JPH04341922A - 磁気記録媒体および磁気記録再生方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、剛性基板上に磁性層を
有する所謂ハードタイプの磁気記録媒体と、浮上型磁気
ヘッドを用いてこの磁気記録媒体に記録再生を行なう磁
気記録再生方法とに関する。

【０００２】

【従来の技術】計算機等に用いられる磁気ディスク駆動
装置には、剛性基板上に磁性層を設層したハードタイプ
の磁気ディスクと浮上型磁気ヘッドとが用いられている
。

【０００３】このような磁気ディスク駆動装置において
は従来、塗布型の磁気ディスクが用いられていたが、磁
気ディスクの大容量化に伴い、磁気特性、記録密度等の
点で有利なことから、スパッタ法等の気相成膜法等によ
り設層される連続薄膜型の磁性層を有する薄膜型磁気デ
ィスクが用いられるようになっている。

【０００４】薄膜型磁気ディスクとしては、Ａｌ系のデ
ィスク状金属板にＮｉ−Ｐ下地層をめっきにより設層す
るか、あるいはこの金属板表面を酸化してアルマイトを
形成したものを基板とし、この基板上にＣｒ層、Ｃｏ−
Ｎｉ等の金属磁性層、さらにＣ等の保護潤滑膜をスパッ
タ法により順次設層して構成されるものがある。

【０００５】さらに、Ｃｏ−Ｎｉ等の金属磁性層より、
耐食性を高め、硬度を高め、信頼性を向上したものとし
て、特開昭６２−４３８１９号公報、同６３−１７５２
１９号公報等に記載された酸化鉄を主成分とする磁性薄
膜があり、このものは化学的に安定なため腐食の心配が
なく、また、充分な硬度を有している。

【０００６】一方、浮上型磁気ヘッドは浮力を発生する
スライダを有する磁気ヘッドであり、コアがスライダと
一体化されたコンポジットタイプのもの、あるいはコア
がスライダを兼ねるモノリシックタイプのものが通常用
いられる。

【０００７】さらに、これらの他、高密度記録が可能で
あることから、いわゆる浮上型薄膜磁気ヘッドが注目さ
れている。浮上型薄膜磁気ヘッドは、基体上に磁極層、
ギャップ層、コイル層などを気相成膜法等により形成し
たものである。このような浮上型薄膜磁気ヘッドでは、
基体がスライダとしてはたらく。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】浮上型磁気ヘッドを用
いる磁気ディスク装置では、コンタクト・スタート・ス
トップ（ＣＳＳ）時に浮上型磁気ヘッドの浮揚面（スラ
イダの磁気ディスク側表面）と磁気ディスクとが接触し
、磁性層は衝撃を受ける。

【０００９】特に、浮上型薄膜磁気ヘッドを用いる場合
、高密度記録を可能とするためには、磁気ディスクと磁
気ヘッドとの間隔（フライングハイト）を極めて小さく
設定するので、ＣＳＳ時に磁性層が受ける衝撃がより大
きくなる。

【００１０】また、フライングハイトが小さい場合、磁
気ディスクの振動あるいは駆動装置外部からの衝撃など
により磁気ディスクと浮上型磁気ヘッドとの接触事故が
生じることがある。

【００１１】そこで、ＣＳＳ耐久性を向上させるために
、例えばパーフルオロアルキレン基を有するポリエーテ
ルの塗膜のトップコート潤滑膜を形成している。

【００１２】この場合、塗膜形成時の溶媒としては、沸
点４８℃のフロン１１３等が用いられている。

【００１３】しかし、高密度記録を達成するためにフラ
イングハイトはますます低くなる傾向にあり、ＣＳＳ耐
久性の点で不十分であり、特に、ＣＳＳ時、摺動抵抗や
摩擦係数が経時的に増大して、吸着やスティックスリッ
プを生じてしまう。

【００１４】本発明の主たる目的は、剛性基板上に連続
薄膜型の磁性層を有する磁気記録媒体のＣＳＳ耐久性を
向上させることにある。

【００１５】また、磁気記録媒体に対し、浮上型磁気ヘ
ッドを用いて信頼性の高い記録再生を行なうことができ
る磁気記録再生方法を提供することを目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るため、潤滑膜塗布方法について検討した結果、潤滑膜
塗布時の乾燥速度を調整することにより、摩擦性能が改
良され、ＣＳＳ耐久性が向上すること、また、乾燥速度
は潤滑剤を溶解する溶媒の沸点を変更することにより容
易に変えられることを見出し本発明をなすに至ったもの
である。

【００１７】すなわち、本発明は、下記（１）〜（７）
の構成をもつ。

【００１８】（１）連続薄膜型の磁性層を剛性基板上に
有し、この磁性層上に、パーフルオロアルキレンを有す
るポリエーテルおよび／またはその誘導体を、Ｃ２　Ｆ
５　ＣＨ２　ＯＨに溶解した溶液から形成した潤滑膜を
有することを特徴とする磁気記録媒体。

【００１９】（２）前記磁性層が、γ−Ｆｅ２Ｏ３を主
成分とする連続薄膜型の磁性層である上記（１）に記載
の磁気記録媒体。

【００２０】（３）前記磁性層の比抵抗ρが０．０３〜
３Ω・ｃｍである上記（２）に記載の磁気記録媒体。

【００２１】（４）前記剛性基板の表面粗さ（Ｒｍａｘ
　）が１０〜１００Ａ　であり、前記磁気記録媒体の磁
性層側表面粗さ（Ｒｍａｘ　）が５０〜２００Ａ　であ
る上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の磁気記録
媒体。

【００２２】（５）ディスク状の磁気記録媒体を回転し
、この磁気記録媒体上に磁気ヘッドを浮上させて記録再
生を行なう磁気記録再生方法であって、前記磁気記録媒
体が、連続薄膜型の磁性層を剛性基板上に有し、前記磁
性層上および／または前記磁気ヘッドのフロント面上に
、パーフルオロアルキレンを有するポリエーテルおよび
／またはその誘導体を、Ｃ２　Ｆ５　ＣＨ２ＯＨに溶解
した溶液から形成した潤滑膜を有することを特徴とする
磁気記録再生方法。

【００２３】（６）前記磁気ヘッドの浮上量が０．２μ
ｍ　以下である上記（５）に記載の磁気記録再生方法。

【００２４】（７）前記磁性層が、γ−Ｆｅ２Ｏ３を主
成分とする連続薄膜型の磁性層である上記（５）または
（６）に記載の磁気記録再生方法。

【００２５】

【作用】本発明の磁気記録媒体の潤滑膜形成では、潤滑
剤を溶かす溶媒を沸点７０℃未満のフロン１１３等から
、沸点８０℃のペンタフルオロプロピルアルコールＣＦ
３　ＣＦ２　ＣＨ２　ＯＨに変更している。

【００２６】この結果、摩擦性能が飛躍的に向上する。

【００２７】これは、潤滑膜塗布時の乾燥速度によりデ
ィスクへの潤滑剤の付着の仕方が異なってくるためと考
えられる。すなわち、沸点の高い溶媒を使用して乾燥速
度が遅くなるにつれて、潤滑膜はディスク表面上により
均一に形成されるようになり、その結果、摩擦が低下し
、摩擦の耐久性も向上すると考えられる。

【００２８】例えば、溶媒としてＣＣｌ２　ＦＣＣｌＦ
２　（フロン１１３、沸点４８℃）を使用して潤滑剤塗
布を行なった場合、潤滑膜には、潤滑剤の大きな島がデ
ィスク表面上に点在するような形になりやすい。

【００２９】これに対し、本発明の沸点８０℃の溶媒Ｃ
２　Ｆ５ＣＨ２　ＯＨを使用して塗布を行なった場合、
潤滑膜はより均一な膜に近い状態で形成される。

【００３０】表面性がＲｍａｘ　５０〜２００Ａ　と非
常に良い磁気記録媒体の場合にはこのような効果は特に
顕著になる。

【００３１】

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。

【００３２】第１図に示される本発明の磁気記録媒体１
は、剛性基板２上に連続薄膜型の磁性層３を有する。

【００３３】本発明で用いる基板２は、下地層などを設
層する必要がなく製造工程が簡素になること、また、研
磨が容易で表面粗さの制御が簡単であること、磁性層の
形成時およびその表面粗さ制御のための熱処理に耐える
ことなどから、ガラスを用いることが好ましい。

【００３４】ガラスとしては、強化ガラス、特に、化学
強化法による表面強化ガラスを用いることが好ましい。

【００３５】一般的に、表面強化ガラスは、ガラス転移
温度以下の温度にて、ガラス表面付近のアルカリイオン
を外部から供給される他種アルカリイオンに置換し、こ
れらのイオンの占有容積の差によりガラス表面に圧縮応
力が発生することを利用したものである。

【００３６】イオンの置換は、アルカリイオンの溶融塩
中にガラスを浸漬することにより行なわれる。塩として
は硝酸塩、硫酸塩等が用いられ、溶融塩の温度は３５０
〜６５０℃程度、浸漬時間は１〜２４時間程度である。

【００３７】より詳細には、アルカリ溶融塩としてＫＮ
Ｏ３　を用い、Ｋイオンとガラス中のＮａイオンとを交
換する方法や、ＮａＮＯ３　を用い、ガラス中のＬｉイ
オンと交換する方法等が挙げられる。また、ガラス中の
ＮａイオンおよびＬｉイオンを同時に交換してもよい。

【００３８】このようにして得られる強化層、すなわち
圧縮応力層はガラス基板の表面付近だけに存在するため
、表面強化ガラスとなる。圧縮応力層の厚さは、１０〜
２００μｍ　、特に５０〜１５０μｍ　とすることが好
ましい。

【００３９】なお、このような表面強化ガラスは、特開
昭６２−４３８１９号公報、同６３−１７５２１９号公
報に記載されている。

【００４０】剛性基板の表面粗さ（Ｒｍａｘ　）は、好
ましくは１０〜１００Ａ　、より好ましくは４０〜８０
Ａ　、さらに好ましくは４０〜６０Ａ　とされる。剛性
基板のＲｍａｘ　をこの範囲とすることにより、磁気記
録媒体の耐久性が向上し、また、後述するような媒体磁
性層側表面のＲｍａｘ　が容易に得られる。

【００４１】なお、Ｒｍａｘ　は、ＪＩＳ　Ｂ　０６０
１に従い測定すればよい。

【００４２】このような表面粗さは、例えば、特開昭６
２−４３８１９号公報、同６３−１７５２１９号公報に
記載されているようなメカノケミカルポリッシングなど
により得ることができる。

【００４３】ガラス基板の材質に特に制限はなく、ホウ
ケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、石英ガラス、チ
タンケイ酸ガラス等のガラスから適当に選択することが
できるが、機械的強度が高いことから、特にアルミノケ
イ酸ガラスを用いることが好ましい。

【００４４】ガラス基板の形状および寸法に特に制限は
ないが、通常、ディスク状とされ、厚さは０．５〜５ｍ
ｍ程度、直径は２５〜３００ｍｍ程度である。

【００４５】剛性基板上には、連続薄膜型の磁性層が成
膜される。

【００４６】連続薄膜型の磁性層の材質としては特に制
限はなく、公知の種々のものを用いることができるが、
耐食性や硬度が高い点で、γ−Ｆｅ２Ｏ３を主成分とす
るものが好ましい。

【００４７】そして、γ−Ｆｅ２Ｏ３磁性層の比抵抗ρ
は、０．０３〜３Ω・ｃｍとされることが好ましい。

【００４８】なお、磁性層の比抵抗ρが０．１〜０．９
Ω・ｃｍであると、さらに好ましい結果が得られる。

【００４９】比抵抗ρは、通常の四端針法などにより測
定すればよい。

【００５０】比抵抗ρが０．０３〜３Ω・ｃｍとなる磁
性層は、Ｘ線回折チャートにおいてγ−Ｆｅ２Ｏ３の面
指数（３１１）のピークが、通常、３５．４３〜３５．
８０°、好ましくは３５．５２〜３５．７１°に現われ
る。

【００５１】このような比抵抗ρとγ−Ｆｅ２Ｏ３の面
指数（３１１）のピーク位置とは相関関係を有し、上記
した比抵抗ρを有する磁性層のγ−Ｆｅ２Ｏ３面指数（
３１１）のピーク位置は、通常、上記範囲に存在する。

【００５２】また、磁性層の比抵抗ρと保磁力Ｈｃ　と
の間にも相関関係が存在し、保磁力Ｈｃ　は比抵抗ρの
増加に伴って増加する。

【００５３】そして、上記範囲の比抵抗ρを有する磁性
層は、保磁力が従来のγ−Ｆｅ２Ｏ３、あるいは同等の
Ｃｏを含有する従来のＣｏ含有γ−Ｆｅ２Ｏ３の６倍程
度にまで向上可能であり、このため再生出力が７０％ま
で低下する記録密度Ｄ７０が従来に比べ２．５倍程度に
まで向上可能である。

【００５４】従って、本発明の磁気記録媒体は高密度記
録が可能であり、しかも、そのときに問題となるＣＳＳ
耐久性も極めて良好である。

【００５５】なお、γ−Ｆｅ２Ｏ３を主成分とする連続
薄膜型の磁性層において、従来報告されている比抵抗ρ
の範囲は、例えば電子通信学会論文誌’８２／１　Ｖｏ
ｌ．Ｊ６５−Ｃ　Ｎｏ．１　ｐ．２４−３１によれば、
後述する直接法を用いた場合１０２　〜１０３　Ω・ｃ
ｍ程度であり、上記本発明における比抵抗ρよりも極端
に大きい。これは本発明におけるγ−Ｆｅ２Ｏ３の酸化
度が、従来よりも低いためと考えられる。

【００５６】本発明では、このような磁性層のＸ線回折
を行なったとき、Ｘ線回折チャートにおいて、γ−Ｆｅ
２Ｏ３の面指数（３１１）、面指数（４００）および面
指数（２２２）のそれぞれのピーク面積をＰ（３１１）
、Ｐ（４００）およびＰ（２２２）としたとき、

【００５７】０≦Ｐ（４００）／Ｐ（３１１）≦１．０
０≦Ｐ（２２２）／Ｐ（３１１）≦０．５であることが
好ましく、

【００５８】０≦Ｐ（４００）／Ｐ（３１１）≦０．６
０≦Ｐ（２２２）／Ｐ（３１１）≦０．３であることが
より好ましい。

【００５９】磁性層がこのようなピーク面積比を有する
ことにより、耐久性はいっそう向上する。

【００６０】より詳細に説明すると、Ｐ（２２２）が増
加するということは、磁性層面と平行に（２２２）面お
よび（１１１）面が存在する割合が増えることを示して
いる。γ−Ｆｅ２Ｏ３はスピネル構造を有するものであ
り、スピネル構造では（１１１）面が最も滑り易い面と
なっている。

【００６１】従って、（１１１）面と平行な（２２２）
面のピーク面積が大きい場合、すなわちＰ（２２２）／
Ｐ（３１１）の値が大きい場合、磁気ヘッドとの摺動に
より磁性層を構成するγ−Ｆｅ２Ｏ３に滑りが生じ易く
なり、耐久性が低下すると考えられる。そして、Ｐ（２
２２）／Ｐ（３１１）が上記範囲を超えると臨界的に耐
久性が低下する。

【００６２】（４００）面と平行に存在する（１００）
面は、（１１１）面に次いで滑りが生じ易いと考えられ
るため、Ｐ（４００）／Ｐ（３１１）が上記範囲を超え
ると耐久性が臨界的に低下する。

【００６３】本発明では、磁性層にα−Ｆｅ２Ｏ３が含
有されることが好ましい。磁性層がα−Ｆｅ２Ｏ３を含
有することにより、耐久性が向上する。

【００６４】そして、磁性層のＸ線回折チャートにおい
て、α−Ｆｅ２Ｏ３の面指数（１０４）のピーク面積を
Ｐ（１０４）としたとき、

【００６５】０．０２≦Ｐ（１０４）／Ｐ（３１１）≦
０．２００≦Ｐ（４００）／Ｐ（３１１）≦１．００≦
Ｐ（２２２）／Ｐ（３１１）≦０．５であることが好ま
しく、

【００６６】０．０５≦Ｐ（１０４）／Ｐ（３１１）≦
０．１５０≦Ｐ（４００）／Ｐ（３１１）≦０．６０≦
Ｐ（２２２）／Ｐ（３１１）≦０．３であることがより
好ましい。

【００６７】磁性層がこのようなピーク面積比を有する
ことにより、耐久性はさらに向上する。

【００６８】より詳細に説明すると、Ｐ（１０４）／Ｐ
（３１１）が上記範囲未満であると耐久性向上効果が比
較的低く、上記範囲を超えると記録再生出力が低下する
。

【００６９】Ｘ線回折チャートは、例えば下記のように
して作成することが好ましい。

【００７０】第２図にＸ線回折装置の１例を示す。

【００７１】第２図において、Ｘ線源１０１から照射さ
れたＸ線は、ダイバージェンススリットＤＳを経て磁気
記録媒体１０２の磁性層に入射して回折し、スキャッタ
ースリットＳＳおよびレシービングスリットＲＳ１を経
た後、モノクロメータＭＭで反射することにより単色光
とされ、さらにレシービングスリットＲＳ２を経て計数
管１０３に入射し、Ｘ線強度のカウントが行なわれ、通
常、レートメータ等により記録される。

【００７２】なお、測定時には、磁気記録媒体１０２が
走査速度ｄθ／ｄｔで、スキャッタースリットＳＳ以下
の光路を構成する部材が走査速度２ｄθ／ｄｔで回転さ
れる。

【００７３】得られたＸ線回折チャートの各ピークにつ
いて、バックグラウンドを除いた部分の積分を行なって
上記した面積比を算出する。

【００７４】なお、ＣｕＫαをＸ線源とした第２図に示
す光学配置では、α−Ｆｅ２Ｏ３の面指数（１０４）の
ピークは３３．３°付近に現われ、γ−Ｆｅ２Ｏ３の面
指数（４００）および面指数（２２２）のピークは、そ
れぞれ４３．５°および３７．３°付近に現われる。そ
して、γ−Ｆｅ２Ｏ３の面指数（３１１）のピークは、
前記した範囲に現われる。ピーク位置は、バックグラウ
ンド除去後のピークの重心位置として求められる。

【００７５】磁性層中においてα−Ｆｅ２Ｏ３は均一に
含有されていてもよいが、磁性層の表面側、すなわち基
板と反対側での含有率が高くなることが好ましい。

【００７６】α−Ｆｅ２Ｏ３がこのように含有されるこ
とにより、磁気ヘッドの摺動によりダメージを受け易い
磁性層表面部をより強化することができ、しかも、表面
部において高い耐久性を得ながら磁性層全体のα−Ｆｅ
２Ｏ３の含有率を低く押えることができる。

【００７７】この場合、α−Ｆｅ２Ｏ３は磁性層表面側
に向かって漸増していてもよく、また、基板側には存在
せずに表面側にだけ存在していてもよい。

【００７８】磁性層表面付近のα−Ｆｅ２Ｏ３の含有率
の分析は、例えば、下記のようにして行なうことが好ま
しい。

【００７９】第３図に、低入射角Ｘ線回折装置の１例を
示す。

【００８０】第３図において、Ｘ線源１０１から照射さ
れたＸ線は、ソーラースリットＳ１を経て、磁気記録媒
体１０２の磁性層にその表面とβの角度をなすように入
射して回折する。

【００８１】回折されたＸ線は、ソーラースリットＳ２
を経た後、モノクロメータＭＭで反射することにより単
色光とされ、さらにレシービングスリットＲＳを経て計
数管１０３に入射し、Ｘ線強度のカウントが行なわれる
。

【００８２】この低入射角Ｘ線回折装置においては、第
２図に示す装置と異なり、測定時に磁気記録媒体１０２
は入射Ｘ線に対して固定され、ソーラースリットＳ２以
下の光路を構成する部材が走査速度２ｄθ／ｄｔで回転
される。

【００８３】この装置において、入射Ｘ線と磁性層表面
とがなす角度βを変更することにより、磁性層表面付近
におけるα−Ｆｅ２Ｏ３の分布を求めることができる。 具体的には、表面に近い部分の分析を行なうためにはβ
を小さくすればよく、βを大きくするにつれて磁性層の
より深部までの分析結果が得られる。

【００８４】本発明では、このような低入射角Ｘ線回折
において、βが小さいほどＰ（１０４）／Ｐ（３１１）
が大きくなることが好ましく、例えば、β＝０．５°と
して測定されたＰ（１０４）／Ｐ（３１１）が、β＝２
．０°として測定されたＰ（１０４）／Ｐ（３１１）の
１．５〜１０倍、特に１．５〜５倍であることが好まし
い。

【００８５】なお、磁性層を構成するγ−Ｆｅ２Ｏ３の
平均結晶粒径は、通常１００〜８００Ａ　程度、特に２
００〜５００Ａ　程度である。

【００８６】平均結晶粒径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥ
Ｍ）を使用し、表面観察することにより求めることがで
きる。

【００８７】次に、磁性層の形成方法を説明する。

【００８８】γ−Ｆｅ２Ｏ３を主成分とする連続薄膜型
の磁性層は、まずＦｅ３Ｏ４　を形成し、このＦｅ３Ｏ
４　を酸化してγ−Ｆｅ２Ｏ３とすることにより形成さ
れることが好ましい。

【００８９】Ｆｅ３Ｏ４　を形成する方法は、直接法で
あっても間接法であってもよいが、上記したピーク面積
比が容易に得られること、工程が簡素になることなどか
ら、直接法を用いることが好ましい。

【００９０】直接法は、反応性スパッタ法を用いて基板
上にＦｅ３Ｏ４　を直接形成する方法である。直接法に
は、ターゲットにＦｅを用いて酸化性雰囲気にて行なう
酸化法、ターゲットにα−Ｆｅ２Ｏ３を用いて還元性雰
囲気にて行なう還元法、ターゲットにＦｅ３Ｏ４　を用
いる中性法が挙げられるが、スパッタ制御が容易である
こと、成膜速度が高いことなどから、本発明では酸化法
を用いることが好ましい。

【００９１】酸化法では、Ａｒガス雰囲気中に反応ガス
としてＯ２　ガスを加えてスパッタを行なう。

【００９２】Ｘ線回折におけるγ−Ｆｅ２Ｏ３の上記し
たようなピーク比を得るためには、Ｏ２　ガスの分圧Ｐ
（Ｏ２）と、ＡｒガスとＯ２　ガスとの合計圧力Ｐ（Ａ
ｒ＋Ｏ２）が、

【００９３】 ０．０４３≦Ｐｏ２　／Ｐ（Ａｒ＋Ｏ２）≦０．０７３
であることが好ましく、特に、

【００９４】 ０．０４８≦Ｐｏ２　／Ｐ（Ａｒ＋Ｏ２）≦０．０６９
であることが好ましい。

【００９５】また、スパッタに際して、真空槽中へのＯ
２　ガスの導入は基板に吹きつけるようにして行なうこ
とが好ましい。

【００９６】本発明における好ましいＰ（Ａｒ＋Ｏ２）
　の範囲は１×１０−４〜１×１０−２Ｔｏｒｒであり
、特に５×１０−４〜８×１０−３Ｔｏｒｒである。

【００９７】そして、前記した範囲の比抵抗ρを得るた
めには、ＡｒガスとＯ２　ガスとの合計の流量を、３０
〜１５０ｓｃｃｍ、特に７０〜１４０ｓｃｃｍとするこ
とが好ましい。

【００９８】なお、スパッタ法としてはＲＦスパッタ、
ＤＣスパッタいずれであってもよい。

【００９９】スパッタ投入電力に特に制限はないが、０
．２〜２ｋＷ、特に０．４〜１．５ｋＷとすることが好
ましい。

【０１００】直接法によるＦｅ３Ｏ４　薄膜形成の詳細
は、電子通信学会論文誌’８０／９　Ｖｏｌ．Ｊ６３−
ＣＮｏ．９　ｐ．６０９−６１６に記載されており、本
発明ではこれに準じて磁性層の形成を行なうことが好ま
しいが、その際に上記のようなガス流量およびＯ２　分
圧にてスパッタを行なうことが好ましい。

【０１０１】なお、間接法は、ターゲットにＦｅを用い
て酸化性雰囲気にてα−Ｆｅ２Ｏ３を形成した後、還元
してＦｅ３Ｏ４　を得る方法である。

【０１０２】スパッタ法により成膜されたＦｅ３Ｏ４　
は、γ−Ｆｅ２Ｏ３にまで酸化される。

【０１０３】この酸化は、Ｏ２　ガス分圧０．０５〜０
．８気圧程度、全圧０．５〜２気圧程度の雰囲気中での
熱処理によって行なわれればよく、通常、大気中熱処理
によって行なわれることが好ましい。

【０１０４】熱処理における保持温度は２００〜４００
℃、特に２５０〜３５０℃であることが好ましく、温度
保持時間は、１０分〜１０時間、特に１時間〜５時間で
あることが好ましい。

【０１０５】本発明では、この熱処理に際し、昇温速度
を３．５〜２０℃／ｍｉｎ、特に５．０〜１２℃／ｍｉ
ｎとすることが好ましい。

【０１０６】このような昇温速度とすることにより、α
−Ｆｅ２Ｏ３の上記したようなピーク面積比が容易に得
られる。

【０１０７】なお、昇温速度は一定であってもよく、漸
増あるいは漸減させてもよく、また、複数の昇温速度を
組み合わせて保持温度まで昇温させてもよい。

【０１０８】このようにして形成される磁性層は、Ｃｏ
の添加量および比抵抗ρの値によっても異なるが、保磁
力４００〜２５００　Ｏｅ　、残留磁化２０００〜３０
００Ｇ、角形比０．５５〜０．８５程度の磁気特性が得
られ、また、α−Ｆｅ２Ｏ３を含有する場合でも、磁気
特性の劣化は殆どない。

【０１０９】磁性層中には必要に応じてＣｏ、Ｔｉ、Ｃ
ｕ等を添加させてもよく、また、成膜雰囲気中に含まれ
るＡｒ等が含有されていてもよい。

【０１１０】Ｃｏは、保磁力を制御するために有用であ
る。Ｃｏの含有量は、Ｆｅを１０ｗｔ％　以下置換する
程度とすることが好ましい。また、磁性層にＣｏを含有
させる場合、Ｃｏを含有するＦｅターゲットを用いれば
よい。

【０１１１】磁性層の層厚は、生産性、磁気特性等を考
慮して、５００〜３０００Ａ　程度とすることが好まし
い。

【０１１２】このような磁性層上には、潤滑膜４が形成
される。

【０１１３】潤滑膜は、パーフルオロアルキレンを有す
るポリエーテルおよび／またはその誘導体を含有する。

【０１１４】本発明において、パーフルオロアルキレン
を有するポリエーテルおよび／またはその誘導体に特に
制限はないが、下記式（Ｉ）で表わされるものが好まし
い。

【０１１５】式（Ｉ） Ａ１　−Ｂ１　−（Ｌｆ１　−Ｏ）ｐ−Ｌｆ２−Ｂ２　
−Ａ２

【０１１６】上記式（Ｉ）において、Ａ１　およ
びＡ２　は、−Ｆ、−Ｈ、−ＣＯＯＺ、−ＣＯＯＲまた
は置換もしくは非置換の１価の芳香族基を表わす。ただ
し、Ｚは−Ｈまたは１価のカチオンを、Ｒはアルキル基
を表わす。

【０１１７】Ａ１　とＡ２　とは、同一であっても異な
っていてもよい。

【０１１８】Ｚで表わされる１価のカチオンとしては、
Ｎａ＋　、Ｋ＋　、Ｌｉ＋　、ＮＨ４　＋　などが挙げ
られるが、ＺとしてはＨが好ましい。

【０１１９】Ｒとしては、−ＣＨ３　、−Ｃ２　Ｈ５　
などが挙げられる。

【０１２０】芳香族基の置換基としては、アルキル基、
アルコキシ基等である。

【０１２１】Ｂ１　およびＢ２　は、−ＣＨ２　Ｏ−、
−ＣＨ２　ＯＣＨ２　−または−ＣＦ２　Ｏ−、−ＣＯ
ＮＨ−あるいは単なる結合手を表わす。Ｂ１　とＢ２　
とは、同一であっても異なっていてもよい。

【０１２２】Ｌｆ１　およびＬｆ２　は、パーフルオロ
アルキレン基を表わす。Ｌｆ１　およびＬｆ２　として
は、−ＣＦ２　−、−ＣＦ２　ＣＦ２　−、−ＣＦ（Ｃ
Ｆ３）−、−ＣＦ（ＣＦ３　）ＣＦ２　−などが挙げら
れる。Ｌｆ１　とＬｆ２　とは、同一であっても異なっ
ていてもよい。

【０１２３】ｐは正の整数を表わし、好ましくは１〜１
００、より好ましくは２〜８０程度である。ｐが２以上
の場合、各Ｌｆ１　は同一であっても異なっていてもよ
い。 また、この場合（Ｌｆ１　−Ｏ）ｐはブロック縮合体で
あってもよくランダム縮合体であってもよい。

【０１２４】なお、Ａ１　およびＡ２　のいずれにもＺ
やＲが存在する場合、それらは互いに同一であっても異
なっていてもよい。

【０１２５】上記式（Ｉ）で表わされる化合物のうち、
好ましいものを下記化１に示す。

【０１２６】

【化１】

【０１２７】これらの化合物において、ｎは１〜５０で
あることが好ましく、ｎ＋ｍは２〜１００程度であるこ
とが好ましい。

【０１２８】上記各式で表わされる化合物は、分子量１
００〜２００００程度、動粘度１０〜５０００ｃＳｔ（
２０℃）程度であるが、特に、分子量１０００〜１００
００、動粘度１０〜４０００ｃＳｔ（２０℃）であるこ
とが好ましい。

【０１２９】なお、本発明では、上記式（Ｉ）で表わさ
れる化合物のうち、あるいはこれらに加え、欧州特許公
開０１６５６４９号公報、同０１６５６５０号公報、米
国特許第３２７４２３９号明細書、同第４２６７２３８
号明細書、同第４２６８５５６号明細書、特公昭６０−
１０３６８号公報に記載されているようなパーフルオロ
アルキレンを有するポリエーテルおよび／またはその誘
導体も、好ましく用いることができる。

【０１３０】これらの化合物は公知の方法に従い合成す
ればよいが、市販のものを用いることもできる。具体的
に、商品名を挙げると、ダイキン工業社製Ｄｅｍｎｕｍ
　　Ｓ−２０、Ｓ−６５、デュポン社製ＫＲＹＴＯＸ、
モンテフルオス社製Ｆｏｍｂｌｉｎなどがある。

【０１３１】本発明において、上記式（Ｉ）で表わされ
る化合物は、有機膜中に２種以上含有されていてもよい
。

【０１３２】このような潤滑膜を成膜するには、塗布法
、ラングミュア・ブロジェット法等を用いればよい。 塗布法としては、ディップ法、スピンコート法、スプレ
ーコート法等が好ましい。

【０１３３】このような成膜に際しては、まずパーフル
オロアルキレン基を有するポリエーテルおよび／または
その誘導体の溶液を調製する。

【０１３４】そして、この溶液の溶媒として、沸点８０
℃のＣＦ３　ＣＦ２　ＣＨ２　ＯＨ（パーフルオロエチ
ルメチルアルコール、ペンタフルオロプロピルアルコー
ル）を用いる。これにより、膜質が均一となり、摩擦係
数の耐久性が格段と向上する。また、乾燥性も良好であ
る。

【０１３５】このような溶媒は単独で用いてもよく、ま
た相溶性のある溶媒を５０重量％以下用いてもよい。

【０１３６】このような溶媒を用い、パーフルオロアル
キレン基を有するポリエーテルおよび／またはその誘導
体の０．００１〜１ｗｔ％　溶液とし、上記の各種成膜
を行なえばよい。

【０１３７】潤滑膜の厚さは、成膜方法および使用化合
物によっても異なるが、４〜１００Ａ　程度であること
が好ましい。

【０１３８】４Ａ　以上とすると耐久性が向上し、１０
０Ａ　以下とすると吸着や磁気ヘッドのクラッシュが減
少する。なお、より好ましい膜厚は４〜８０Ａ　であり
、さらに好ましい膜厚は４〜５０Ａ　である。

【０１３９】上記のような磁性層を有する本発明の磁気
記録媒体は、磁性層側の表面粗さ（Ｒｍａｘ　）が５０
〜２００Ａ　であるとさらに耐久性が向上する。この場
合、Ｒｍａｘのより好ましい範囲は８０〜１５０Ａ　で
あり、さらに好ましい範囲は８０〜１２０Ａ　、特に好
ましくは９０〜１２０Ａ　である。

【０１４０】このように表面性の良い磁気記録媒体に対
しては、潤滑剤塗布時の溶媒として沸点８０℃のＣＦ３
　ＣＦ２　ＣＨ２　ＯＨを用いる効果はより顕著となる
。

【０１４１】磁性層側のＲｍａｘ　を上記範囲内とすれ
ば、耐久性が向上する他、媒体表面と浮上型磁気ヘッド
の浮揚面との距離を０．１μｍ　以下に保って記録およ
び再生を行なうことができ、しかも浮上型磁気ヘッドと
磁気記録媒体との吸着が発生せず、高密度記録が可能と
なる。

【０１４２】なお、磁性層側のこのようなＲｍａｘ　を
得るためには、前記したＦｅ３Ｏ４　からγ−Ｆｅ２Ｏ
３への酸化を行なう際に、熱処理温度と時間を制御すれ
ばよい。

【０１４３】本発明の磁気記録媒体は、公知のコンポジ
ット型の浮上型磁気ヘッド、モノリシック型の浮上型磁
気ヘッド等により記録再生を行なった場合に効果を発揮
するが、特に、浮上型薄膜磁気ヘッドと組合せて使用さ
れた場合に、極めて高い効果を示す。

【０１４４】そして、前記の潤滑膜は、媒体上および／
またはヘッドフロント面に形成される。

【０１４５】第４図に、本発明に用いる磁気ヘッドの好
適実施例である薄膜型の浮上型磁気ヘッドの１例を示す
。

【０１４６】第４図に示される浮上型磁気ヘッド１０は
、基体２０上に、絶縁層３１、下部磁極層４１、ギャッ
プ層５０、絶縁層３３、コイル層６０、絶縁層３５、上
部磁極層４５および保護層７０を順次有する。また、こ
のような浮上型磁気ヘッド１０の少なくともフロント面
、すなわち浮揚面には、必要に応じ、前記と同様の潤滑
膜を設けることもできる。

【０１４７】なお、本発明では、フロント面のＲｍａｘ
　は、２００Ａ　以下、特に５０〜１５０Ａ　であるこ
とが好ましい。このようなＲｍａｘ　を有する磁気ヘッ
ドと上記したＲｍａｘ　を有する磁気記録媒体とを組み
合わせて使用することにより、本発明の効果はより一層
向上する。

【０１４８】コイル層６０の材質には特に制限はなく、
通常用いられるＡｌ、Ｃｕ等の金属を用いればよい。

【０１４９】コイルの巻回パターンや巻回密度について
も制限はなく、公知のものを適宜選択使用すればよい。 例えば巻回パターンについては図示のスパイラル型の他
、積層型、ジグザグ型等いずれであってもよい。

【０１５０】また、コイル層６０の形成にはスパッタ法
等の各種気相被着法を用いればよい。

【０１５１】基体２０はＭｎ−Ｚｎフェライト等の公知
の材料から構成されてもよいが、本発明の磁気記録媒体
に対して用いる場合、基体２０は、ビッカース硬度１０
００ｋｇｆ／ｍｍ２　以上、特に１０００〜３０００ｋ
ｇｆ／ｍｍ２　程度のセラミックス材料から構成される
ことが好ましい。 このように構成することにより、本発明の効果はさらに
顕著となる。

【０１５２】ビッカース硬度１０００ｋｇｆ／ｍｍ２　
以上のセラミックス材料としては、Ａｌ２　Ｏ３　−Ｔ
ｉＣを主成分とするセラミックス、ＺｒＯ２　を主成分
とするセラミックス、ＳｉＣを主成分とするセラミック
スまたはＡｌＮを主成分とするセラミックスが好適であ
る。また、これらには、添加物としてＭｇ、Ｙ、ＺｒＯ
２　、ＴｉＯ２等が含有されていてもよい。

【０１５３】これらのうち好適なものは、酸化鉄を主成
分とする薄膜磁性層の硬度との関係が最適であることか
ら、Ａｌ２　Ｏ３　−ＴｉＣ、ＺｒＯ２　を主成分とす
るセラミックスである。

【０１５４】下部および上部磁極層４１、４５の材料と
しては、従来公知のものはいずれも使用可能であり、例
えばパーマロイ、センダスト、Ｃｏ系非晶質磁性合金等
を用いることができる。

【０１５５】磁極は通常、図示のように下部磁極層４１
および上部磁極層４５として設けられ、下部磁極層４１
および上部磁極層４５の間にはギャップ層５０が形成さ
れる。

【０１５６】ギャップ層５０は、Ａｌ２　Ｏ３　、Ｓｉ
Ｏ２　等公知の材料であってよい。

【０１５７】これら磁極層４１、４５およびギャップ層
５０のパターン、膜厚等は公知のいずれのものであって
もよい。

【０１５８】さらに、図示例ではコイル層６０は、いわ
ゆるスパイラル型として、スパイラル状に上部および下
部磁極層４１、４５間に配設されており、コイル層６０
と上部および下部磁極層４１、４５間には絶縁層３３、
３５が設層されている。

【０１５９】また下部磁極層４１と基体２０間には絶縁
層３１が設層されている。

【０１６０】絶縁層の材料としては従来公知のものはい
ずれも使用可能であり、例えば、薄膜作製をスパッタ法
により行なうときには、ＳｉＯ２　、ガラス、Ａｌ２　
Ｏ３　等を用いることができる。

【０１６１】また、上部磁極４５上には保護層７０が設
層されている。保護層の材料としては従来公知のものは
いずれも使用可能であり、例えばＡｌ２　Ｏ３　等を用
いることができる。また、これらに各種樹脂コート層等
を積層してもよい。

【０１６２】このような薄膜型の浮上型磁気ヘッドの製
造工程は、通常、薄膜作成とパターン形成とから構成さ
れる。

【０１６３】上記各層を構成する薄膜の作成には、上記
したように、従来公知の気相被着法、例えば真空蒸着法
、スパッタ法、あるいはメッキ法等を用いればよい。

【０１６４】浮上型磁気ヘッドの各層のパターン形成は
、従来公知の選択エッチングあるいは選択デポジション
により行なうことができる。エッチングとしてはウェッ
トエッチングやドライエッチングを用いることができる
。

【０１６５】このような浮上型磁気ヘッドは、アーム等
の従来公知のアセンブリーと組み合わせて使用される。

【０１６６】本発明の磁気記録媒体、特に磁気ディスク
を用いて記録再生を行なうには、ディスクを回転させな
がら、磁気ヘッドを浮上させて記録再生を行なう。

【０１６７】ディスク回転数は２０００〜６０００ｒｐ
ｍ　程度、特に２０００〜４０００ｒｐｍとする。

【０１６８】また、浮上量は０．２μｍ　以下、特に０
．１５μｍ　以下、さらには０．１μｍ以下、例えば０
．０１〜０．０９μｍ　とすることができ、このとき良
好な浮上特性およびＣＳＳ耐久性を得ることができる。

【０１６９】浮上量の調整は、スライダ巾や、磁気ヘッ
ドへの荷重を変えることによって行なう。

【０１７０】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。

【０１７１】実施例１ 磁気ディスクサンプルの作製

【０１７２】外径１３０ｍｍ、内径４０ｍｍ、厚さ１．
９ｍｍのアルミノケイ酸ガラス基板を研磨し、さらに化
学強化処理を施した。化学強化処理は、４５０℃の溶融
硝酸カリウムに１０時間浸漬することにより行なった。

【０１７３】次いで、ガラス基板表面をメカノケミカル
ポリッシングにより平滑化した。メカノケミカルポリッ
シングには、コロイダルシリカを含む研磨液を用いた。

【０１７４】各サンプルに用いたガラス基板の表面粗さ
（Ｒｍａｘ　）は、５０Ａ　であった。

【０１７５】なお、Ｒｍａｘ　は、触針型表面粗さ計に
より測定した。

【０１７６】ガラス基板を洗浄後、その表面に下記のよ
うにして磁性層を形成した。

【０１７７】まず、Ａｒガス雰囲気中にて予備スパッタ
を行ない、１．０ｗｔ％　Ｃｏ−Ｆｅ合金ターゲット表
面の酸化膜を除去した。次いで、Ｏ２ガスを導入して反
応性スパッタを行ない、Ｆｅ３Ｏ４　膜を成膜した。な
お、Ｏ２　ガスは、基板に吹きつけるように導入した。

【０１７８】各磁気ディスクサンプルのＦｅ３Ｏ４　膜
形成時のＰ（　Ａｒ＋Ｏ２）およびＰＯ２／Ｐ（　Ａｒ
＋Ｏ２）は、それぞれ１×１０−３Ｔｏｒｒおよび０．
０５２とした。

【０１７９】なお、Ｆｅ３Ｏ４　膜形成時のＡｒガスと
Ｏ２ガスとの合計流量（Ａｒ＋Ｏ２）　を、表１に示す
。

【０１８０】Ｆｅ３Ｏ４　膜形成後、下記条件で大気中
熱処理により酸化を行ない、γ−Ｆｅ２Ｏ３磁性層とし
た。

【０１８１】（熱処理条件） 昇温速度：８．０℃／ｍｉｎ 処理温度：３１０℃ 処理時間：１ｈｒ

【０１８２】なお、磁性層の厚さは、２０００Ａ　とし
た。

【０１８３】このようにして得られた各サンプルの磁性
層に対してＸ線回折を行ない、Ｘ線回折チャートを作成
した。

【０１８４】なお、Ｘ線回折は第２図に示される装置に
て行なった。

【０１８５】各サンプルのＸ線回折チャートの解析結果
を表１に示す。また、サンプルＮｏ．４のＸ線回折チャ
ートを第５図に示す。

【０１８６】さらに、このサンプルの磁性層に対し、第
３図に示す低入射角Ｘ線回折装置を用いて、β＝０．５
°およびβ＝２．０°にてＸ線回折を行なった。

【０１８７】得られたＸ線回折チャートを第６図に示す
。

【０１８８】第６図に示されるように、β＝０．５°に
おけるＰ（１０４）／Ｐ（３１１）はβ＝２．０°にお
けるＰ（１０４）／Ｐ（３１１）の約２．６倍であり、
α−Ｆｅ２Ｏ３の含有率が磁性層表面側で高いことが確
認された。

【０１８９】なお、表１に示される他のサンプルについ
て同様な測定を行なったところ、ほぼ同様な結果が得ら
れた。

【０１９０】また、各サンプルの平均結晶粒径は、１０
０〜８００Ａ　であった。

【０１９１】さらに、各サンプルについて、下記の測定
を行なった。

【０１９２】（比抵抗ρ）四端針法により測定した。測
定条件を以下に示す。

【０１９３】探針材質：チタンカーバイド針間隔：１ｍ
ｍ 針先半径：４０μｍ　Ｒ 針圧：１００ｇ／本

【０１９４】（保磁力）振動試料型磁力計（ＶＳＭ）に
より測定した。最大印加磁界は５ｋＯｅ　とした。

【０１９５】（再生出力）各サンプルの磁性層上に潤滑
膜を成膜し、下記薄膜磁気ヘッドを用いて、浮上量０．
１μｍ　にて再生出力、Ｄ７０を測定した。

【０１９６】再生出力は２１ｋＦＣＩ（ｋｉｌｏ　Ｆｌ
ｕｘ　ｃｈａｎｇｅ　ｐｅｒ　Ｉｎｃｈ）　での記録再
生出力で、以下の評価を行なった。

【０１９７】この結果、サンプルＮｏ．　２〜７では、
実用上好ましい出力がえられたが、サンプルＮｏ．　１
、８では実用上問題となる出力であった。

【０１９８】Ｄ７０は、低記録密度における再生出力に
対し再生出力が７０％まで低下したときの記録密度であ
り、ｋＦＣＩで表わした。

【０１９９】潤滑膜は、下記の化合物を、下記溶媒に溶
解した０．１ｗｔ％　溶液を用いて、スピンコート法に
より厚さ２０Ａ　に成膜して形成した。

【０２００】化合物１ Ｆ（ＣＦ２　ＣＦ２　ＣＦ２　Ｏ）ｎＣＦ２　ＣＦ３ダ
イキン工業（株）製ＤＥＭＮＵＭ　　Ｓ−２０平均分子
量　　２７００、 ２０℃における動粘度　　５３±１０ｃＳｔ　、流動点
　　−７５℃、 ２０℃における密度　　１．８６ｇ／ｍｌ

【０２０１】
溶媒１ ＣＦ３　ＣＦ２　ＣＨ２　ＯＨ 沸点　　８０℃

【０２０２】なお、潤滑膜形成後の各サンプルの磁性層
側Ｒｍａｘ　は、１００Ａ　であった。

【０２０３】また、使用磁気ヘッドの構成は、下記のと
おりである。

【０２０４】使用磁気ヘッド ビッカース硬度２２００ｋｇｆ／ｍｍ２　のＡｌ２Ｏ３
−ＴｉＣ　基体上に薄膜磁気ヘッド素子を形成した後、
磁気ヘッド形状に加工し、支持バネ（ジンバル）に取り
つけ、空気ベアリング型の浮上型磁気ヘッドを作製した
。

【０２０５】この磁気ヘッド浮揚面のＲｍａｘ　は１３
０Ａ　であった。

【０２０６】浮上量は、スライダ幅、ジンバル荷重を調
整し、０．１μｍ　になるようにした。

【０２０７】これらの測定結果を表１に示す。

【０２０８】表１に示される結果から、比抵抗ρに対応
して保磁力Ｈｃ　およびＤ７０が増加することがわかる
。

【０２０９】そして、０．０３≦ρ≦３．０の範囲にお
いて、高いＤ７０が得られることが明らかである。

【０２１０】すなわち、ρが０．０３Ω・ｃｍ以上にな
ると例えば通研実報第３１巻第１号（１９８２）ＰＰ．
２７７−２８９に示されるような従来Ｃｏ１ｗｔ％　で
得られていた保磁力（約４００　Ｏｅ　）を超え、ρの
増加とともにＨｃ　、Ｄ７０が増加する。しかし、ρ＞
３．０Ω・ｃｍとなると再生出力が実用上問題となる大
きさまで減少してしまう。ρ＝０．１〜０．９ではＤ７
０が３０ｋＦＣＩ以上になり、再生出力も実用上好まし
い出力となる。

【０２１１】実施例２ 潤滑膜に用いた溶媒を変えて磁気記録ディスクサンプル
を作製した。潤滑膜以外は実施例１で作製したサンプル
Ｎｏ．　５と同様とし、潤滑膜に用いた溶媒は、上記溶
媒１および下記比較溶媒Ａである。塗布溶液は全て０．
１ｗｔ％　の溶液であり、ディップ法を用い、膜厚は１
０Ａ　とした。

【０２１２】溶媒Ａ ＣＣｌ２　ＦＣＣｌＦ２　（フロン１１３）ダイキン工
業社製　　ダイフロン　　Ｓ３沸点　　４８℃

【０２１３】これらのサンプルについて、実施例１の磁
気ヘッド浮上量０．１μｍ　で使用してＣＳＳ耐久性を
調べた。ＣＳＳサイクルは、停止から３６００ｒｐｍ　
までの立上り時間５秒、３６００ｒｐｍ　回転時間１０
秒、３６００ｒｐｍ　から停止までの立下り時間１０秒
、停止５秒のサイクルで行なった。

【０２１４】溶媒１を使用した場合には鳴きの発生、再
生出力の低下等の問題無く１０万回ＣＳＳを完了した。 これ対して比較溶媒Ａを使用した場合には、５万回で鳴
きが発生し、７万回で２０％の再生出力低下が認められ
た。

【０２１５】実施例３ 実施例２において、潤滑膜が含有する下記化合物２を変
えた他は全く同様に、磁気記録ディスクサンプルを作製
し、ＣＳＳ耐久性を評価したところ、同様に、本発明の
溶媒の優秀性が確認された。

【０２１６】化合物２ ＨＯＣＨ２−ＣＦ２Ｏ−（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｎ−（ＣＦ２Ｏ
）ｍ−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＨＭｏｎｔｅｆｌｕｏｓ社製　
　Ｆｏｍｂｌｉｍ　Ｚ−ｄｏｌ平均分子量　　２２００ 動粘度（２０℃）　　８１ｃＳｔ 密度（２０℃）　　１．７５ｇ／ｍｌ

【０２１７】

【発明の効果】本発明によれば、耐久性、特にＣＳＳ耐
久性の高く、しかも記録密度の高い磁性層を有する磁気
記録媒体が実現する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の好適実施例を示す部分
断面図である。

【図２】Ｘ線回折装置の概略図である。

【図３】低入射角Ｘ線回折装置の概略図である。

【図４】本発明に用いる磁気ヘッドの部分断面図である
。

【図５】γ−Ｆｅ２Ｏ３磁性層のＸ線回折チャートであ
る。

【図６】低入射角Ｘ線回折装置を用いて作成されたγ−
Ｆｅ２Ｏ３磁性層のＸ線回折チャートである。 １　　磁気記録媒体 ２　　基板 ３　　磁性層 ４　　潤滑膜 １０１　　Ｘ線源 １０２　　磁気記録媒体 １０３　　計数管 ＤＳ　　ダイバージェンススリット ＳＳ　　スキャッタースリット ＲＳ、ＲＳ１、ＲＳ２ レシービングスリット ＭＭ　　モノクロメータ Ｓ１、Ｓ２　　ソーラースリット １０　　磁気ヘッド

【表１】

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　連続薄膜型の磁性層を剛性基板上に有
   し、この磁性層上に、パーフルオロアルキレンを有する
   ポリエーテルおよび／またはその誘導体を、Ｃ２　Ｆ５
   　ＣＨ２　ＯＨに溶解した溶液から形成した潤滑膜を有
   することを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】　　前記磁性層が、γ−Ｆｅ２Ｏ３を主成
   分とする連続薄膜型の磁性層である請求項１に記載の磁
   気記録媒体。
3. 【請求項３】　　前記磁性層の比抵抗ρが０．０３〜３
   Ω・ｃｍである請求項２に記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】　　前記剛性基板の表面粗さ（Ｒｍａｘ　
   ）が１０〜１００Ａであり、前記磁気記録媒体の磁性層
   側表面粗さ（Ｒｍａｘ　）が５０〜２００Ａ　である請
   求項１ないし３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】　　ディスク状の磁気記録媒体を回転し、
   この磁気記録媒体上に磁気ヘッドを浮上させて記録再生
   を行なう磁気記録再生方法であって、前記磁気記録媒体
   が、連続薄膜型の磁性層を剛性基板上に有し、前記磁性
   層上および／または前記磁気ヘッドのフロント面上に、
   パーフルオロアルキレンを有するポリエーテルおよび／
   またはその誘導体を、Ｃ２　Ｆ５　ＣＨ２ＯＨに溶解し
   た溶液から形成した潤滑膜を有することを特徴とする磁
   気記録再生方法。
6. 【請求項６】　　前記磁気ヘッドの浮上量が０．２μｍ
   　以下である請求項５に記載の磁気記録再生方法。
7. 【請求項７】　　前記磁性層が、γ−Ｆｅ２Ｏ３を主成
   分とする連続薄膜型の磁性層である請求項５または６に
   記載の磁気記録再生方法。