JP2873702B2

JP2873702B2 - 磁気記録媒体および磁気記録再生方法

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Publication number: JP2873702B2
Application number: JP30241789A
Authority: JP
Inventors: 治幸森田; 城一朗江▲崎▼
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1989-11-21
Filing date: 1989-11-21
Publication date: 1999-03-24
Anticipated expiration: 2014-03-24
Also published as: JPH03162712A

Description

【発明の詳細な説明】＜産業上の利用分野＞本発明は、剛性基板上に磁性層を有する所謂ハードタ
イプの磁気記録媒体、特にγ−Fe₂O₃を主成分とする連
続薄膜型の磁性層を有するハードタイプの磁気記録媒体
と、浮上型磁気ヘッドを用いてこの磁気記憶媒体に記録
再生を行なう磁気記録再生方法とに関する。

＜従来の技術＞計算機等に用いられる磁気ディスク駆動装置には、剛
性基板上に磁性層を設層したハードタイプの磁気ディス
クと浮上型磁気ヘッドとが用いられている。

このような磁気ディスク駆動装置においては従来、塗
布型の磁気ディスクが用いられていたが、磁気ディスク
の大容量化に伴い、磁気特性、記録密度等の点で有利な
ことから、スパッタ法等の気相成膜法等により設層され
る連続薄膜型の磁性層を有する薄膜型磁気ディスクが用
いられるようになっている。

薄膜型磁気ディスクとしては、Al系のディスク状金属
板にNi−Ｐ下地層をめっきにより設層するか、あるいは
この金属板表面を酸化してアルマイトを形成したものを
基板とし、この基板上にCr層、Co−Ni等の金属磁性層、
さらにＣ等の保護潤滑膜をスパッタ法により順次設層し
て構成されるものが一般的である。

しかし、Co−Ni等の金属磁性層は耐食性が低く、さら
に硬度が低く、信頼性に問題が生じる。これに対し、特
開昭62−43819号公報、同63−175219号公報に記載され
ているような酸化鉄を主成分とする磁性薄膜は化学的に
安定なため腐食の心配がなく、また、充分な硬度を有し
ている。

一方、浮上型磁気ヘッドは浮力を発生するスライダを
有する磁気ヘッドであり、コアがスライダと一体化され
たコンポジットタイプのもの、あるいはコアがスライダ
を兼ねるモノリシックタイプのものが通常用いられる。

さらに、これらの他、高密度記録が可能であることか
ら、いわゆる浮上型薄膜磁気ヘッドが注目されている。
浮上型薄膜磁気ヘッドは、基体上に磁極層、ギャップ
層、コイル層などを気相成膜法等により形成したもので
ある。このような浮上型薄膜磁気ヘッドでは、基体がス
ライダとしてはたらく。

＜発明が解決しようとする課題＞浮上型磁気ヘッドを用いる磁気ディスク装置では、コ
ンタクト・スタート・ストップ（CSS）時に浮上型磁気
ヘッドの浮揚面（スライダの磁気ディスク側表面）と磁
気ディスクとが接触し、磁性層は衝撃を受ける。

特に、浮上型薄膜磁気ヘッドを用いる場合、高密度記
録が可能であることから磁気ディスクと磁気ヘッドとの
間隔（フライングハイト）を極めて小さく設定するの
で、CSS時に磁性層が受ける衝撃がより大きくなる。

また、フライングハイトが小さい場合、磁気ディスク
の振動あるいは駆動装置外部からの衝撃などにより磁気
ディスクと浮上型磁気ヘッドとの接触事故が生じること
がある。

特開昭62−43819号公報、同63−175219号公報に記載
されているような酸化鉄を主成分とする磁性薄膜を有す
る磁気ディスクは、表面が鏡面化されたガラス基板を使
用してあり、磁性層の表面粗さR maxが100Å以下と非常
に小さなものとなっている。このような磁気ディスクで
はフライングハイトを極めて小さく設定できるため、CS
S時あるいはヘッドの接触事故の際に磁性層の被害が大
きくなってしまう。

しかし、特開昭62−43819号公報、同63−175219号公
報では、磁性層の耐久性に関しては何ら言及されておら
ず、他にも酸化鉄を主成分とする連続薄膜型の磁性層に
ついて、耐久性を高める有効な提案はなされていない。

本発明は、このような事情からなされたものであり、
浮上型磁気ヘッドにより記録再生が行なわれる磁気記録
媒体において、高い耐久性を実現することを目的とす
る。

＜課題を解決するための手段＞このような目的は、下記（１）〜（７）の本発明によ
り達成される。

（１）基板上に少なくとも磁性層を有する磁気記録媒体
であって、基板の厚さ方向中央付近から媒体表面までの各層のビ
ッカース硬度Hvが、それぞれ500〜1200kgf/mm²であるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。

（２）前記磁性層がγ−Fe₂O₃を主成分とする連続薄膜
型の磁性層である上記（１）に記載の磁気記録媒体。

（３）前記基板がガラスから構成される上記（１）また
は（２）に記載の磁気記録媒体。

（４）媒体の表面粗さR maxが50〜200Åである上記
（１）ないし（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。

（５）前記基板の表面粗さR maxが10〜100Åである上記
（１）ないし（４）のいずれかに記載の磁気記録媒体。

（６）上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の磁気
記録媒体を回転させ、この磁気記録媒体上に浮上型磁気
ヘッドを浮上させて記録再生を行なう磁気記録再生方法
であって、前記磁気記録媒体がディスク状であり、前記浮上型磁
気ヘッドの少なくとも浮揚面が1000kgf/mm²以上のビッ
カース硬度Hvを有するセラミックスから構成されている
ことを特徴とする磁気記録再生方法。

（７）前記浮上型磁気ヘッドの浮揚面の表面粗さR max
が200Å以下である上記（６）に記載の磁気記録再生方
法。

＜作用＞本発明の磁気記録媒体は、基板中央付近から媒体表面
までのビッカース硬度Hvが上記範囲とされ、硬度の片寄
りがないため、高い耐久性が実現する。

特に、浮揚面のHvが1000kgf/mm²以上である浮上型磁
気ヘッドにより記録再生を行なう場合、本発明の効果は
顕著である。

また、磁性層側表面のR maxと磁気ヘッド浮揚面のR m
axとが上記範囲である場合、すなわち媒体用表面および
磁気ヘッド表面の平滑性が良好である場合、本発明の効
果はさらに顕著である。

なお、基板中央付近から媒体表面までの間に上記範囲
を外れるHvを有する部分が存在する場合、例えば、基板
および／または磁性層のHvが上記範囲を外れる場合、耐
久性は臨界的に低下する。

この場合、具体的には、金属薄膜磁性層のようにHvが
上記範囲未満となると磁性層の耐久性が低下し、上記範
囲を超えると磁気ヘッドがダメージを受け易くなり良好
な記録再生が困難となる。

また、例えば、基板と磁性層との間に上記範囲外のHv
を有する層が存在する場合でも、耐久性は臨界的に低下
する。

なお、特開昭60−107728号公報には、実施例２とし
て、非磁性基板の上に、コバルトをドープしたフェライ
ト（γ−Fe₂O₃）磁性膜をスパッタ法により被覆し、そ
の上からイオン注入法によりホウ酸イオンを表面から50
〜500Åの深さまで注入することにより、フェライト磁
性層の摩擦係数を減少させ、硬度を増加させて、機械的
耐久性を大幅に改善する旨の発明が記載されている。本
発明では、基板中央付近から媒体表面までの硬度を500k
gf/mm²以上と高くすることにより、著しい耐久性向上を
実現しているのに対し、同公報記載の発明は、磁性膜表
面付近の硬度だけを向上させる点で本発明とは異なる。
同公報の実施例２で用いている非磁性基板は、アルミニ
ウム素板にメッキされ、研磨された非磁性ニッケル合金
からなるものであり、この非磁性基板では、アルミニウ
ム素板の表面付近でビッカース硬度Hvが小さくなり、本
発明で限定するHv範囲（500〜1200kgf/mm²）を下回って
しまう。したがって、同公報記載の発明では本発明の効
果は実現しない。

＜具体的構成＞以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

第１図に示される本発明の磁気記録媒体１は、剛性基
板２上に連続薄膜型の磁性層３を有する。

本発明の磁気記録媒体１において、基板２のビッカー
ス硬度Hvは、500〜1200kgf/mm²、好ましくは600〜800kg
f/mm²とされる。本発明では、少なくとも基板厚さ方向
中央付近から磁性層側の基板表面までが上記範囲のHvを
有していればよい。

なお、本発明は、片面記録型および両面記録型のいず
れかの磁気記録媒体にも適用することができる。

基板内部のHvは、基板を研削等して測定すればよい。
また、Hvは、JIS Z 2244に従って測定すればよい。

なお、磁性層等の薄膜のHvは、薄膜用の微小押し込み
硬度計により求めることができる（日経メカニカル 198
8.5.16号 p.95）。

本発明で用いる基板２は、上記範囲のHvが容易に得ら
れること、下地層などを設層する必要がなく製造工程が
簡素になること、また、研磨が容易で表面粗さの制御が
簡単であること、磁性層の形成時およびその表面粗さ制
御のための熱処理に耐えることなどから、ガラスを用い
ることが好ましい。

ガラスとしては、強化ガラス、特に、化学強化法によ
る表面強化ガラスを用いることが好ましい。

一般的に、表面強化ガラスは、ガラス転移温度以下の
温度にて、ガラス表面付近のアルカリイオンを外部から
供給される他種アルカリイオンに置換し、これらのイオ
ンの占有容積の差によりガラス表面に圧縮応力が発生す
ることを利用したものである。

イオンの置換は、アルカリイオンの溶融塩中にガラス
を浸漬することにより行なわれる。塩としては硝酸塩、
硫酸塩等が用いられ、溶融塩の温度は350〜650℃程度、
浸漬時間は１〜24時間程度である。

より詳細には、アルカリ溶融塩としてKNO₃を用い、Ｋ
イオンとガラス中のNaイオンと交換する方法や、NaNO₃
を用い、ガラス中のLiイオンと交換する方法等が挙げら
れる。また、ガラス中のNaイオンおよびLiイオンを同時
に交換してもよい。

このようにして得られる強化層、すなわち圧縮応力層
はガラス基板の表面付近だけに存在するため、表面強化
ガラスとなる。圧縮応力層の厚さは、10〜200μｍ、特
に50〜150μｍとすることが好ましい。

なお、このような表面強化ガラスは、特開昭62−4381
9号公報、同63−175219号公報に記載されている。

また、このような表面強化がなされた場合でも、ガラ
ス基板のHvに殆ど変化はみられない。

基板の表面粗さR maxは、好ましくは10〜100Å、より
好ましくは40〜80Å、さらに好ましくは40〜60Åとされ
る。剛性基板のR maxをこの範囲とすることにより、磁
気記録媒体の耐久性が向上し、また、後述するような媒
体磁性層側表面のR maxが容易に得られる。

なお、R maxは、JIS B 0601に従い測定すればよい。

このような表面粗さは、例えば、特開昭62−43819号
公報、同63−175219号公報に記載されているようなメカ
ノケミカルポリッシングなどにより得ることができる。

ガラス基板の材質に特に制限はなく、ホウケイ酸ガラ
ス、アルミノケイ酸ガラス、石英ガラス、チタンケイ酸
ガラス等のガラスから上記範囲のHvとなるものを適当に
選択することができるが、機械的強度が高いことから、
特にアルミノケイ酸ガラスを用いることが好ましい。

なお、ガラス基板の表面平滑化を、特開昭62−43819
号公報等に記載されているようなメカノケミカルポリッ
シングにより行なう場合、結晶質を含まないガラスを用
いることが好ましい。これは、メカノケミカルポリッシ
ングにより結晶粒界が比較的早く研磨されてしまい、上
記のようなR maxが達成できないからである。

ガラス基板の形状および寸法に特に制限はないが、通
常、ディスク状とされ、厚さは0.5〜5mm程度、直径は25
〜300mm程度である。

基板上には、磁性層が設けられる。

本発明において、磁性層は500〜1200kgf/mm²のHvを有
する。

磁性層の構成に特に制限はないが、上記範囲のHvが容
易に得られること、化学的安定性が高いこと、高密度記
録可能なことなどから、γ−Fe₂O₃を主成分とする連続
薄膜型の磁性層であることが好ましい。

γ−Fe₂O₃を主成分とする連続薄膜型の磁性層は、ま
ずFe₃O₄を形成し、このFe₃O₄を酸化してγ−Fe₂O₃とす
ることにより形成されることが好ましい。

Fe₃O₄を形成する方法は、直接法であっても間接法で
あってもよいが、工程が簡素になることなどから、直接
法を用いることが好ましい。

直接法は、反応性スパッタ法を用いて基板上にFe₃O₄
を直接形成する方法である。直接法には、ターゲットに
Feを用いて酸化性雰囲気にて行なう酸化法、ターゲット
にα−Fe₂O₃を用いて還元性雰囲気にて行なう還元法、
ターゲットにFe₃O₄を用いる中性法が挙げられるが、ス
パッタ制御が容易であること、成膜速度が高いことなど
から、本発明では酸化法を用いることが好ましい。

酸化法では、Arガス雰囲気中に反応ガスとしてO₂ガス
を加えてスパッタを行なう。

スパッタ法としてはRFスパッタを用いることが好まし
い。

直接法によるFe₃O₄薄膜形成の詳細は、電子通信学会
論文誌‘80/9Vol.J63−C No.9 p.609〜616に記載されて
おり、本発明ではこれに準じて磁性層の形成を行なうこ
とが好ましい。

なお、間接法は、ターゲットにFeを用いて酸化性雰囲
気にてα−Fe₂O₃を形成した後、還元してFe₃O₄を得る方
法である。

スパッタ法により成膜されたFe₃O₄は、γ−Fe₂O₃にま
で酸化される。

この酸化は、酸素を含有する雰囲気中での熱処理によ
って行なわれ、通常、大気中熱処理によって行なわれ
る。

なお、磁性層中には必要に応じてCo、Ti、Cu等を添加
させてもよく、また、成膜雰囲気中に含まれるAr等が含
有されていてもよい。

Coは、保磁力を制御するために有用である。Coの含有
量は、Feを10wt％以下置換する程度とすることが好まし
い。また、磁性層にCoを含有させる場合、Coを含有する
Feターゲットを用いればよい。

磁性層の層厚は、生産性、磁気特性等を考慮して、50
0〜3000Å程度とすることが好ましい。

なお、磁性層上には、α−Fe₂O₃等の各種無機保護層
を設けてもよい。この保護層のHvも、500〜1200kgf/mm²
とする。

このような磁性層上には、潤滑膜４が設けられること
が好ましい。

潤滑膜４は有機化合物を含有することが好ましく、特
に極性基ないし親水性基、あるいは親水性部分を有する
有機化合物を含有することが好ましい。

用いる有機化合物に特に制限はなく、フッ素系有機化
合物、例えば欧州特許公開第0165650号およびその対応
日本出願である特開昭61−4727号公報、欧州特許公開01
65649号およびその対応日本出願である特開昭61−15534
5号公報等に記載されているようなパーフルオロポリエ
ーテル、あるいは公知の各種脂肪酸、各種エステル、各
種アルコール等から適当なものを選択すればよい。

なお、潤滑膜材料にこれらの有機化合物を用いた場
合、潤滑膜の成膜前後で媒体表面のビッカース硬度Hvに
変化はない。

潤滑膜の成膜方法に特に制限はなく、塗布法等を用い
ればよい。

潤滑膜の表面は、水との接触角が70゜以上、特に90゜
以上であることが好ましい。このような接触角を有する
ことにより、磁気ヘッドと磁気記録媒体との吸着が防止
される。

潤滑膜の厚さは、成膜方法および使用化合物によって
も異なるが、４〜300Å程度であることが好ましい。

４Å以上とすると耐久性が向上し、300Å以下とする
と吸着や磁気ヘッドのクラッシュが減少する。なお、よ
り好ましい膜厚は４〜100Åであり、さらに好ましい膜
厚は４〜80Åである。

本発明の磁気記録媒体は、磁性層側の表面粗さR max
が50〜200Åであると、耐久性向上効果が顕著である。
この場合、R maxのより好ましい範囲は80〜150Åであ
り、さらに好ましい範囲は80〜120Å、特に好ましくは9
0〜120Åである。

磁性層側のR maxを上記範囲内とすれば、耐久性の向
上が顕著である他、媒体表面の浮上型磁気ヘッドの浮揚
面との距離を0.1μｍ以下に保って記録および再生を行
なうことができ、しかも浮上型磁気ヘッドと磁気記録媒
体との吸着が発生せず、高密度記録が可能となる。

なお、磁性層側のこのようなR maxを得るためには、
前記したFe₃O₄からγ−Fe₂O₃への酸化を行なう際に、熱
処理温度と時間を制御すればよい。

本発明の磁気記録媒体は、公知のコンポジット型の浮
上型磁気ヘッド、モノリシック型の浮上型磁気ヘッド等
により記録再生を行なった場合に効果を発揮するが、特
に、浮上型薄膜磁気ヘッドと組合せて使用された場合
に、極めて高い効果を示す。

第２図に、本発明に用いる磁気ヘッドの好適実施例で
ある薄膜型の浮上型磁気ヘッドの１例を示す。

第２図に示される浮上型磁気ヘッド10は、基体20上
に、絶縁層31、下部磁極層41、ギャップ層50、絶縁層3
3、コイル層60、絶縁層35、上部磁極層45および保護層7
0を順次有する。また、このような浮上型磁気ヘッド10
の少なくともフロント面、すなわち浮揚面には、必要に
応じ、前記と同様の潤滑膜を設けてもよい。

なお、本発明では、フロント面のR maxは、200Å以
下、特に50〜150Åであることが好ましい。このようなR
maxを有する磁気ヘッドと上記したR maxを有する磁気
記録媒体とを組み合わせて使用することにより、本発明
の効果はより一層向上する。

コイル層60の材質には特に制限はなく、通常用いられ
るAl、Cu等の金属を用いればよい。

コイルの巻回パターンや巻回密度についても制限はな
く、公知のものを適宜選択使用すればよい。例えば巻回
パターンについては図示のスパイラル型の他、積層型、
ジグザグ型等いずれであってもよい。

また、コイル層60の形成にはスパッタ法等の各種気相
被着法を用いればよい。

基体20はMn−Znフェライト等の公知の材料から構成さ
れてもよいが、本発明の磁気記録媒体に対して用いる場
合、基体20は、ビッカース硬度1000kgf/mm²以上、特に1
000〜3000kgf/mm²程度のセラミックスから構成されるこ
とが好ましい。このように構成することにより、本発明
の効果はさらに顕著となる。

ビッカース硬度1000kgf/mm²以上のセラミックスとし
ては、Al₂O₃−TiCを主成分とするセラミックス、ZrO₂を
主成分とするセラミックス、SiCを主成分とするセラミ
ックスまたはAlNを主成分とするセラミックスが好適で
ある。また、これらには、添加物としてMg、Ｙ、ZrO₂、
TiO₂等が含有されていてもよい。

これらのうち、本発明に特に好適なものは、Al₂O₃−T
iCを主成分とするセラミックス、SiCを主成分とするセ
ラミックスまたはAlNを主成分とするセラミックスであ
り、これらのうち最も好適なものは、酸化鉄を主成分と
する薄膜磁性層の硬度との関係が最適であることから、
Al₂O₃−TiCを主成分とするセラミックスである。

下部および上部磁極層41、45の材料としては、従来公
知のものはいずれも使用可能であり、例えばパーマロ
イ、センダスト、Co系非晶質磁性合金等を用いることが
できる。

磁極は通常、図示のように下部磁極層41および上部磁
極層45として設けられ、下部磁極層41および上部磁極層
45の間にはギャップ層50が形成される。

ギャップ層50は、Al₂O₃、SiO₂等公知の材料であって
よい。

これら磁極層41、45およびギャップ層50のパターン、
膜厚等は公知のいずれのものであってもよい。

さらに、図示例ではコイル層60は、いわゆるスパイラ
ル型として、スパイラル状に上部および下部磁極層41、
45間に配設されており、コイル層60と上部および下部磁
極層41、45間には絶縁層33、35が設層されている。

また下部磁極層41と基体20間には絶縁層31が設層され
ている。

絶縁層の材料としては従来公知のものはいずれも使用
可能であり、例えば、薄膜作製をスパッタ法により行な
うときには、SiO₂、ガラス、Al₂O₃等を用いることがで
きる。

また、上部磁極45上には保護層70が設層されている。
保護層の材料としては従来公知のものはいずれも使用可
能であり、例えばAl₂O₃等を用いることができる。ま
た、これらに各種樹脂コート層等を積層してもよい。

このような薄膜型の浮上型磁気ヘッドの製造工程は、
通常、薄膜作成とパターン形成とから構成される。

上記各層を構成する薄膜の作成には、上記したよう
に、従来公知の気相被着法、例えば真空蒸着法、スパッ
タ法、あるいはメッキ法等を用いればよい。

浮上型磁気ヘッドの各層のパターン形成は、従来公知
の選択エッチグあるいは選択デポジションにより行なう
ことができる。エッチングとしてはウェットエッチング
やドライエッチングを用いることができる。

このような浮上型磁気ヘッドは、アーム等の従来公知
のアセンブリーと組み合わせて使用される。

本発明の磁気記録媒体、特に磁気ディスクを用いて記
録再生を行なうには、ディスクを回転させながら、磁気
ヘッドを浮上させて記録再生を行う。

ディスク回転数は2000〜6000rpm程度、特に2000〜400
0rpmとする。

また、浮上量は0.2μｍ以下、特に0.15μｍ以下、さ
らには0.1μｍ以下、例えば0.01〜0.09μｍとすること
ができ、このとき良好な浮上特性およびCSS耐久性を得
ることができる。

浮上量の調整は、スライダ巾や、磁気ヘッドへの荷重
を変えることによって行なう。

＜実施例＞以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。

表２に示す各種磁気ディスクを作製した。各磁気ディ
スクの構成の詳細を以下に示す。

［ガラス基板］外径130mm、内径40mm、厚さ1.905mmのアルミノケイ酸
ガラス基板を研磨し、さらに化学強化処理を施した。化
学強化処理は、450℃の溶融硝酸カリウムに10時間浸漬
することにより行なった。

次いで、ガラス基板表面をメカノケミカルポリッシン
グにより平滑化した。メカノケミカルポリッシングに
は、コロイダルシリカを含む研磨液を用いた。

研磨後のガラス基板の表面粗さR maxは50Åであっ
た。

なお、R maxは、触針型表面粗さ計により測定した。

平滑化後、ガラス基板を洗浄した。

［アルミニウム基板］表面にアルマイト処理を施したディスク状アルミニウ
ム板を用いた。直径および厚さは上記ガラス基板と同じ
とした。また、ポリッシング後のR maxは1000Åであっ
た。

［アルミナ基板］直径および厚さが上記ガラス基板と等しいディスク状
アルミナ板を用いた。ポリッシング後のR maxは200Åで
あった。

［γ−Fe₂O₃磁性層］まず、Arガス雰囲気中にて予備スパッタを行ない、1w
t％ Co−Fe合金ターゲット表面の酸化膜を除去した。次
いで、O₂ガスを導入して反応性スパッタを行ない、上記
基板上にFe₃O₄膜を成膜した。

Fe₃O₄膜形成後、大気中熱処理により酸化を行ない、
γ−Fe₂O₃磁性層とした。

なお、磁性層の厚さは、2000Åとし、磁性層のR max
は熱処理条件を変えることにより変更した。

［Cr下地層およびCo−Ni−Cr磁性層］まず、厚さ2000ÅのCr下地層をスパッタ法により基板
上に形成し、このCr下地層上に厚さ500ÅのCo−Ni−Cr
磁性層をスパッタ法により形成した。

［保護層］スパッタ法により200Åの厚さに形成した。

なお、表２に示される磁気ディスクは、その最上層
（磁性層または保護層）表面に潤滑膜を有するものであ
る。

潤滑膜は、下記式で表わされる分子量2000の化合物の
0.1wt％溶液を用いて、スピンコート法により厚さ20Å
に成膜して形成した。

（式） HOCH₂−CF₂−ＯC₂F₄−Ｏ_ｎCF₂−Ｏ_mCF₂−CH₂−OH 潤滑膜形成後の磁性層側表面のR maxを、表２に示
す。

上記各基板、下地層、磁性層および保護層のHvを前記
した微小押し込み硬度計を用いて測定した。

なお、Hvは層形成後に測定した。

結果を下記表１に示す。

なお、基板中央のHvは、基板を研削して測定した。

また、磁気ディスク最上層（磁性層または保護層）の
Hvを潤滑膜成膜前および成膜後に測定したが、同じ値が
得られた。

表２に示す各磁気ディスクに対し、下記薄膜磁気ヘッ
ドおよびモノリシック磁気ヘッドを用いて、CSS耐久性
および磁気ヘッド浮揚面のダメージを測定した。

薄膜磁気ヘッド HVが2200kgf/mm²のAl₂O₃−TiC基体上に薄膜磁気ヘッ
ド素子を形成した後、磁気ヘッド形状に加工し、支持バ
ネ（ジンバル）に取りつけ、空気ベアリング型の浮上型
磁気ヘッドを作製した。

磁気ヘッド浮揚面のR maxは130Åであった。

浮上量は、スライダ幅、ジンバル荷重を調整し、0.1
μｍになるようにした。

モノリシック磁気ヘッド Hvが800kgf/mm²のMn−Znフェライト基板を使用し、モ
ノリシック磁気ヘッドを作製した。

磁気ヘッド浮揚面のR maxは250Åであった。

浮上量は、スライダ幅、ジンバル荷重を調整し、0.3
μｍになるようにした。

CSS耐久性上記各磁気ヘッドを使用し、25℃、相対湿度50％にて
CSS試験を行なった。

CSSは第３図に示すサイクルの繰り返しで行なった。C
SS耐久性の評価は、記録再生出力が初期の半分以下にな
るまでのCSS回数を測定し、下記の５段階評価を行なっ
た。

◎:10万回以上 ○:5万回以上10万回未満 △:2万回以上５万回未満 ×:1万回以上２万回未満 ××:1万回未満磁気ヘッド浮揚面のダメージ上記CSS耐久性試験を実施した後の各磁気ヘッド浮揚
面のダメージを、下記３段階で評価した。

◎：全く傷がない ○：わずかに傷がある ×：激しく傷があるこれらの測定の結果を表２に示す。

以上の実施例の結果から、本発明の効果が明らかであ
る。

＜発明の効果＞本発明によれば、耐久性、特にCSS耐久性が高い磁気
記録媒体および磁気記録再生方法が実現する。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の磁気記録媒体の好適実施例を示す部
分断面図である。第２図は、本発明に用いる磁気ヘッドの部分断面図であ
る。第３図は、CSS耐久性試験の１サイクルを表わすグラフ
である。符号の説明１……磁気記録媒体２……基板３……磁性層４……潤滑膜 10……磁気ヘッド

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 5/66 G11B 5/72 G11B 5/82

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に少なくとも磁性層を有する磁気記
録媒体であって、基板の厚さ方向中央付近から媒体表面までの各層のビッ
カース硬度Hvが、それぞれ500〜1200kgf/mm²であること
を特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】前記磁性層がγ−Fe₂O₃を主成分とする連
続薄膜型の磁性層である請求項１に記載の磁気記録媒
体。
【請求項３】前記基板がガラスから構成される請求項１
または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】媒体の表面粗さR maxが50〜200Åである請
求項１ないし３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【請求項５】前記基板の表面粗さR maxが10〜100Åであ
る請求項１ないし４のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【請求項６】請求項１ないし５のいずれかに記載の磁気
記録媒体を回転させ、この磁気記録媒体上に浮上型磁気
ヘッドを浮上させて記録再生を行なう磁気記録再生方法
であって、前記磁気記録媒体がディスク状であり、前記浮上磁気ヘ
ッドの少なくとも浮揚面が1000kgf/mm²以上のビッカー
ス硬度Hvを有するセラミックスから構成されていること
を特徴とする磁気記録再生方法。
【請求項７】前記浮上型磁気ヘッドの浮揚面の表面粗さ
R maxが200Å以下である請求項６に記載の磁気記録再生
方法。