JPH02239447A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPH02239447A JPH02239447A JP5914389A JP5914389A JPH02239447A JP H02239447 A JPH02239447 A JP H02239447A JP 5914389 A JP5914389 A JP 5914389A JP 5914389 A JP5914389 A JP 5914389A JP H02239447 A JPH02239447 A JP H02239447A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁界変調方式に好適な光磁気記録媒体に関する
ものである. 〔従来の技術〕 光磁気記録媒体は,従来の光記録媒体と同様にレーザ光
を用いて情報の記録、再生を行うため記憶容量が大きく
、その上書き換えが可能である.よって,この光磁気記
録媒体は.現在盛んに研究されており,フロッピーディ
スクやハードディスクの代替えとして近い将来商品化段
階を迎えるに至っている. 情報を書き換える場合、第1世代の光磁気記録では、消
去に1回転、記録に1回転,計2回転を必要とする.こ
れに対し,最近,1回転で消去と記録を同時に行ってし
まうオーバーライト技術の開発が第2世代の光磁気記録
として活発に研究されており、その代表的な方法として
磁界変調記録,補助層を有する2層構造ディスクを用い
て光変調記録、無磁界記録などがあるが、実用化の点か
らは磁界変調記録がもっとも進んでいる.この磁界変調
記録に用いられる光磁気記録媒体としては、例えば第2
図に示すように基板l上に誘電層(アンダーコート層)
2,記録層3,誘電層(オーバーコート層)4を設けさ
らにその上に保護コート層5を設けた構成,あるいは第
3図に示すように基板l上に誘電層(アンダーコート層
)2、記OM43、誘電層(オーバーコート層)4,反
射層6を設けさらにその上に保護コートM5を設けた構
成のものが提案されている.そして、保護コート層5と
しては紫外線硬化樹脂膜、プラズマ重合膜,テブロン蒸
着膜などの有機高分子膜が用いられており,膜厚は1〜
30−となっている. 〔発明が解決しようとする課題〕 しかしながら,上記従来技術には以下に述べるような問
題点があった. 光磁気記録媒体の記@層に用いられている希土類一遷移
金属合金薄膜は化学的に極めて活性であるため,上述の
ように窒化物などの無機保護膜でサンドインチし,有機
高分子膜を保護コート材として塗布あるいは蒸着してい
る.ところが,有機高分子1漠は無機膜と異なり,吸水
(吸湿),透湿があり、第2図あるいは第3図のような
構成では記録層の酸化腐食を防止するのが困難である.
特に透明基板として、ポリカーボネート(pc)、ポリ
メチルメタクリレート(PMMA)、エボキシ、ボリオ
レフィンなどのプラスチック基板を用いた場合には,基
板側と有機高分子膜側で吸湿率が異なるため、ソリが大
きくなりフォーカシング、トラッキングが困難になると
いう問題があった。
ものである. 〔従来の技術〕 光磁気記録媒体は,従来の光記録媒体と同様にレーザ光
を用いて情報の記録、再生を行うため記憶容量が大きく
、その上書き換えが可能である.よって,この光磁気記
録媒体は.現在盛んに研究されており,フロッピーディ
スクやハードディスクの代替えとして近い将来商品化段
階を迎えるに至っている. 情報を書き換える場合、第1世代の光磁気記録では、消
去に1回転、記録に1回転,計2回転を必要とする.こ
れに対し,最近,1回転で消去と記録を同時に行ってし
まうオーバーライト技術の開発が第2世代の光磁気記録
として活発に研究されており、その代表的な方法として
磁界変調記録,補助層を有する2層構造ディスクを用い
て光変調記録、無磁界記録などがあるが、実用化の点か
らは磁界変調記録がもっとも進んでいる.この磁界変調
記録に用いられる光磁気記録媒体としては、例えば第2
図に示すように基板l上に誘電層(アンダーコート層)
2,記録層3,誘電層(オーバーコート層)4を設けさ
らにその上に保護コート層5を設けた構成,あるいは第
3図に示すように基板l上に誘電層(アンダーコート層
)2、記OM43、誘電層(オーバーコート層)4,反
射層6を設けさらにその上に保護コートM5を設けた構
成のものが提案されている.そして、保護コート層5と
しては紫外線硬化樹脂膜、プラズマ重合膜,テブロン蒸
着膜などの有機高分子膜が用いられており,膜厚は1〜
30−となっている. 〔発明が解決しようとする課題〕 しかしながら,上記従来技術には以下に述べるような問
題点があった. 光磁気記録媒体の記@層に用いられている希土類一遷移
金属合金薄膜は化学的に極めて活性であるため,上述の
ように窒化物などの無機保護膜でサンドインチし,有機
高分子膜を保護コート材として塗布あるいは蒸着してい
る.ところが,有機高分子1漠は無機膜と異なり,吸水
(吸湿),透湿があり、第2図あるいは第3図のような
構成では記録層の酸化腐食を防止するのが困難である.
特に透明基板として、ポリカーボネート(pc)、ポリ
メチルメタクリレート(PMMA)、エボキシ、ボリオ
レフィンなどのプラスチック基板を用いた場合には,基
板側と有機高分子膜側で吸湿率が異なるため、ソリが大
きくなりフォーカシング、トラッキングが困難になると
いう問題があった。
さらに、磁界変調ヘッドと保護コート層との距離は1〜
2【であるため,例えば,紫外線硬化樹脂をスピンコー
ターで塗布して,保護コート材を形成する場合には,液
のはねかえりやゴミの影響などで1pa〜数10pmレ
ベルの突起物が出て磁界変調ヘッドと媒体との衝突(ヘ
ッドクラッシュ)が発生したり,媒体表面の潤滑性欠如
による磁界変調ヘッドの媒体への貼り付きが生じたりす
るという問題点があった. 一方,保護コート層を設ける代わりにボリマーからなる
厚さ1〜2Isの保護基板を設けることにより、保護コ
ーティングを行なう提案が特開昭61−8752号公報
においてなされているが、この場合,ボリマーが薄すぎ
て接合するのが困難であり、かつそのために経時に媒体
の変形が生ずるという問題がある. 本発明は以上のような事情に鑑み、記録層の酸化腐食,
媒体の変形,ヘッドクラッシュ及び磁界変調ヘッドの媒
体への貼り付きをなくシ,磁界変調方式に好適な信頼性
の高い光磁気記録媒体を提供することを目的とする. 〔課題を解決するための手段及び作用〕上記目的を達成
するため、本発明によれば、透明基板上に第1の透明誘
電体膜,非品質の希土類一遷移金属合金薄膜及び第2の
透明誘電体膜をこの順に積層し,必要に応じてその上に
反射膜を設けてなる光磁気記録媒体において、最上層と
なる前記第2の透明誘電体膜又は前記反射膜上に接着層
を介して厚さ10−30−の保護シートを設けたことを
特徴とする光磁気記録媒体が提供される.次に、本発明
の光磁気記録媒体を図面により詳細に説明する. 第1図は本発明による光磁気記録媒体の構成例を示す断
面図である.この光磁気記録媒体は基板1上に誘電層(
アンダーコート層)2、記録屑3,誘電層(オーバーコ
ート層)4を設け,さらに接着層7を介して保護シ一ト
8を設けた構成を有する.なお.本発明の光磁気記録媒
体はここに例示する構成に限定されるものでなく、例え
ば誘電層4の上に反射層を設ける等,種々の変形、変更
が可能である. 基板1の材料としてはポリカーボネート(PC)、ポリ
メチルメタクリレート(PMMA) .エボキシ、ポリ
オレフィン等のプラスチック、あるいはガラスが使用さ
れる.誘電層2,4はSiN. SiAQON等の材料
を用い、スバッタ法,蒸着法、イオンブレーテイング法
等により,500〜2000人の膜厚に形成される.記
録層3としては希土類金属と遷移金属とを組み合わせた
垂直磁気異方性を有する非品質の合金,例えばTbFe
Co, GdTbFeCo, TbDyFaCo等の薄
膜が用いられる.この薄膜はスパッタ法,蒸着法等によ
り500〜1000人の膜厚に形成される.接着層7は
保護シ一ト8と誘電層4を接合する層で、紫外線硬化接
着剤、ホットメルト接着剤等を用い、10〜30μmの
厚さに形成される.保護シ一ト8はガラス、ポリマー、
金属,セラミックなどのシートからなり、厚みが10〜
30paのものが使用される.この厚みが10pmより
小さいと貼り合わせが困難となる.磁界変調ヘッドの媒
体への貼り付きを効果的に防止するためには保護シ一ト
δに潤滑剤を塗布あるいは含浸させることがより好まし
い.潤滑剤としてはトリアコンチルトリメトキシシラン
、ベルフルオロボリエーテル等が使用可能である.また
、この保護シ一ト8は表面粗さが0.3一以下,硬度(
エンビツ硬度)がH以上であることが好ましい.〔実施
例〕 次に本発明の実施例について説明する.(実施例) 基板としてプレグループが形成された直径3.5インチ
(約891)、厚さ1 . 2g+nのポリカーボネー
ト板を用い,該基板上にスパッタリングにより誘電層(
アンダーコート層)、記録層,誘電層(オーバーコート
層)としてSiNx、(Tba−sDys−i)sJ6
asCOs−SiNxの各膜をSOO人,900人,8
00人の膜厚に形成した.その後,あらかじめ潤滑剤と
してトリアコンチルトリメトキシシランが塗布された3
0.厚のガラスシ一トを下記組成のエポキシ樹脂組成物
からなる接着剤を用いて上記誘電層(オーバーコート層
)上に設け,光磁気記録媒体を作製した.エポキシ樹脂
組成物; (R,:チオエーテル結合を含む) ・・・(III)
(比較例) 実施例1において,上記エボキシ樹脂組成物からなる接
着剤を用いてガラスシ一トを設ける代bりにスピンコー
ターにより上記と同じ組成のエポキシ樹脂組成物を用い
て厚さ30−の保護コート層を設けた以外は同様にして
光磁気記録媒体を作製した.以上のようにして作製した
実施例及び比較例の光磁気記録媒体について80℃85
%R}I環境試験及びビンオンディスク試験(摩耗試験
)を実施した.80’CB5%RH環境試験の結果Cビ
ットエラーレートの経時変化)を第4図に,ビンオンデ
ィスク試験の結果を第5図にそれぞれ示す. 第4図に示すように,実施例の光磁気記録媒体は80℃
85%R}lで1500時間経過後もピットエラーレー
トの変化はないが,比較例の光磁気記録媒体はiooo
時間以降ピットエラーレートの増加がみられた.本発明
の実施例の光磁気記録媒体では記録層を劣化させる水の
侵入が端部に限られるため,従来構成の媒体(比較例)
に比べ酸化腐食の恐れがなくなり、信頼性が向上してい
ることがわかる〔比較例は透湿,吸水のある樹脂を保護
コートしているため,実施例(透湿,吸水のないガラス
を接着)に比べ信頼性に劣る.〕. また、第5図から明らかなように、実施例では硬度にす
ぐれたガラスを用いかつ潤滑剤を用いているため、摩擦
力の経時的な変化がほとんどなく,かつ摩耗もないのに
対し,比較例では表面粗さが大きくかつ摩擦が進むため
,摩擦力が増大した.比較例の光磁気記録媒体に潤滑剤
(クライトツクス)を塗布した試料は塗布なしの試料よ
りも摩擦特性はよいが,第5図に示すようにその効果は
長続きしなかった. 〔発明の効果〕 以上詳細に説明したように,本発明によれば,最上層上
に接着層を介して厚さ10−30μmの保護コートを設
けたので、従来の樹脂をコーティングした光磁気記録媒
体と比較して、次のような効果を得ることができる. ■保護シートは透湿・吸水がない(或いは少ない)ので
、耐環境性にすぐれ(記録膜の腐食媒体の変形が防止さ
れる)長期安定性が向上する.■保護シートの表面粗さ
の制御が容易であり,硬度にすぐれた材質の保護シート
を使用することにより,ヘッドクラッシュがなくなり、
耐摩耗性が向上する.
2【であるため,例えば,紫外線硬化樹脂をスピンコー
ターで塗布して,保護コート材を形成する場合には,液
のはねかえりやゴミの影響などで1pa〜数10pmレ
ベルの突起物が出て磁界変調ヘッドと媒体との衝突(ヘ
ッドクラッシュ)が発生したり,媒体表面の潤滑性欠如
による磁界変調ヘッドの媒体への貼り付きが生じたりす
るという問題点があった. 一方,保護コート層を設ける代わりにボリマーからなる
厚さ1〜2Isの保護基板を設けることにより、保護コ
ーティングを行なう提案が特開昭61−8752号公報
においてなされているが、この場合,ボリマーが薄すぎ
て接合するのが困難であり、かつそのために経時に媒体
の変形が生ずるという問題がある. 本発明は以上のような事情に鑑み、記録層の酸化腐食,
媒体の変形,ヘッドクラッシュ及び磁界変調ヘッドの媒
体への貼り付きをなくシ,磁界変調方式に好適な信頼性
の高い光磁気記録媒体を提供することを目的とする. 〔課題を解決するための手段及び作用〕上記目的を達成
するため、本発明によれば、透明基板上に第1の透明誘
電体膜,非品質の希土類一遷移金属合金薄膜及び第2の
透明誘電体膜をこの順に積層し,必要に応じてその上に
反射膜を設けてなる光磁気記録媒体において、最上層と
なる前記第2の透明誘電体膜又は前記反射膜上に接着層
を介して厚さ10−30−の保護シートを設けたことを
特徴とする光磁気記録媒体が提供される.次に、本発明
の光磁気記録媒体を図面により詳細に説明する. 第1図は本発明による光磁気記録媒体の構成例を示す断
面図である.この光磁気記録媒体は基板1上に誘電層(
アンダーコート層)2、記録屑3,誘電層(オーバーコ
ート層)4を設け,さらに接着層7を介して保護シ一ト
8を設けた構成を有する.なお.本発明の光磁気記録媒
体はここに例示する構成に限定されるものでなく、例え
ば誘電層4の上に反射層を設ける等,種々の変形、変更
が可能である. 基板1の材料としてはポリカーボネート(PC)、ポリ
メチルメタクリレート(PMMA) .エボキシ、ポリ
オレフィン等のプラスチック、あるいはガラスが使用さ
れる.誘電層2,4はSiN. SiAQON等の材料
を用い、スバッタ法,蒸着法、イオンブレーテイング法
等により,500〜2000人の膜厚に形成される.記
録層3としては希土類金属と遷移金属とを組み合わせた
垂直磁気異方性を有する非品質の合金,例えばTbFe
Co, GdTbFeCo, TbDyFaCo等の薄
膜が用いられる.この薄膜はスパッタ法,蒸着法等によ
り500〜1000人の膜厚に形成される.接着層7は
保護シ一ト8と誘電層4を接合する層で、紫外線硬化接
着剤、ホットメルト接着剤等を用い、10〜30μmの
厚さに形成される.保護シ一ト8はガラス、ポリマー、
金属,セラミックなどのシートからなり、厚みが10〜
30paのものが使用される.この厚みが10pmより
小さいと貼り合わせが困難となる.磁界変調ヘッドの媒
体への貼り付きを効果的に防止するためには保護シ一ト
δに潤滑剤を塗布あるいは含浸させることがより好まし
い.潤滑剤としてはトリアコンチルトリメトキシシラン
、ベルフルオロボリエーテル等が使用可能である.また
、この保護シ一ト8は表面粗さが0.3一以下,硬度(
エンビツ硬度)がH以上であることが好ましい.〔実施
例〕 次に本発明の実施例について説明する.(実施例) 基板としてプレグループが形成された直径3.5インチ
(約891)、厚さ1 . 2g+nのポリカーボネー
ト板を用い,該基板上にスパッタリングにより誘電層(
アンダーコート層)、記録層,誘電層(オーバーコート
層)としてSiNx、(Tba−sDys−i)sJ6
asCOs−SiNxの各膜をSOO人,900人,8
00人の膜厚に形成した.その後,あらかじめ潤滑剤と
してトリアコンチルトリメトキシシランが塗布された3
0.厚のガラスシ一トを下記組成のエポキシ樹脂組成物
からなる接着剤を用いて上記誘電層(オーバーコート層
)上に設け,光磁気記録媒体を作製した.エポキシ樹脂
組成物; (R,:チオエーテル結合を含む) ・・・(III)
(比較例) 実施例1において,上記エボキシ樹脂組成物からなる接
着剤を用いてガラスシ一トを設ける代bりにスピンコー
ターにより上記と同じ組成のエポキシ樹脂組成物を用い
て厚さ30−の保護コート層を設けた以外は同様にして
光磁気記録媒体を作製した.以上のようにして作製した
実施例及び比較例の光磁気記録媒体について80℃85
%R}I環境試験及びビンオンディスク試験(摩耗試験
)を実施した.80’CB5%RH環境試験の結果Cビ
ットエラーレートの経時変化)を第4図に,ビンオンデ
ィスク試験の結果を第5図にそれぞれ示す. 第4図に示すように,実施例の光磁気記録媒体は80℃
85%R}lで1500時間経過後もピットエラーレー
トの変化はないが,比較例の光磁気記録媒体はiooo
時間以降ピットエラーレートの増加がみられた.本発明
の実施例の光磁気記録媒体では記録層を劣化させる水の
侵入が端部に限られるため,従来構成の媒体(比較例)
に比べ酸化腐食の恐れがなくなり、信頼性が向上してい
ることがわかる〔比較例は透湿,吸水のある樹脂を保護
コートしているため,実施例(透湿,吸水のないガラス
を接着)に比べ信頼性に劣る.〕. また、第5図から明らかなように、実施例では硬度にす
ぐれたガラスを用いかつ潤滑剤を用いているため、摩擦
力の経時的な変化がほとんどなく,かつ摩耗もないのに
対し,比較例では表面粗さが大きくかつ摩擦が進むため
,摩擦力が増大した.比較例の光磁気記録媒体に潤滑剤
(クライトツクス)を塗布した試料は塗布なしの試料よ
りも摩擦特性はよいが,第5図に示すようにその効果は
長続きしなかった. 〔発明の効果〕 以上詳細に説明したように,本発明によれば,最上層上
に接着層を介して厚さ10−30μmの保護コートを設
けたので、従来の樹脂をコーティングした光磁気記録媒
体と比較して、次のような効果を得ることができる. ■保護シートは透湿・吸水がない(或いは少ない)ので
、耐環境性にすぐれ(記録膜の腐食媒体の変形が防止さ
れる)長期安定性が向上する.■保護シートの表面粗さ
の制御が容易であり,硬度にすぐれた材質の保護シート
を使用することにより,ヘッドクラッシュがなくなり、
耐摩耗性が向上する.
第1図は本発明による光磁気記録媒体の層構成例を示す
断面図、第2図及び第3図はそれぞれ従来の光磁気記録
媒体の層構成例を示す断面図、第4図は80℃85%R
}I環境試験の結果を示すグラフ、第5図はビンオンデ
ィスク試験の結果を示すグラフである. 】・・・基板 2,4・・・誘電層3・・・記
録層 7・・・接着層8・・・保護シート
断面図、第2図及び第3図はそれぞれ従来の光磁気記録
媒体の層構成例を示す断面図、第4図は80℃85%R
}I環境試験の結果を示すグラフ、第5図はビンオンデ
ィスク試験の結果を示すグラフである. 】・・・基板 2,4・・・誘電層3・・・記
録層 7・・・接着層8・・・保護シート
Claims (1)
- (1)透明基板上に第1の透明誘電体膜、非品質の希土
類−遷移金属合金薄膜及び第2の透明誘電体膜をこの順
に積層し、必要に応じてその上に反射膜を設けてなる光
磁気記録媒体において、 最上層となる前記第2の透明誘電体膜又は前記反射膜上
に接着層を介して厚さ10〜30μmの保護シートを設
けたことを特徴とする光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5914389A JPH02239447A (ja) | 1989-03-10 | 1989-03-10 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5914389A JPH02239447A (ja) | 1989-03-10 | 1989-03-10 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02239447A true JPH02239447A (ja) | 1990-09-21 |
Family
ID=13104813
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5914389A Pending JPH02239447A (ja) | 1989-03-10 | 1989-03-10 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02239447A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0620083A1 (en) * | 1993-04-15 | 1994-10-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive article incorporating an energy cured hot melt make coat |
US7575653B2 (en) | 1993-04-15 | 2009-08-18 | 3M Innovative Properties Company | Melt-flowable materials and method of sealing surfaces |
-
1989
- 1989-03-10 JP JP5914389A patent/JPH02239447A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5436063A (en) * | 1993-04-15 | 1995-07-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive article incorporating an energy cured hot melt make coat |
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