JP2730223B2 - 光磁気ディスク - Google Patents
光磁気ディスクInfo
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- JP2730223B2 JP2730223B2 JP1296533A JP29653389A JP2730223B2 JP 2730223 B2 JP2730223 B2 JP 2730223B2 JP 1296533 A JP1296533 A JP 1296533A JP 29653389 A JP29653389 A JP 29653389A JP 2730223 B2 JP2730223 B2 JP 2730223B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はオーバーライト可能な磁界変調方式の光磁気
記録媒体に関するものである。
記録媒体に関するものである。
従来の技術 近年、光磁気ディスクは高密度記録メディアとして注
目され、一部商品化されている。
目され、一部商品化されている。
光磁気ディスクは半導体レーザなどの光を用いて記録
再生を行う記録メディアである。
再生を行う記録メディアである。
垂直磁化膜である光磁気記録膜（TbFeCo、DyFeCoなど
の希土類−遷移金属非晶質合金）にレーザ光を照射して
局所加熱すると、この領域の光磁気記録層の保磁力が減
少する。この時、外部磁化を印加して磁化の向きを変
え、情報の書き込み、消去を行う。
の希土類−遷移金属非晶質合金）にレーザ光を照射して
局所加熱すると、この領域の光磁気記録層の保磁力が減
少する。この時、外部磁化を印加して磁化の向きを変
え、情報の書き込み、消去を行う。
情報の再生は、カー効果やファラデー効果などの磁気
光学効果を利用する。
光学効果を利用する。
さて、記録方法には、前記レーザ光の照射及び外部印
加磁界のいずれを変調するかにより、光変調方式と磁界
変調方式がある。
加磁界のいずれを変調するかにより、光変調方式と磁界
変調方式がある。
前記光変調方式は外部印加磁界の向きを固定し、レー
ザ光の強度変調を行う。通常、消去と書き込みを同時に
行うオーバーライトはできず、消去モードと書き込みモ
ードが必要であり、情報の転送速度が遅いという課題が
ある。
ザ光の強度変調を行う。通常、消去と書き込みを同時に
行うオーバーライトはできず、消去モードと書き込みモ
ードが必要であり、情報の転送速度が遅いという課題が
ある。
前記光変調方式のオーバーライトを行うために、磁気
交換結合を用いた２層膜方式（例えば特開昭62−17594
8）や磁壁エネルギーを制御する方式（例えばデー.4ル
ーガー，ジェー．シー．スゥィツ，アンド シー．ジェ
ー．リン：熱誘導磁壁エネルギー勾配を利用したテリビ
ュウム鉄の熱磁気ダイレクトオーバーライト，アプライ
ド フィジックス レター,52巻（18）,2号,1537頁,198
8年５月［D.Ruger,J.C.Suits,and C.−J.Lin:Thermo−
magnetic direct overwrite in TbFe using ther
mally induced domain wall energygradient,Appl.
Phys.Lett.52（18）,2,p.1537,May 1988］）が考案さ
れているが、前者は3KOeから5KOeという大きな外部印加
磁界が必要であり、光磁気ディスクドライブ装置の小型
化、低コスト化が困難であるという課題を有している。
また、後者はその制御性の困難さから、まだ実用化に至
っていない。
交換結合を用いた２層膜方式（例えば特開昭62−17594
8）や磁壁エネルギーを制御する方式（例えばデー.4ル
ーガー，ジェー．シー．スゥィツ，アンド シー．ジェ
ー．リン：熱誘導磁壁エネルギー勾配を利用したテリビ
ュウム鉄の熱磁気ダイレクトオーバーライト，アプライ
ド フィジックス レター,52巻（18）,2号,1537頁,198
8年５月［D.Ruger,J.C.Suits,and C.−J.Lin:Thermo−
magnetic direct overwrite in TbFe using ther
mally induced domain wall energygradient,Appl.
Phys.Lett.52（18）,2,p.1537,May 1988］）が考案さ
れているが、前者は3KOeから5KOeという大きな外部印加
磁界が必要であり、光磁気ディスクドライブ装置の小型
化、低コスト化が困難であるという課題を有している。
また、後者はその制御性の困難さから、まだ実用化に至
っていない。
前記磁界変調方式はレーザ光の強度を固定し、外部印
加磁界の向きを変調する方式である。変調した外部印加
磁界を発生する手段として、例えば磁気ディスク装置に
用いられている浮動型磁気ヘッドがある（例えば公開特
許公報昭63−229643）。磁気ヘッドのコイルに流す電流
を変調し、外部印加磁界の変調を行うことができる。
加磁界の向きを変調する方式である。変調した外部印加
磁界を発生する手段として、例えば磁気ディスク装置に
用いられている浮動型磁気ヘッドがある（例えば公開特
許公報昭63−229643）。磁気ヘッドのコイルに流す電流
を変調し、外部印加磁界の変調を行うことができる。
しかしながら、レーザ光により局部的に加熱された光
磁気記録層の磁化を反転する為に必要な磁界は、磁気ヘ
ッドの近傍にのみ発生しており、磁気ヘッドと光磁気記
録層の距離はできる限り近づける必要がある。
磁気記録層の磁化を反転する為に必要な磁界は、磁気ヘ
ッドの近傍にのみ発生しており、磁気ヘッドと光磁気記
録層の距離はできる限り近づける必要がある。
浮動型磁気ヘッドは、気体潤滑作用を利用して低浮上
（例えば数μｍ以下）できるものであり、その構成を簡
素にするためにコンタクトスタートストップ（以下CSS
と略す）方式が必須である。
（例えば数μｍ以下）できるものであり、その構成を簡
素にするためにコンタクトスタートストップ（以下CSS
と略す）方式が必須である。
光磁気ディスクにおいてCSS方式を行うためには、 １、 光磁気ディスク静止時に、ディスク面と磁気ヘッ
ド、スライダー面が吸着しないこと、 ２、 光磁気ディスクの回転始動及び停止時の磁気ヘッ
ド接触走行時に、磁気ヘッドが光磁気ディスクの光磁気
記録層を破壊しないこと、 ３、 磁気ヘッドの浮上を妨げる塵が磁気ヘッドのスラ
イダー面に付着しないこと、が必要である。
ド、スライダー面が吸着しないこと、 ２、 光磁気ディスクの回転始動及び停止時の磁気ヘッ
ド接触走行時に、磁気ヘッドが光磁気ディスクの光磁気
記録層を破壊しないこと、 ３、 磁気ヘッドの浮上を妨げる塵が磁気ヘッドのスラ
イダー面に付着しないこと、が必要である。
上述した条件を満たすために、基板上に、第１保護
膜、光磁気記録層及び第２保護膜を順次形成し、前記第
２保護膜上に、熱硬化性樹脂にアルミナ粉及び熱可塑性
樹脂を配合し、かつ膜内に潤滑剤を含浸した混合樹脂蘇
生物を設けた光磁気ディスクが提案されている。（例え
ば特開昭63−229643号公報） 以下、図面を参照しながら、上述した従来の光磁気デ
ィスクの一例について説明する。
膜、光磁気記録層及び第２保護膜を順次形成し、前記第
２保護膜上に、熱硬化性樹脂にアルミナ粉及び熱可塑性
樹脂を配合し、かつ膜内に潤滑剤を含浸した混合樹脂蘇
生物を設けた光磁気ディスクが提案されている。（例え
ば特開昭63−229643号公報） 以下、図面を参照しながら、上述した従来の光磁気デ
ィスクの一例について説明する。
第７図は従来の光磁気ディスクの構成を示す断面図で
ある。第５図において、11はガラス基板、12はプリグル
ープパターンを持つ紫外線硬化性樹脂膜（通常厚さ10〜
100μｍ）、13はZnSまたはSiNで構成される第１保護膜
（通常厚さ60〜150nm）、14はTbFeCo光磁気記録膜（通
常厚さ20〜150nm）、15はZnSまたはSiNで構成される第
２保護膜（通常厚さ60〜150nm）、16はアルミナ粉、ポ
リビニルメチルエーテル樹脂、熱硬化性エポキシ樹脂で
構成される混合樹脂組成物を塗布したクラッシュ防止膜
（厚さ１μｍ）、17はフッ化カーボン系オイル、19はス
ライダー、20はスライダー19の一端に設置される磁気ヘ
ッド、21は対物レンズ、22はレーザ光、23はディスク回
転駆動装置である。
ある。第５図において、11はガラス基板、12はプリグル
ープパターンを持つ紫外線硬化性樹脂膜（通常厚さ10〜
100μｍ）、13はZnSまたはSiNで構成される第１保護膜
（通常厚さ60〜150nm）、14はTbFeCo光磁気記録膜（通
常厚さ20〜150nm）、15はZnSまたはSiNで構成される第
２保護膜（通常厚さ60〜150nm）、16はアルミナ粉、ポ
リビニルメチルエーテル樹脂、熱硬化性エポキシ樹脂で
構成される混合樹脂組成物を塗布したクラッシュ防止膜
（厚さ１μｍ）、17はフッ化カーボン系オイル、19はス
ライダー、20はスライダー19の一端に設置される磁気ヘ
ッド、21は対物レンズ、22はレーザ光、23はディスク回
転駆動装置である。
以上のように構成された従来の光磁気ディスクについ
て、以下第７図を参照しながらその動作について説明す
る。
て、以下第７図を参照しながらその動作について説明す
る。
ディスク回転駆動装置23が静止時は、スライダー19は
光磁気ディスクのクラッシュ防止膜16にフッ化カーボン
系オイル17を介して接触している。
光磁気ディスクのクラッシュ防止膜16にフッ化カーボン
系オイル17を介して接触している。
ディスク回転駆動装置23が駆動するとスライダー19は
フッ化カーボン系オイル17上を滑走する。ディスク回転
駆動装置23の回転速度が上昇し、スライダー19とクラッ
シュ防止膜16の相対速度が概略1m/s以上に達すると、ス
ライダー19及び磁気ヘッド20はフッ化カーボン系オイル
17から浮上する。
フッ化カーボン系オイル17上を滑走する。ディスク回転
駆動装置23の回転速度が上昇し、スライダー19とクラッ
シュ防止膜16の相対速度が概略1m/s以上に達すると、ス
ライダー19及び磁気ヘッド20はフッ化カーボン系オイル
17から浮上する。
磁気ヘッド20が浮上後、磁気ヘッド20と対物レンズ21
及びレーザ光22はアクセス駆動系（図示せず）により、
ディスク上の任意の位置に移動し、レーザ光22で光磁気
記録膜14を局所的に加熱し、磁気ヘッド20のヘッドコイ
ル（図示せず）に変調電流を流すことにより、光磁気記
録膜14に情報を書き込む。
及びレーザ光22はアクセス駆動系（図示せず）により、
ディスク上の任意の位置に移動し、レーザ光22で光磁気
記録膜14を局所的に加熱し、磁気ヘッド20のヘッドコイ
ル（図示せず）に変調電流を流すことにより、光磁気記
録膜14に情報を書き込む。
光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了し、ディス
ク回転駆動装置23を停止する場合、スライダー19及び磁
気ヘッド20は浮上走行から滑走走行に移り、フッ化カー
ボン系オイル17を潤滑剤として接触走行し、クラッシュ
防止膜16上に静止する。
ク回転駆動装置23を停止する場合、スライダー19及び磁
気ヘッド20は浮上走行から滑走走行に移り、フッ化カー
ボン系オイル17を潤滑剤として接触走行し、クラッシュ
防止膜16上に静止する。
発明が解決しようとする課題 しかしながら上記のような構成では、CSS試験を繰り
返すとクラッシュ防止膜16上のフッ化カーボン系オイル
17に大気中を浮遊する塵が付着し、この塵がスライダー
19及び磁気ヘッド20に再付着し、磁気ヘッド20の浮上走
行が妨げられ、光磁気記録膜14への印加磁界の強度が安
定せず、情報の書き込みが完全に行われず、再生信号エ
ラーが増加するという課題、さらに、高湿状態のCSSで
は、クラッシュ防止膜16と磁気ヘッド20との吸着も、非
定常的ながら発生するという課題を有している。
返すとクラッシュ防止膜16上のフッ化カーボン系オイル
17に大気中を浮遊する塵が付着し、この塵がスライダー
19及び磁気ヘッド20に再付着し、磁気ヘッド20の浮上走
行が妨げられ、光磁気記録膜14への印加磁界の強度が安
定せず、情報の書き込みが完全に行われず、再生信号エ
ラーが増加するという課題、さらに、高湿状態のCSSで
は、クラッシュ防止膜16と磁気ヘッド20との吸着も、非
定常的ながら発生するという課題を有している。
本発明は上記課題に鑑み、、スライダー19及び磁気ヘ
ッド20への塵付着がなく、磁気ヘッド20の光磁気ディス
クへの吸着もない光磁気ディスクを提供するものであ
る。
ッド20への塵付着がなく、磁気ヘッド20の光磁気ディス
クへの吸着もない光磁気ディスクを提供するものであ
る。
課題を解決するための手段 上記課題を解決するために本発明の光磁気ディスク
は、基板上に第１保護膜、光磁気記録膜及び第２保護膜
を順次形成し、第２保護膜上に研磨剤と静電防止剤と潤
滑剤を含有する熱硬化性樹脂を、一般式（熱硬化性樹
脂）Ｐ［（研磨剤）Ｘ（静電防止剤）Ｙ（潤滑剤）Ｚ］
1-P、但し、0.6≦Ｐ≦0.8、0.15≦Ｘ≦0.5、0.25≦Ｙ≦
0.5、0.3≦Ｚ≦0.5とする複合熱硬化性樹脂膜、または
研磨剤と静電防止剤と潤滑剤を混合した複合紫外線硬化
性樹脂膜とを形成した構成である。
は、基板上に第１保護膜、光磁気記録膜及び第２保護膜
を順次形成し、第２保護膜上に研磨剤と静電防止剤と潤
滑剤を含有する熱硬化性樹脂を、一般式（熱硬化性樹
脂）Ｐ［（研磨剤）Ｘ（静電防止剤）Ｙ（潤滑剤）Ｚ］
1-P、但し、0.6≦Ｐ≦0.8、0.15≦Ｘ≦0.5、0.25≦Ｙ≦
0.5、0.3≦Ｚ≦0.5とする複合熱硬化性樹脂膜、または
研磨剤と静電防止剤と潤滑剤を混合した複合紫外線硬化
性樹脂膜とを形成した構成である。
作用 本発明は上記した構成によって、複合熱硬化性樹脂膜
中または複合紫外線硬化性樹脂膜中に含まれる組成比を
限定した潤滑剤を用いることにより、複合熱硬化性樹脂
膜表面または複合紫外線硬化性樹脂膜表面と磁気ヘッ
ド、スライダーの動摩擦係数を低減して、磁気ヘッドの
複合熱硬化性樹脂膜上または複合紫外線硬化性樹脂膜上
の滑走を滑らかにしている。
中または複合紫外線硬化性樹脂膜中に含まれる組成比を
限定した潤滑剤を用いることにより、複合熱硬化性樹脂
膜表面または複合紫外線硬化性樹脂膜表面と磁気ヘッ
ド、スライダーの動摩擦係数を低減して、磁気ヘッドの
複合熱硬化性樹脂膜上または複合紫外線硬化性樹脂膜上
の滑走を滑らかにしている。
さらに複合熱硬化性樹脂膜または複合紫外線硬化性樹
脂膜に含まれる組成比を限定した静電防止剤を用いるこ
とにより、複合熱硬化性樹脂または複合紫外線硬化性樹
脂の電気伝導率を向上させて、光磁気ディスクの回転時
に生じる空気との摩擦による複合熱硬化性樹脂または複
合紫外線硬化性樹脂の帯電電圧を下げることができ、こ
の効果により複合熱硬化性樹脂上または複合紫外線硬化
性樹脂上への塵の静電吸着を低減し、複合熱硬化性樹脂
膜または複合紫外線硬化性樹脂膜に含まれる組成比を限
定した研磨剤を用いることにより、スライダー及び磁気
ヘッドに付着した塵を清浄する効果をもたせることによ
り、安定した磁気ヘッド浮上が達成可能な光磁気ディス
クを提供できる。
脂膜に含まれる組成比を限定した静電防止剤を用いるこ
とにより、複合熱硬化性樹脂または複合紫外線硬化性樹
脂の電気伝導率を向上させて、光磁気ディスクの回転時
に生じる空気との摩擦による複合熱硬化性樹脂または複
合紫外線硬化性樹脂の帯電電圧を下げることができ、こ
の効果により複合熱硬化性樹脂上または複合紫外線硬化
性樹脂上への塵の静電吸着を低減し、複合熱硬化性樹脂
膜または複合紫外線硬化性樹脂膜に含まれる組成比を限
定した研磨剤を用いることにより、スライダー及び磁気
ヘッドに付着した塵を清浄する効果をもたせることによ
り、安定した磁気ヘッド浮上が達成可能な光磁気ディス
クを提供できる。
実施例 以下本発明の一実施例の光磁気ディスクについて、図
面を参照しながら説明する。
面を参照しながら説明する。
第１図は、本発明の一実施例における光磁気ディスク
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
第１図において、１は基板、13はZnS、ZnSe・SiO2ま
たはSiNで構成される第１保護膜（厚さ80nm）、14はTbF
eCo光磁気記録膜（厚さ100nm）、15はZnS、ZnSe・SiO2
またはSiNで構成される第２保護膜（厚さ80nm）、３は
研磨剤として粒径0.5μｍのAl2O3微粒子（10重量％）、
潤滑剤としてステアリン酸とノルマルブチルスタレート
（12重量％）、静電防止剤としてカーボン粒子（８重量
％）を混入した複合熱硬化性樹脂膜（厚さ５μｍ）、19
はMnZnフェライトで構成されたスライダー、20はスライ
ダー19の一端に取り付けられたMnZnフェライトで構成さ
れた磁気ヘッド、21は対物レンズ、22はレーザ光、23は
ディスク回転駆動装置である。
たはSiNで構成される第１保護膜（厚さ80nm）、14はTbF
eCo光磁気記録膜（厚さ100nm）、15はZnS、ZnSe・SiO2
またはSiNで構成される第２保護膜（厚さ80nm）、３は
研磨剤として粒径0.5μｍのAl2O3微粒子（10重量％）、
潤滑剤としてステアリン酸とノルマルブチルスタレート
（12重量％）、静電防止剤としてカーボン粒子（８重量
％）を混入した複合熱硬化性樹脂膜（厚さ５μｍ）、19
はMnZnフェライトで構成されたスライダー、20はスライ
ダー19の一端に取り付けられたMnZnフェライトで構成さ
れた磁気ヘッド、21は対物レンズ、22はレーザ光、23は
ディスク回転駆動装置である。
以上のように構成された本発明の一実施例による光磁
気ディスクについて、以下第１図を用いてその動作を説
明する。
気ディスクについて、以下第１図を用いてその動作を説
明する。
ディスク回転駆動装置23が静止時はスライダー19は光
磁気ディスクの複合熱硬化性樹脂膜３に接触している。
磁気ディスクの複合熱硬化性樹脂膜３に接触している。
複合熱硬化性樹脂膜３に含有している潤滑剤が複合熱
硬化性樹脂３の表面ににじみ出し、複合熱硬化性樹脂膜
３とスライダー19の動摩擦係数は0.3〜0.5となる。ディ
スク回転駆動装置23が駆動するとスライダー19は複合熱
硬化性樹脂膜３上を滑らかに滑走する。ディスク回転駆
動装置23の回転速度が上昇し、スライダー19と複合熱硬
化性樹脂膜３の相対速度が概略1m/s以上に達すると、ス
ライダー19及び磁気ヘッド20は複合熱硬化性樹脂膜３か
ら浮上する。
硬化性樹脂３の表面ににじみ出し、複合熱硬化性樹脂膜
３とスライダー19の動摩擦係数は0.3〜0.5となる。ディ
スク回転駆動装置23が駆動するとスライダー19は複合熱
硬化性樹脂膜３上を滑らかに滑走する。ディスク回転駆
動装置23の回転速度が上昇し、スライダー19と複合熱硬
化性樹脂膜３の相対速度が概略1m/s以上に達すると、ス
ライダー19及び磁気ヘッド20は複合熱硬化性樹脂膜３か
ら浮上する。
磁気ヘッド20が浮上後、磁気ヘッド20と対物レンズ21
及びレーザ光22はアクセス駆動系（図示せず）により、
ディスク上の任意の位置に移動し、レーザ光22で光磁気
記録膜14を局所的に加熱し、磁気ヘッド20のヘッドコイ
ル（図示せず）変調電流を流すことにより、光磁気記録
膜14に情報を書き込む。
及びレーザ光22はアクセス駆動系（図示せず）により、
ディスク上の任意の位置に移動し、レーザ光22で光磁気
記録膜14を局所的に加熱し、磁気ヘッド20のヘッドコイ
ル（図示せず）変調電流を流すことにより、光磁気記録
膜14に情報を書き込む。
光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了し、ディス
ク回転駆動装置23を停止した場合、スライダー19および
磁気ヘッド20は浮上走行から滑走走行に移り、複合熱硬
化性樹脂待３上に静止する。
ク回転駆動装置23を停止した場合、スライダー19および
磁気ヘッド20は浮上走行から滑走走行に移り、複合熱硬
化性樹脂待３上に静止する。
光磁気記録膜14の記録再生特性の経時変化を第２図に
描く。第２図は30℃80％RH多塵環境下で、１回/15分の
割合でCSS、記録再生を繰り返した場合の経過時間に対
する再生信号エラーの変化を示したものである。第２図
に於いて、Ｂは従来の構成による光磁気ディスクの再生
信号エラーの変化、Ａは本実施例に於ける構成による光
磁気ディスクの再生信号エラーの変化である。第２図か
ら明らかなように従来例にみられるエラー増加は認めら
れない。
描く。第２図は30℃80％RH多塵環境下で、１回/15分の
割合でCSS、記録再生を繰り返した場合の経過時間に対
する再生信号エラーの変化を示したものである。第２図
に於いて、Ｂは従来の構成による光磁気ディスクの再生
信号エラーの変化、Ａは本実施例に於ける構成による光
磁気ディスクの再生信号エラーの変化である。第２図か
ら明らかなように従来例にみられるエラー増加は認めら
れない。
これは複合熱硬化性樹脂膜３に含まれる静電防止剤に
より複合熱硬化性樹脂膜３上への塵の静電吸着は低減さ
れ、複合熱硬化性樹脂膜３に含まれる研磨剤によりスラ
イダー19及び磁気ヘッド20に付着した塵を清浄する効果
があり、磁気ヘッド20は安定した浮上走行を行うことが
でき、磁気ヘッド20による光磁気記録膜14への磁界印加
が安定するためである。
より複合熱硬化性樹脂膜３上への塵の静電吸着は低減さ
れ、複合熱硬化性樹脂膜３に含まれる研磨剤によりスラ
イダー19及び磁気ヘッド20に付着した塵を清浄する効果
があり、磁気ヘッド20は安定した浮上走行を行うことが
でき、磁気ヘッド20による光磁気記録膜14への磁界印加
が安定するためである。
複合熱硬化性樹脂膜３に含まれる研磨剤、静電防止
剤、潤滑剤の再生信号エラーの増加防止効果を詳細に調
べた。
剤、潤滑剤の再生信号エラーの増加防止効果を詳細に調
べた。
30℃80％RH多塵環境下で、１回/15分の割合でCSS試
験、記録再生を10000時間繰り返した後の再生信号エラ
ーの変化を、（熱硬化性樹脂）Ｐ［（研磨剤）Ｘ（静電
防止剤）Ｙ（潤滑剤）Ｚ］１−Ｐ、で示した各組成に対
して表したものを第３図〜第６図に示す。
験、記録再生を10000時間繰り返した後の再生信号エラ
ーの変化を、（熱硬化性樹脂）Ｐ［（研磨剤）Ｘ（静電
防止剤）Ｙ（潤滑剤）Ｚ］１−Ｐ、で示した各組成に対
して表したものを第３図〜第６図に示す。
第３図において、縦軸は再生信号エラー、横軸は複合
熱硬化性樹脂膜３の組成比Ｐ、第４図において、縦軸は
再生信号エラー、横軸は研磨剤の組成比Ｘ、第５図にお
いて、縦軸は再生信号エラー、横軸は静電防止剤の組成
比Ｙ、第６図において、縦軸は再生信号エラー、横軸は
潤滑剤の組成比Ｚである。
熱硬化性樹脂膜３の組成比Ｐ、第４図において、縦軸は
再生信号エラー、横軸は研磨剤の組成比Ｘ、第５図にお
いて、縦軸は再生信号エラー、横軸は静電防止剤の組成
比Ｙ、第６図において、縦軸は再生信号エラー、横軸は
潤滑剤の組成比Ｚである。
次に、第３図〜第６図のエラー増加の様子を説明す
る。
る。
第３図において、組成比Ｐが0.6以下でエラー増加が
みられるのは、複合熱硬化性樹脂膜３と第２保護膜15の
接着性が低下し、複合熱硬化性樹脂膜３の剥離によるも
のである。即ち、第２保護膜15へのスライダー19の接触
に伴い、第２保護膜15の保護機能が低下し、光磁気記録
膜14の保磁力が低下したためである。また、組成比Ｐが
0.8以上でエラー増加がみられるのは、潤滑性及び研磨
性の不足による、磁気ヘッド20の浮上安定性欠如によ
り、スライダー19の不規則振動が生じ、光磁気記録膜14
上の磁界強度が不安定となるためである。
みられるのは、複合熱硬化性樹脂膜３と第２保護膜15の
接着性が低下し、複合熱硬化性樹脂膜３の剥離によるも
のである。即ち、第２保護膜15へのスライダー19の接触
に伴い、第２保護膜15の保護機能が低下し、光磁気記録
膜14の保磁力が低下したためである。また、組成比Ｐが
0.8以上でエラー増加がみられるのは、潤滑性及び研磨
性の不足による、磁気ヘッド20の浮上安定性欠如によ
り、スライダー19の不規則振動が生じ、光磁気記録膜14
上の磁界強度が不安定となるためである。
第４図において、組成比Ｘが0.15以下でエラー増加が
みられるのは、研磨性不足による磁気ヘッド20の浮上安
定性欠如によるものである。また、組成比Ｘが0.5以上
でエラー増加がみられるのは、研磨性の過剰による磁気
ヘッド20の形状変化（磁気ヘッド20の研磨）に伴う浮上
安定性欠如によるものである。
みられるのは、研磨性不足による磁気ヘッド20の浮上安
定性欠如によるものである。また、組成比Ｘが0.5以上
でエラー増加がみられるのは、研磨性の過剰による磁気
ヘッド20の形状変化（磁気ヘッド20の研磨）に伴う浮上
安定性欠如によるものである。
第５図において、組成比Ｙが0.25以下でエラー増加が
みられるのは、静電防止効果の低下による複合熱硬化性
樹脂膜３上への塵付着による磁気ヘッド20の浮上安定性
欠如に伴うものである。また、組成比Ｙが0.5以上でエ
ラー増加がみられるのは、潤滑性及び研磨性の不足によ
る磁気ヘッド20の浮上安定性欠如によるものである。
みられるのは、静電防止効果の低下による複合熱硬化性
樹脂膜３上への塵付着による磁気ヘッド20の浮上安定性
欠如に伴うものである。また、組成比Ｙが0.5以上でエ
ラー増加がみられるのは、潤滑性及び研磨性の不足によ
る磁気ヘッド20の浮上安定性欠如によるものである。
第６図において、組成比Ｚが0.3以下でエラー増加が
みられるのは、潤滑性及び研磨性の不足による磁気ヘッ
ド20の浮上安定性欠如によるものである。また、組成比
Ｚが0.5以上でエラー増加がみられるのは、潤滑剤によ
る塵吸着の増加による磁気ヘッド20の浮上安定性欠如に
よるものである。そしてこの場合には、複合熱硬化性樹
脂膜３と磁気ヘッド20の吸着が非定常的ではあるが発生
する。
みられるのは、潤滑性及び研磨性の不足による磁気ヘッ
ド20の浮上安定性欠如によるものである。また、組成比
Ｚが0.5以上でエラー増加がみられるのは、潤滑剤によ
る塵吸着の増加による磁気ヘッド20の浮上安定性欠如に
よるものである。そしてこの場合には、複合熱硬化性樹
脂膜３と磁気ヘッド20の吸着が非定常的ではあるが発生
する。
以上のように本実施例によれば、基板１上に第１保護
膜13、光磁気記録層14及び第２保護膜15を順次形成し、
第２保護膜15上に、研磨剤、潤滑剤及び静電防止剤を混
入した複合熱硬化性樹脂膜を設け、その組成範囲を （熱硬化性樹脂）Ｐ［（研磨剤）Ｘ（静電防止剤）Ｙ
（潤滑剤）Ｚ］１−Ｐで示した、 0.6≦Ｐ≦0.8、0.15≦Ｘ≦0.5、 0.25≦Ｙ≦0.5、0.3≦Ｚ≦0.5、 の重量比範囲にすることにより、安定した記録が実現で
きる光磁気ディスクを提供することができる。
膜13、光磁気記録層14及び第２保護膜15を順次形成し、
第２保護膜15上に、研磨剤、潤滑剤及び静電防止剤を混
入した複合熱硬化性樹脂膜を設け、その組成範囲を （熱硬化性樹脂）Ｐ［（研磨剤）Ｘ（静電防止剤）Ｙ
（潤滑剤）Ｚ］１−Ｐで示した、 0.6≦Ｐ≦0.8、0.15≦Ｘ≦0.5、 0.25≦Ｙ≦0.5、0.3≦Ｚ≦0.5、 の重量比範囲にすることにより、安定した記録が実現で
きる光磁気ディスクを提供することができる。
なお、本実施例では、第２保護膜15上に塗布する樹脂
として、研磨剤、潤滑剤、静電防止剤を混入した複合熱
硬化性樹脂膜３を用いたが、第２保護膜15上に塗布する
樹脂として、研磨剤、潤滑剤、静電防止剤を混入した複
合紫外線硬化性樹脂膜としてもよい。
として、研磨剤、潤滑剤、静電防止剤を混入した複合熱
硬化性樹脂膜３を用いたが、第２保護膜15上に塗布する
樹脂として、研磨剤、潤滑剤、静電防止剤を混入した複
合紫外線硬化性樹脂膜としてもよい。
この場合、本実施例の効果と共に、紫外線硬化樹脂の
採用で樹脂の硬化時間を短縮できるという効果を合わせ
持つことができる。
採用で樹脂の硬化時間を短縮できるという効果を合わせ
持つことができる。
また、本実施例では、複合熱硬化性樹脂膜３に混入す
る研磨剤としてAl2O3微粒子を用いたが、この研磨剤はZ
rOやSiO2の微粒子としてもよい。
る研磨剤としてAl2O3微粒子を用いたが、この研磨剤はZ
rOやSiO2の微粒子としてもよい。
この場合、スライダー19の材質がMnZnフェライトある
いはセラミックスより低硬度のガラスを用いた場合で
も、スライダー19の表面を傷つけることがないという特
徴を有する。
いはセラミックスより低硬度のガラスを用いた場合で
も、スライダー19の表面を傷つけることがないという特
徴を有する。
さらに、本実施例では、複合熱硬化性樹脂膜３の厚み
を５μｍとしたが、複合硬化性樹脂膜３の厚みをH1とし
たとき、 １μｍ≦H1≦10μｍの範囲であれば、同様な効果を実
現できる。
を５μｍとしたが、複合硬化性樹脂膜３の厚みをH1とし
たとき、 １μｍ≦H1≦10μｍの範囲であれば、同様な効果を実
現できる。
そして、本実施例で用いたAl2O3微粒子、ZrO微粒子や
SiO2微粒子等の研磨剤の粒径は、複合熱硬化性樹脂膜３
の厚みをH1、各微粒子の粒径をR1としたとき、 0.2μｍ≦R1≦H1の範囲であれば、同様な効果を得る
ことができる。
SiO2微粒子等の研磨剤の粒径は、複合熱硬化性樹脂膜３
の厚みをH1、各微粒子の粒径をR1としたとき、 0.2μｍ≦R1≦H1の範囲であれば、同様な効果を得る
ことができる。
また、本実施例では複合熱硬化性樹脂膜３に混入する
潤滑剤としてステアリン酸、ノルマルブチルスタレート
を用いたが、潤滑剤はラウリン酸、ミリスチン酸、オレ
イン酸、ステアリン酸のいずれか１つ以上の組合せと、
ノルマルブチルスタレートとの混合剤でも同様な効果が
獲られる。
潤滑剤としてステアリン酸、ノルマルブチルスタレート
を用いたが、潤滑剤はラウリン酸、ミリスチン酸、オレ
イン酸、ステアリン酸のいずれか１つ以上の組合せと、
ノルマルブチルスタレートとの混合剤でも同様な効果が
獲られる。
そして、本実施例では第２保護膜15上に複合熱硬化性
樹脂３を設けたが、第２保護膜上に反射膜を設け、この
反射膜上に複合熱硬化性樹脂を塗布した構成に於いても
同様の硬化が得られる。
樹脂３を設けたが、第２保護膜上に反射膜を設け、この
反射膜上に複合熱硬化性樹脂を塗布した構成に於いても
同様の硬化が得られる。
また、本実施例では、光磁気記録膜14が第１保護膜13
と第２保護膜15の間に設けられているが、光磁気記録膜
14及び反射膜を第１保護膜13と第２保護膜15の間に設け
た構成に於いても同様な効果が得られる。
と第２保護膜15の間に設けられているが、光磁気記録膜
14及び反射膜を第１保護膜13と第２保護膜15の間に設け
た構成に於いても同様な効果が得られる。
発明の効果 以上のように本発明は、基板上に第１第１保護膜、光
磁気記録膜及び第２保護膜を順次形成し、第２保護膜上
に、研磨剤、潤滑剤、及び静電防止剤を含有する熱硬化
性樹脂、または研磨剤、潤滑剤、及び静電防止剤を含有
する紫外線硬化性樹脂の何れかの樹脂を、一般式（熱硬
化性樹脂）Ｐ［（研磨剤）Ｘ（静電防止剤）Ｙ（潤滑
剤）Ｚ］1-P、但し0.6≦Ｐ≦0.8、0.15≦Ｘ≦0.5、0.25
≦Ｙ≦0.5、0.3≦Ｚ≦0.5とすることにより、熱硬化性
樹脂または紫外線硬化性樹脂、スライダー、磁気ヘッド
に付着した塵が再付着することを防止し、磁気ヘッドの
安定した浮上走行を行うことができ、光磁気記録膜14へ
の磁界印加を確実に行え、記録再生の信頼性が高い光磁
気ディスクを提供することができる。
磁気記録膜及び第２保護膜を順次形成し、第２保護膜上
に、研磨剤、潤滑剤、及び静電防止剤を含有する熱硬化
性樹脂、または研磨剤、潤滑剤、及び静電防止剤を含有
する紫外線硬化性樹脂の何れかの樹脂を、一般式（熱硬
化性樹脂）Ｐ［（研磨剤）Ｘ（静電防止剤）Ｙ（潤滑
剤）Ｚ］1-P、但し0.6≦Ｐ≦0.8、0.15≦Ｘ≦0.5、0.25
≦Ｙ≦0.5、0.3≦Ｚ≦0.5とすることにより、熱硬化性
樹脂または紫外線硬化性樹脂、スライダー、磁気ヘッド
に付着した塵が再付着することを防止し、磁気ヘッドの
安定した浮上走行を行うことができ、光磁気記録膜14へ
の磁界印加を確実に行え、記録再生の信頼性が高い光磁
気ディスクを提供することができる。
また光磁気ディスク静止時にディスク面と磁気ヘッ
ド、スライダー面が吸着せず、光磁気ディスクの回転始
動または停止時の磁気ヘッド接触走行時に、光磁気ディ
スクの光磁気記録部を破壊しない。
ド、スライダー面が吸着せず、光磁気ディスクの回転始
動または停止時の磁気ヘッド接触走行時に、光磁気ディ
スクの光磁気記録部を破壊しない。
第１図は、本発明の一実施例における光磁気ディスクの
構成を示す断面図、第２図は本発明の一実施例における
光磁気ディスクのCSSを繰り返した場合の、経過時間に
対する再生信号エラーの変化を示す図、第３図は再生信
号エラーの変化を、組成比Ｐに対して表した図、第４図
は再生信号エラーの変化を、組成比Ｘに対して表した
図、第５図は再生信号エラーの変化を、組成比Ｙに対し
て表した図、第６図は再生信号エラーの変化を、組成比
Ｚに対して表した図、第７図は従来例における光磁気デ
ィスクの構成を示す断面図である。 １……基板、３……複合熱硬化性樹脂膜、11……ガラス
基板、12……紫外線硬化性樹脂膜、13……第１保護膜、
14……光磁気記録膜、15……第２保護膜、16……クラッ
シュ防止膜、17……フッ化カーボン系オイル、19……ス
ライダー、20……磁気ヘッド、21……対物レンズ、22…
…レーザ光、23……ディスク回転駆動装置。
構成を示す断面図、第２図は本発明の一実施例における
光磁気ディスクのCSSを繰り返した場合の、経過時間に
対する再生信号エラーの変化を示す図、第３図は再生信
号エラーの変化を、組成比Ｐに対して表した図、第４図
は再生信号エラーの変化を、組成比Ｘに対して表した
図、第５図は再生信号エラーの変化を、組成比Ｙに対し
て表した図、第６図は再生信号エラーの変化を、組成比
Ｚに対して表した図、第７図は従来例における光磁気デ
ィスクの構成を示す断面図である。 １……基板、３……複合熱硬化性樹脂膜、11……ガラス
基板、12……紫外線硬化性樹脂膜、13……第１保護膜、
14……光磁気記録膜、15……第２保護膜、16……クラッ
シュ防止膜、17……フッ化カーボン系オイル、19……ス
ライダー、20……磁気ヘッド、21……対物レンズ、22…
…レーザ光、23……ディスク回転駆動装置。
Claims (2)
- 【請求項１】基板上に第１保護膜、光磁気記録膜及び第
２保護膜を順次形成し、前記第２保護膜上に、研磨剤と
静電防止剤と潤滑剤を含有する熱硬化性樹脂を、一般式
（熱硬化性樹脂）Ｐ［（研磨剤）Ｘ（静電防止剤）
Ｙ（潤滑剤）Ｚ］1-P、但し0.6≦Ｐ≦0.8、0.15≦Ｘ≦
0.5、0.25≦Ｙ≦0.5、0.3≦Ｚ≦0.5とする複合熱硬化性
樹脂膜を形成したことを特徴とする光磁気ディスク。 - 【請求項２】熱硬化性樹脂を紫外線硬化性樹脂膜とした
ことを特徴とする請求項１記載の光磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1296533A JP2730223B2 (ja) | 1989-11-15 | 1989-11-15 | 光磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1296533A JP2730223B2 (ja) | 1989-11-15 | 1989-11-15 | 光磁気ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03157836A JPH03157836A (ja) | 1991-07-05 |
| JP2730223B2 true JP2730223B2 (ja) | 1998-03-25 |
Family
ID=17834762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1296533A Expired - Fee Related JP2730223B2 (ja) | 1989-11-15 | 1989-11-15 | 光磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2730223B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2575687B2 (ja) * | 1987-03-06 | 1997-01-29 | 株式会社日立製作所 | 光磁気記憶装置 |
| JPS63229643A (ja) * | 1987-03-19 | 1988-09-26 | Fujitsu Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPH01277348A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-07 | Hitachi Maxell Ltd | 光−磁気記録媒体ならびにその製造方法 |
-
1989
- 1989-11-15 JP JP1296533A patent/JP2730223B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03157836A (ja) | 1991-07-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |