JPH01277348A - 光−磁気記録媒体ならびにその製造方法 - Google Patents
光−磁気記録媒体ならびにその製造方法Info
- Publication number
- JPH01277348A JPH01277348A JP10422388A JP10422388A JPH01277348A JP H01277348 A JPH01277348 A JP H01277348A JP 10422388 A JP10422388 A JP 10422388A JP 10422388 A JP10422388 A JP 10422388A JP H01277348 A JPH01277348 A JP H01277348A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- optical
- recording medium
- film
- organic compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 50
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 claims abstract description 45
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 26
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 17
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims abstract description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 63
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 36
- -1 aromatic organic compound Chemical class 0.000 claims description 27
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 12
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 12
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 12
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 7
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 claims description 6
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JWYUFVNJZUSCSM-UHFFFAOYSA-N 2-aminobenzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC(N)=NC2=C1 JWYUFVNJZUSCSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KRTDQDCPEZRVGC-UHFFFAOYSA-N 2-nitro-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC([N+](=O)[O-])=NC2=C1 KRTDQDCPEZRVGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SYUYTOYKQOAVDW-UHFFFAOYSA-N 2-nitrosonaphthalen-1-ol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C(N=O)C=CC2=C1 SYUYTOYKQOAVDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AOCDQWRMYHJTMY-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C([N+](=O)[O-])C=CC2=NNN=C21 AOCDQWRMYHJTMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GTLQZNKUEFUUIS-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;cyclohexanamine Chemical compound OC(O)=O.NC1CCCCC1 GTLQZNKUEFUUIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- ZFAKTZXUUNBLEB-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylazanium;nitrite Chemical compound [O-]N=O.C1CCCCC1[NH2+]C1CCCCC1 ZFAKTZXUUNBLEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 claims description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims description 2
- YXAOOTNFFAQIPZ-UHFFFAOYSA-N 1-nitrosonaphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=O)C(O)=CC=C21 YXAOOTNFFAQIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 1
- 125000005313 fatty acid group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N toluene Substances CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 8
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- LDVVTQMJQSCDMK-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydroxypropan-2-yl formate Chemical compound OCC(CO)OC=O LDVVTQMJQSCDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 3
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 3
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 2
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CEGOLXSVJUTHNZ-UHFFFAOYSA-K aluminium tristearate Chemical compound [Al+3].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CEGOLXSVJUTHNZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229940063655 aluminum stearate Drugs 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- LFMIQNJMJJKICW-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloro-2-fluoroethene Chemical group FC(Cl)=C(Cl)Cl LFMIQNJMJJKICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrachloro-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=C(Cl)C(Cl)=CC(Cl)=C1Cl QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N Docosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005374 Kerr effect Effects 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- OCKWAZCWKSMKNC-UHFFFAOYSA-N [3-octadecanoyloxy-2,2-bis(octadecanoyloxymethyl)propyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)(COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC OCKWAZCWKSMKNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013556 antirust agent Substances 0.000 description 1
- DUPIXUINLCPYLU-UHFFFAOYSA-N barium lead Chemical class [Ba].[Pb] DUPIXUINLCPYLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000009 barium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000002925 chemical effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- TUTWLYPCGCUWQI-UHFFFAOYSA-N decanamide Chemical compound CCCCCCCCCC(N)=O TUTWLYPCGCUWQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N dodecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(N)=O ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FEEPBTVZSYQUDP-UHFFFAOYSA-N heptatriacontanediamide Chemical compound NC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O FEEPBTVZSYQUDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSEMFIZWXHQJAE-UHFFFAOYSA-N hexadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O HSEMFIZWXHQJAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-M hexadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 159000000014 iron salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- SFIHQZFZMWZOJV-HZJYTTRNSA-N linoleamide Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(N)=O SFIHQZFZMWZOJV-HZJYTTRNSA-N 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000000018 nitroso group Chemical group N(=O)* 0.000 description 1
- FATBGEAMYMYZAF-KTKRTIGZSA-N oleamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(N)=O FATBGEAMYMYZAF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 229940049964 oleate Drugs 0.000 description 1
- 235000021313 oleic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 1
- 239000012994 photoredox catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 230000001012 protector Effects 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えばデ、Cスク状あるいはカード状などの
光−磁気記録媒体に係り、特にそれの光−磁気記録膜上
に設けられる保護膜ならびにそれの製造方法に関するも
のである。
光−磁気記録媒体に係り、特にそれの光−磁気記録膜上
に設けられる保護膜ならびにそれの製造方法に関するも
のである。
記録すべき情報信号によって変調された光ビームを記録
膜に照射することによって、その記録膜を磁化して情報
信号を記録する光−磁気記録媒体では、前記記録膜にT
b、Gdなどの希土類と遷移金属とのアモルファス合金
が使用されている。
膜に照射することによって、その記録膜を磁化して情報
信号を記録する光−磁気記録媒体では、前記記録膜にT
b、Gdなどの希土類と遷移金属とのアモルファス合金
が使用されている。
この記録膜は、光ビームの強さに応じて垂直磁化される
ことによって情報信号の記録がなされる。
ことによって情報信号の記録がなされる。
またこの情報信号を再生する場合には、この記録膜に一
定強度の光ビームを照射し、この記録膜の磁化によるカ
ー効果を利用して信号の再生を行なう。
定強度の光ビームを照射し、この記録膜の磁化によるカ
ー効果を利用して信号の再生を行なう。
〔発明が解決しようとする111!!11ところが前記
記録膜は、空気中の酸素や湿分によって酸fヒ、腐食さ
れ易く、そのために磁気特性が経時的に劣下する。
記録膜は、空気中の酸素や湿分によって酸fヒ、腐食さ
れ易く、そのために磁気特性が経時的に劣下する。
これを防止するため、記録膜の表面に5102、Z r
Oxなどの酸化物、あるいはS l a N 4、T
iNなどの窒fヒ物からなる保fl!膜を形成すること
が提案されている(例えば特開昭61−258353号
公報参照)。
Oxなどの酸化物、あるいはS l a N 4、T
iNなどの窒fヒ物からなる保fl!膜を形成すること
が提案されている(例えば特開昭61−258353号
公報参照)。
しかし前述の保護膜は無機化合物の誘電体で形成されて
いるため、保護膜にピンホールが発生し易く、このピン
ホールを通して空気や湿気が侵入して、記録膜の酸化や
腐食を生じ、保!!1iwAとしての機能を十分に発揮
することができない、特にスパッタリング法などによっ
て基体上に記録膜を形成する際、この記録膜にピンホー
ルや柱状粒子間に隙間が生じ易い、そしてこの記録膜上
に同じ方法で保護膜を形成すると、記録膜のピンホール
や柱状粒子間の隙間の影響で保護膜にもピンホールや柱
状粒子間の隙間ができ易い傾向にある。
いるため、保護膜にピンホールが発生し易く、このピン
ホールを通して空気や湿気が侵入して、記録膜の酸化や
腐食を生じ、保!!1iwAとしての機能を十分に発揮
することができない、特にスパッタリング法などによっ
て基体上に記録膜を形成する際、この記録膜にピンホー
ルや柱状粒子間に隙間が生じ易い、そしてこの記録膜上
に同じ方法で保護膜を形成すると、記録膜のピンホール
や柱状粒子間の隙間の影響で保護膜にもピンホールや柱
状粒子間の隙間ができ易い傾向にある。
また従来、記録膜上に紫外線硬化性樹脂からなる保護膜
を形成すること(特開昭57−27494号公報参照)
、あるいは記録膜上に防錆剤層を形成すること(特開昭
61−54058号公報参照)が提案されている。しか
し、紫外線硬化性樹脂や防錆剤は吸湿性があるため、こ
れ単独では保護膜が吸湿するため保護膜として不十分で
あり、結果的には記録。
を形成すること(特開昭57−27494号公報参照)
、あるいは記録膜上に防錆剤層を形成すること(特開昭
61−54058号公報参照)が提案されている。しか
し、紫外線硬化性樹脂や防錆剤は吸湿性があるため、こ
れ単独では保護膜が吸湿するため保護膜として不十分で
あり、結果的には記録。
再生特性の劣化を招来することになる。
本発明の目的は、このような従来技術欠点を解消し、磁
気特性の劣下の少ない光−磁気記録媒体を提供するにあ
る。
気特性の劣下の少ない光−磁気記録媒体を提供するにあ
る。
[ill!ffを解決するための手段]この目的を達成
するため、本発明は、透明基体および光−磁気記録膜を
備えた光−磁気記録媒体において、前記光−磁気記録膜
側に防錆剤と低吸湿化のためのフィラーとを含有した保
護膜を形成したことを特徴とするものである。
するため、本発明は、透明基体および光−磁気記録膜を
備えた光−磁気記録媒体において、前記光−磁気記録膜
側に防錆剤と低吸湿化のためのフィラーとを含有した保
護膜を形成したことを特徴とするものである。
前述の目的を達成するため、さらに本発明は、透明基体
および光−磁気記録膜を備えた光−磁気記録媒体におい
て、前記光−磁気記録膜側に防錆剤と低吸湿化のための
フィラーとを含有した保護膜を形成し、その2枚の光−
磁気記録媒体を前記保護膜が対向るように接着剤層を介
して一体に接合したことを特徴とするものである。
および光−磁気記録膜を備えた光−磁気記録媒体におい
て、前記光−磁気記録膜側に防錆剤と低吸湿化のための
フィラーとを含有した保護膜を形成し、その2枚の光−
磁気記録媒体を前記保護膜が対向るように接着剤層を介
して一体に接合したことを特徴とするものである。
前述の目的を達成するため、さらに本発明は。
透明基体上に光−磁気記録膜を形成した後、その光−磁
気記録膜上に、防錆剤と低吸湿化のためのフ、rラーと
を分散した有機化合物の液状体を滴下して、スピンコー
ト法によって防錆剤とフィラーを含有した保護膜を形成
したことを特徴とするものである。
気記録膜上に、防錆剤と低吸湿化のためのフ、rラーと
を分散した有機化合物の液状体を滴下して、スピンコー
ト法によって防錆剤とフィラーを含有した保護膜を形成
したことを特徴とするものである。
前述の目的を達成するため、さらに本発明は。
透明基体上に光−磁気記録膜を形成した後、その光−磁
気記録膜上に無機化合物を含有した第1の保護膜を形成
し、その第1の保護膜上に防錆剤と低吸湿化のためのフ
ィラーとを含有した有機化合物の液状体を滴下して、ス
ピンコート法によって防錆剤とフィラーとを含有した第
2の保護膜を形成したことを特徴とするものである。
気記録膜上に無機化合物を含有した第1の保護膜を形成
し、その第1の保護膜上に防錆剤と低吸湿化のためのフ
ィラーとを含有した有機化合物の液状体を滴下して、ス
ピンコート法によって防錆剤とフィラーとを含有した第
2の保護膜を形成したことを特徴とするものである。
次に本発明の実施例を図とともに説明する。第1図は第
1実施例に係る光−磁気ディスクの断面図である0図中
の1a、1bは透明基板、2a。
1実施例に係る光−磁気ディスクの断面図である0図中
の1a、1bは透明基板、2a。
2bは光−磁気記録膜、3a、3bは保護膜、4a、4
bはハブ、5a、5bは第1および第2の光−磁気記録
媒体、6は接着剤層である。
bはハブ、5a、5bは第1および第2の光−磁気記録
媒体、6は接着剤層である。
後述のように保護膜3a、3bに揮発性(気化性または
昇華性)を有する防錆剤を使用した場合、同図に示すよ
うに保護膜3a、3bを覆う前記接着剤層6が防錆剤の
揮散防止層としても機能する。
昇華性)を有する防錆剤を使用した場合、同図に示すよ
うに保護膜3a、3bを覆う前記接着剤層6が防錆剤の
揮散防止層としても機能する。
前記透明基板1a、1bは、例えばガラス、ポリメチル
メタクリレート(r’MMA)、ポリカーボネート(r
’C) 、エポキシ樹脂などの透明材料で構成されてい
る0図示していないがこの透明基板1allbの片面に
トラッキング信号に対応するプリグループと、アドレス
信号等に対応するプリピットがそれぞれ形成されている
。
メタクリレート(r’MMA)、ポリカーボネート(r
’C) 、エポキシ樹脂などの透明材料で構成されてい
る0図示していないがこの透明基板1allbの片面に
トラッキング信号に対応するプリグループと、アドレス
信号等に対応するプリピットがそれぞれ形成されている
。
このプリグループならびにプリピットの形成方法は、基
板材料に応じて適宜選択することができる。すなわち、
ガラス製の透明基板1a、lbの場合は、所”1.2r
’法(光硬化性樹脂によってレプリカを形成する方法)
が適している。PMMAやPCなどの熱可塑性樹脂から
なる透明基板1a。
板材料に応じて適宜選択することができる。すなわち、
ガラス製の透明基板1a、lbの場合は、所”1.2r
’法(光硬化性樹脂によってレプリカを形成する方法)
が適している。PMMAやPCなどの熱可塑性樹脂から
なる透明基板1a。
1bの場合は、射出成形法が適している。さらにエポキ
シ樹脂の如き熱硬化性樹脂からなる透明基板1a、1b
の場合は、注型法が適している。
シ樹脂の如き熱硬化性樹脂からなる透明基板1a、1b
の場合は、注型法が適している。
前記光−磁気記録膜2a、21)は1例えば下式の一般
式を有するアモルファス合金で構成され。
式を有するアモルファス合金で構成され。
約800〜1600オングストロームの厚さに形成され
る。
る。
一般式 Rx・FeIICoy@Mz(式中、R=T
b、Gd2O≦X≦30M7%5≦y≦15原T% M=Nb、Cr、T1.Pt O≦2≦10NT−%) 前記透明基板1a*1bと光−磁気記録膜2a。
b、Gd2O≦X≦30M7%5≦y≦15原T% M=Nb、Cr、T1.Pt O≦2≦10NT−%) 前記透明基板1a*1bと光−磁気記録膜2a。
2bとの間には、図示しないがエンハンス膜が設けられ
ている。このエンハンス膜は、再生用レーザビームを光
−磁気記録膜2a、2bとの間で複数回反射させること
によって、見掛は上のカー回転角を大きくするためのも
ので、NえばSiN。
ている。このエンハンス膜は、再生用レーザビームを光
−磁気記録膜2a、2bとの間で複数回反射させること
によって、見掛は上のカー回転角を大きくするためのも
ので、NえばSiN。
S i OHA Q N e S i a N a I
T i Og A Q 20−などからなり、基板a
、lbの凹凸パターン転写面に約800〜1200オン
グストロームの厚さに形成される。
T i Og A Q 20−などからなり、基板a
、lbの凹凸パターン転写面に約800〜1200オン
グストロームの厚さに形成される。
前記保護113a、3bは、前述したように防錆剤とフ
ィラーとを均一に分散した合成樹脂溶液を光−磁気記録
膜2a、2b上に直接スピンナー法によって形成される
。
ィラーとを均一に分散した合成樹脂溶液を光−磁気記録
膜2a、2b上に直接スピンナー法によって形成される
。
前述の防錆剤としては、窒素を少なくとも1つ含む芳香
族有機化合物、または窒素を少なくとも1つ含む複素環
有機化合物が好適である。
族有機化合物、または窒素を少なくとも1つ含む複素環
有機化合物が好適である。
前記芳香族有機化合物としては、具体的に1ニトロソ2
ナフトール、2ニトロlナフトールなどのニトロツナブ
トール系有機化合物がある。
ナフトール、2ニトロlナフトールなどのニトロツナブ
トール系有機化合物がある。
前記複素環有機化合物としては、ベンゾトリアゾール系
有機化合物あるいはベンズイミダゾール系有機化合物が
使用される。
有機化合物あるいはベンズイミダゾール系有機化合物が
使用される。
前記ベンゾトリアゾール系有機化合物の好適な具体例と
しては、ベンゾトリアゾール、5ニトロベンゾトリアゾ
ール、5メチル1Hベンゾトリアゾール、ベンゾトリア
ゾールSt酸塩などがある。
しては、ベンゾトリアゾール、5ニトロベンゾトリアゾ
ール、5メチル1Hベンゾトリアゾール、ベンゾトリア
ゾールSt酸塩などがある。
前記ベンズイミダゾール系有機化合物の好適な具体例と
しては、ベンズイミダゾール、2アミノベンズイミダゾ
ール、ニトロベンズイミダゾールなどがある。
しては、ベンズイミダゾール、2アミノベンズイミダゾ
ール、ニトロベンズイミダゾールなどがある。
また、揮発性を有する防錆剤を用いることもできる。こ
の防錆剤としては例えば、ジシクロヘキシルアンモニウ
ム亜硝酸塩、シクロヘキシルアミンカーボネート、ジ゛
イソプロピルアンモニウムアイドライトのグループから
選択された少くとも1種類の有機化合物が好適である。
の防錆剤としては例えば、ジシクロヘキシルアンモニウ
ム亜硝酸塩、シクロヘキシルアミンカーボネート、ジ゛
イソプロピルアンモニウムアイドライトのグループから
選択された少くとも1種類の有機化合物が好適である。
これら防錆剤は室温では液体であり1例えばケトン−ト
ルエン混合物メチルイソブチルケトンなどの適宜な有機
溶剤に例えば0.1重量%程度溶解して、その溶液を光
−磁気記録膜上に滴下してスピンナー法によって均一に
塗布される。
ルエン混合物メチルイソブチルケトンなどの適宜な有機
溶剤に例えば0.1重量%程度溶解して、その溶液を光
−磁気記録膜上に滴下してスピンナー法によって均一に
塗布される。
前記フィラーとしては、例えばα−F e x Oa
*AQaOj、stc、Tie−to CraOilな
どの無機化合物、あるいは一般式RCOOM [式中R
:炭素数lO以上の炭化水素1M:アルカリ金属以外の
金属元素]などの有機金属化合物が好適である。これら
フィラーの粒径は、1μm以下が良好である。
*AQaOj、stc、Tie−to CraOilな
どの無機化合物、あるいは一般式RCOOM [式中R
:炭素数lO以上の炭化水素1M:アルカリ金属以外の
金属元素]などの有機金属化合物が好適である。これら
フィラーの粒径は、1μm以下が良好である。
前述の防錆剤ならびにフィラーを分散させる高分子化合
物としては、例えばニトロセルロース。
物としては、例えばニトロセルロース。
ポリビニルブチラール、紫外線硬化性(UV)樹脂、エ
ポシキ樹脂などがある。
ポシキ樹脂などがある。
この保護膜3a、3b中に例えばカーボンブラックなど
の導電性微粒子を均一に分散して、保護膜3a、3bに
導電性を付与せしめ、帯電による塵埃などの異物の付着
を防止することができる。
の導電性微粒子を均一に分散して、保護膜3a、3bに
導電性を付与せしめ、帯電による塵埃などの異物の付着
を防止することができる。
前記接着剤層6を形成するエポキシ系合成樹脂は、エポ
シキ樹脂中間体(約350ポイズの粘度を有する粘ちょ
う液で、不揮発分が99.6%、。
シキ樹脂中間体(約350ポイズの粘度を有する粘ちょ
う液で、不揮発分が99.6%、。
比重が1.16)を主剤とし、これにポリアミド樹脂(
約600ボイスの粘度を有する粘ちょう液で、不揮発分
が99.4%、比重が0.97)を硬化剤として、主剤
100に対して約60−。
約600ボイスの粘度を有する粘ちょう液で、不揮発分
が99.4%、比重が0.97)を硬化剤として、主剤
100に対して約60−。
110の重量割合で混合した無溶剤タイプのものである
。このように無溶剤タイプであるから、前記保護[[3
a(3b)の上にこの接着剤を塗布しても、保護113
a、3bに化学的な悪影響をおよぼすことなく、保護膜
3a、3bの全面がこの揮散防止層6で覆われる。
。このように無溶剤タイプであるから、前記保護[[3
a(3b)の上にこの接着剤を塗布しても、保護113
a、3bに化学的な悪影響をおよぼすことなく、保護膜
3a、3bの全面がこの揮散防止層6で覆われる。
次に保護膜の具体な組成例について説明する。
(組成例 1)
a −F a z Oa 100重量部
カーボンブラック 4〜10重量部無機フィラ
ー 1〜5重量部ステアリン酸アルミニ
ウム 2重量部ポリビニルブチラール
50重量部有機溶剤(ケトン/トルエン系)70重量部
これらの各材料をボールミルあるいはサンドミルを用い
て分散処理する6分散処理後、下記の有機化合物を添加
して再分散処理し、その後に2μmのフィルタを通して
保護膜用塗料を作成する。
カーボンブラック 4〜10重量部無機フィラ
ー 1〜5重量部ステアリン酸アルミニ
ウム 2重量部ポリビニルブチラール
50重量部有機溶剤(ケトン/トルエン系)70重量部
これらの各材料をボールミルあるいはサンドミルを用い
て分散処理する6分散処理後、下記の有機化合物を添加
して再分散処理し、その後に2μmのフィルタを通して
保護膜用塗料を作成する。
ステアリン酸エステル 2〜6重量部防錆剤
1〜5重量部2官能あるいは3官能
の インシアナート 5〜lO重量部この塗料を
光−磁気記録膜上にスピンナーコートして風乾し、80
〜110℃で1〜5分間熱処理して、60℃、1時間の
キユアリングにより前記イソシアナートの架橋反応を促
進する。
1〜5重量部2官能あるいは3官能
の インシアナート 5〜lO重量部この塗料を
光−磁気記録膜上にスピンナーコートして風乾し、80
〜110℃で1〜5分間熱処理して、60℃、1時間の
キユアリングにより前記イソシアナートの架橋反応を促
進する。
このようにして得られた膜厚2〜20μmの保護膜を用
いた光−磁気記録媒体は、防錆剤による錆び止め効果と
、フィラーによる低吸湿化によって耐食性ならびに耐久
性に優れている。また、防錆剤がα−F e 20 a
やフィラーに吸着するため防錆剤が徐々に放出されて、
防錆効果が長期間発揮できる。
いた光−磁気記録媒体は、防錆剤による錆び止め効果と
、フィラーによる低吸湿化によって耐食性ならびに耐久
性に優れている。また、防錆剤がα−F e 20 a
やフィラーに吸着するため防錆剤が徐々に放出されて、
防錆効果が長期間発揮できる。
さらに前述の組成割合のうち好適な組成例を示せば次の
通りである。
通りである。
α−Fe20j ioo重量部カーボンブラ
ック 5重量部無機フィラー
4重量部ステアリン酸アルミニウム 2重量
部ポリビニルブチラール 50重量部有機溶剤(
ケトン/トルエン系)70重量部ステアリン酸エステル
4重量部イミダゾール 4
重量部トリイソシアナート 7重量部(組成
例 2) a−Fearj 100重量部カーボンブラ
ック 4〜10重量部無機フィラー
1〜5重量部ステアリン酸亜鉛 1重量
部紫外線硬化性樹脂 40重量部有機溶剤(
ケトン/トルエン系) 40〜60重量部 これらの各材料の分散処理を行ない、その後下記の有機
化合物を添加して再分散処理を行なった後、2μmのフ
ィルタに通して保護膜用塗料を作成する。
ック 5重量部無機フィラー
4重量部ステアリン酸アルミニウム 2重量
部ポリビニルブチラール 50重量部有機溶剤(
ケトン/トルエン系)70重量部ステアリン酸エステル
4重量部イミダゾール 4
重量部トリイソシアナート 7重量部(組成
例 2) a−Fearj 100重量部カーボンブラ
ック 4〜10重量部無機フィラー
1〜5重量部ステアリン酸亜鉛 1重量
部紫外線硬化性樹脂 40重量部有機溶剤(
ケトン/トルエン系) 40〜60重量部 これらの各材料の分散処理を行ない、その後下記の有機
化合物を添加して再分散処理を行なった後、2μmのフ
ィルタに通して保護膜用塗料を作成する。
オレイン酸エステル 2〜6重量部ニトロソナフ
トール 1〜5重量部反応性希釈剤 1
0〜20重量部この保護膜用塗料を光−磁気記録膜上に
スピンコートして風乾し、80℃で1〜lO分間プリベ
ークした後、波長365nmの紫外線を1000へ・3
000mJ/cm’照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化
して膜厚が2〜20μmの保護膜を形成する。
トール 1〜5重量部反応性希釈剤 1
0〜20重量部この保護膜用塗料を光−磁気記録膜上に
スピンコートして風乾し、80℃で1〜lO分間プリベ
ークした後、波長365nmの紫外線を1000へ・3
000mJ/cm’照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化
して膜厚が2〜20μmの保護膜を形成する。
このようにして形成された保護膜を用いた光−磁気記録
媒体は、前述の光−磁気記録媒体の場合と同様に耐食性
ならびに耐久性に優れ、その耐久性は紫外線硬化性樹脂
単独よりなる保護膜を用いたものよりもかなり向上して
いる。
媒体は、前述の光−磁気記録媒体の場合と同様に耐食性
ならびに耐久性に優れ、その耐久性は紫外線硬化性樹脂
単独よりなる保護膜を用いたものよりもかなり向上して
いる。
第2図は、本発明の第2実施例に係る光−磁気ディスク
の断面図である。この実施例も同様に光−磁気記録!j
12a@2b上に、前述のような組成の保護11@3a
、3bが全面に形成されている。
の断面図である。この実施例も同様に光−磁気記録!j
12a@2b上に、前述のような組成の保護11@3a
、3bが全面に形成されている。
そして透明基板1a、lbの内周側には環状の内側リブ
7a、7bが、外周側には環状の外側リブ8a、8bが
それぞれ突設されている。従って、第1の光−磁気記録
媒体5aと第2の光−磁気記録媒体5bとを、互に保護
膜3a、3bが対向するように重ね合わせると保護膜3
aと保護膜3bとの間に隙間9が形成される。そして前
記内側リブ7at7bの接合面ならびに外側リブ8a、
8bの接合面が、例えば前述のエポキシ系接着剤あるい
は紫外線硬化性樹脂系接着剤などの接着剤10によって
、それぞれ気密にシールされる。
7a、7bが、外周側には環状の外側リブ8a、8bが
それぞれ突設されている。従って、第1の光−磁気記録
媒体5aと第2の光−磁気記録媒体5bとを、互に保護
膜3a、3bが対向するように重ね合わせると保護膜3
aと保護膜3bとの間に隙間9が形成される。そして前
記内側リブ7at7bの接合面ならびに外側リブ8a、
8bの接合面が、例えば前述のエポキシ系接着剤あるい
は紫外線硬化性樹脂系接着剤などの接着剤10によって
、それぞれ気密にシールされる。
第3図は1本発明の第4実施例を説明するための要部拡
大断面図である。この実施例の場合、透明基板1bの上
に光−磁気記録[2bを形成した後、その上に例えばS
i Oz t Z r O2などの酸\ 化物、あるいは5ljNa、TiNなどの窒化物の如き
無機化合物からなる第1の保護膜3b−1が1例えばス
パッタリングなどの手段によって形成される。
大断面図である。この実施例の場合、透明基板1bの上
に光−磁気記録[2bを形成した後、その上に例えばS
i Oz t Z r O2などの酸\ 化物、あるいは5ljNa、TiNなどの窒化物の如き
無機化合物からなる第1の保護膜3b−1が1例えばス
パッタリングなどの手段によって形成される。
次にこの第1の保護113b−1の上に、前述のような
防錆剤ならびにフィラーを所定の割合で含有した第2の
保護膜3b−2が形成される。従って保護膜3は、異種
の2層構造になっている。ついでこの第2の保!!II
t13b−2上に、接着剤層6が設けられる。
防錆剤ならびにフィラーを所定の割合で含有した第2の
保護膜3b−2が形成される。従って保護膜3は、異種
の2層構造になっている。ついでこの第2の保!!II
t13b−2上に、接着剤層6が設けられる。
第4図は、本発明の第5実施例を説明するための図であ
る。この実施例は前述の2枚の光−磁気記録媒体を接合
した両面使用の実施例と相違し、1枚の光−磁気記録媒
体が用いられ、従って片面使用の構成になっている。
る。この実施例は前述の2枚の光−磁気記録媒体を接合
した両面使用の実施例と相違し、1枚の光−磁気記録媒
体が用いられ、従って片面使用の構成になっている。
すなわち、透明基板1上にエンハンス膜などの下地膜(
図示せず)を介して光−磁気記録膜2が設けられ、その
上に前述のような組成の保護膜3が形成されている。そ
してこの保護膜3上には、カーボンブラックなどの導電
性材料と潤滑剤を含有した高分子被膜11が形成され、
この高分子波@11によって保護膜2の上面ならびらそ
れと光−磁気記録膜2の端面が完全に被覆されている。
図示せず)を介して光−磁気記録膜2が設けられ、その
上に前述のような組成の保護膜3が形成されている。そ
してこの保護膜3上には、カーボンブラックなどの導電
性材料と潤滑剤を含有した高分子被膜11が形成され、
この高分子波@11によって保護膜2の上面ならびらそ
れと光−磁気記録膜2の端面が完全に被覆されている。
前記潤滑剤としては1例えば脂肪酸系有機化合物、フッ
素系有機化合物ならびにシリコン系有機化合物などが用
いられる。
素系有機化合物ならびにシリコン系有機化合物などが用
いられる。
前記脂肪酸系有機化合物としては1例えば脂肪酸、脂肪
酸の金属塩、脂肪酸エステルならびに肪脂酸アミドなど
が使用される。
酸の金属塩、脂肪酸エステルならびに肪脂酸アミドなど
が使用される。
前記肪脂酸の具体例としては、例えばミリスチン酸、パ
ルミチン酸、オレイン酸、ステアリン酸、ベヘン酸など
がある。
ルミチン酸、オレイン酸、ステアリン酸、ベヘン酸など
がある。
前記脂肪酸の金属塩としては、例えば前述の脂肪酸のカ
ルシウム塩マグネシウム塩、アルミニウム塩、鉄塩、コ
バルト塩、亜鉛塩、バリウム塩ならびに鉛塩などがある
。
ルシウム塩マグネシウム塩、アルミニウム塩、鉄塩、コ
バルト塩、亜鉛塩、バリウム塩ならびに鉛塩などがある
。
前記脂肪酸エステルとしては1例えばステアリン酸ブチ
ル、ステアリン酸モノグリセリド、パルミチン酸モノグ
リセリド、オレイン酸モノグリセリド、ペンタエリスリ
トールテトラステアレートなどがある。
ル、ステアリン酸モノグリセリド、パルミチン酸モノグ
リセリド、オレイン酸モノグリセリド、ペンタエリスリ
トールテトラステアレートなどがある。
前記脂肪酸アミドとしては1例えばカプロン酸アミド、
カプリン酸アミド、ラウリン酸アミド、パルミチン酸ア
ミド、ベヘン酸アミド、オレイン酸アミド、リノール酸
アミド、メチレンビスステアリン酸アミドなどがある。
カプリン酸アミド、ラウリン酸アミド、パルミチン酸ア
ミド、ベヘン酸アミド、オレイン酸アミド、リノール酸
アミド、メチレンビスステアリン酸アミドなどがある。
前記フッ素系有機化合物としては、例えばトリクロロフ
ルオロエチレン、パーフルオロポリエーテル、パーフル
オロアルキルポリエーテルなどがある。
ルオロエチレン、パーフルオロポリエーテル、パーフル
オロアルキルポリエーテルなどがある。
前記シリコン系有機化合物としては、例えばシリコンオ
イルがある。
イルがある。
なお、この高分子被膜11を構成する有機化合物として
は、例えばポリビニルブチラールや紫外線硬化性樹脂な
どが用いられる。
は、例えばポリビニルブチラールや紫外線硬化性樹脂な
どが用いられる。
また、前記高分子・被膜11中にカーボンブラック(導
電性材料)が添加されるため、保護lll3には必らず
しも必要ではないか、あるいは含有率を下げることがで
きる。
電性材料)が添加されるため、保護lll3には必らず
しも必要ではないか、あるいは含有率を下げることがで
きる。
本発明はディスク状の光−磁気記録媒体の他に、例えば
カード状など他の形態の光−磁気記録媒体にも適用でき
る。
カード状など他の形態の光−磁気記録媒体にも適用でき
る。
第5図は、本発明の実施例に係る光−磁気ディスク(曲
線A)と、窒化ケイ素からなる保護膜を形成した従来の
光−磁気ディスク(曲線B)とを、60℃、90%RH
の高温、高湿の条件下で放置した際のピットエラーレー
トを比較して示す図である。
線A)と、窒化ケイ素からなる保護膜を形成した従来の
光−磁気ディスク(曲線B)とを、60℃、90%RH
の高温、高湿の条件下で放置した際のピットエラーレー
トを比較して示す図である。
この図から明らかなように、無機質の保護膜を形成した
従来の光−磁気ディスク(曲線B)は。
従来の光−磁気ディスク(曲線B)は。
500時間放置するとピットエラーレートの発生が徐々
に増加し、1000時間から2000時間にかけてピッ
トエラーレートが急増しており、2000時間以上では
保i!!膜の効果がほとんど期待できない。
に増加し、1000時間から2000時間にかけてピッ
トエラーレートが急増しており、2000時間以上では
保i!!膜の効果がほとんど期待できない。
これに対して本発明のもの(曲mA)は、従来のものに
比較して高温、高湿の過酷な条件下においてもピットエ
ラーレートの増加はほとんど認められず、保護膜の機能
が長期間にわたって十分に発揮されていることが分かる
。このような本発明の効果は、前述した他の防錆剤にお
いても同等であることが、実験によって確認されている
。
比較して高温、高湿の過酷な条件下においてもピットエ
ラーレートの増加はほとんど認められず、保護膜の機能
が長期間にわたって十分に発揮されていることが分かる
。このような本発明の効果は、前述した他の防錆剤にお
いても同等であることが、実験によって確認されている
。
本発明のように防錆剤を使用すると、その防錆剤分子が
、光−磁気記録膜の微細な凹凸表面に入り込み、それの
吸着基(例えば−N Hz )が光−磁気記録膜の金属
面にしっかりと吸着し、さらに防錆剤の疎水基(例えば
−R)が光−磁気記録膜上において密に並んで、非常に
ち密な膜を形成する。そのためこの膜によって、光−磁
気記録膜を空気(酸素、湿分)から遮断することができ
る。
、光−磁気記録膜の微細な凹凸表面に入り込み、それの
吸着基(例えば−N Hz )が光−磁気記録膜の金属
面にしっかりと吸着し、さらに防錆剤の疎水基(例えば
−R)が光−磁気記録膜上において密に並んで、非常に
ち密な膜を形成する。そのためこの膜によって、光−磁
気記録膜を空気(酸素、湿分)から遮断することができ
る。
さらに保護膜中には低吸湿化のためのフイラ−が存在し
ているため、低吸湿化、耐久性の向上が図れ、これらが
相互的に作用して第5図のように長期間安定した特性を
発揮することができる。
ているため、低吸湿化、耐久性の向上が図れ、これらが
相互的に作用して第5図のように長期間安定した特性を
発揮することができる。
また、保護膜の形成方法として、スピンナー法を採用す
れば、ピンホールなどの欠陥のない均一な保護膜を量産
性良く作成することができる。
れば、ピンホールなどの欠陥のない均一な保護膜を量産
性良く作成することができる。
本発明は第1図などで示すような基板の中央にハブを装
着して用いる構造においては、ハブの形状、ハブと基板
の形状の組合せの相違がいかなる種類のものでも適用で
きる。
着して用いる構造においては、ハブの形状、ハブと基板
の形状の組合せの相違がいかなる種類のものでも適用で
きる。
第1図、第2図、第3図、第4図は本発明の各実施例に
係る光−磁気ディスクの断面図、第5図は本発明の実施
例に係る光−磁気ディスクと従来の光−磁気ディスクと
の高温、高湿下におけるピットエラーレート特性図であ
る。 ! 、 1 a 、 1 b−・=透明基板、2@ 2
a、2b・・・・・・光−磁気記録膜、3.3a、3b
・・・・・・保護膜、5a・・・・・・第1の光−磁気
記録媒体、5b・・・・・・第2の光−磁気記録媒体、
6・・・・・・接着剤層、7a、7b・・・・・・内側
リブ、8a、8b・・・・・・外側リブ、9・・・・・
・隙間、10・・・・・・接着剤、11・・・・・・高
分子被膜。 第1図 b 第2図 弓n b 第3図 b−2 3b−1’ 6 第4図 ゝ 2 第5図 20 50 100 200 500 +00
0 2000 5000経止丹開 (h)
係る光−磁気ディスクの断面図、第5図は本発明の実施
例に係る光−磁気ディスクと従来の光−磁気ディスクと
の高温、高湿下におけるピットエラーレート特性図であ
る。 ! 、 1 a 、 1 b−・=透明基板、2@ 2
a、2b・・・・・・光−磁気記録膜、3.3a、3b
・・・・・・保護膜、5a・・・・・・第1の光−磁気
記録媒体、5b・・・・・・第2の光−磁気記録媒体、
6・・・・・・接着剤層、7a、7b・・・・・・内側
リブ、8a、8b・・・・・・外側リブ、9・・・・・
・隙間、10・・・・・・接着剤、11・・・・・・高
分子被膜。 第1図 b 第2図 弓n b 第3図 b−2 3b−1’ 6 第4図 ゝ 2 第5図 20 50 100 200 500 +00
0 2000 5000経止丹開 (h)
Claims (33)
- (1)透明基体および光−磁気記録膜を備えた光−磁気
記録媒体において、前記光−磁気記録膜側に防錆剤と低
吸湿化のためのフィラーとを含有した保護膜を形成した
ことを特徴とする光−磁気記録媒体。 - (2)透明基体および光−磁気記録膜を備えた光−磁気
記録媒体において、前記光−磁気記録膜側に防錆剤と低
吸湿化のためのフィラーとを分散した高分子膜からなる
保護膜を形成したことを特徴とする光−磁気記録媒体。 - (3)請求項(1)または請求項(2)記載の防錆剤が
、窒素を少なくとも1つ含む芳香族有機化合物であるこ
とを特徴とする光−磁気記録媒体。 - (4)請求項(1)または請求項(2)記載の防錆剤が
、窒素を少なくとも1つ含む複素環有機化合物であるこ
とを特徴とする光−磁気記録媒体。 - (5)請求項(3)記載の芳香族有機化合物が、ニトロ
ソナフトール系有機化合物であることを特徴とする光−
磁気記録媒体。 - (6)請求項(4)記載の複素環有機化合物が、ベンゾ
トリアゾール系有機化合物であることを特徴とする光−
磁気記録媒体。 - (7)請求項(4)記載の複素環有機化合物が、ベンズ
イミダゾール系有機化合物であることを特徴とする光−
磁気記録媒体。 - (8)請求項(5)記載のニトロソナフトール系有機化
合物が、1ニトロソ2ナフトールまたは2ニトロソ1ナ
フトールであることを特徴とする光−磁気記録媒体。 - (9)請求項(6)記載のベンゾトリアゾール系有機化
合物が、ベンゾトリアゾール、5ニトロベンゾトリアゾ
ール、5メチル1Hベンゾトリアゾール、ベンゾトリア
ゾールSt酸塩のグループから選択された少なくとも1
種類の有機化合物であることを特徴とする光−磁気記録
媒体。 - (10)請求項(6)記載のベンズイミダゾール系有機
化合物が、ベンズイミダゾール、2アミノベンズイミダ
ゾール、ニトロベンズイミダゾールのグループから選択
された少なくとも1種類の有機化合物であることを特徴
とする光−磁気記録媒体。 - (11)請求項(1)または請求項(2)記載の防錆剤
が、揮発性を有する防錆剤であることを特徴とする光−
磁気記録媒体。 - (12)請求項(11)記載の防錆剤が、ジシクロヘキ
シルアンモニウム亜硝酸塩、ベンゾトリアゾール、シク
ロヘキシルアミンカーボネート、ジイソプロピルアンモ
ニウムアイトライトのグループから選択された少なくと
も1種類の有機化合物であることを特徴とする光−磁気
記録媒体。 - (13)請求項(12)記載の保護膜の上に防錆剤の揮
散を防止する揮散防止層が設けられていることを特徴と
する光−磁気記録媒体。 - (14)透明基体および光−磁気記録膜を備えた光−磁
気記録媒体において、前記光−磁気記録膜上に揮発性を
有する防錆剤と低吸湿化のためのフィラーとを含有する
保護膜を形成した2枚の光−磁気記録媒体を、互に前記
保護膜が対向するように接着剤からなる防錆剤揮散防止
層を介して一体に接合されていることを特徴とする光−
磁気記録媒体。 - (15)透明基体および光−磁気記録膜を備えた光−磁
気記録媒体において、前記光−磁気記録膜上に揮発性を
有する防錆剤と低吸湿化のためのフィラーとを含有する
保護膜を形成した2枚の光−磁気記録媒体を、互に前記
保護膜が隙間を介して対向するように配置して、その隙
間の内周と外周とを前記防錆剤が外部に揮散しないよう
に気密にシールしたことを特徴とする光−磁気記録媒体
。 - (16)請求項(1)記載において、前記フィラーが無
機化合物であることを特徴とする光−磁気記録媒体。 - (17)請求項(16)記載の無機化合物が、α−Fe
_2O_3,Al_2O_3,SiC,TiO_2,T
iC,Cr_2O_3のグループから選択された少なく
とも1種類の無機化合物であることを特徴とする光−磁
気記録媒体。 - (18)請求項(1)記載のフィラーが、下記の一般式
を有する有機金属化合物であることを特徴とする光−磁
気記録媒体。 一般式RCOOM ただし、式中のRは炭素数10以下の炭化水素Mはアル
カリ金属以外の金属 - (19)請求項(2)記載の高分子膜が、ポリビニルブ
チラールまたは紫外線硬化性樹脂であることを特徴とす
る光−磁気記録媒体。 - (20)請求項(1)または請求項(2)記載の保護膜
に導電性微粒子が添加されていることを特徴とする光−
磁気記録媒体。 - (21)透明基体および光−磁気記録膜を備えた光−磁
気記録媒体において、前記光−磁気記録膜側に防錆剤と
低吸湿化のためのフィラーとを含有した保護膜を形成し
、その2枚の光−磁気記録媒体を前記保護膜が互に対向
するように接着剤層を介して一体に接合したことを特徴
とする光−磁気記録媒体。 - (22)請求項(21)記載において、前記接着剤層が
無溶剤タイプのエポキシ系樹脂接着剤で構成されている
ことを特徴とする光−磁気記録媒体。 - (23)請求項(22)記載において、前記エポキシ系
樹脂接着剤が、粘ちよう性を有するエポキシ樹脂と粘ち
よう性を有するポリアミド樹脂との混合物であることを
特徴とする光−磁気記録媒体。 - (24)透明基体および光−磁気記録膜とを備えた光−
磁気記録媒体において、前記光−磁気記録膜上に無機化
合物からなる第1の保護膜を設け、その第1の保護膜上
に防錆剤と低吸湿化のためのフィラーとを含有した第2
の保護膜を設けたことを特徴とする光−磁気記録媒体。 - (25)請求項(24)記載において、前記第1の保護
膜を構成する無機化合物が、SiO_2,ZrO_2,
Si_3N_4,TiNのグループから選択された少な
くとも1種類の無機化合物であることを特徴とする光−
磁気記録媒体。 - (26)請求項(24)記載において、前記防錆剤が揮
発性を有する防錆剤であることを特徴とする光−磁気記
録媒体。 - (27)請求項(1)または請求項(2)記載において
、前記保護膜上に潤滑剤を含有した被膜が形成されてい
ることを特徴とする光−磁気記録媒。 - (28)請求項(27)記載の前記潤滑剤が、脂肪酸系
有機化合物であることを特徴とする光−磁気記録媒体。 - (29)請求項(27)記載の前記潤滑剤が、フッ素系
有機化合物であることを特徴とする光−磁気記録媒体。 - (30)請求項(27)記載の前記潤滑剤が、シリコン
系有機化合物であることを特徴とする光−磁気記録媒体
。 - (31)透明基体上に光−磁気記録膜を形成した後、そ
の光−磁気記録膜上に、防錆剤と低吸湿化のためのフィ
ラーとを分散した有機化合物の液状体を滴下してスピン
コート法によつて保護膜を形成したことを特徴とする光
−磁気記録媒体の製造方法。 - (32)請求項(31)記載の有機化合物が未重合の有
機化合物であつて、スピンナー法によつて膜を形成した
後に前記有機化合物を重合させることを特徴とする光−
磁気記録媒体の製造方法。 - (33)透明基体上に光−磁気記録用記録膜を形成した
後、その光−磁気記録膜上に無機化合物を含有した第1
の保護膜を形成し、その第1の保護膜の上に防錆剤と低
吸湿化のためのフィラーとを含有した有機化合物の液状
体を滴下して、スピンコート法によつて防錆剤とフィラ
ーを含有した第2の保護膜を形成したことを特徴とする
光−磁気記録用媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10422388A JPH01277348A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 光−磁気記録媒体ならびにその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10422388A JPH01277348A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 光−磁気記録媒体ならびにその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01277348A true JPH01277348A (ja) | 1989-11-07 |
Family
ID=14374963
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10422388A Pending JPH01277348A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 光−磁気記録媒体ならびにその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01277348A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0240149A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-08 | Hitachi Ltd | 光記録媒体 |
JPH03157837A (ja) * | 1989-11-15 | 1991-07-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光磁気ディスク |
JPH03157836A (ja) * | 1989-11-15 | 1991-07-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光磁気ディスク |
-
1988
- 1988-04-28 JP JP10422388A patent/JPH01277348A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0240149A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-08 | Hitachi Ltd | 光記録媒体 |
JPH03157837A (ja) * | 1989-11-15 | 1991-07-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光磁気ディスク |
JPH03157836A (ja) * | 1989-11-15 | 1991-07-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光磁気ディスク |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH01277348A (ja) | 光−磁気記録媒体ならびにその製造方法 | |
JPS6142724A (ja) | 磁気記録媒体および磁気記録方法 | |
JPH04364248A (ja) | 光ディスク | |
JPH05303769A (ja) | 光ディスク | |
JPH0464936A (ja) | 光学的記録媒体 | |
JP3491340B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JPH05159364A (ja) | 光ディスク | |
JPH0628714A (ja) | 光情報記録媒体及びその製造方法 | |
JPH02101651A (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
JP3421875B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JP3298663B2 (ja) | 光磁気ディスク | |
JPS62232736A (ja) | 光磁気記録用媒体 | |
JPH0495238A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH0845125A (ja) | 光磁気ディスク媒体 | |
JPH0362338A (ja) | 光ディスク用オーバーコート層およびその材料 | |
JPH01236442A (ja) | 光―磁気記録媒体ならびにその製造方法 | |
JP3366377B2 (ja) | 光磁気ディスク | |
JPH06223421A (ja) | 光磁気記憶素子 | |
JPH02110842A (ja) | 光磁気記録媒体および光磁気記録方法 | |
JPH064917A (ja) | 光学的記録媒体、及びその製造方法 | |
JPH0464939A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH01236443A (ja) | 光―磁気記録媒体ならびにその製造方法 | |
JPH0464938A (ja) | 光学的記録媒体 | |
JPH01311438A (ja) | 光磁気記録媒体および光磁気記録方法 | |
JPH05159366A (ja) | 光情報記録媒体 |