JPH04117678A - 磁気ディスク装置 - Google Patents

磁気ディスク装置

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JPH04117678A
JPH04117678A JP2237867A JP23786790A JPH04117678A JP H04117678 A JPH04117678 A JP H04117678A JP 2237867 A JP2237867 A JP 2237867A JP 23786790 A JP23786790 A JP 23786790A JP H04117678 A JPH04117678 A JP H04117678A
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知之 三宅
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、浮上型磁気ヘッドを備えた磁気ディスク装置
（光磁気ディスク装置を含む）に関するものである。
〔従来の技術〕
浮上型磁気ヘッドを備えた磁気ディスク装置、例えば、
光磁気ディスク装置では、第８図に示すように、小型の
磁気へ７ド１を浮上スライダ２に搭載して浮上型磁気ヘ
ッド３を構成し、基板４ａと、垂直磁化膜を含む記録層
４ｂと、保護層４Ｃとを有する光磁気ディスク４をモー
タ５により回転させ、光磁気ディスク４と浮上スライダ
２との間に流れる空気により、浮上型磁気ヘッド３をサ
スペンション６による図中下向きの押圧とノ＼ランスさ
せながら、光磁気ディスク４から数μｍ〜数１０μｍ程
度のほぼ一定の浮上量で浮上させるようになっている。
この状態で、光ヘンドアから光磁気ディスク４の記録層
４ｂにレーザ光を集光して昇温させながら、駆動回路８
から浮上型磁気ヘッド３に磁界駆動電流を供給し、光磁
気ディスク４の厚み方向の上向き又は下向きに反転する
磁界を光磁気ディスク４に印加する。これにより、磁界
変調記録方式によるオーバライドを行って、既に記録さ
れている情報の消去過程を経ることなく、新たな情報を
記録することができる。
ところで、光磁気ディスク装置において、光磁気ディス
ク４の回転停止時には浮上スライダ２が光磁気ディスク
４の表面に接触した状態にあり、光磁気ディスク４の回
転の開始に伴って浮上型磁気ヘンド３が光磁気ディスク
４上で滑走しながら浮上を開始する、いわゆるコンタク
トスタートストップ方式（以下、Ｃ３Ｓ方式と呼ぶ）を
採用している場合、記録層４ｂの設けられている領域を
覆う保護層４Ｃ上で光磁気ディスク４を滑走させると、
記録Ｎ４ｂに損傷が生じやすい。
そこで、浮上型磁気ヘッド３の浮上の開始及び終了時に
おける滑走を記録層４ｂの設けられている領域以外の領
域に設定された滑走領域上で行うことにより、記録層４
ｂの損傷を回避する構成が本件出願人により特許出願さ
れている（特願平１−２８８３２１号参照）。
なお、その場合、保護層４Ｃを形成した後、保護層４Ｃ
上に浮上型磁気ヘッド３と保護層４Ｃとの間の摩擦力を
低減させるための潤滑剤を塗布することが好ましい。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、上記の構成では、滑走領域上で繰返し浮上ス
ライダ２の滑走を行わせている間に、浮上スライダ２と
滑走領域における潤滑剤との間の摩擦力により潤滑剤が
磨耗して次第に剥離し、浮上スライダ２と滑走領域との
間で吸着が生じたり、磁気ヘッド１が破損する等の不具
合が発生する恐れがあった。
すなわち、第９図は滑走を３万回行った後の光磁気ディ
スク４の滑走領域を模式的に示すものであって、同図中
領域Ａは潤滑剤が充分に残存しており、領域Ｂは潤滑剤
が僅かに残存しており、又、領域Ｃは潤滑剤が殆ど残っ
ていない。
一方、第１０図は滑走を３万回行った後の浮上スライダ
２の滑走領域に対向する側の表面状態を模式的に示すも
のであり、ハツチングを施した領域Ａに滑走領域から剥
離した潤滑剤が付着している。浮上スライダ２には、特
に、サイドエツジ部に潤滑剤が多量に付着しているが、
このサイドエツジ部は第９図の滑走領域における潤滑剤
の残っていない領域Ｃに対応する。
このように、記録領域以外に設けた滑走領域で浮上スラ
イダ２の滑走を行わせるようにすると、記録Ｆｉ４ｂの
損傷は生しにくくなるが、浮上スライダ２の吸着、磁気
ヘッド１の損傷等の問題は充分に解決できないものであ
った。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る磁気ディスク装置は、上記の課題を解決す
るために、磁気ディスクの回転に伴う空気流により浮上
圧を受けて上記磁気ディスクの表面から浮上する浮上型
磁気ヘッドを備えた磁気ディスク装置において、磁気デ
ィスクの回転の開始時及び終了時における磁気ディスク
上での浮上型磁気ヘッドの滑走が記録領域以外に設定し
た滑走領域内で行われ、かつ、滑走領域内での浮上型磁
気ヘンドの滑走半径位置が不定位置となるように制御さ
れることを基本的な特徴とするものである。ここで、・
磁気ディスク装置は、通常の磁気ディスク装置及び記録
又は再生時に光ヘッドにより光の照射を行う光磁気ディ
スク装置を含むものである。
なお、上記磁気ディスクが磁気ディスク装置から取出し
可能とされて複数の磁気ディスク装置で使用できるよう
にされている場合、滑走領域内における浮上型磁気ヘッ
ドの滑走半径位置を個々の磁気ディスク装置により変化
させることが好ましい 上記磁気ディスク装置は、例えば、磁気ディスクの回転
の開始時及び終了時における浮上型磁気ヘッドの滑走半
径位置が滑走領域内の異なる半径位置となるように制御
する制御手段を備えることができる。
又、磁気ディスク装置は、滑走領域内での浮上型磁気ヘ
ッドの滑走半径位置がランダムに変化するように制御す
る制御手段を備えていても良い。
〔作　用〕
上記の磁気ディスク装置においては、浮上型磁気ヘンド
を記録領域とは異なる半径位置に設定した滑走領域内で
滑走させるようにしたので、浮上型磁気ヘッドによる記
録領域の損傷は生じにくくなる。
更に、滑走領域内における浮上型磁気ヘッドの滑走半径
位置を一定半径位置とはせずに不定の半径位置としたの
で、滑走領域内の磨耗が各半径位置に分散され、各半径
位置の磨耗量が減少するので、浮上型磁気ヘッド及び磁
気ディスクの寿命が伸びるようになる。
又、浮上型磁気ヘッドの他に光ヘッドを備えた磁気ディ
スク装置（光磁気ディスク装置）等においては、磁気デ
ィスクを磁気ディスク装置から取り出すことができ、従
って、１枚の磁気ディスクを複数の磁気ディスク装置で
使用できるようになっている。
この場合、個々の磁気ディスク装置で滑走領域内におけ
る滑走半径位置をそれぞれ相違させることにより、滑走
領域内の各半径位置の磨耗を分散させることができる。
又、上記のように浮上型磁気ヘッドの滑走半径位置を滑
走領域内で変化させる場合に、磁気ディスクの回転の開
始時及び終了時における浮上型磁気ヘッドの滑走半径位
置が滑走領域内の互いに異なる半径位置となるように制
御すると、滑走半径位置を２つの半径位置間で交互に変
化させるのみで良いから、滑走半径位置の制御が比較的
容易に行え、かつ、一定半径位置で滑走させる場合に比
べて各半径位置の磨耗を減少させることができる。
又、滑走半径位置を滑走領域内でランダムに変化させる
ようにすると、滑走領域及び浮上型磁気ヘッドの磨耗を
一層低減させることができる。
〔実施例１〕 請求項第１項及び第２項に関連する本発明の一実施例を
第１図乃至第３図に基づいて説明すれば、以下の通りで
ある。
第１図（ａ）及び第２図に示すように、光磁気ディスク
１１は、レーザビームを案内するための案内溝及びアド
レスを示すピット等（図示せず）が予め形成されたガラ
ス、ポリカーボネイト又はアモルファスポリオレフィン
等からなる透光性の基板１１ａ上に、垂直磁化膜を有す
る記録層１１ｂが形成され、更に、記録層１１ｂが紫外
線硬化樹脂等からなる保護層１１ｃによ被覆された構成
である。
記録層１１ｂは、例えば、基板１．１　ａ側から、第１
の透光性誘電体膜としてのＡ／２Ｎ膜（膜厚８００人）
、垂直磁化膜としてのＤｙＦｅＣｏ膜（膜厚２００人）
、第２の透光性誘電体膜としてのＡＩＮ膜（膜厚２５０
人）及び反射膜としてのＡｌ膜（膜厚５００人）が順次
スパンタリング等により形成されてなり、４層構造をな
している。
又、保護層１１ｃは、例えば、ウレタンアクリレートと
アクリル酸エステルモノマーの混合物（粘度３００ｃｐ
ｓ）をスピンコード法等で塗布した後、紫外線を約６０
０ｍＪ／ｃｍ”の強度で照射して硬化させたものである
。
光磁気ディスク１１はデータの記録を行う記録領域り及
び記録領域りより内周寄りの滑走領域Ｅを有し、滑走領
域Ｅより更に内周側の領域はチャッキング領域となって
いる。後述する浮上スライダ１５と滑走領域已における
保護層１１ｃとの間の摩擦を低減させるため、滑走領域
已における保ａｔ層１１ｃの表面に、例えば、３０００
メッシュ程度のラッピングペーパーにより微細な凹凸を
設けたり、或いは、滑走領域已における保護層１１Ｃの
表面にパーフルオロポリエーテル（例えば、デュポン社
製の「クライトツクス」）等の潤滑剤が塗布される。な
お、記録層１１ｂは少なくとも記録領域りに形成されて
いれば良く、滑走領域Ｅには記録ｊｉｌｌｂが形成され
ていなくても良い。
光磁気ディスク１１に記録・再生を行う光磁気ディスク
装置は、記録及び再生時にレーザ光を照射するレーザ光
源、及び記録又は再生時に光磁気ディスク１１からの反
射光を受光する受光素子等を内蔵した光ヘッド１２と、
大略コ字形状のアーム部材１３を介して光へラド１２と
連結された浮上型磁気ヘッド１４とを備えている。
浮上型磁気ヘッド１４は、第３図にも示すように、光磁
気ディスク１１の滑走領域Ｅ上で滑走する浮上スライダ
１５を備え、浮上スライダ１５は、例えば、ＣａＴｉ０
ｚ等のセラミックスにより形成されている。
浮上スライダ１５のディスク回転方向における前端部に
は、この浮上スライダ１５と光磁気ディスク１１との間
に空気を流入させるための、１０゜以内の傾斜が付与さ
れた傾斜面１５ａが形成されている。傾斜面１５ａの後
方には、傾斜面１５ａから流入する空気による浮上圧を
受けて、安定した浮上状態を保つための平坦な底面１５
ｂが設けられている。
浮上スライダ１５の長手方向中間部の上部に設けられた
取付は溝１５ｃには、浮上スライダ１５を光磁気ディス
ク１１側に押圧するサスペンション１６の一端部が取り
付けられるようになっている。このサスペンション１６
の他端部は、アーム部材１３により支持されている。
浮上スライダ１５の後端部近傍には、磁気ヘッド１７が
取り付けられている。磁気ヘンド１７は、例えば、Ｍｎ
Ｚｎフェライト等からなるコアにコイルが巻回されたも
のである。なお、光磁気ディスク１１はモータ１８によ
り回転駆動されるようになっている。
上記の構成において、光磁気ディスク１１が光磁気ディ
スク装置における所定位置にセントされると、まず、浮
上スライダ１５が滑走領域Ｅ内における浮上開始半径位
置（滑走開始半径位置）に移動させられる。この浮上開
始半径位置は、個々の光磁気ディスク装置により、それ
ぞれ異なる位置となるように設定されている。
例えば、第１図（ａ）に示す光磁気ディスク装置では、
滑走開始半径位置が滑走領域Ｅにおける内周寄りの位置
に設定されている。又、第１図ら）に示す他の光磁気デ
ィスク装置では、滑走開始半径位置が滑走領域Ｅにおけ
る半径方向中間部に設定されている。一方、第１図（Ｃ
）に示す更に別の光磁気ディスク装置では、滑走開始半
径位置が滑走領域Ｅにおける外周寄りに設定されている
。
浮上スライダ１５の浮上開始半径位置への移動が完了す
ると、モータ１８による光磁気ディスク１１の回転駆動
が開始される。回転速度の上昇に伴って、光磁気ディス
ク１工と浮上スライダ１５との間に流れる空気により、
浮上スライダ１５は浮上圧を受ける一方、サスペンショ
ン１６により浮上圧と逆方向の一定の押圧を受けること
により、所定の高さ、例えば、光磁気ディスク１１との
間で数μｍ〜数１０μｍ程度の一定の間隙を有する高さ
で浮上する。
この状態で、浮上スライダ１５及び光ヘッド１２を記録
領域り内の所望の半径位置に移動させ、光ヘッド１２か
ら光磁気ディスク１１の記録層ｌｌｂにレーザパワー２
．５〜６ｍＷ程度のレーザ光を集光して照射し、記録層
１１ｂ中のＤｙＦｅＣｏ等の垂直磁化膜をキュリー温度
（又は保磁力がほぼ“０”になる温度）近傍まで昇温さ
せた上で、記録すべき情報に応じて第１図（ａ）の上向
きと下向きとに反転する磁界を磁気ヘッド１７により印
加する。これにより、既に記録されている情報の消去過
程を経ることなく、オーバライド方式で情報の記録を行
うことができる。
一方、・記録された情報の再生は、光へラド１２からレ
ーザパワー０．５〜１．０ｍＷ程度の直線偏光のレーザ
光を集光して照射し、光ヘッド１２からの反射光におけ
る偏光面の回転方向を検出することにより行われる。
光磁気ディスク１１に対する記録又は再生を終了する時
、或いは光磁気ディスク１１を取り出す時には、浮上ス
ライダ１５を滑走領域Ｅ内の元の浮上開始半径位置に移
動させた後、モータ１８の回転を終了させる。これによ
り、浮上スライダ１５は滑走領域Ｅ内の上記浮上開始半
径位置で滑走した後、光磁気ディスク１１の回転の停止
に伴って停止する。
上記の構成によれば、浮上スライダ１５の浮上開始半径
位置が個々の光磁気ディスク装置により異なるので、１
枚の光磁気ディスク１１を複数の光磁気ディスク装置で
使用する場合、滑走領域Ｅ内における磨耗が各半径位置
に分散される。これにより、光磁気ディスク１１及び磁
気ヘッド１７が長寿命化されるものである。
〔実施例２〕 次に、請求項第１項及び第３項に関連する本発明の第２
実施例を第４図及び第５図に基づいて説明する。
第４図及び第５図に示すように、この第２実施例は光ヘ
ッドを使用しない通常の磁気ディスク２１に記録再生を
行う磁気ディスク装置に関するものである。磁気ディス
ク２１は基板２１ａと、基板２１ａ上に形成された磁気
記録層２１ｂと、磁気記録層２１ｂを覆う保護層２１ｃ
とを備えている。
基板２１ａは、例えば、Ａｌ−Ｍｇ合金又はＡｌからな
る円板を充分に研磨した後、Ｎ　ｉ　−Ｐ系の下地を形
成して３０００〜６０００メツシユのラッピングペーパ
ーにより２００〜５００人の凹凸を付与（メカニカルテ
クスチャー処理）するか、或いは、酸化処理（いわゆる
、アルマイト処理）等で２００〜５００人の凹凸を付与
（ケミカルテクスチャー処理）することにより製造され
る。
上記の基板２１ａ上にＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ膜（膜厚５０（
ＬＡ）及びカーボン膜（膜厚２００人）を順次スパッタ
リングにより形成し、磁気記録層２１ｂ及び保護層２１
ｃを形成する。更に、磁気ディスク２１の表面の潤滑性
を向上させ、磁気ディスク２１と浮上型磁気へラド１４
との間の吸着と磨耗を低減させるため、保護層２１ｃ上
にパーフルオロポリエーテル等の潤滑剤（図示せず）が
塗布される。
磁気ディスク２工上には、上記の実施例と同様に、記録
領域りと、それより内周側の滑走領域Ｅとが設定され、
磁気記録層２１ｂは少なくとも記録領域りに形成される
とともに、浮上スライダ１５の滑走は、記録の行われな
い滑走領域Ｅ内のみで行われるようになっている。
磁気ディスク２１に記録再生を行う浮上型磁気ヘッド１
４（第３図参照）は、基本的に上記の実施例と同様に構
成されている（上記の実施例と同様の構成を有する部位
に同一参照番号を付して説明を省略する）、但し、ここ
では、サスペンション１６により支持される浮上スライ
ダ１５はＡｆ。
Ｏ３Ｔｉｃ等のセラミックス又はフェライト等により形
成される。又、磁気ディスク装置においては、一般に、
光磁気ディスク装置より浮上スライダ１５の浮上量が小
さく設定されるので、必要に応じて浮上スライダ１５の
底面１５ｂに磁気ディスク２１の回転方向に沿う溝（第
３図には図示せず）が形成される。
サスペンション１６を支持するアーム部材１３は駆動部
２２により磁気ディスク２１の半径方向に移動させられ
るようになっている。又、コントローラ２３はモータ１
８の起動或いは停止を指示する起動或いは停止信号及び
浮上型磁気へラド１４の半径位置を示す位置信号等に基
づいて、駆動部２２に駆動信号を供給するようになって
いる。
上記の構成において、磁気ディスク装置の電源が投入さ
れると、モータ１８による磁気ディスク２１の回転駆動
が開始される。この時、浮上スライダ１５は、滑走領域
Ｅ内における実線で示すＩの半径位置にあり、滑走領域
Ｅ上で滑走した後、磁気ディスク２１の回転速度の上昇
に伴って空気流により浮上圧を受け、サスペンション１
６による図中下向きの押圧とバランスする高さ、すなわ
ち、磁気ディスク２１との間に０．１μｍ〜数μｍ程度
の間隔を保つ高さまで浮上する。
この状態で、浮上スライダ１５が記録領域り内の所望の
半径位置に移動させられ、磁気ヘッド１７により記録す
べきデータに応じて反転する高周波磁界が磁気記録層２
１ｂに印加されて、記録が行われる。一方、再生は、記
録状態と未記録状態で磁束密度が異なることに基づいて
磁気ヘッド１７により行われる。
磁気ディスク２１０回転を終了する際には、コントロー
ラ２３からの駆動部２２に対する指令に基づいて、浮上
スライダ１５が滑走領域Ｅ内の仮想線■で示す半径位置
に移動させられる。この状態で、モータ１８の回転速度
が次第に低下させられると、浮上スライダ１５は滑走領
域Ｅ上で滑走した後、モータ１８の回転の停止に伴って
滑走領域Ｅ上で停止する。このように、磁気ディスク２
１の回転の終了時には、滑走領域Ｅ内における回転の開
始時とは異なる半径位置■で浮上スライダ１５の滑走が
行われる。
なお、浮上スライダ１５を■の半径位置で滑走させて停
止させた後、再度、磁気ディスク２１の回転が開始され
れば、今度は浮上スライダ１５がＨの半径位置で滑走し
て浮上し、次の停止時にはＩの半径位置で滑走して停止
する。以下、磁気ディスク２１の回転を開始させる毎に
、回転開始時の滑走位置を■と■の間で交互に反転させ
、回転終了時の滑走位置はその直前の回転開始時の滑走
位置と逆の半径位置とすれば良い。
以上では、磁気ディスク装置について説明したが、これ
に限らず、本実施例は光磁気ディスク装置にも適用でき
るものである。なお、光磁気ディスク装置では、光磁気
ディスクが取出し可能となっているので、例えば、上記
の１の半径位置を回転開始時の滑走位置として固定し、
■の半径位置を回転終了時の滑走位置として固定しても
良い。
〔実施例３〕 次に、請求項第１項及び第４項に関連する本発明の第３
実施例を説明する。
第６図及び第７図に示すように、この実施例は光磁気デ
ィスク装置に関するものである。光磁気ディスク３１は
透光性の基板３１ａと、基板３１ａ上に形成される記録
１３　ｌ　ｂと、紫外線硬化型樹脂等からなり記録層３
１ｂを被覆する保護層３１Ｃとを備えている。
記録層３１ｂは、例えば、基板３１ａ側から第１の５ｉ
ＡｆＯＮ膜（８００人）、垂直磁化膜としてのＴｂＦｅ
Ｃｏ膜（１０００人）及び第２のＳ　ｉＡＩ！、ＯＮ膜
（８００人）を順次積層してなる。
又、保護層３１ｃ上には、潤滑剤としてのポリテトラフ
ルオロエチレンの粉体（例えば、ダイキン社製「ルブロ
ンＬＡＪ　）が塗布されている。
浮上型磁気へラド１４及び光へラド１２は、第１実施例
と同様に構成され、又、浮上型磁気ヘッド１４及び光ヘ
ッド１２を一体的に光磁気ディスク３１の半径方向に移
動させる駆動部２２と、駆動部２２に駆動信号を供給す
るコントローラ２３とが設けられている。コントローラ
２３には、浮上スライダ１５の浮上開始半径位置を決定
するためのランダム信号が図示しない乱数発生器等から
入力され、かつ、このランダム信号に対応する滑走領域
Ｅ内の浮上スライダ１５の半径位置を示す位置信号が図
示しない半径位置設定手段から入力されるようになって
いる。
上記の構成において、光磁気ディスク装置に光磁気ディ
スク３１が装着されると、コントローラ２３にランダム
信号が送られ、このランダム信号に基づいて滑走領域Ｅ
内での浮上スライダ１５の浮上開始半径位置が決定され
、駆動部２２により浮上スライダ１５が上記の浮上開始
半径位置に移動させられる。この状態で、光磁気ディス
ク３１の回転が開始され、浮上スライダ１５は滑走領域
Ｅ上で滑走した後、浮上する。その後、浮上スライダ１
５及び光ヘッド１２を記録領域り上の所望の半径位置に
移動させ、記録又は再生を行う。
光磁気ディスク３１の回転を終了する際には、浮上スラ
イダ１５を元の浮上開始半径位置に移動させた上で、モ
ータ１８の回転を終了する。
或いは、又、コントローラ２３にランダム信号を送り、
このランダム信号に基づいて滑走領域内での浮上スライ
ダエ５の浮上停止半径位置を決定し、駆動部２２により
その浮上停止半径位置に移動させた上で、モータ１８の
回転を終了させるようにしても良い。
本実施例では、滑走領域Ｅ内での浮上開始半径位置（或
いは、浮上停止半径位置）をランダム信号によりランダ
ムに変化させるようにしたので、浮上開始半径位置が毎
回具なることとなり、磨耗領域が各半径位置に分散され
て、浮上型磁気ヘッド１４及び光磁気ディスク３１の長
寿命化が図られる。
なお、本実施例は、光磁気ディスク装置ばかりでなく、
通常の磁気ディスク装置にも適用できるものである。
［発明の効果］ 本発明に係る磁気ディスク装置は、以上のように、磁気
ディスクの回転の開始時及び終了時における上記磁気デ
ィスク上での浮上型磁気ヘッドの滑走が記録領域以外に
設定した滑走領域内で行われ、かつ、滑走領域内での浮
上型磁気ヘンドの滑走半径位置が不定位置となるように
制御される基本構成である。
これにより、浮上型磁気ヘッドを記録領域とは異なる領
域に設けた滑走領域内で滑走させるようにしたので、浮
上型磁気ヘンドにより記録領域が損傷する恐れはなくな
る。
又、滑走領域内における浮上型磁気ヘッドの滑走半径位
置を一定半径位置とはせずに不定の半径位置としたので
、滑走領域内の磨耗が各半径位置に分散され、磨耗量が
減少するので、浮上型磁気ヘッド及び磁気ディスクの寿
命が伸びるという効果を奏する。
又、本発明に係る他の磁気ディスク装置は、上記の基本
構成に加えて、浮上型磁気ヘッド以外に光ヘッドとを備
え、光ヘッドから光の照射を行いながら浮上型磁気ヘッ
ドにより記録又は再生を行う磁気ディスク装置（光磁気
ディスク装置）等において、磁気ディスクが磁気ディス
ク装置から取出し可能とされ、従って、磁気ディスクを
複数の磁気ディスク装置で使用できるようにされるとと
もに、滑走領域内における浮上型磁気ヘッドの滑走半径
位置を個々の磁気ディスク装置により変化させるように
した構成である。
これにより、滑走領域の磨耗を各半径位置に分散させる
ことができるので、滑走領域の磨耗を低減させることが
できる。
本発明に係る更に別の磁気ディスク装置は、上記の基本
構成において、磁気ディスクの回転の開始時及び終了時
における浮上型磁気へンドの滑走半径位置が滑走領域内
の異なる半径位置となるように制御する制御手段を設け
た構成である。このようにすると、滑走半径位置を２つ
の半径位置間で交互に変化させるのみで良いから、滑走
半径位置の制御が比較的容易に行え、かつ、一定位１で
滑走させる場合に比べて磨耗を低減させることができる
。
又、本発明に係る他の磁気ディスク装置は、上記の基本
構成において、浮上型磁気ヘッドの滑走半径位置を滑走
領域内でランダムに変化させる制御手段を設けた構成で
ある。これにより、滑走領域及び浮上型磁気ヘッドの磨
耗を一層低減させることができる。
【図面の簡単な説明】
第１図乃至第３図は本発明の一実施例を示すものである
。 第１図（ａ）は光磁気ディスク装置の概略正面図である
。 第１図（ｂ）及び（Ｃ）はそれぞれ他の光磁気ディスク
装置の概略正面図である。 第２図は第１図（ａ）の光磁気ディスク装置の概略平面
図である。 第３図は浮上型磁気ヘッドの斜視図である。 第４図及び第５図は本発明の第２実施例を示すものであ
る。 第４図は磁気ディスク装置の概略正面図である。 第５図は同概略平面図である。 第６図及び第７図は本発明の第３実施例を示すものであ
る。 第６図瞑光磁気ディスク装置の概略正面図である。 第７図は同概略平面図である。 第８図乃至第１０図は従来例を示すものである。 第８図は光磁気ディスク装置の概略正面図である。 第９図は光磁気ディスク表面の潤滑剤の残存状態を模式
的に示す平面図である。 第１０図は浮上スライダへの潤滑剤の付着状態を模式的
に示す平面図である。 １１・３１は光磁気ディスク、１２は光ヘッド１４は浮
上型磁気ヘッド、１５は浮上スライダ１７は磁気ヘッド
、２１は磁気ディスク、Ｅは滑走領域である。 特許出願人　　　　　シャープ　株式会社第 図 箪 図 第 図 起ね或いｒ２傳仁慴弓 第 図 第 図 ランダム１号 第 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、磁気ディスクの回転に伴う空気流により浮上圧を受
    けて上記磁気ディスクの表面から浮上する浮上型磁気ヘ
    ッドを備えた磁気ディスク装置において、 磁気ディスクの回転の開始時及び終了時における磁気デ
    ィスク上での浮上型磁気ヘッドの滑走が記録領域以外に
    設定した滑走領域内で行われ、かつ、滑走領域内での浮
    上型磁気ヘッドの滑走半径位置が不定位置となるように
    制御されることを特徴とする磁気ディスク装置。 ２、上記磁気ディスクは磁気ディスク装置から取出し可
    能とされて複数の磁気ディスク装置で使用できるように
    されており、かつ、滑走領域内における浮上型磁気ヘッ
    ドの滑走半径位置が個々の磁気ディスク装置により変化
    するようにされていることを特徴とする請求項第１項に
    記載の磁気ディスク装置。 ３、磁気ディスクの回転の開始時及び終了時における浮
    上型磁気ヘッドの滑走半径位置が滑走領域内の異なる半
    径位置となるように制御する制御手段が備えられている
    ことを特徴とする請求項第１項に記載の磁気ディスク装
    置。 ４、滑走領域内での浮上型磁気ヘッドの滑走半径位置が
    ランダムに変化するように制御する制御手段が備えられ
    ていることを特徴とする請求項第１項に記載の磁気ディ
    スク装置。
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