹凸やクラック等の欠陥が取除かれ、平坦で厚みの整えられたガラス板21a面が得られる。前段研磨加工では、比較的粒径の粗い研磨剤が使用され、研磨パッドは使用しないか、あるいは硬質で目の粗いものが使用される。
図4に示すように、当該テクスチャーマシンは、ガラス板21aの直上位置に回動自在に支持されたローラ31を備えている。同ローラ31は、その長さがガラス板21aの半径にほぼ等しく、ガラス板21aの半径方向に延びるように配設されている。該ローラ31とガラス板21aの表面との間には、研磨用摺接部材としてのテープ部材32がローラ31の一側方からこれらの間を通って他側方へ移動するように配設されている。このテープ部材32は、ガラス板21aとローラ31との間を通る際、ローラ31からの圧力によってガラス板21aの表面に押圧されて摺接される。また、ガラス板21aの表面には、研磨剤としてのダイヤモンドスラリー33が滴下される。そして、ガラス板21aを図4中の矢印方向に回転させながら、テープ部材32をガラス板21aの表面に摺接させ、同表面を良好に制御しつつ研削することにより、テクスチャー23が形成される。
ガラス基板21の製造方法では、円盤加工工程S11、端面面取り工程S12、研磨工程S13、表面層形成工程S14、テクスチャー加工工程S15、及び表面層除去工程S16が順番に行われる。表面層形成工程S14ではガラス板21aの表面のガラス組成が変えられ、同表面に耐薬品性の低下された表面層27が形成される。テクスチャー加工工程S15では、表面層27が残留するようにガラス板21aの表面を研削することにより、同表面に複数の突条24よりなるテクスチャー23が形成される。表面層除去工程S16では、突条24において表面層27に対応する部分(上端)がエッチングによって除去され、突条24の高さが均一に揃えられる。従って、ヘッドの浮上高さを低くできるガラス基板21が高い歩留まりで製造される。
実施例1
アルミノシリケートガラスシートから、厚み0.6mm、外径65mm、内径20mmのサイズを有するガラス板を用意した。アルミノシリケートガラスの組成は、SiO2 63モル%、Al2O3 16モル%、Na2O 11モル%、Li2O 4モル%、MgO 2モル%、CaO 4モル%であった。次に、同ガラス板を濃度3%でpHが1未満の硫酸に温度35℃で3分間浸漬し、その後、濃度0.01%でpHが11の水酸化カリウム水溶液(KOH)に温度35℃で3分間浸漬し、3nmの厚みを有する表面層を形成した。この後、次の条件でガラス板にテクスチャーを形成した。
テープ部材の張力:22.1N
テープ部材の速度:7.6cm/min
ローラの押圧力:30.9N
ガラス板の回転数:300rpm
ダイヤモンドスラリーの供給量:20ml/min
ダイヤモンド砥粒の粒子径:0.2μm
AFMを使用し、ガラス基板の表面のRa及びRpを10箇所以上について測定した。視野は10μm×10μmである。Ra及びRpの平均値を算出し、Rp/Ra比を算出した。Rp/Ra比は8であり、グライドエラーを引き起こしにくい良好なガラス基板であることがわかった。
表面層の厚みを5nmとした以外は、実施例1と同様である。実施例2のガラス基板のRp/Ra比は5であり、グライドエラーを引き起こしにくい良好なガラス基板であることがわかった。
表面層除去工程S16を施さなかった以外は、実施例1と同様である。比較例1のガラス基板のRp/Ra比は11であった。表面層除去工程S16を施さなかったので、突条の高さが揃っておらず、ガラス基板の表面が荒れていることがわかった。
表面層除去工程S16で濃度20ppmのフッ化水素酸を使用した以外は、実施例1と同様にしてガラス板を加工し、比較例2のガラス基板を得た。このガラス基板のRp/Ra比を算出した結果、Rp/Ra比は18であった。この結果と、比較例1の結果との対比から、表面層除去工程S16でエッチング液に強酸性水溶液を使用した場合、表面層除去工程S16を施さない場合よりもさらにガラス基板の表面が荒れ、グライドエラーを引き起こしやすいことが示された。
表面層形成工程でpH4の硫酸を使用し、表面層の厚みを1nmとした以外は、実施例1と同様にしてガラス板を加工し、比較例3のガラス基板を得た。このガラス基板のRp/Ra比を算出した結果、Rp/Ra比は12であった。この結果から、表面層形成工程で酸性水溶液のみを使用した場合、あるいは表面層の厚みが1nm以下の場合、ガラス基板の表面が荒れ、グライドエラーを引き起こしやすいことが示された。
円盤加工工程S11、端面面取り工程S12、研磨工程S13、表面層形成工程S14、テクスチャー加工工程S15及び表面層除去工程S16のうち、少なくともいずれか1つの工程後、ガラス板21aを洗浄してもよい。この洗浄で使用する洗浄液としては、前記強酸性水溶液、前記強アルカリ性水溶液、水や純水などの中性水溶液として、イソプロピルアルコール等のアルコール類が使用できる。他にも、無機塩の水溶液を電気分解することにより得られた電解水、ガスが溶解されたガス溶解水等の機能水を用いて洗浄してもよい。無機塩としては、塩化ナトリウム等のアルカリ金属塩が使用できる。電解水には、電気分解時に陽極側及び陰極側で得られる水のいずれを使用してもよい。
Claims (10)
- 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
所定の組成と所定の耐薬品性とを有する円盤状のガラス板の表面に、前記所定の組成と異なる組成と前記所定の耐薬品性よりも低い耐薬品性とを有する表面層を形成する工程と、
研磨剤と研磨部材とを用いて前記表面を研磨し、当該表面に周方向に延びると共に前記表面層の下層に達するように延びる複数の突条を有するテクスチャーを形成する工程と、
エッチング液を使用し、前記複数の突条の一部であって前記表面層を選択的に除去する工程とを備え、
所定の算術平均粗さと最大山高さとを有する表面を有し、前記算術平均粗さは原子間力顕微鏡を使用して測定されたものであり、前記算術平均粗さに対する前記最大山高さの比が10以下であり、前記複数の突条の上端は所定のレベルに揃っていることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記エッチング液はアルカリ性であることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 前記ガラス板は珪素酸化物を少なくとも含有する多成分系ガラス材料であり、前記表面層を形成する工程は、前記珪素酸化物を除く少なくとも一つの成分の含有率を低減させて、前記表面層における珪素酸化物の含有率を、前記表面層を除く他の部分におけるものに比べて高めることを含む請求項1又は請求項2に記載の製造方法。
- 前記多成分系ガラス材料はアルミニウム酸化物及びアルカリ土類金属酸化物のうちの少なくとも1種を含有し、前記少なくとも一つの成分はアルミニウム酸化物及びアルカリ土類金属酸化物のうちの少なくとも1種である請求項3に記載の製造方法。
- 前記表面層の厚みは1〜7nmであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一つに記載の製造方法。
- 前記表面層を形成する工程は、前記ガラス板をpH3.0以下の強酸性水溶液に浸漬し、その後、前記ガラス板をpH10.5以上の強アルカリ性水溶液に浸漬することを含む請求項1から請求項5のいずれか一つに記載の製造方法。
- 前記表面層を形成する工程は、前記ガラス板を強酸性水溶液に浸漬して、前記アルミニウム酸化物及びアルカリ土類金属酸化物のうちの少なくとも1種を強酸性水溶液中に溶出させて前記表面に前記表面層を形成する酸処理と、その後、前記ガラス板を強アルカリ性水溶液に浸漬するアルカリ処理とを含み、当該アルカリ処理は、前記表面層を均等にエッチングしてその厚みを調整すること、及び、前記表面層の組成を調整することを含む請求項4に記載の製造方法。
- 前記表面層における前記珪素酸化物の含有率が、前記表面層を除く他の部分における前記珪素酸化物の含有率の1.0倍を超えかつ1.4倍以下であることを特徴とする請求項3から6のいずれか一つに記載の製造方法。
- 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
所定の組成と所定の耐薬品性とを有する円盤状のガラス板を用意する工程と、
前記ガラス板を研磨して平滑な表面を形成する工程と、
前記平滑な表面を化学処理して、前記所定の組成と異なる組成、前記所定の耐薬品性よりも低い耐薬品性、及び第1の厚みを有する表面層を形成する工程と、
前記表面に、前記表面層と当該表面層に隣接する下層とにわたって延びる複数の突条を含むテクスチャーを形成する工程と、
前記複数の突条が平坦な上面を有しかつ各上面が互いに面一であると共に前記下層上に前記第1の厚みよりも小さい第2の厚みを有する前記表面層が残るように、前記表面層を均一にエッチングすることにより、当該表面層に含まれる前記複数の突条の一部のみを選択的に除去する工程とを備え、
所定の算術平均粗さと最大山高さとを有する表面を有し、前記算術平均粗さは原子間力顕微鏡を使用して測定されたものであり、前記算術平均粗さに対する前記最大山高さの比が10以下であり、前記複数の突条の上面が面一に揃っていることを特徴とする磁気記録 媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記テクスチャーを形成する工程は、前記表面を研磨部材で前記ガラス板の周方向に研磨することを含む請求項9に記載の製造方法。
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