WO2004010429A1

WO2004010429A1 - 記録媒体、記録媒体の製造方法、樹脂のスピンコート方法及び光磁気ディスク装置

Info

Publication number: WO2004010429A1
Application number: PCT/JP2003/006588
Authority: WO
Inventors: Tetsuo Hosokawa; Tomoyuki Aita
Original assignee: Fujitsu Limited
Priority date: 2002-07-18
Filing date: 2003-05-27
Publication date: 2004-01-29
Also published as: WO2004010428A1; AU2003241794A1; JPWO2004010429A1; AU2002368100A1

Description

明細書記録媒体、記録媒体の製造方法、樹脂のスピンコート方法

及び光磁気ディスク装置技術分野

本発明は、一般的に記録媒体に関し、特に、磁界変調記録方式の光磁気記録媒体に関する。背景技術

従来の光ディスクは、コンパクトディスク（C D ) のように記録再生のための光ビームが透過する基板の逆側表面に、例えばディスクが格納しているソフトゥエア等の内容が印刷されたタイプと、 3 . 5インチ光磁気ディスク（M Oデイスク）或いはミニディスク（M D ) のように表面に印刷がされていないタイプの 2 種類がある。現在の M Oディスク或いはミニディスクは力一トリッジケース中に収納されて使用されるため、カートリッジケースにディスクが格納しているソフトウ-ァの内容等が印刷されている。

ところで、ミニディスクのような磁界変調記録方式の光磁気デイスク装置では. 光透過基板の逆側表面に磁気へッドを接触或いは浮上させて情報の記録を行うが. このような磁気へッドによる記録では基板表面に形成された記録層と磁気へッド間の距離が変化すると磁界強度が変化し、正常な記録が行われなくなる。また、磁気へッドが基板上の凸部に衝突すると磁気へッドが損傷し、記録再生ができなくなることもある。よって、磁界変調記録方式の光磁気ディスク装置等の磁気記録装置では、ディスク表面はフラッ卜でなければならない。

ミニディスクのように記録面上に印刷がされていない媒体では、表面の凹凸は光ディスク基板に形成された 1 0 0 n m程度の案内溝のみであり、磁気へッドの浮上特性に影響を及ぼすことはない。上述したように、現在の M Oディスク或いはミニディスクはカートリッジケース中に収納されているため、媒体の記録面上に印刷を施す必要はない。しかし、将来的には M Oディスク或いはミニディスクを裸のままスピンドルモータに装着する応用も考えられる。また、磁気ディスク装置においても、リムーバルな磁気ディスクをスピンドルモータに装着して使用する形態も考えられる。このような場合には、ディスクに格納されているソフトウエアの内容を表示するために記録層表面側に印刷を施す必要性が生じる。記録層表面側に印刷を施された光磁気ディスク等においては、印刷層が厚いため段差が生じ、磁気へッドの安定浮上が困難となり記録を正常に行うことができなくなる。明の闊示—

よって、本発明の目的は、記録層表面側に印刷が施されていても正常に記録再生可能な記録媒体を提供することである。

本発明の他の目的は、記録媒体の印刷面上に一様に樹脂をスピンコートして印刷面の段差を解消可能な樹脂のスビンコ一ト方法を提供することである。

本発明の一側面によると、基板と、該基板の一方の面上に設けられた第 1 の厚さと該基板との間に段差を有する印刷層と、前記基板の前記一方の面上に塗布された前記第 1 の厚さ以上の第 2の厚さを有する樹脂保護層と、を具備したことを特徴とする記録媒体が提供される。

好ましくは、第 2の厚さは 1 0〜3 0 /i mである。樹脂保護層は基板を回転させながら樹脂を塗布するスピンコート法により形成されている。例えば、基板の一方の面上には磁性記録層が設けられており、樹脂保護層上に磁気へッドを接触或いは浮上させて、磁気へッドと基板とを相対移動させながら磁場を反転させて記録を行う。

好ましくは、印刷層はスクリーン印刷により形成されており、印刷層の厚さは 5〜1 5 /i m、好ましくは 5〜： L O /i mである。好ましくは、スクリーン印刷に使用するスクリーンのメッシュ数は 3 5 0〜4 5 0ノインチであり、スクリーン印刷時のスキージ角度は 6 0〜9 0度の範囲内である。

本発明の他の側面によると、透明基板と、該透明基板の一方の面上に設けられた磁性記録層と、該磁性記録層上に設けられたメタル層と、該メタル層上に設けられた第 1 の厚さを有する印刷層と、前記透明基板の前記一方の面上に塗布された前記第 1 の厚さ以上の第 2の厚さを有する樹脂保護層と、を具備したことを特徴とする光磁気記録媒体が提供される。

好ましくは、第 2の厚さは 1 0〜 3 0 μ mである。樹脂保護層は基板を回転させながら樹脂を塗布するスピンコート法により形成されている。情報の記録は、基板の他方の面側から光ビームを照射しつつ、樹脂保護層上に磁気へッド接触或いは浮上させて、磁気へッドと基板を相対移動させながら磁場を反転して行う。本発明の更に他の側面によると、透明基板と、該透明基板の一方の面上に設けられた磁性記録層と、該磁性記録層上に設けられたメタル層と、該メタル層上に設けられた第 1樹脂保護層と、該第 1樹脂保護層上に設けられた第 1 の厚さと該第 1樹脂保護層との間に段差を有する印刷層と、前記第 1樹脂保護層上に設けられた前記第 1 の厚さ以上の第 2の厚さを有する第 2樹脂保護層とを具備し、前記第 1樹脂保護層、印刷層及び第 2樹脂保護層の合計厚さが 3 0 μ m以下であることを特徴とする光磁気記録媒体が提供される。

本発明の更に他の側面によると、基板を回転しながら、印刷を有する印刷面上に榭脂をスピンコートする方法であって、基板を第 1 の速度で回転させながら榭脂を基板の内周側に塗布する樹脂塗布工程と、基板を前記第 1 の速度より速い第 2 の速度で回転させて塗布された樹脂を基板全面に広げる工程と、前記第 2 の速度より速い第 3の速度で基板を回転させて広げられた樹脂の段差を解消する段差解消工程とを具備し、前記段差解消工程は毎分 4 0 0 0回転以上で基板を回転させて実行することを特徴とする樹脂のスピンコート方法が提供される。

好ましくは、段差解消工程は 1秒以内である。図面の簡単な説明

図 1は比較例の樹脂のスピンコート方法を示す図；

図 2は本発明の樹脂のスピンコート方法を示す図；

図 3は図 1 に示した比較例のスビンコ一ト方法により印刷面に樹脂を塗布した記録媒体の断面図；

図 4はその一部破断平面図；

図 5は図 2に示す本発明のスビンコ一ト方法により印刷面に樹脂を塗布した本発明第 1実施形態の光磁気ディスクの断面図；

図 6はその一部破断平面図；

図 7は第 1実施形態の光磁気デイスクの積層構造を示す概略断面図；図 8は印刷層端部の拡大断面図；

図 9は図 7に示した第 1 実施形態の一部拡大断面図；

図 1 0はスクリーン印刷方法の説明図；

図 1 1はスクリーンのメッシュ数と印刷層の厚さの関係を示すグラフ；図 1 2はスキージの角度と印刷層の厚さの関係を示すグラフ；

図 1 3は第 1実施形態の変形例の光磁気ディスクの積層構造を示す概略断面図；

図 1 4は印刷面上に形成した樹脂保護膜の厚さと必要磁界の関係を示すグラフ；

図 1 5は本発明第 2実施形態の光磁気ディスクの断面図；

図 1 6はその一部破断平面図；

図 1 7は本発明第 3実施形態の磁気ディスクの断面図；

図 1 8はその一部破断平面図；

図 1 9は第 3実施形態の磁気ディスクの積層構造を示す概略断面図；図 2 0 A〜図 2 0 Eは榭脂のスビンコ一ト方法の他の実施形態を示す図；図 2 1 A及び図 2 1 Bは樹脂のスビンコ一卜方法の更に他の実施形態を示す図；

図 2 2はオフセット印刷方法の説明図；

図 2 3は光磁気ディスク装置の概略構成図である。発明を実施するための最良の形態

以下、図面を参照して本発明を詳細に説明する。図 1 は比較例の樹脂のスピンコート方法を示しており、図 2は本発明を実現するための樹脂のスビンコ一ト方法を示している。図 1 に示す比較例のスピンコート方法は、回転する基板の內周上に有機系樹脂を塗布した後に、瞬時に回転数を上昇させて有機系樹脂を外周方向全面に塗布する 2段階塗布方法である。即ち、低速の 1段階目で樹脂を基板の内周に塗布し、更に高速の 2段階目で榭脂を基板上全面に塗布する。或いは、揮発成分を含む樹脂の場合は、高速の 2段階目で樹脂の乾燥も行う。

しかしながらこのようなスビンコ一ト方法では、図 3の記録媒体 2の断面図に示すように、有機系樹脂保護層 8が基板 4上に形成された印刷層 6 より薄くなつてしまう。或いは、印刷層 6 より薄い部分があるため、図 4に示すように印刷層及び印刷層の外周側に放射状の膜厚斑 1 0が発生したり、樹脂保護層 8の膜厚が不均一になる。このような膜厚斑 1 0は、印刷面側に磁気ヘッドを接触或いは浮上させて、基板と磁気へッドを相対移動させながら磁場を反転させて記録を行う記録方法を採用する記録媒体では致命的な欠陥になる。

本発明の樹脂のスピンコート方法は、図 2に示すように、回転する印刷層を有する記録媒体の内周に有機系樹脂を塗布した後、瞬時に回転数を上昇させて有機系樹脂を記録媒体の外周方向全面に塗布し、更に記録媒体を高速で回転させて短時間に有機系樹脂の振切を行うスピンコート方法である。即ち、本発明の樹脂のスピンコ一ト方法は、基板を第 1 の速度で回転させながら樹脂を基板の内周側に塗布する樹脂塗布工程と、基板を第 1 の速度より速い第 2の速度で回転させて塗布された樹脂を基板全面に広げる工程と、第 2の速度より速い第 3の速度で基板を回転させて広げられた樹脂の段差を解消する段差解消工程とを含んでいる。この樹脂のスピンコート方法により、印刷層及び印刷層の外周側に発生する放射状膜厚斑及び膜厚の不均一性を抑制できる。

詳細な実施例について更に説明する。記録層側の表面に印刷層が施された光磁気ディスクを用意する。光磁気ディスクを 1 0 r p mで回転させながら紫外線硬化型のエポキシ樹脂等の有機系樹脂を光磁気デイスクの内周側に円周状に塗布した。次に、回転数を l O r p mから 5 0 0 r p mまで上昇させて樹脂を光磁気デイスクの表面全体に広げた。次に、回転数を更に上昇させて有機系樹脂を振切つて樹脂保護層の段差を解消する工程を追加した。表 1 に段差解消工程回転数と樹脂保護層のむらの関係を示す。表 1—

( r p m )

表 1 より、光磁気ディスクの回転数を 4 0 0 0 r p m以上にすることにより、印刷層での樹脂保護層のむらがなくなることが分かる。このときの、段差解消ェ程時間は 0 . 5秒とした。

表 2に段差解消工程時間と樹脂保護層のむら及び膜厚の関係を示す。

表 2

(秒）

( / m ) 表 2 より、段差解消工程を 1 . 0秒以上とすると樹脂保護層の厚さが 1 0 m 以下となり、 1 0 μ m程度の厚さの印刷層との段差が発生する。表 2の実験では. 光磁気ディスクの回転数は 5 0 0 0 r p mとした。以上の実験より、段差解消ェ程を毎分 4 0 0 0回転以上で光磁気ディスクを回転させて行うことにより、印刷層及び印刷層の外周側に発生する放射状膜厚斑及ぴ膜厚の不均一性を抑制可能となり、図 5の断面図に示すようなフラットな榭脂保護層を有する本発明第 1実施形態の光磁気ディスク 2 Aを実現できる。尚、回転数や回転数切替回数は実施例に限定されず、適宜変更可能である。実施例は、工程時間や膜の状況から、より効率的で効果的な結果が出たものを例示している。

図 5において、 4は光磁気ディスク 2 Aの透明基板であり、透明基板 4上には図示しない記録層等が形成されており、記録層側の表面に印刷層 6が施されている。印刷層 6 の高さは約 1 0 μ mである。 8は樹脂保護層であり、印刷層 6 を完全に覆っており、その表面はフラットである。図 6 は図 5に示した第 1実施形態の光磁気ディスク 2 Aの一部破断平面図である。本実施形態の光磁気ディスク 2 Aでは、樹脂保護層 8の材料として大日本ィンキ株式会社製の商品名 S D 7 1 5 (粘度 4 5 m p a · s ) を使用した。

図 7を参照すると、第 1実施形態の光磁気デイスク 2 Aの積層構造を示す概略断面図が示されている。透明基板 4上に S i Nから成る下地誘電体層 1 2、 T b F e C o系材料から成る記録層 1 4、 G d F e C 0系材料から成る記録補助層 1 6、 S i Nオーバコート層 1 8、 A 1 を含むメタル層 2 0、樹脂保護層 2 2がこの順に積層されている。更に、樹脂保護層 2 2上に印刷層 6が施され、この印刷層 6 を樹脂保護層 8が覆っている。本実施形態の光磁気ディスク 2 Aは通常タイプの光磁気記録媒体である。この光磁気ディスク 2 Aは、基板 4側から所定パヮ一のレーザビームを照射しながら、樹脂保護層 8上に磁気へッドを接触或いは浮上させて、磁界変調記録を行う光磁気ディスク装置に適用すると特に効果がある < 図 8は印刷層端部の拡大断面図を示している。印刷層 6 をスクリーン印刷により形成すると、印刷層 6 の端部に凸部 6 aが形成される。本実施形態においては. この印刷層 6 の最大厚さ T m a X及ぴ最小厚さ T m i n ともに 5〜 1 5 / mが好ましい。より好ましくは 5〜 1 0 /i mである。図 9は図 7に示した第 1実施形態の一部拡大断面図である。印刷層 6は第 1 の厚さ T 1 を有し、樹脂保護層 8は第 1 の厚さ T 1 以上の第 2の厚さ T 2を有している。本実施形態では、樹脂保護層 2 2 と、印刷層 6 と、榭脂保護層 8の合計厚さは、 3 0 μ m以下であるのが好ましい。更に好ましくは、この合計厚さは 2 0 μ m以下である。上記合計厚さは、樹脂保護層 8が印刷層 6 を完全に覆っているため、樹脂保護層 2 0 と樹脂保護層 8の厚さの合計と等しくなる。

図 7に示した第 1実施形態の光磁気ディスク 2 Aの製造方法の概略は以下の通りである。基板 4上に下地誘電体層 1 2、記録層 1 4、記録補助層 1 6、 S i N ォーパコート層 1 8、メタル層 2 0をスパッタ装置により順次成膜した後に、基板 4 をスパッタ装置から取り出し、スピンコート装置に取り付ける。メタル層 2 0上にスピンコートにより U V硬化樹脂を塗布する。 U V硬化榭脂は大日本ィンキ株式会社製の商品名ダイキュアクリア S D— 1 7 0 0を使用した。塗布後に紫外線を照射して樹脂を硬化させ、膜厚 4 μ mの樹脂保護層 2 2を形成した。

次に、基板 4をスクリーン印刷装置に装着し、図 1 0に示すようなスクリーン印刷方法で印刷層 6を形成した。図 1 0において、 1 5はスクリーン、 1 7はスキージである。印刷層 6は、例えば図 6に示すようなテストパターンで形成される。スクリーン 1 5のメッシュ数とスキージ 1 7の角度を変えて数種類のサンプルを作成し、印刷層 6 の膜厚を計測した。印刷に使用したインクは大日本インキ株式会社製の商品名ダイキュア S S Dである。

次に、基板 4をスピンコート装置に装着し、表面平滑のための樹脂保護層 8を形成した。使用した樹脂は大日本ィンキ株式会社製の商品名 S D 7 1 5である。ここで、スピンコートは図 2に示した三段階の回転数で塗布し、第 3の回転数を 4 0 0 0 r p m以上とすることにより、樹脂保護層 8が印刷層 6を完全に覆い、印刷層 6の端部の段差を解消することができる。表 2 より、印刷層 6の膜厚が 1 Ο μ ηι以上の場合は、段差解消工程時間を 1 . 0秒以下に設定することにより表面を平坦化できる。印刷層 6が薄い場合はそれに合わせて段差解消工程時間を長くすることで、表面平滑化のための樹脂保護層 8 を薄くできる。例えば、印刷層 6 の膜厚が 6 μ mの場合は、段差解消工程時間を 2秒とすることで榭脂保護層 8 の膜厚を 8 μ mに設定できる。この表面平滑のための樹脂保護層 8は塗布した後に紫外線を照射して硬化させる。 - 図 1 1 にスクリーン 1 5のメッシュ数と印刷層 6の膜厚の関係を示す。図 1 1 から明らかなように、スクリーンのメッシュ数を大きくすると印刷層 6 の膜厚を薄くすることが可能である。スクリーンのメッシュ数を 3 5 0 /インチ以上とすることで、印刷層 6の膜厚を 1 5 # m以下にすることができる。印刷層 6の厚さは 5〜 1 5 /i mが好ましく、更に好ましくは 5〜： L O /i mである。スクリーン 1 5のメッシュ数は 3 5 0〜 4 5 0 インチが好ましい。ここで、スキージ角度は 7 0度とした。

図 1 2にスキージ角度と印刷層 6の膜厚の関係を示す。図 1 2から明らかな通り、スキージの角度を大きくすることで印刷層 6 を薄くすることができる。スキージ角度を 6 0度以上とすることで、印刷層 6 の膜厚を 1 5 /z m以下に設定できる。よって、スキージ角度は 6 0度〜 9 0度の範囲内が好ましい。ここで、スクリーン 1 5 のメッシュ数は 4 2 0 /インチとした。

スクリーン 1 5 のメッシュ数とスキージ 1 7の角度により印刷層 6 を 1 5 μ πι 以下に設定すれば、図 9に示した榭脂保護層 2 2 の厚さを 4 μ mとして、表面平滑用の榭脂保護層 8のスピンコート時の段差解消時間を調整することで、合計厚さを 2 0 μ m以下にすることができる。

図 1 3は第 1実施形態の変形例の光磁気ディスク 2 A 'の積層構造を示す概略断面図である。透明基板 4上に S i Nから成る下地誘電体層 1 2、 G d F e C o 系材料から成る再生層 2 4、 S i Nから成る非磁性層 2 6、 T b F e C o系材料から成る記録層 2 8がこの順に積層されている。更に、記録層 2 8上に S i Nォーバコート層 1 8、 A 1 を含むメタル層 2 0が積層されている。メタル層 2 0上には印刷層 6が施され、この印刷層 6は榭脂保護層 8 により覆われている。

本実施形態の光磁気ディスク 2 A 'は、記録層 2 8の記録マークが静磁結合により再生層 2 4に転写される C AD (センター · ァパチヤ一 · ディテクション）タイプの磁気誘導超解像（MS R) 媒体である。再生層 2 4は、記録層 2 8 に比較して相対的にカー回転角は大きく室温での保持力は小さい。一方、記録層 2 8 は、再生層 2 4に比較して相対的にカー回転角は小さく室温での保持力が大きい _c 本実施形態の光磁気ディスク 2 A ' も、透明基板 4側から所定パワーのレーザビームを照射しながら、樹脂保護層 8上に磁気ヘッド接触或いは浮上させて、磁界変調記録を行う光磁気ディスク装置に適用して特に効果がある。層構成及ぴ材料は実施例に限定されず適宜変更可能である。

図 1 4に榭脂保護層の膜厚と T b F e C o記録層を有する第 1実施形態の光磁気ディスク 2 Aに情報を記録するのに必要な磁界の関係を示す。図 1 4より、樹脂保護層の膜厚が厚いと記録に必要な磁界が上昇し、膜厚が 3 0 μ m以上では 2 5 0エルステッド（O e ) 以上の磁界が必要なことが分かる。 2 5 0ェルステツド（O e ) 以上の磁界を発生させるには消費電力が大きくなる、或いは光磁気ディスク装置の温度が上昇する等の問題があるため、樹脂保護層の膜厚は 3 0 M m 以下が好ましい。上述したように、印刷層の厚さとの関係から樹脂保護層の膜厚は 1 0 μ m以上必要であるため、樹脂保護層の膜厚は 1 0 z m〜3 0 /i mの範囲内が好ましい。

図 1 4の横軸は図 1 3の構成では榭脂保護層 8の厚さである。図 7の構成では. 榭脂保護層 2 2 と表面平滑用樹脂保護層 8の合計厚さである。記録再生速度向上のために線速が速くなると磁気へッドへの電流スィツチング速度が速くなり、それに伴って発生する磁界が低下してしまう。また、基板の反り等の機械的な特性が悪化すると、磁気ヘッドの浮上が不安定化し実効的な磁場も低下する。高速記録に対応し、しかも機械特性の不十分な媒体でも良好な記録再生特性を低電力で行うためには、 2 0 0ェルステツド（O e ) 以下の磁場で記録再生できることが求められている。よって、好ましくは 2 0 0エルステッド（〇 e ) 以下の磁場で記録再生できるのがよい。そのためには、上述した合計厚さを 2 0 μ m以下にすればよい。

図 1 5は本発明第 2実施形態の光磁気ディスクの断面図であり、図 1 6はその一部破断平面図である。図 1 5に示すように、樹脂保護層 8 は表面が完全なフラッ卜でなくても磁気へッドの記録再生に障害にならない範囲以内で緩やかな曲面であっても構わない。

図 1 7は磁気ディスクに本発明を適用した本発明第 3実施形態の断面図である _c 図 1 8は図 1 7の磁気ディスク 2 Cの一部破断平面図である。基板 4上には図示しない磁性記録層等が形成されており、磁性記録層側の表面に印刷層 6が施され. この印刷層 6は樹脂保護層 8で覆われている。更に、樹脂保護層 8上には摩擦低減のための潤滑剤 3 0が塗布されている。

図 1 9は本発明第 3実施形態に係る磁気ディスク 2 Cの積層構造を示す概略断面図である。ガラス基板 4上には C r等から構成される密着層 3 2、 N i P等から構成される非磁性金属層 3 4が積層されている。非磁性金属層 3 4上には C r を主成分とする下地層 3 6が積層され、下地層 3 6上には中間層 3 8が積層されている。中間層 3 8上には 1層又は複数層の C o合金磁性層 4 0が積層され、磁性層 4 0上には保護層 4 2が積層されている。保護層 4 2は C o合金磁性層 4 0 の磨耗防止と腐食防止の機能を有している。保護層 4 2上には印刷層 6が施され. この印刷層 6は榭脂保護層 8により覆われている。更に、榭脂保護層 8上には潤滑剤 3 0が塗布されている。なお、層構成及び材料は実施例に限定されず適宜変更可能である。

本実施形態は磁気ディスクの樹脂保護層上に潤滑剤を塗布した例について説明したが、図 5及ぴ図 1 5に示す光磁気ディスクの樹脂保護層 8上に潤滑剤を塗布するようにしてもよい。図 3に示すような印刷層の段差が発生した場合でも、樹脂の塗布位置及ぴ回転条件を調整し、本発明のスピンコート方法によって有機系樹脂を再度コーティングすることによって、欠陥を修復することが可能である。

印刷層を有する基板表面を平坦化する他のスビンコ一ト方法について図 2 0 A 〜図 2 0 Eを参照して説明する。図 7に示した第 1実施形態の光磁気ディスク 2 Aのように、基板 4上に S i N、記録層、記録補助層、 S i N , A 1 を順次成膜した後に基板 4を成膜装置から取り出し、スピンコート装置に取り付ける。 A 1 層上にスピンコートにより紫外線硬化樹脂を塗布する。紫外線硬化樹脂は大日本ィンキ株式会社製の商品名ダイキュアクリア S D— 1 7 0 0を使用した。塗布後に紫外線を照射して樹脂を硬化させ、膜厚約 4 / mの樹脂保護層を形成した。次に、基板 4をスクリーン印刷装置に装着し、図 1 0に示す方法で印刷層 6を形成した。印刷層 6は、例えば図 6に示すようなテストパターンで形成される。印刷に使用したィンクは大日本インキ株式会社製の商品名ダイキュア S S Dである。次に、印刷層 6の段差を改善する方法を説明する。まず、図 2 O Aに示すように、紫外線硬化榭脂 7を基板 4の内周側に 1周に渡り塗布する。次に、図 2 0 B に示すように、紫外線硬化樹脂 7 の上に紫外線に対して透明な上部力パー 9 を載置する。この上部力パー 9は紫外線硬化樹脂との剥離性が非常によい物質を用いる。例えば、紫外線硬化樹脂 7 としては三菱レーヨン株式会社製の商品名 S A 1 0 0 2 Sを用い、上部カバー 9に J S R株式会社製の商品名 A r t o nを使用することができる。代替案として、紫外線硬化樹脂 7 としては同じく三菱レーヨン株式会社製の商品名 S A 1 0 0 2 Sを用い、上部カバー 9にガラス基板を用いるようにしてもよい。

次に、図 2 0 Cに示すように、スピンコート装置により上部カバー 9を载置した状態で基板 4を高速で回転し、紫外線硬化樹脂 7を基板面全体に塗布する。上部カバ一 9を利用することで基板表面をほぼ完全に平坦化することが可能となる _c 紫外線硬化樹脂 7の粘度とスピン動作時の回転数によって、樹脂保護層 8の厚さを調整することも可能である。次に、図 2 0 Dに示すように、紫外線硬化樹脂 7 が完全に硬化した後、上部力パー 9 を取り外す。この方法を用いることにより、樹脂保護層 8で印刷層 6 を完全に力パーし、樹脂保護層 8 の表面を平坦化することができる。

樹脂保護層 8表面の良好な摺動性を必要とする場合には、図 2 0 Eに示すように、樹脂保護層 8上に摺動性改善用の紫外線硬化樹脂 1 1 を更に塗布することも可能である。使用した摺動性改善用の紫外線硬化榭脂 1 1 は、 J S R株式会社製の商品名デソライト（K Z 7 2 3 5 C ) である。

上述した実施形態の変形例として、図 2 0 Aに示すように紫外線硬化樹脂 7を基板 4の内周側で 1周に渡り塗布した後、スピンコート装置で基板 4を高速で回転させて、紫外線硬化樹脂 7を基板 4の全面に塗布すると共に余分な榭脂を排出する。その後、図 2 1 Bに示すように、紫外線硬化樹脂 7の上に上部カバー 9を取り付け、表面平坦化工程及び紫外線照射工程を実施するようにしてもよい。基板表面に形成された印刷層の段差を解消する本発明は、スクリーン印刷に限らず例えばオフセット印刷にも当然適用可能である。図 2 2を参照して、オフセット印刷の概略を説明する。インクローラ 4 4からインク 4 5を版胴 4 6 に転写し、この版胴 4 6 のインクをゴム等で作られたブランケット 4 8に転写し、ブランケット 4 8から基板 4表面にィンク 4 5 を転写する。オフセット印刷では、ブランケット 4 8を介してインクを紙等に転写するため、スクリーン印刷に比較して薄い印刷層を形成することが可能となるが、スクリーン印刷と同様に印刷層端部に段差が発生する。

本発明を適用することにより、基板表面に形成された印刷層の段差を解消することが可能となる。本発明は、スクリーン印刷、オフセット印刷だけに限られるものではなく、電子写真印刷等でも段差が発生するので、他の印刷方法で形成した印刷層に対しても汎用的に適用可能である。

上述した各実施形態では、全てディスクの例で示したが、カード状、テープ状の記憶媒体にも応用可能である。更に、各実施形態では、磁気ヘッドが印刷面側の媒体表面に対向する例で説明しているが、光ヘッドが同様に対向するものにも適用可能である。

図 2 3を参照すると、本発明の光磁気デイスクを駆動するのに適した光磁気デイスク装置の概略構成図が示されている。ハウジング 5 0内にはスピンドルモータ 5 2が設けられており、インレットドア 5 4を介して光磁気（M O ) カートリッジ 5 6を装置内に挿入すると、内部の光磁気ディスク 5 8 がスピンドルモータ 5 2の回転軸のハブにチヤッキングされ、光磁気ディスク 5 8のローデイングが行われる。ローデイングされた光磁気ディスク 5 8の下側には、ボイスコイルモータ（V C M ) により媒体のトラックを横切る方向に移動自在なキャリッジ 6 0 が設けられている。キヤリッジ 6 0上には対物レンズ 6 2及ぴビーム立ち上げプリズム 6 4が搭載されている。更に、光磁気ディスク 5 8に対して対物レンズ 6 2 と反対側には、対物レンズ 6 2に対向するように磁気へッド 6 8が設けられている。磁気へッド 6 8はキヤリッジ 6 0に取り付けられたサスペンション 6 6 により支持されている。

固定光学系 7 0 に設けられているレーザダイオード 7 2からのレーザビームをビーム立ち上げプリズム 6 4により反射して対物レンズ 6 2に入射し、光磁気デイスク 5 8の記録面にビームスポットをフォーカスする。これと同時に、磁気へッド 6 8 を記録すべき情報で変調して駆動し、光磁気ディスク 5 8 に情報を書き込む。対物レンズ 6 2は図示しないフォーカスァクチユエータにより光軸方向に移動制御され、またトラックァクチユエータにより媒体トラックを横切る方向に. 例えば数 1 0 トラックの範囲内で移動することができる。産業上の利用可能性

本発明によると、以上詳述したように、記録媒体の表面上に印刷層が施されていても、この印刷層の厚さ以上の樹脂保護層を塗布するようにしたので、表面がフラットな特に磁界変調記録方式に適した光磁気記録媒体を提供可能である。本発明の応用は光磁気記録媒体に限定されるものではなく、表面に印刷層を有する磁気記録媒体に適用しても同様な効果がある。

更に、記録媒体の表面全体がフラットになり、浮上パランスや接触状態を一定にすることで記録層と磁気へッドの距離を一定にでき、記録や再生の信号品質の均一化が図れ、良好な信号品質が得られることから結果的に高密度媒体においても印刷が可能になる。また、記録媒体の表面全体がフラットになることから、へッドの浮上パランスや接触状態を安定もしくはほぼ一定に制御可能である。故に. へッドは媒体表面のうねりで損傷することもなくなる。つまり、本発明の媒体が適用される装置に対して、装置の媒体互換性及び信頼性を向上させることができる。

Claims

請求の. 範囲

I . 基板と、

該基板の一方の面上に設けられた第 1 の厚さと、該基板との間に段差を有する印刷層と、

前記基板の前記一方の面上に塗布された前記第 1 の厚さ以上の第 2の厚さを有する樹脂保護層と、

を具備したことを特徴とする記録媒体。

2 . 前記第 2の厚さは 1 0〜 3 0 μ である請求項 1記載の記録媒体。

3 . 前記樹脂保護層は前記基板を回転させながら樹脂を塗布するスピンコート法により形成されている請求項 1記載の記録媒体。

4 . 前記基板の前記一方の面上に設けられた磁性記録層を更に具備した請求項 1記載の記録媒体。

5 . 前記樹脂保護層上に磁気ヘッドを接触或いは浮上させて、該磁気ヘッドと前記基板とを相対移動させながら磁場を反転させて記録を行う請求項 4記載の記録媒体。

6 . 前記印刷層の端部に凸部を有する請求項 1記載の記録媒体。

7 . 前記印刷層はスクリ一^印刷によつて形成されている請求項 1記載の記録媒体。

8 . 前記印刷層の厚さが 5〜 1 5 μ mである請求項 7記載の記録媒体。

9 . 前記印刷層の厚さが 5〜 1 0 μ mである請求項 7記載の記録媒体。

1 0 . 前記印刷層はオフセット印刷によって形成されている請求項 1記載の記録媒体。

I I . 前記印刷層の厚さが 0 . 5〜 3 μ mである請求項 1 0記載の記録媒体。 1 2 . 透明基板と、

該透明基板の一方の面上に設けられた磁性記録層と、

該磁性記録層上に設けられたメタル層と、

該メタル層上に設けられた第 1 の厚さと、該メタル層との間に段差を有する印刷層と、前記透明基板の前記一方の面上に塗布された前記第 1 の厚さ以上の第 2の厚さを有する樹脂保護層と、

を具備したことを特徴とする光磁気記録媒体。

1 3 . 前記透明基板と前記磁性記録層の間に挿入された誘電体下地層と、前記磁性記録層と前記メタル層の間に挿入された誘電体ォーパコート層を更に具備した請求項 1 2記載の光磁気記録媒体。

1 4 . 前記第 2の厚さは 1 0〜 3 0 μ πιである請求項 1 2記載の光磁気記録媒体。

1 5 . 前記樹脂保護層は前記基板を回転させながら樹脂を塗布するスピンコート法により形成されている請求項 1 2記載の光磁気記録媒体。

1 6 . 前記基板の他方の面側から光ビームを照射しつつ、前記榭脂保護層上に磁気へッドを接触或いは浮上させて該磁気へッドと前記基板を相対移動させながら磁場を反転させて記録を行う請求項 1 2記載の光磁気記録媒体。

1 7 . 透明基板と、

該透明基板の一方の面上に設けられた磁性記録層と、

該磁性記録層上に設けられたメタル層と、

該メタル層上に設けられた第 1樹脂保護層と、

該第 1樹脂保護層上に設けられた第 1の厚さと、該第 1樹脂保護層との間に段差を有する印刷層と、

前記第 1樹脂保護層上に設けられた前記第 1 の厚さ以上の第 2の厚さを有する第 2樹脂保護層とを具備し、

前記第 1榭脂保護層、印刷層及び第 2榭脂保護層の合計厚さが 3 0 /i m以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。

1 8 . 前記第 1樹脂保護層、印刷層及び第 2樹脂保護層の合計厚さが 2 0 μ m 以下である請求項 1 7記載の光磁気記録媒体。

1 9 . 記録媒体の製造方法であって、

基板の一方の面上に第 1 の厚さと、該基板との間に段差を有する印刷層をスクリーン印刷によつて形成し、

前記基板の前記一方の面上に前記第 1の厚さ以上の第 2の厚さを有する樹脂保護層を塗布するステップを具備し、

' 前記スクリーン印刷に使用するスクリーンのメッシュ数が 3 5 0〜 4 5 0 /ィンチであることを特徴とする記録媒体の製造方法。

2 0 . 前記スクリーン印刷時のスキージ角度は 6 0〜 9 0度の範囲内である請求項 1 9記載の記録媒体の製造方法。

2 1 . 基板上に形成された少なくとも磁性記録層、第 1樹脂保護層、印刷層及び第 2樹脂保護層を有し、第 1樹脂保護層、印刷層及び第 2樹脂保護層の合計厚さが 3 0 m以下である記録媒体の前記第 2樹脂保護層の形成方法であって、 ' 基板を第 1 の速度で回転させながら樹脂を基板の内周側に塗布する樹脂塗布ェ程と、

基板を前記第 1 の速度より早い第 2の速度で回転させて塗布された樹脂を基板全面に広げる工程と、

前記第 2の速度より早い第 3の速度で基板を回転させて広げられた榭脂の段差を解消する段差解消工程とを具備し、

前記段差解消工程は毎分 4 0 0 0回転以上で基板を回転させて 3秒以内に行うことを特徴とする記録媒体の第 2樹脂保護層の形成方法。

2 2 . 基板を回転しながら、印刷層を有する印刷面上に樹脂をスピンコートする方法であって、

基板を第 1 の速度で回転させながら樹脂を基板の内周側に塗布する榭脂塗布ェ程と、

基板を前記第 1 の速度より速い第 2 の速度で回転させて塗布された榭脂を基板全面に広げる工程と、

前記第 2の速度より速い第 3の速度で基板を回転させて広げられた樹脂の段差を解消する段差解消工程とを具備し、

前記段差解消工程は毎分 4 0 0 0回転以上で基板を回転させて実行することを特徴とする樹脂のスピンコート方法。

2 3 . 前記段差解消工程は 1秒以内である請求項 2 2記載の樹脂のスビンコ一ト方法。

2 4 . 基板を回転しながら、印刷層を有する印刷面上に樹脂をスピンコートする方法であって、

基板を第 1 の速度で回転させながら榭脂を基板の内周側に塗布し、

塗布された前記樹脂上にカバーを装着し、

力パーを装着した状態で前記基板を前記第 1 の速度より速い第 2の速度で回転させて塗布された樹脂を基板面全体に広げることを特徴とする樹脂のスビンコ一ト方法。

2 5 . 前記力パーは紫外線に対して透明な材料から形成されており、

樹脂を基板面全体に広げた後、カバーの上から紫外線を照射して樹脂を硬化させるステップを更に具備した請求項 2 4記載の樹脂のスビンコ一ト方法。

2 6 . 光磁気記録媒体に対して情報を記録再生可能な光磁気ディスク装置であって、

レーザビームを前記光磁気記録媒体に照射する光学へッドと、

記録すべき情報に応じて変調可能な磁気へッドと、

前記光磁気記録媒体で反射された反射光から再生信号を生成する光検出器とを具備し、

前記光磁気記録媒体は、

透明基板と、

該透明基板の一方の面上に設けられた磁性記録層と、

該磁性記録層上に設けられたメタル層と、

該メタル層上に設けられた第 1 の厚さと、該メタル層との間に段差を有する印刷層と、

前記透明基板の前記一方の面上に塗布された前記第 1 の厚さ以上の第 2の厚さを有する樹脂保護層とを含んでいることを特徴とする光磁気ディスク装置。