JPS6142724A - 磁気記録媒体および磁気記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

■　発明の前景 技術分野 本発明は，磁気記録媒体，＃に金属薄Ｍｌｌｉの磁気記
録媒体と磁気記録方法に関する。 先行技術とその問題点 ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から，金属６Ｂ膜
型の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。 このような金属薄膜型の磁性層としては、特性上、基体
法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う．、いわゆる斜
め蒸若法によって形成したＣｏ系、Ｃｏ−Ｎｉ系等から
なる蒸ＭＭｉが好適である。 このような媒体は，スペーシングロスによる特性低下が
大きいので、その表面をできるだけ平滑化する必要があ
る。 しかし、あまり表面を平坦にすると、摩擦が大きくなり
，ヘッドタッチ、走行面で支障が出る。 ところで、金属薄ｍ型の媒体では．磁性層が０、０５〜
０．！Ｓｐｍと非常にうすいため、媒体の表面性は基板
の表面性に依存する。 このため、基板表面に比較的なだらかないわゆるしわ状
．ミミズ状等の突起を設ける旨が提案されている（特開
昭５：ｌ−１１６１１５号等）。 また、特開昭５８−８８２２７号，同５８−１００２２
１号には，基体表面に微粒子を配設して，光学Ｉｉ微鏡
で５０〜４００倍で観察で５，しかも触針式表面粗さ測
定装置で実測できる高さの凹凸を設ける旨が提案されて
いる。 しかし、これらでも、走行摩擦、耐久走行性，走行安定
性等の物性や、電磁変換特性の点で未だ不十分である。 一方、特公昭３９−２５２４６号等には、強磁性金属薄
膜層表面に、有機物潤滑剤からなるトップコート層を設
置す、走行摩擦を低減する旨が提案されている。 しかし、有機物潤滑剤を用いるときには、潤滑剤ノヘッ
ドヘノ付着、ヘッド目づまりが発生し、実用上大きな問
題となる。 すなわち、現状では、走行摩擦を下げ、しかも走行面で
支障の出ない範囲で、ヘッド付着、ヘッド目づまりを解
消し、かつ電磁変換特性の面でも不都合の生じない技術
は未だ実現していない。 ■　発明の目的 本発明の目的は、金属薄！！１ｆｆｉの磁気記録媒体と
、それを用いた磁気記録方法において、庫擦、耐久走行
性、走行安定性等の物性を改良し、しかも物性面で支障
のない範囲でヘッド付着や目づまりを解消し、かつ電磁
変換特性の面でも何ら不都合が生じないようにすること
にある。 このような目的は、下記の本発明によって達成される。 すなわち本発明は 可とう性基板上にＣｏを主成分とする強磁性金属薄膜層
を設け、さらにこの強磁性金属薄膜層表面にＩＦ機物ト
フプコート層を設け、しかも他方の面にバックコート層
を設けた磁気記録媒体において。 ＊＊物トップコート層が放射線硬化型の分子量２０００
未満の化合物、酸化防止剤および潤滑剤を含有し、 バックコート層が無４ｍ顔料、有機バインダーおよび潤
滑剤を含有し。 かつ強磁性金属１１１１１層が酸素を含んでおり、さら
に磁気ヘッドのギャップ長をａ−とした時、媒体表面が
１−昌り平均１０５／ａ２以上の突起を宥し、しかもこ
の突起が３０〜３０〜１００Åの高さを有することを特
徴とする磁気記録媒体である。 また・第２の発明は、 可とう性基板上にＣｏを主成分とする強磁性金属薄膜層
を設け、かつ強磁性金属薄膜層表面に有機物トップコー
ト層を設け、しかも他方の面にバックニートを設けた磁
気記録媒体を、磁気ヘッドを用いて記録再生上行う磁気
記録方法において、 ＊機物トップコート層が酸化防止剤と、潤滑剤とを含有
し、 バックコート層が無機顔料、有機バインダーおよび潤滑
剤を含有し、 かつ、強磁性金属ａｎＱ暦が酸素を含み。 さらに、ｒｉｉ気ヘッドのギャップ長をａμｓとしたと
き、媒体表面が１ｍｍ２当り平均１０５／ａ２個以上の
突起を有し、しかも突起が３０〜３０〜１００Åの高さ
を有することを特徴とする磁気記録方法である。 ■　発明の具体的構成 以下１本発明の具体的構成について詳細に説明する。 本発明における磁性層としての強磁性金属薄膜層は、Ｃ
ｏを主成分とし、これにＯを含み。 さらに必要に応じＮｔおよび／またはＣｒが含有される
組成を宥する。 すなわち、好ましい態様においては、Ｃｏ単独からなっ
てもよ＜、ＣｏとＮｉかもなってもよい、　Ｎｉが含ま
れる場合、Ｃｏ／Ｎｉの重量比は、１．５以上であるこ
とが好ましい。 さらに１強磁性金属薄膜層中には、Ｃｒが含有されてい
てもよい。 Ｃｒが含有されると、電磁変換特性が向上し、出力およ
びＳ／Ｎ比が向上し、さらに膜強度も向上する。 このような場合、Ｃｒ　／　ＣｏあるいはＣｒ／（Ｃｏ
＋Ｎｉ）の重量比は０．１以下、特に０．００１〜０．
１、より好ましくは、０．００５〜０．０５であること
が好ましい。 さらに、強磁性金属薄膜中には０が含有されるものであ
る。 強磁性金属薄膜中の平均ｍ５Ｉ！：！ｌＬは、原子比、
特にＯ／（ＣｏまたはＣｏ＋Ｎｉ）の原子比で、０．５
以下、より好ましくは０．０５〜０．５であることが好
ましい。 この場合、強磁性金属薄膜層の表面では、酸素が強磁性
金、Ｉ（Ｃｏ、Ｎｉ）と酸化物を形成している。 すなわち、表面部、特に表面から５０〜５０〜１００Å
、より好ましくは５０〜２０〜１００Åの厚さの範囲に
は、オージェ分光分析により、酸化物を示すピークが認
められるものである。　そして、この酸化物層の酸素含
有量は、原子比で０．５〜１．０程度である。 なお、このような強磁性金属薄膜層には、さらに他の微
量成分、特に遷移元素１例えばＦ　ｅ　＋　Ｍ　ｎ　＋
　Ｖ　＋　Ｚ　ｒ　、Ｎ　ｂ　＊　Ｔ　ａ　＊　Ｔ　ｔ
　＋Ｚ　ｎ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｗ　、　Ｃｕ等が含まれ
ていてもよい。 このような強磁性金ａａｉｓ暦は、好ましい態様におい
て、上記したＣｏを主成−分とする柱状結晶粒の集合体
からなる。 この場合１強磁性金属薄！暦の厚さは、０．０５〜０．
５１Ｌｍ、好ましくは、０．０７〜０・３ＩＬｍとされ
る。 そして、柱状の結晶粒は、薄膜の厚さ方向のほぼ全域に
亘る長さをもち、その長手方向は、基体の主面の法線に
対して、１０〜７０’の範囲にて傾斜していることが好
ましい。 なお、酸素は１表面部の柱状の結晶粒の表面に前記のと
おり化合物の形で存在するものである。 また、強磁性金属薄膜層の酸素の濃度勾配の何頭には特
に制限はない。 また、結晶粒の短径は、５０〜５０〜１００Å程度の長
さをもつことが好ましい。 このような強磁性金属薄１１１層を形成する基板は、非
磁性のものでありさえすれば特に制限はないが、特に可
とう性の基板、特にポリエステル、ホリイミド等の樹脂
製のものであることが好ましい。 また、その厚さは、種々のものであってよいが、特に５
〜２０ｐｍであることが好ましい。 このようにａ威される本発明の磁気２鎧媒体の表面には
、微細な突起が所定の密度で設けられる。 微細な突起は、３０〜３０〜１００Å、より好ましくは
５０〜２５〜１００Åの高さを宥するものである。 すなわち、本発明の突起は、光学顕微鏡で観察でき、か
つ触針型表面粗さ計で測定できるものではなく、走査型
ないし透過型の電子顕微鏡にて観察できる程度のもので
ある。 突起高さが３０〜１００Åをこえ、光学１１１２鏡に（
観察できるものとなると、Ｔ１１磁変換特性の劣化と、
走行安定性の低下をもたらす。 また、５〜１００Å未満となると、物性の向上の実効が
−ない。 そして、その密度は１ｍｍ２あたり平均１０５／ａ２個
、より好ましくは２Ｘ１０６／ａ２〜ｌＸ１０９／ａ２
［である。 この場合、ａはルｍ単位にて、用いる磁気ヘッドのギャ
ップ長を表わす。 そして、ａは、０．１”０．５１Ｌｍ、特に０．１〜０
．４終ｍとされる。 なお、突起密度が１０５／ａ２個／ｗｍ２．、Ｊ：り好
ましくは２Ｘ１０６／ａ２個／ｍ＠２未満となると、ノ
イズが増大し、スチル特性が低下し、ヘッド目づまりが
多発する等物性の低下をきたし、実用に耐えない。 また、１０９／ａ２個／ｌａｍ２をこえると、物性上の
効果が少なくなってしまう。 このような突起を設けるには１通常、基板上鴎量萩子ン
配設丁ればよい０ｗ１粒子径は、３０〜３０〜１００Å
、特に５０〜２５〜１００Åとすればよく、これにより
微粒子径を対応した微細突起が形成される。 用いる微粒子としては、通常コロイド粒子として知られ
ているものであって１例えば５ｉ０２（コロイダルシリ
カ）、Ａ１２０３（アルミナシ／ｌ／）　、　ＭｇＯ’
、　Ｔ　ｉ　０２　　。 ＺｎＯ、Ｆｅ２０３　　、ジルコニア゛、ＣｄＯ。 ＮｆＯ，ＣａＷＯ４、ＣａＣＯ３。 ＢａＣＯ３、ＣｏＣＯ３、ＢａＴｉＯ３。 Ｔｉ（チタンブラック）、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ。 Ｎｉ、Ｆｅ、各種ヒドロシルや、樹脂粒子等が使用可能
である。　この場合、特に無機物質を用いるのが好まし
い。 このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基板状に塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したものを塗
布、乾燥してもよい。 なお、場合によっては、これら塗布液を基板上に配設す
るのではなく、微粒子をトップコート層中に添加して突
起を設けることもできる。 また、樹脂分を用いる場合、これら微粒子にもとづく微
細突起に重畳してゆるやかな突起を設けることもできる
が、通常はこのようにする必要はない。 なお、基板と強磁性金属薄膜層との間には。 必要に応じ、公知の各種下地層を介在させることもでき
る。 また、もし必要であるならば５強磁性金属薄膜層を複数
に分割して、その間に非強磁性金属薄１１［を介在させ
てもよい。 本発明において、磁性層の形成は電解蒸着。 イオンブレーティング、メッキ等を用いることもできる
が、いわゆる斜め蒸着法によって形成されることが好ま
しい。 この場合、基体法線に対する。蒸着物質の入射角の最小
値は、２０”以上とすることが好ましい。 入射角が２０”未満となると、電磁変換特性が低下する
。 なお、蒸着雰囲気は１通常、アルゴン、ヘリウム、真空
等の不活性雰囲気に、酸素ガスを含む雰囲気とし、１０
−５〜１００Ｐａ程度の圧力とし、また、蒸着距離、基
体搬送方向、キャンやマスクの構造、配置等は公知の条
件と同様にすればよい。 そして、酸素雰囲気での蒸着により１表面に金属酸化物
の被膜が形成される。　なお、金属酸化物が形成される
酸素ガス分圧は、実験から容易に求めることができる。 なお−２表面に金属酸化物の被膜を形成するには、各種
酸化処理が可能である。 適用できる酸化処理としては下記のようなものがある。 １）乾式処理 ａ、エネルギー粒子処理 特願昭５８−７６６４０号に記載したように、蒸着の後
期に、イオンガンや中性ガンにより酸素をエネルギー粒
子として磁性層にさしむけるもの。 ｂ、グロー処理゛ ０２　　、Ｎ２０，０２　＋Ｈ２０等とＡｒ。 Ｎ２等の不活性ガスとを用い、これをグロー放電してプ
ラズマを生じさせ、このプラズマ中に磁性膜表面をさら
すもの。 Ｃ０酸化性ガス オゾン、加熱水蒸気等の酸化性ガスを吹きつけるもの。 ｄ、加熱処理 加熱によって酸化を行うもの、　加熱温度は６０〜１５
０℃程度。 ２）湿式処理 ａ、陽極酸化 す、アルカリ処理 Ｃ１酸処理 クロム酸塩処理、過マンガン酸塩処理、リン酸塩処理等
を用いる。 ｄ、酸化剤処理 Ｎ２０２等を用いる。 ところで、トップコート層に潤滑剤のみを塗布するもの
では、一時的な摩擦の低下しか得られず、防錆性、耐腐
食性、耐久性の点でも著しく劣る。 本発明では特定のトップコート層は、放射線硬化型の分
子量２０００未満の化合物、酸化防止剤および潤滑剤を
含有するものである。 本発明のトップコート層で用いられる放射線硬化型の分
子量２０００未満の化合物としては、イオン化エネルギ
ーに感応し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合を有
すアクリル酸。 メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物のよう
なアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなア
リル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不
飽和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥
する基を分子中に含有または導入した分子！１Ｌ２００
０未満の化合物等を用いることができる。 それらの放射線硬化型の分子量２０００未満の化合物は
、スチレン、エチルアクリレート。 エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、ジ−エチレングリコールジアクリ
レート、ジエチレングリコールメタクリレート、１．８
−ヘキサングリコールジアクリレート、１．８−ヘキサ
ングリコールジメタクリレート等も挙げられるが、 特に好ましいものとしては、Ｎ−ビニルピロリドン、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート（メタクリレー
ト）、ペンタエリスリトール７クリレート　（メタクリ
レート）、トリメチロールプロパントリアクリレート（
メタクリレート）、トリメチロールプロパンジアクリレ
ート（メタクリシート）、フェノールエチレンオキシド
付加物の７クリレート（メタクリレート）、下記一般式
で示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基（
メタクリル基）、またはε−カプロラクトン−アクリル
基のついた化合物、 式中、ｍｘｌ、ａ＝２、ｂ−４の化合物（以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Ａという）、 ｍｘｌ、ａｘ３、ｂ−３１７）化合物（以下、特殊ペン
タエリスリトール縮合物Ｂという）、ｍｗｌ、ａｘ６、
ｂ−ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合
物Ｃという）、ｍｗ２、ａ＝６、ｂ−ｏの化合物（以下
、特殊ペンタエリスリトール縮合物りという）、および
下記式一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げら
れ？。 １）　　　（ＣＨ２冨ＣＨＣＯＯＨ２）３−ＣＣＨ２０
Ｈ（特殊アクリレートＡ） ２）　　　（ＣＨ２−ＣＨＣ００Ｈ２）３−ＣＣＨ２０
Ｈ３（特殊アクリレ−）Ｂ） ３）　　　（ＣＨ２藁ＣＨＯＣ（ＯＣ３Ｈａ）ｎ−ＯＣ
Ｈｚ）ｓ　−ＣＣＨ２ＣＨ３（特殊アクリレ−）Ｃ） （特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） （特殊アクリレ−）Ｆ） （ｎ中１６）　　　　　　（特殊アクリレートＧ）８）
　　　ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ２ＣＨ２０）４−Ｃ
ＯＣＨ−ＣＨ２（特殊アクリレートＨ） （特殊アクリレ−）Ｉ） Ｇ貌味アクリレートＪ） １１）　　　　　　　　Ａ　　　　　ＡＡ−（Ｘ−Ｙ÷
−Ｘ−Ａ Ａニアクリ）４、　　　Ｘ：多価アルコールＹ：多塩基
酸　　　　　（特殊アクリレートＫ）放射線硬化型の分
子３２０００未満の化合物を用いることにより、強磁性
ｓ謄−との付着性がよく、トップコート暦が分子量２０
００未満の化合物により補強され、塗膜の破断強度が上
がり、塗＋１１２の強化が為され、トップコート削れが
少なく、かつ高温走行での耐久性が改善できる。　そこ
で、ドロップアウトの少ない、かつロール上に巻き取っ
た形での硬化の際の巻きしまりのない、長さ方向で均一
の特性を有する磁気記録媒体が得られる。 前記放射線硬化型の分子量２０００未満の化合物がない
場合、高温走行でのス）−／プを生じ、ケズレが大で゛
あり、付着が生じるが、放射線硬化型の分子量２０００
未満の化合物を用いると、架橋性が上り、トップコート
の削れかなくなり、走行中の目づまりがなく、スチル特
性が向上する。 また、放射線硬化型ポリマーと比較しても。 削れや目づまりがより少なくなり、ざらにスチル特性が
向上する上に、ポリマーに比べて分子量が小さいため、
粘度が低く、塗１ｒＩＩＩｉｉＩが均一となり、そのた
め電磁変換特性でエンベロープが良好となる。 本発明では放射線硬化型の分子ｆｉ２０００未満の化合
物を用いるが１分子量が２０００以上となると摩擦抵抗
が高くなる傾向となる。 また、放射線硬化型分子ＭＬ２０００未満の化合物を用
いると、トップコートｅの製造上、連続処理が可能であ
り、オンライン上で処理できるので、省エネルギー、コ
ストの低減に役立つ、　これらの化合物は単独、または
混合物の形で用いることができる。 本発明で用いられる酸化防止剤としては、通常の酸化防
止剤剤が用いられ、これらは１）フェノール系酸化防止
剤 ２）アミン系酸化防止剤、 ３）リン系酸化防止剤。 ４）硫黄系酸化防止剤、 ５）−有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤。 ６）キノン系酸化防止剤、 ７）無機酸、無機塩系酸化防止剤のように構造的に大別
される。 上記、各ＭＪｍ化防止剤の具体例を挙げると、 ■）フェノール系酸化防止剤としては、２．６−ジー第
三ブチル−ｐ−クレゾール。 ２．６−ジー第三ブチル−フェノール。 ２．４−ジ−メチル−６−第三ブチルーフニーノール、
ブチルヒドロキシアニソール、２．２′−メチレンビス
（４−メチル−６−第三ブチルフェニノール）、４．４
’　−ブチリデンビス（３−メチル−ｅ−Ｈ三ブチルフ
ェノール）、４．４′−チオビス（３−メチル−６＝第
三ブチルフエノール）、テトラキス〔メチレン−３（３
，５−シ５４三ブチルー４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネートコメタン、１　、　ｌ　、　３−トリス（２
−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）
ブタン、ジブチルヒドロキントルエン、没食子醜プロピ
ル、グアヤク脂、ノルジヒドログアヤレチン酸等がある
。 放射線硬化型としては、モノグリコールサリチレート、
２．５−ジ第三プチルハ゛イドロキノン、２，４−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン、２．４．５−）リヒドロキシ
ブチロフェノン、へイドロキノン等のメタクリレート、
アクリレートタイプが挙げられる。 ２）アミン系酸化防止剤としては。 フェニル−β−ナフチルアミン、α−ナフチルアミン、
Ｎ、Ｎ’　−ジー第ニブチル−ｐ−フェニレンジアミン
、フェニルチアジン、Ｎ。 Ｎ’　−ジフェニル−ｐ−フェ゛ニレンジアミンの他、
アルカノールアミン、リン脂質等が挙げられる。 アミン系でもジメチルアミノエチルメタクリレート、ア
クリレートあるいはビニルタイプ等の放射線硬化可能の
ものが放射線硬化型として挙げられる。 ３）リン系酸化防止剤としては、放射線硬化型あるいは
放射線硬化型でないものが用いられ。 リン酸エステル部分のＲとしてはアルキル基。 アルキルフェニル基、その他酸化”エチレン、酸化プロ
ピレンを含有し、そのＲとしてＣが１〜２６が好ましく
、さらに好ましいのは１〜２２である。　リン酸エステ
ルとしてはモノ、ジ、トリのものが含まれ、モノあるい
はジの成分が多いものであってもよく、トリタイプのも
のはカットされていてもよい。 また、リン酸エステルは、ＮＨ４タイプのものおよびメ
タクリレート、アクリレート、ビニルタイプのものも含
まれる。 具体的にはトリフェニルホスファイト、トリオクタデシ
ルホーファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリ
ルトリチオホスファイト等の亜リン酸ニスエルや、ヘキ
サメチルホリックトリ７ミド、ブチルホスフェート、セ
チルホスフェート、ブトキシエチルホスフェート、２−
エチルへキシルホスフェート、β−クロロエチルホスフ
ェート、ブトキシエチルホスフェートジエチルアミン塩
、ジ（２−エチタヘキシル）ホスフェート、エチレング
リコールアシッドホスフェート、（２−ヒドロキシエチ
ル）メタクリレート・ホスフェート、ブチルヒドロキシ
メタクリレート・ホスフェート、カプリルヒドロキシメ
タクリレート−ホスフェート、ミリスチルヒドロキシメ
タクリレート自ホスフェート、ステアリルヒドロキシメ
タクリレート・ホスファイト、セチルヒドロキシメタク
リレート−ホスフェート、ブチルフェニルヒドロキシメ
タクリレート・ホスフェート、アミルフェニルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、ノニルフェニルヒド
ロキシメタクリレート・ホスフェート、およびこれらの
７クリレートタイプ、フェニルホスフェート、その他の
アルコール、およびノニルフェニル等の２エニルホスフ
エート、バナジウム系酸性リン酸エステル等のリン酸エ
ステルが挙げられる。 ４）硫黄系酸化防止剤としては、 ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジ
プロピオネート、ラウリルステアリルチオジプロピオネ
ート、ジミリスリルチオジプロピオネート、ジステアリ
ルβ、β′−チオブチレート、２−メルカプトベンゾイ
ミダゾール、ジラウリルサルファイドの他、４．４’−
チオ−ビス（３−メチル−６−第三ブチル−フェノール
）、２．２’−チオ−ビス（４−メチル−６−第三ブチ
ルフェノール）等のメタクリレート、アクリレート、ビ
ニルタイプ等の放射線硬化型が挙げられる。 また、これらは酸化エチレン、耐化プロピし・ンを含有
していてもよい。 ５）有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤として
は、ソルビトール、グリセリン、・−プロピレングリコ
ール、アジピン酸、クエン酸、アス＝ビン酸等が挙げち
れ、これらの放射線硬化型であってもよい。 ６）キノン系醸化防止剤としては、ヒドロキノン、トコ
フェロール等があり、これらの中で放射線硬化型であっ
てもよい。 ７）ｓ機酸、無機塩系酸化防止剤としては、すン酸がそ
の代表例として挙げられる。 上記酸化防止剤の中でも１強磁性薄膜への裏型転写を抑
えうるという点から、分子中にアクリル系二重結合を有
する放射線硬化型のもの、例えば七ノグリコールサリチ
レートメタクリレート（アクリレート）、４−’Ｇ三ジ
ブチルカテコールメタクリレートアクリレート）、ジメ
チルアミノエチルメタクリレート（アクリレート）、エ
チルヒドロキシメタクリレート（アクリレート）ホスフ
ェート、セチルヒドロキシホスフェートメタクリレート
（アクリレート）、ステアリルメタクリレート（アクリ
・レート）ホスフェート、および上記のもののフェニル
タイプのもの、２，２′チオ−ビス（４−メチル−６−
第三ブチル−フェノール）メタクリレート（アクリレー
ト）等が好ましい。 リン酸エステルの製法としては公知の方法で行われるが
、特開昭５７−４４２２３号公報記載の方法も挙げられ
る。 放射線硬化型防止剤では強磁性薄膜へのオンライン硬化
ができるため熱硬化時の巻きしまりによる裏型転写によ
る表面性の劣化がなく、そのため出力の低下がない。 強磁性９Ｍのトップコートは１００Å以下が好適であり
、これ以上厚くすると電時の低下を生じる。　また、あ
まり厚すざると強磁性Ｓ膜の表面粗度が１００λ以下の
ため、この上の酸化防止剤の暦が厚さを増し、該層が削
れる。 このようなことは本発明においてはじめて判明したこと
である。　そして、ドロップアウトの防止、ロール状に
巻かれたときの内外径の個所による出力差の減少といっ
た特性上の効果の他、オンライン上゛での製造が可能と
いった処理上の効果をもあげうるものである。 本発明で用いられる潤滑剤としては、従来この種の磁気
２鎌媒体に用いられる潤滑剤として、シリコンオイル、
フッ素オイル、脂肪酸、脂肪酸エステル、パラフィン、
流動ノくラフイン、界面活性剤等を用いることができる
が、脂肪酸および／または脂肪酸エステルを用し）るの
が好ましい。 脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン醜、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣＯ
ＯＨｌＲは炭素数１１以上のアルキル基）であり、脂肪
酸エステルとしては、炭素９１２〜１６の一塩基性脂肪
酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコールからなる脂肪
酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基性脂肪酸と脂
肪酸の炭素数と合計して、炭素数が２１〜２３個よりな
る一価のアルコールとからなる脂肪酸エステル等が使用
される。 シリコーンとしては、脂肪酸変性よ□りなるもの、一部
フッ素変性字れているものが使用される。　アルコール
としては高級アルコールよるなるもの、フッ素としては
電解置換、テロメリゼーシ菖ン、オリゴメリゼーション
等によって得られるものが使用される。 潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。 これらは強磁性薄膜への裏型転写を抑えるため、ドロッ
プアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外径の個
所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造が可能
である等の利点を持つ。 放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系あるいはビニル系二重結合とを分子中に宥する化
合物、例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、ビニル酢酸エステル、アクリル酸アミド系化合物、
ビニルアルコールエステル、メチルビニルアルコールエ
ステル、アリルアルコールエステル、グリサライド等が
あり、これらの潤滑剤ｔ−檎迫式で！！すＣＨ２”ＣＨ
−ＣＨ２Ｃ００Ｒ１ ＣＨ２＝　ＣＨＣＯＮ　ＨＣＨ２０ＣＯＲＲＣＯＯＣＨ
＝ＣＨ２。 ＲＣＯＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２等で、ここテＲは直鎖ま
たは分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数
は７以上、好ましくは１２以上２３以下であり、これら
はフッ素置換体とすることもできる。 フッ素置換体としては、 ＣｎＦ２．．１＋、ＣｎＦ　　　ＣＣＨ２）ｍ　−２ｎ
◆１ （ただし１ｍ暑１〜５）。 Ｃｎ　Ｆ　２ｎ、　ｔ　ＣＨ２Ｎ　ＨＣＨ２ＣＨ２−１
等がある。 これら放射線硬化ｍｎ滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセ°°リンのメタクリレート（アクリレート）、グリ
コールのメタクリレート（アクリレート）、シリコーン
のメタクリレート（アクリレート）、ステアリン酸ビニ
ル、ミルスチン酸ビニル等が挙げられる。 本発明のトップコート暦には、上記添加剤の外にポリマ
ーも用いることができる。　それらのポリマーは、従来
、磁気記録媒体に利用されている熱可塑性、Ｐｈ硬化性
、または反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、
得られる塗膜強度等の点から硬化型、特に放射線硬化型
の樹脂が好ましい。 熱可塑性樹脂としては、軟化温度が１５０”Ｃ以下、平
均分子量が１００００〜２０００００、重合度が約２０
０〜２０００程度のもので１例えば塩化ビニール−酢酸
ビニール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）、塩
化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（カ
ルボン酸導入のものも含む）、Ｊｊｌ化ビエビニール化
ビニリデン共重合体、塩化ビニール−７クリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステル−７クリ一二トリル共重
合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、
アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸
エステル−アクリフニトリル共重合体、メタクリル酸エ
ステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステ
ル−スチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロ
ン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹
脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−７クリロニロ
リル共重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体
、ポリアミド樹脂、ポリビニールブチラール、セルロー
ス誘導体（セルロースアセテート、セルロースダイアセ
テート、セルローストリアセテート、セルロースプロピ
オネート、ニトロセルロース等）、スチレン−ブタジェ
ン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテル
−アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合
成ゴム系の熱可塑性樹脂およびこれらの混合物が使用さ
れる。 熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗布液の状態
では２０００００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
が無限大のものとなる。　また、これらの樹脂のなかで
、樹脂が熱分解するまでのあいだに軟化または溶融しな
いものが好ましい。 具体的には１例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アル
キッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポ
キシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂
、高分子蛋ポリエステル樹脂とインシアネートプレポリ
マーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネ
ートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールと
ポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹
脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／トリフェ
ニルメタントインシアネートの混合物、ポリアミン樹脂
、およびこれらの混合物である。 好ましいものは、繊維素樹脂（硼化綿等）。 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、
ウレタンの組み合わせからなる熱硬化性樹脂（ｌｉ！化
剤化層使用あるいは塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）、ま
たはアクリル変性塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアル
コール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）、およ
びウレタンアクリレートからなる放射線硬化系樹脂から
なるものであり、放射線硬化系樹脂については、前記の
好まし腎）組み合わせの外に、ラジカル重合性を有する
不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル酸あるい
はそれらのエステル化合物のようなアクリル系二重結合
、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレ
イン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の、放射線
照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑性樹脂
の分子中に含有または導入した樹脂等を用いることがで
きる。 その他、使用可能なバインダー成分としては、単量体と
してアクリル酸、メタクリル酸。 アクリルアミド等がある。 二重結合のあるバインダーとしては、種々のポリエステ
ル、ポリオール、ポリウレタン等をアクリル二重結合を
有する化合物で変性することもできる。 さらに必要に応じて、多価アルコールと多価カルボン酸
を配合することによって、種々の分子量のものもできる
。　放射線感応樹脂として上記のものはその一部であり
、これらは混合して用いることもで°きる。 さらに好ましいのは、（Ａ）放射線により硬化性をもつ
不飽和二重結合を２偏以上有する、分子量５ｏｏｏ〜１
０００００のプラスチック状化合物、ＣＢ）放射線によ
り硬化性をもつ不飽和二重結合を１個以上有するか、ま
たは放射線硬化性を有しない、分子量３０００〜１００
０００のゴム状化合物、および（Ｃ）放射線により硬化
性をもつ不飽和二重結合を１（１以上有する、分子量２
００〜３０００の化合物を、（Ａ）２０〜７０重蚤％、
（Ｂ）２０〜８０重量％、（Ｃ）１０〜４０瓜量％の割
合で用いた組み合わせである。 これにより、塗膜の破断強度が上り、塗膜の強化がなさ
れ、バックコート削れが少なく。 バックニート暦から磁性層への無機完膚粉末の移転がな
いためドロップアウトの少ない、かつロール状に巻き取
った形での硬化の際の巻きしまりのない、長さ方向で均
一の若性を有する磁気記録媒体が得られる。 強磁性体薄膜に、放射線硬化型の分子量２０００未満の
化合物、酸化防止剤および潤滑剤を含むトップコート層
を設ける方法としては　前記添加剤を溶剤で希釈して強
磁性金属薄膜上に薄く塗布したり、添加剤を大気中、不
活性ガス中、あるいは真空中で気化せしめて、その蒸気
を強磁性金属表面に当てるなどの手段があり、これらを
適用することができる。 このとき、放射線硬化型の分子量２０００未満の化合物
、酸化防止剤、潤滑剤を混合、塗布して硬化したり、ま
ず放射線硬化型の分子量２０００未満の化合物、酸化防
止剤を塗布、硬化後、塗布膜上に前記潤滑剤を塗布ある
いは蒸着して、塗布あるは蒸着膜を形成することができ
る。　前記添加剤の塗布にあたっては、溶剤を用いて行
うことができる。 また、前記添加剤の蒸着は、添加剤を大気中、不活性ガ
ス中、あるいは真空中で気化せしめてその蒸気を、嗅を
形成すべき物質の表面に当てて行うものである。 添加剤の蒸着法によるものでは、その膜の表面が均一と
なり、出力波形が良好なものが得られる。 本発明のトップコート層における放射線硬化型の分子量
２０００未満の化合物、酸化防止剤、潤滑剤の使用割合
は、放射線硬化型の分子３１２０００未満の化合物二酸
化防止剤＝１０：９０〜９０：１０、好ましくは３０　
：　７０〜７０：３０（ｉ蚤）、潤滑剤は分子ｆｉ２０
００未満の化合物＋酸化防止剤１００重量部に対し、０
．５〜１００重量部である。 放射線硬化型の分子量２０００未満の化合物の量が、こ
れより少ないと被膜の強度が低下し、削れやすくなる。 また、酸化防止剤がこれより少ないと、錆止め効果が弱
まり、強磁性薄膜の腐食が起こり、膜のダメージが大き
く、電磁変換特性において出力が低下する。 トップコート層の厚みとしては、１０〜１０〜１００Å
が好ましい、−あまり厚すぎると、電磁の低下を生じた
り、ケズレを生ずる。　また、あまり薄すぎると目づま
りが発生す゛る。・特に、好ましい範囲としては１０〜
５〜１００Åである。 本発明において、トップコート層に前記の放射線硬化型
の分子量２０００未満の化合物を含有することによりト
ップコート層が補強され、削れが少なく、酸化防止剤を
含有することにより、防錆効果が著しく、また、潤滑剤
を含ませることにより、磁性層の表面の摩擦抵抗が低下
するという効果が奏せられ、走行安定性、耐久性の優れ
た。ドロップアウトの減少した磁気記録媒体が得られる
゛。 本発明のバックコート層は、無機顔料、宥機バインダー
および潤滑剤を含有するものからなる。 無機顔料としては。 ｌ）導電性のあるカーボンブラック、グラフアイ　　ト
　、　　ま　た　。 ２）無機充填剤として５ｉ０２．ＴｉＯ２゜Ａｊｌｚ　
　０３　　、　　Ｃｒ２　０３．　　ＳｆＣ，Ｃａｂ。 ＣａＣＯ３，酸化亜鉛、ゲーサイト、 αＦｅ２Ｏ３，タルク、カオリン、 ＣａＳＯ４，窒化ホウ素、フッ化黒塩、二硫酸モリブデ
ン、ＺｎＳ等があり、 中でもＣａＣＯ３，カオリン、ＺｎＯ、ゲーサイト、Ｚ
ｎＳやカーボンが使用される。 このような無ａ顔料の使用量は。 １）に関してはバインダー１００重量部に対して２０〜
２００ｇ蚤部、また ２）に関しては１０〜３００重量部が適当であり、無機
顔料があまり多くなると、塗膜がもろくなり、かえって
ドロップアウトが多くなるという欠点がある。 潤滑剤としては（分散剤をも含め−（）、従来こノ種バ
ック；−ト暦に用いられる種類のものはいずれも用いる
ことができるが。 カプリル酸、カプリン酸、ラウリン醜、ミリスチーン酸
、バルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸
、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、ステアロール
ｍ等の炭″Ｉ！：数１２以上＋７）脂肪酸（ＲＣＯＯＨ
，Ｒは炭素１１１１１以上のアルキル基）： 前記の脂肪酸のアルカリ金ｒｒＡ（Ｌ　ｔ　ｒ　Ｎ　ａ
　＋に等）またはアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ。 Ｂａ等）からなる金属石鹸； レシチン等が使用される。 この他に、炭素９１２以上の高級アルコール、およびこ
れらの硫酸エステル、界面活性゛剤、チタンカップリン
グ剤、シランカップリング剤等も使用可能である。 これらの潤滑剤（分散剤）はバインダー１００重量部に
対して１〜２０重量部の範囲で添加される。 潤滑剤としては、上記の他にシリコンオイル、グラファ
イト、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、炭素ｆ
ｉ１２〜１６個の一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の
一価のアルコールからなる一脂肪酸エステル類、炭素数
１７個以上の−Ｊ１！基性脂幼性脂肪酸肪酸の炭素数と
合計して、炭素数が２１〜２３個よりなる一価のアルコ
ールとからなる脂肪酸エステル等が使用される。 これらの潤滑剤はバインダー１００ｆｉ蚤部に対して０
．２〜２０重量部の範囲で添加される。 また、その他の添加剤としては、この種のバックコート
に用いるものは何にでも用いることができるが、 例えば、帯電防止剤として、 サポニンなどの天然界面活性剤； アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール
系などのノニオン界面活性剤；高級アルキルアミン類、
第４級アンモニウム塩類、ピリジンその他の：Ｎ１素環
類、ホスホニウムまたはスルホニウム類などのカチオン
界面活性剤； カルボン酸、スルホン酸、リン酸、硫酸エステル基、リ
ン酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤ニ アミノ酸類、アミノスルホンｍ類、アミ／アルコールの
硫庸またはリン酸ニス−チルａ等の両性活性剤などが使
用される。 ＊発明のバックコート層で用いる有機バインダーは、従
来、磁気記鐘媒体用に利用されている熱可塑性、熱硬化
性または反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、
得られる塗膜強度等の点から硬化型、＃に放射線硬化型
の樹脂が好ましい。 熱可塑性樹脂としては、軟化湿炭が１５０”Ｃ以下、平
均分子量が１００００〜２０００００、！１合度が約２
００〜２０００程度（７）も（７）で、 例えば塩化ビニールー酢酸ビニール共重合体（カルボン
酸導入のものも含む）、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）
、塩化ビニール−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニー
ル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−
７クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−墳化
ビこリデン共重合体、アクリル酸エステル−スチレン共
重合体、メタクリル酸エステル−７クリロニトリル共但
合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニルデン共重合体
、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体、ウレタン
エラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニドミセル
ロースルポリアミド樹脂、ボリフ７化ビニル、塩化ビニ
リデン−アクリロニトリル共正合体、ブタジェン−アク
リロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニール
ブチラール、セルロース誘導体（セル占−スアセテート
、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース等）
、スチレン−ブタジェン共重合体、ポリエステル樹脂、
クロロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重合体、
アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂およびこ
れらの混合物が使用される。 熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては１ｍｍ液液状態
では２０００００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
が無限大のものとなる。　また、これらの樹脂のなかで
、樹脂が熱分解するまでのあいだに軟化または溶融しな
いものが好ましい。 具体的には、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アル
キッド４１６ＩＷｒＩ、シリコン樹脂、アクリル樹脂、
アクリル系友応樹脂、エポ午シーポリアミド樹脂、ニト
ロセルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂
とインシアネートプレポリマーの混合物、メタクリル霞
塩共重合体とジイソシアネートプレポリマーの混合物、
ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物
、泳業ホルムｒルデごド搦詣、低分子量グリコール／高
分子量ジオール／トリフェニルメタントリイソシアネー
トの混合物、ポリアミン樹脂、およびこれらの混合物で
ある。 特に好ましいものは、 繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビ
ニルアルコール共重合体、ウレタンの組み合わせからな
る熱硬化性樹脂゛（硬化剤使用）、 あるいは塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体（カルボン酸導入のものも含む）、またはアクリ
ル変性塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアクコール共重
合体（カルボン酸導入のものも含む）およびウレタンア
クリレートからなる放射線硬化系樹脂からなるものであ
る。 放射線硬化系樹脂については、前記の好ましい組み合わ
せのほかに、ラジカル重合性な有する不飽和二重結合を
示すアクリル酸、メタクリル酸あるいはそれらのエステ
ル化合物のようなアクリル系二重結合。 ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、 マレイン酸、マレインｒａｍ導体等の不飽和結合等の、
放射線照射による架橋あるいは重合する基を熱可塑性樹
脂の分子中に含有または導入した樹脂等を用いることが
できる−０ その他、使用可能なバインダー成分としては、単量体と
してアクリル酸、メタクリル酸。 アクリルアミド等がある。 二重結合のあるバインダーとしては、種々のポリエステ
ル、ポリオール、ポリウレタン等をアクリル二重結合を
有する化合物で変性することもできる。　さらに必要に
応じて、多価アルコールと多価カルボン酸を配合するこ
とによって１種々の分子量のものもできる。 放射線感応樹脂として上記のものはその一部であり、こ
れらは混合して用いることもできる。 さらに好ましいのは、 （Ａ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を２個
以上有する１分子量５０００−１ｏ。 ０００のプラスチック状化合物、 （Ｂ）放射線により゛硬化性をもつ不飽和二重結合を１
個以上有するか、または放射線硬化性を有しない、分子
量３０００〜１０００００のゴム条化合物、および （Ｃ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個
以上有する、分子量２００〜３０００の化合物を、 （Ａ）２０〜７０重量％。 （Ｂ）２０〜８０重蚤％。 （Ｃ）１０〜４０重量％の割合で用いた組み合わせであ
る。 これにより、塗膜の破断強度が上り、塗膜の強化がなさ
れ、バックコート削れが少なく、バックコート層から磁
性層への無機充填剤粉末の移転がないためドロップアウ
トの少ない、かつロール状に巻き取った形での硬化の際
の巻きしまりのない、長さ方向で均一の特性を有する磁
気記録媒体が得られる。 本発明の磁気記録媒体の製造において、宥機バインダー
が熱硬化型では、製造過程において１．バックコート層
の潤滑剤が磁性薄膜に裏型転写し、前述のような不安定
な走行による出力ダウンが発生し１画像が出なくなると
か、あるいは、摩擦レベルが未だ大きく不十分であり、
裏型転写により強磁性薄膜が取れたり、あるいは破壊さ
れるという現象が生じ、好ましくない。 そのため、トップコートを最初に行うことが考えられる
が、操作上、傷つきやすく不都合なことが多い。 さらに、熱硬化型の場合、硬化時の巻きしまりによるバ
ックコート面の裏型転移のため、熱硬化中のジャンボロ
ールの内側、外側での電磁変換特性の差が問題となる。 これに対して、放射線硬化型樹脂の場合、製造上、速続
硬化が可能であり、硬化時間も短く、上記の裏型転写が
ないので、ドロップアウトが防止でき、その上放射線硬
化およびトップコート処理がオンライン上で処理できる
ので。 省エネルギ一対策、製造時の人員の減少にも役立ち、コ
ストの低減にもつながる。 特性面では熱硬化時の巻きしまりによるドロップアウト
の外に、ロール状に巻かれたときの内外径の個所の圧力
のちがいにより、磁気テープの長さ方向の距離による出
力差が生じることもなくなる。 前記（Ａ）、ＣＢ）および（Ｃ）からなる放射線硬化型
樹脂バインダーにおいて、（Ａ）だけでは柔軟性がなく
もろく、ＣＢ）だけでは弾性の欠けたものであり、（Ａ
）、ＣＢ）を組合わせることにより破壊エネルギー大と
なるが、脆性エネルギーを大とするには制限があり、ま
た（Ａ）、ＣＢ）だけでは硬度が低いためか、高温多湿
下で粘着性が生じ、静摩擦が高くなっ゛た。 これに対し、（Ａ）、ＣＢ）ざらに（Ｃ）を組合わせる
ことにより、架橋性が増大し、バインダーの引っ張り強
度穴、破断エネルギー、脆性エネルギーが大となり、バ
ックコート削れもなく、硬化度が高い強靭な塗膜となる
。 そのため、５０℃、８０％５日間の高温保存下においた
ところ、粘着を生ぜず、摩擦係数も低く１画像ひずみを
生じなかった。 これは（Ｃ）を加えることによりバックコート膜の架橋
性が増し、硬化度が増したためである。 （Ａ）、（Ｂ）にざらに（Ｃ）を加えることにより、（
Ａ）、（Ｂ）のみよりなる組成の場合に比べ、（Ａ）成
分が低分子量の方まで使えるようになった。　これは（
Ａ）成分よりなるプラスチック状のものを、（Ｃ）成分
を導入することにより可凹性を向上させた硬化度の向上
となるため、粘弾性にとんだ脆性エネルギーの大なる塗
膜となったものである。 本発明の放射線硬化型樹脂バインダーにおいて、（Ａ）
の分子量５ｏｏｏ未満、（Ｂ）の分子ｆｔ３５００Ｊ満
では塗膜が固くなってバックコート削れが激しく、電磁
変換特性も低下し、またＣＢ）の分子量ｔｏｏｏｏｏを
超えると分散不良のため電磁変換特性が低下するととも
に、（Ｂ）が放射線硬化性の場合にはその特性が低下し
て強度低下を生じる。 （Ｃ）については、分子量が３０００を超えると、架橋
性が低下し、塗膜の強度が低下す（Ａ）は１００００〜
ａｏｏｏｏ、ＣＢ）は３０００〜５ｏｏｏｏ、（Ｃ）は
２００〜２５００が好ましい分子量範囲で、（Ｂ）は放
射線硬化性のものが、架橋性を上げ、塗膜強度が大とな
るので好ましい。 （Ａ）、ＣＢ）、（Ｃ）の配合比率は、（Ａ）が２０〜
７０ｆｆｉ量％、好まくは３０〜７９瓜量％、ＣＢ）が
２０〜８０重量％、好ましくは２０〜６０ｆｆ１％、（
Ｃ）が１Ｏ−４０ｆｉ量％、好ましくは１０〜３０ｆｆ
ｉ量％である。 本発明の（Ａ）、ＣＢ）、（Ｃ）の化合物の分子量は、
次のような測定方法による数平均分子量によっている。 ※ＧＰＣによるバインダーの平均分子量測定Ｇ　　Ｐ　
　Ｃ（Ｇｅｔ　　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　　Ｃｈｌｏｍ
ａｔｏｇｒａｐｈり　　とは試料中の分子を移動相中の
その大きさに基ずいて分離する方法で、分子ふるいの役
をする多孔質ガルをカラムに充填し、液体クロマトグラ
フィーを行う方法である。 平均分子量を算出するには、標準試料として分子ｔ１２
Ｅ知のポリスチレンを使い、その溶出時間から検ｍ！１
を作成する。 これにより、ポリスチレン換算の平均分子量を計算する
。 与えられた高分子量物質中に、分子量Ｍｉである分子が
Ｎｉ個あったとすると、 で表わせる。 本発明の（Ａ）、ＣＢ）、（Ｃ）の化合物における不飽
和二重結合は、１分子当り（Ａ）は２以上、好ましくは
５以上、（Ｂ）は１以上、好ましくは５以上、（Ｃ）は
１以上、好ましくは３以上である。 本発明で用いる（Ａ）のプラスチック状化合物は、放射
線によりラジカルを発生し、架橋構造を生じるような、
不飽和二重結合を分子鎖中に２側以上含むものなのであ
り、これはまた熱可塑性樹脂を放射線感応変性すること
によっても得ることができる。 放射線硬化性樹脂の具体例としては　ラジカル重合性を
有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル酸
、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系
二重結合、ジアクリルフタレートのような７リル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を、熱
可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂であり、
その低放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を
有する化合物で１分子料が５０００〜１０００００のも
の、好ましくは１００００〜８００００のものであれば
用いることができる。 放射線照射による架橋なるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては、次のような不
飽和ポリエステル樹脂がある。 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合からなる飽和ポリエステル樹脂
で、多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不
飽和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げ
ることができる。 放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は、多塩基酸成分
１種以上と、多価アルコール成分１種以上に、マレイン
酸、フマル酸等を加え、常法すなわち触媒の存在下で、
ｌａ　ｏ＝２ｏ　。 ℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱アルコール反応の後
、２４０〜２８０℃まで昇温し。 ０．５〜ｌ　＋＊ｍＨｇの減圧下、縮合反応により得る
ことができる。 マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放
射線硬化性等から酸成分中１〜４０モル％、好ましくは
１０〜３０モル％である。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。 （１）塩化ビニール累共工合体 塩化ビニール−酢酸とニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化とニール−ビニールアルコールＡｌ１体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共工合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−末端ＯＨ側鎖
アルキル基共重合体、たとえばＵＣＣ社製ＶＲＯＨ、Ｖ
ＹＮＣ、ＶＹＢＧＸ、ＶＥＲＲ、ＶＹＥＳ、ＹＭＣＡ、
ＶＡＧＨ等が挙げＩＩＥｌし、このものに後述の手法に
より、アクリル系二重結合、マレイン酸系二重結合、ア
リル系二重結合を導入して、放射線感応変性を行う。 （２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸、のような飽和多塩基酸と、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、
トリメチロールプロパン、１．２プロピレングリコール
、１，３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、１
．４ブタンジオール、１．６ヘキサンジオール、ペンタ
エリスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチ
ルグリコール、１．４シクロヘキサンジメタツールのよ
うな多価アルコールとのエステル結合により得られる飽
和ポリエステル樹脂、またはこれらのポリエステル樹脂
をＳ　Ｏ＋　Ｎ　ａ等で変性した樹脂（例えばへイロン
５３Ｓ）が例として挙げられ、これらも同様にして放射
線感応変性を行う、　　− （３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し、後述の手法によ
り放射線感応変性を行う。 （４）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとニブクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製（エピ
コー）１５２゜１５４．８２８，１００１，１００４．
Ｚｏ。 ７）、ダウケミカル製（ＤＥＮ４３１　、ＤＥＲ７３２
、ＤＥＲ５１１，ＤＥＲ３３１）、大日本インキ社製（
エピクロン４００，８００）、さらに上記エポキシの高
重合度樹脂であるＵＣＣ社製フェノキシ樹脂（ＰＫＨＡ
　、ＰＫＨＣ。 ＰＫＨＨ）、臭素化ビスフェノールＡとエピクロルヒド
リンの共重合体ご大日本インキ化学工業製（エピクロン
１４５，１５２−．１５３．１１２０）等がある。 これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して、放射線
感応変性を行う。 （５）［ａ素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは、硝化
綿、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である
。 樹脂中の水酸基を利用して後述の方法により放射線感応
変性を行う。 その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルポロリドン樹脂および誘導体（ＰＶＰ
オレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステル、およびメタクリエステルを
重合成分として、少なくとも１種含むアクリル系樹脂等
も有効である。 本発明で用いる（Ｂ）の高分子化合物は、熱可塑性エラ
ストマーもしくはプレポリマー、またはこれらを放射線
感応変性したものであり、後者の場合は、より効果的で
ある。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。 （１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効で
ある。 ウレタン化合物の例としては、インシアネートとして、
２．４−トルエンジインシアネート、２　、６−　トル
エンジイソシアネート、１゜３−キシレンジイソシアネ
ート、１，４−キシレンジイソシアネート、１，５−ナ
フタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシア
ネート、３．３−ジメチル−４，４−ジフエニルメタン
ジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシ
アネート、３，３−ジメチルビフェニレンジイソシアネ
ート、４．４−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサ
メチレンジイソシアネート、インフォロンジインシアネ
ート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デス
モジュールし、デスモジュールＮＷの各種多価インシア
ネートと、 線状温和ポリエステル（エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、
１，４−ブタンジオール、■、６−ヘキサンジオール、
ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチルグリ
コール、１．４−シクロヘキサンジメチノールのような
多価アルコールと、フタル酸、インフタルエｔ　Ｔ　ｉ
／　／タルは、コトり酸、アジピン酸、セバシン酸のよ
うな飽和多塩ｆ！酸との縮工合によるもの）、 線状温和ポリエーテル（ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール
）やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル醜エス
テル、ヒドロキシ含有メタクリル酸エステル等の各種ポ
リエステル類の縮合物よりなるポリウレタシエラス°ト
マー、プレポリマーが有効である。 これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合を有する単量体とを反応させることにより、放
射線感応性に変性することは非常に効果的である。 （２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマー、あるいは日本ゼ
オン社製ハイカー１４３２Ｊ等のエラストマーは、特に
ブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ
、架橋および重合させるエラストマー成分として適する
。 （３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアベトロケミカル社製ポリＨＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが、特に熱可塑性との相溶性の点で好適である。 Ｒ−１５プレポリマーにおいては、分子末端が水酸基と
なっているため１分子末端にアクリル系不ｆｆｉ和二重
結合を付加することにより放射１１感応を高めることが
可能であり、バインダーとしてさらに有利となる。 また、ポリブタジェンの環化物、日本合成ゴムｍｃＢＲ
−Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合わせにより、すぐれ
た性質を有している。 その他、熱Ｍ′！性エチェラストマーびそのプレポリマ
ーの系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴ
ム、塩化ゴム、アクリルゴム、インプレンゴム、および
その環化物（日本合成ゴム製ＣｌＲ７０１）があり、エ
ポキシ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東
洋紡バイロン５ｓｏｏ）等のエラストマーも下記に述べ
る放射線感応変性処理を施すことくよす有効に利用でき
る。 本発明で用いられる（Ｃ）放射線硬化性不飽和二重結合
を有する化合物としては。 スチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジ
アクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、
ジエチレングリコールアクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート、１．６−ヘキサングリコールジ
アクリレート、１．６−ヘキサングリコールジアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、多
官能オリゴエステルアクリレート（アロエックスＭ−７
１００、東亜合成）、ウレタンエラストマーにツボラン
４０４０）のアクリル変性体、あるいはこれらのものに
Ｃ０ＯＨ等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。 次に、放射線可能性バインダー合成例を説明する。 ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成０Ｈ基を有する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体（平均重合度　ｎ諺５００
）７５０部とトルエン１２５０部、シクコヘキサノンｓ
　ｏ　ｏａｔ　　５１の４つロフラスコに仕込み、加熱
溶解し、゛８０℃昇温後昇温シトリレンジイソシアネー
トヒドロキシエチルメタクリレートアダクト※を６１．
４部加え、さらにオクチル酸スズ０．０１２９、ハイド
ロキノンＯ、Ｏｌ　２ｍ＋加え、８０℃テＮ２　％流中
、ＮＧＯ反応率が９０％となる亥で反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトン１２５０分を加
え希釈する。

【※トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、の２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート（２ＨＨＭＡ）アダクトの
製法 ＴＤＩ３４８部をＮ２気流中１１の４つロフラスコ内で
８０’Ｏに加熱後、２−エチレンメタクリレート２６０
部、オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０．０
５部を度広缶内の温度が８０〜８５℃となるように冷却
コントロールしながら滴下終了後８０℃で３時間撹拌し
。 反応を完結させる。 反応終了後取り出して、冷却後、°白色ペースト状のＴ
ＤＩの２ＨＥＭＡを得た。】 ｂ）ブラチール樹脂アクリル変性体に合成（放射線感応
変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製ＢＭ−５１００部ヲトルエン
１９１．２部、シクロヘキサノン７−１．４分と共に５
１の４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し、８０℃昇温
後ＴＤＩの２ＨＥＭＡアダクト※を７．４部加え、さら
にオクチル酸スズ０．０１５部、ハイドロキノン０８Ｏ
１Ｓ部を加え、８０℃でＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０
％以上となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて希訳する。 Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合Ｉ＆（放
射線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡バイロンＲＶ−２００）
、１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトンｌ
ｌ６ＢＢに加熱溶解し、８０℃昇温後、ＴＤＩの２ＨＥ
ＭＡアダクト※を３．５５部加え、さらにオクチル融ス
ズ０．００７部、ハイドロキノン０．００７部を加え、
８０℃でＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０％以上となるま
で反応せしめる。 ｄ）ｉ）　　エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコート１００７）４０
０部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に加
熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミンｏ、ｏｏｓ
部、／Ｘイドロキノン０．００３Ｍ１を添加し８０℃と
し、アクリル酸６９部を滴下し、８０℃で酸価５以下と
なるまで反応せしめる。 ｉｉ）フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感
応変性樹脂） ＯＨ基を有するフェノキシ樹脂（ＰＫＨＨ：ＵＣＣ社製
　分子量３００００）８００部、メチルエチルケトン１
８００部を３１の４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し
、８０℃昇温後。 トリレンジインシアネートの２ヒドロ奉ジエチルメタク
リレートアダクトを６．０部加え、さらにオクチル酸ス
ズ０．０１２部、ハイドロキノン０．０１２部を加え、
８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率が９０％となるまで
反応せしめる。 このフェノキシ変性体の分子量は、３５０００．１分子
当りの二重結合は１個である。 ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤＩ）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタ
ン製ニッポラン３１１９）２５０部、２ＨＥＭＡ３２．
５部、ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸スズ０．
００９部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、ＴＤＩ
４３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃とな８よう
に冷却しながら滴下し１滴下終了後。 ８０℃で反応率９５％以上となるまで反応せしめる。 ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２ＨＨＭＡ３２．５部。 へイドロキノン０−０７部、オクチル酸スズ０．００９
部を反応缶にいれ、８０’Ｃに加熱溶解後、ＴＤＩ４３
．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となるように冷
却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応率９５％
以上となるまで反応せしめる。 ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合ｔ
（放射線硬化性エラストマー）シンクレ７ペトロケミカ
ル社製砥分子量末端水酸基ポリブタジェンポリＢＤリク
ィットレン’）　７　Ｒ−１５２５０部、２ＨＨＭＡ３
２．５部、ハイドロ午ノン０．０７部、オクチル酸スズ
０．００９部を反応缶にいれ、８０”Ｃに加熱溶解後、
ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃とな
るように冷却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反
応率９５％以上となるまで反応せしめる。 高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。 分子間に架橋を起すものとしては、ビリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルンがある。 このような架橋型ポリマーであれば、上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起こるので、前記変性
体の他に、これらの樹脂はそのまま放射線架橋用バック
コート樹脂として使用可能である。 さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化する−ことができる
ので、このような樹脂をバックコート用として用いるこ
とができる。 本発明の放射線硬化性樹脂組成物の、特に好ましい組合
わせとしては、 （Ａ）の化合物が一部ケン化した塩化ビニール−酢酸ビ
ニール共重合体、カルボン酸が導入された塩化ビニール
−酢酸ビニール共重合体、フェノキシ樹脂にポリイソシ
アネート化合物を反応させて得られたインシアネート基
を有する化合物に、インシアネート基との反応性を有す
る官能基をもつアクリル化合物、あるいはメタクリル化
合物を反応させてなる化合物であり、（Ｂ）の化合物が
ポリオールにインシアネート化合物を反応させ”て得ら
れた。インシアネート化合物またはポリオール（ポリウ
レタンエラストマー）に１反応性°を有する官能基をも
つアクリル化合物あるいはメタクリル化合物を反応させ
てなる化合物であり、 （Ｃ）が多官能（メタ）クリレートモノマー。 オリゴエステルアクリレート、またはＣＢ）の低分子量
化合物というものである。 また１本発明のバックコート層に用いる有機バインダー
、トップコー）！あるいはバックコート層に含まれる潤
滑剤、酸化防止剤が放射線硬化型のものが好ましい。 このような場合、その架橋に使用する活性エネルギー線
としては、放射線加速器を線源とした電子線、Ｃｏｃｏ
を線源としたγ−線、５ｒ９０を線源としたβ−線、Ｘ
線発生機を線源としたＸ線、あるいは紫外線が使用され
る。 特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮断等の見地から、放射線加
熱器により放射線を使用する方法が有利である。 上記バフクコ−）！、およびトップコート層を硬化する
際に使用する放射線特性としては。 透過力の面から加速電圧１００〜７５０　ＫＩＦ、好ま
しくは１５０〜３００ＫＶの放射線加速器を用゛い、吸
収線量を０．５〜２０メガテフドになるよラーに照射す
るのが好都合である。 本発明の放射線硬化に際しては、米国エナージーサイエ
ンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速器
（エレクトロカーテンシステム）等がテープコーティン
グ加エラインへの導入、加速器内部の２次Ｘ線の遮断等
に極めて有利である。 また、従来より放射線加速材として広く活用されている
ことろのファンデグラフ型加速器を使用してもよい。 また、放射線架橋に際しては、Ｎ２ガス、。 Ｈｅガス等の不活性ガス気流中で放射線をｌ＜７クコー
ト層、トップコート層に照射することが重要であり、空
気中で放射線を照射することは、バインダー成分の架橋
に際し、放射線照射による生じた０３等の影響でポリマ
ー中に生じたラジカルが有利に架橋反応に働くことを阻
害するので、極めて不利である。 したがって、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気
は、特に酸素濃度が最大で５％であるＮ２　、Ｈｅ、Ｃ
Ｏ２等の不活性ガス雰囲気に保つことが！１要となる。 本発明のトップコート、バックコートには。 光重合増感剤を加えることにより、紫外線硬化を行うこ
ともできる。 光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例えば
、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−クロデオキシベンゾイ
ン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノン
、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類、
アントラキノン、フエナントラキノン等のキノ類、ベン
ジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィ
ド等のスルフィド類等を挙げることができる。 光重合増感剤は、樹脂固形分に対し、０．１〜１０重量
％の範囲が望ましい。 磁気記録媒体の製造に際し、ａ硬化系パックコート面形
成においては、バック−コート面を磁性面より先に形成
すると、バックコート面の熱処理はベースとの巻きしま
りのため、ベース面の表面粗度を低下させ好ましくない
。 そのため、磁性面を形成した後、熱硬化処理を行ってい
た。 そのため、バックコート処理は、磁性塗膜を支持体上に
形成した後、その支持体の裏面になされるのが普通であ
るが、本発明で放射線硬化性バインダーを用いた時は、
バックコート面での巻きしまりがなく、またオンライン
硬化が可能なため、トップ−ニート、バックコートの形
成順序はどちらが先でもよい。 他方、用いる磁気へラドは、種々のものが使用できる。 この場合、磁気ヘッドとしては、少なくもギャップ部端
面を金属磁性体で構成したものであることが好適である
。 この場合、コア全体を金属強磁性体から形成することも
でき、必要に応じ、ギャップ部端面を含むコアの一部を
金属強磁性体から形成することもできる。 第１図には、例えばフェライト等の強磁性体からなるコ
ア半休２１．２２のギャップ部端面に１〜５ｐｍ程度の
厚さの金属強磁性体３１゜３２をスパッタリング等によ
り被着し、ガラス質等のギャップ４を介してコア半休２
１　、２２をつきあわせて磁気へラド１を構成した例が
示される。 これによりきわめて良好な電磁変換特性かえられ、しか
も走行が良好となり、ヘッド付着やヘッド目づまりも良
好となる。 そして、その形状、構造等は公知のものであってよい。 ただ、ギヤ、プ長ａは、前記のとおり、通常、０．１〜
０．５井ｍ、特に０．１〜０．４ＩＬｍ　、またトラッ
ク幅は６通常、１０〜５０ルｍ、゛特に１０”２０ＩＬ
ｍとする。 用いる金属強磁性体としては１種々のものが可能であり
、非晶質磁性金属、センダスト、ハードパーマロイ、パ
ーマロイ等の薄膜、Ｗｌ板等はいずれも使用可能である
。 ただ、これらのうちで、ヘッド目づまりないし付着が特
に少なく、電磁変換特性が良好なのは、Ｃｏを主成分と
する非晶質磁性合金である。 このような非晶質磁性合金としては、Ｃｏ７０〜９５ａ
ｔ％で、ガラス化元素として、Ｚｒ。 Ｎｂ　、　Ｔａ　、Ｈｆ　、希土類元素、　Ｓ　ｉ　、
　Ｂ　。 Ｐ　、Ｃ、Ａｌｅ、特にＺｒおよび／またはＮｂを５〜
２０ａｔ％含有するものが好適である。 あるいは、Ｃｏ６５〜８５ａｔ％で、ガラス化元素とし
てＳｔおよび／またはＢを１５〜３５ａｔχ含有するも
のも好適である。　この場合、さらに１０ａｔ％以下の
Ｆｅ、２５ａｔ％以下のＮｉ、　総計２０ａｔ％以下ｃ
７）Ｃｒ、Ｔｉ、Ｒｕ。 Ｗ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｔ　ｉ　、　Ｍ　ｎ等の１種以上
が含宥されていてもよい。 これら非晶質磁性合金は、スパッタリングや高速急冷法
等を用いて、コア半体ないしギャップ部等として形成さ
れる。。 このような磁気ヘッドを用いて、前記した媒体に対して
記録再生を行うには、いわゆるＶＨ５方式、ベータ方式
、８層厘ビデオ方式、Ｕ規格方式等公知のビデオ録画シ
ステムに従えばよい。 ■　発明の具体的作用効果 本発明によれば、走行摩擦がきわめて小さくなり、安定
化する。 また、走行耐久性が格段と向上し、多数回走行後も走行
摩擦の増大がなく、くりかえし録画、再生回数が格段と
向上し、スチル特性が格段と向上する。 そして、走行安定性も高く、高温多湿から低温低湿まで
、巾広い条件下できわめて高い安定性を示す。 さらに、スペーシングロスにもとづく再生出力もきわめ
て小さい。 また、ノイズもきわめて少ない。 そして、ヘッドの目づまりやへ°ラドの付着もきわめて
少ない。 このような効果は、金属強磁性体性ヘッドを用いるとき
、より高いものとなる。 また、このような効果は、最低記録波長ｌルｍ未満の高
密度記録において、より一層高いものとなる。 ■　発明の具体的実施例 以下に本発明の実施例を示す。 実施例１ 実質的に做粒子を含まない平滑なポリエステルフィルム
（厚さ１２−）上にコロイダルシリカを塗布し、微小突
起を宥する基板を得た。 突起高さは約１５〜１００Å、突起密度は約１０７個／
−であった。 （１）磁性層の形成 羞」Ｌ比Ｕ 蒸気基板を円筒上冷却キャンの周面に沿わせて移動させ
、０２＋ＡＩ”（容積比１：ｌ）を部分８００ｃｃの早
さで流し、真空度を１．０×１Ｏ−Ｔｏｒｒとしたチャ
ンバー内で、Ｃｏ８０、Ｎ１２０よりなる合金を溶融し
、入射角９００〜３０”の部分のみ斜め蒸着し、膜厚０
゜１５ｐのｃｏ−Ｎｉ−０薄膜を形成した。 酸素はベースとの界面およびベースと反対側の表面に多
く偏在していた。 また、ベースと反対側の表面は、はぼ酸化物のみで覆わ
れていた。 Ｈｃ−１００００ｅ 膜中の平均酸素量は、ＣｏとＮｌに対する原子比 で４０％であった。 １１１１五−」 上記基板を円筒上冷却キャンの周面に沿わせて移動させ
、真空度を５　、　ＯＸ　１０（Ｉ　　Ｔｏｒｒとした
チャンバー内で１強磁性薄膜ｌの場合と同様に蒸着した
。　膜厚は、０．１５−で実質的にＣｏ−Ｎｉよりなる
。 このテープを９０℃、２０％ＲＨ雰囲気中で強制酸化し
、そのベースと反対側の表面を酸化物のみとした。 Ｈｃｗ９０００ｅ、　　ＩＩＩ中の平均酸素量は、Ｃｏ
とＮｉに対する原子比で４５％であった。 ＬＵ虹葭」Ｌ−１ 酸素による酸化工程を省略した以外は、但２と同様に、
上記基板を円筒状冷却 キャンの馬面に沿わせて移動させ、真空度を５．０Ｘ１
０４　　Ｔａｒｒとしたチャンバー内で。 １１ユ亘１ユの場合と同様に蒸着した６、−膜厚は、Ｏ
，１５Ｊｍで実質的にＣｏ−Ｎｉよりなるものでめった
。 Ｈｃ　ｍ　９５００ｅ （２）バックコート層の形成 バ・　コー　　１（熱硬化ｙＩり　　　　　重量部酸化
亜鉛　　　　　８０＃Ｌ層　　　　２００硬化剤　コロ
ネートＬ　　　　　　　　　２０潤滑剤　ステアリン醜
変性シリコーン　　４ステアリン酸ブチル　　　　　　
２ 硝化綿　　　　　　　　　　　　　　　４０塩化ビニル
−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（積木化学製
、エスレックＡ）３０ポリウレタンエラストマー　　　
　　　３０（Ｂ　、　Ｆグツドリッチ社製、エラセン５
７０３）混合溶剤（ＭＩＢＫ／）ルエン）　　２５０の
混合物を良く混合溶解させる。 この塗料を１５１Ｌのポリエステルフィルム上に塗布し
、赤外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた後１
表面平滑化処理後、８０℃に保持したオープン中にロー
ルを４８時間保持し、インシアネートによる架橋反応を
促進させた。 バ・　コー　　　２　　　　　　　　　重量部カーボン
ブラック　　　　　　　　　　５０旭カーボン■製　１
００ルｍ （Ａ）アクリル変性塩ビー酢ビービニルアルコール共重
合体　分子量　４５０００　　５０（Ｂ）アクリル変性
ポリウレタネラストマー分子量　５０００　　　　５０ ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　２ステアリ
ン酸ブチル　　　　　　　　　　２混合溶剤（ＭＩＢＫ
／トルエン＝　１／ｌ）上記混合物をボールミル中５時
間分散させ、磁性面が形成されているポリエステルフィ
ルムの裏面に乾燥厚１ル鳳になるように塗布し、エレク
トロカーテンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧１
５０ＫｅＶ、電極電流ｌＯ層Ａ、吸収線量５　Ｍｒａｄ
　、　Ｎ２ガス中で電子線をバックコート層に照射した
。 バ・　コート　　３　　　　　　　　　重量部硫化亜鉛
　　粒径可変　　　　　　　　３０カーボンブラツク　
　　　　　　　　　２５アクリル変性塩化ビニル−酢酸
ビニル−ビニルアルコール共重合体（分子量３万）４０
アクリル変性ポリウレタン工ラストマー分子量　２００
００　　　　　４０ 多官能７クリレート 分子量　１０００　　　　　　２０ オレイン酸　　　　　　　　　　　　　　　４ステアリ
ンメタクリレート　　　　　　　　２混合溶剤（ＭＩＢ
Ｋ／トルエン）　　２５０これらをバックコート層２と
同様に処理、製造した。 バークコート　　４　　　　　　　　　　ｆＬ量郡部Ｃ
ａＣＯ３８０＃Ｌｍ　　　　　　　　５０アクリル変性
塩ビ一酢ビービニルアルコール共重合体　　分子量　３
００００　　　３０アクリル変性ポリウレタン工ラスト
マー分子量　５００００　　　３０ アクリル変性フェノキシ樹脂 分子量　３５０００　　　２０ 多官能アクリレート 分子量　３５０００　　　２０ ステアリンｍ４ 溶剤（ＭＥＫ／トルエン＝１／１）　　３００これらを
上記と同様に処理、製造した。 （３）トップコート層の形成 トップコート組成 ト・プコート　　　Ｌ　　　　　　　　　　　ｉ置部２
．６ジ第三ブチルｐ−クレゾール　　　ｌペンタエリス
リトールテトラアクリレート分子ＮＬ３５２　　　　　
　　１．５ ステアリン酸　　　　　　　　　　　　０．１ＭＥＫ　
　　　　　　　　　　　　　　　１００ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート分子量３５２　　　　　　　
０．６ Ｎ−ビニルピロリドン 分子量１１１　　　　　　　０．３ ミリスチン酸　　　　　　　　　　　　　０．３ＭＥＫ
／　ト）Ｌｔｘン（１／１）　　　　　　１００−プコ
ー　　　　　３ ジメチルアミノエチルメタクリレートｌトリメチルプロ
パントリアクリレート 分子量２９６　　　　　　　０．６ Ｎ−ビニルピロリドン 分子量１１１　　　　　　　０．３ ステアリン酸　　　　　　　　　　　　０．１ＭＥＫ／
）ルエン（１−１）　　　１００トープコート１−１・
の　′　　び　状１、トップコー）５１は強磁性薄膜上
、トップコート組成ｌをそのまま塗布し、加速電圧１５
０　ＫｅＶ　　、電極電流６　ｍＡ、　３　Ｍｒａｄ、
　Ｎ２ガス中で照射を行なった。ｒｆＡ厚が２〜１００
Åであった。 ２、トップコート層２は強磁性薄膜上、トップコート組
成２を塗布し、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流８　ｒ
ｍＡ、　３　　Ｎｒａｄ、　Ｎ２ガス中で照射を行った
。膜厚が４〜１００Åであった。 ３、トップコート！ｆＪ３は強磁性薄膜上、トップコー
ト組成３を塗布し、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流１
０　ｍＡ、　５　Ｍｒａｄ、　Ｎ２ガス中で照射を行っ
た。膜厚が４〜１００Åであった。 ４、トープコート　　４　　　　　　　　重量部ａ、ジ
メチルアミンエチルメタクリレート　　ｌＮ−ビニルピ
ロリドン 分子量１１１　　　　　　　　　２ ＭＥＫ／トルエン（１−１）　　　　　１００このもの
を強磁性薄膜上に塗布、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電
流１０　　ｍＡ、　５　　Ｍｒａｄ、　Ｎ２ガス中で照
射を行った。 その上に す、ステアリルメタクリレート　　　　　　０．３フツ
素オイル（テロメリゼーション法）０．２ ＭＥＫ　　　　　　　　　　　　　１００を塗布、加速
電圧１５０ＫｅＶ、電極電流すＪＩＡ、２　Ｍｒａｄ　
、　Ｎ２ガス中で照射を行った。 膜厚が５〜１００Åであった。 ５、強磁性薄膜上のトップコート組成４のａの上に４　
Ｘ　ｌ　０−３Ｔｏｒｒの条件の雰囲気中でフッ素変性
オイルを吸着させた。膜厚は３０λであった。 ６、強磁性薄膜上のトップコート組成４のａの上に４Ｘ
　１０＝　　Ｔｏｒｒの条件の雰囲気中でフッ素変性オ
イルを吸着させた。膜厚は３〜１００Åであった。 ト　−　　プ　コ　−　ト　　１ トップコー）１の組成の中から放射線硬化型分子量の２
０００未満の化合物を除き、その除いた分量だけ酸化防
止剤の分量を増やしたものである。 ト　−　プ　コ　−　ト　　　　２ トツプコート２の組成の中から放射線硬化型の分子量２
０００未満の化合物を除き、その除いた分量だけ酸化防
止剤の分量を増やしたものである。 これら強磁性体薄膜およびトップコー）Ｍを用いて表１
に示される媒体を作成した。 特性を下記に示す。 なお、用いた磁気ヘッドは、第１図に示されるものであ
り、ギャップ長０．２５ｇ、トラック長２０−のもので
ある、　この場合、コア半休２１．２２はフェライト製
、ギャップ端面は、スパッタリングにより形成した３０
％厚のＣｏ０．８ＮｉＯ，ｌＺｒ０．１　（原子比）で
あり、ギャップ材はガラスとした。 まり、比較用として、フェライト製磁気ヘッドを用いた
。 なお、ｌＯ５／ａ２は１．６Ｘ１０６である。 なお、上記特性の測定方法について、以下に記す。 ■、突起観察 ＳＥＭ（走査型電子ｍ微鏡）およびＴＥＭ（透過型電子
顕微鏡）を使用 ２、スチル特性 ５　　ＭＨｚで記録し、再生出力のスチル特性を測定す
る。 １０分以上をＯＫレベルとする。 ３、磁性面側Ｊ！Ｉ擦測定 磁気テープがシリンダー側に来るように巻きつけ、一方
の端面に２０ｇの負荷をかけ、シリンダーを９０°回転
したときの張力変化を読みとって摩擦測定をする。 ４．出力 中心周波数５　　ＭＨｚで記録、再生した場合のＳＺＮ
比（相対値）を示す。 ＶＨＳ（７）ＶＴＲを改造し、５　　ＭＨｚまで測定で
きるようにする。 ５、目づまり ＶＨＳのＶＴＲデー２キを用い、５０回走行時の目づま
りを計測した。 ６、ヘッド付着 所定回数走行テスト後、ヘッドドラムを取りはずし、テ
ープとの接触面を光学顕微鏡で観察した。 ７、ガイド付着 所定回数走行テスト後、ガイドピンへの付着を光学顕微
鏡で観察した。 ８、トップコート削れ 所定回数走行テスト後のテープについて、光学顕微鏡観
察等により測定した。 実施例２ 磁性膜表面の突起高さおよび密度と特性の関係を次表に
示す。 なお、最短記録波長０．７−の信号を用いて実験を行っ
た。　磁気ヘッドは実施例１の非晶質ヘッドとフェライ
トヘッドを用いた。 また、トップコートは、実施例１のトップコート層２を
、磁性膜製造条件は実施例１の磁性層１を、バックコー
ト層は実施例１の磁性層１を、バックコート層は実施例
１の／（ツクコートｊｉｊ３を用いた。 表　　　　　　２ １　　　　５０　　２ＸｌＯ♂　＋０．５　　少　　　
非晶質２　　　５０　　５Ｘ１０９　　０　　　　　少
　　　非晶質３　　　Ｚｏｏ　　　４ＸｌＯδ　−０，
１無　　　非晶質４　　１００　　５Ｘ１０９　−０．
１　　　無　　　非晶質５　　　Ｚｏｏ　　　２Ｘ１０
１ｎ　　−０，３無　　　非晶質６　　２００　　３Ｘ
１０８　、−０．３　　　無　　　非晶質７　　２００
　　４Ｘ１０９　−０．４　　　無　　　非晶質８　　
２００　　３Ｘ１０１０　−０．４　　　無　　　非晶
質９　　３００　　　ｚｘｔｏａ　　−０，３無　　　
非晶質１０　　３００　　３Ｘ１０９　−０．２　　　
無　　　非晶質１１　　３００　　３Ｘ１０［１−０，
５無　　　非晶質１２　　　−　　　　−　　　　　０
　　　　　大　　　非晶質１３　１０００　　３ＸＩＯ
１ｌ　　−８，０大　　　非晶質１４　　１００　　１
Ｘ１０７　−０．１　　　中　　　非晶質！５　　１０
０　　４Ｘ１０１１　−２．０　　　中　　７ｚライト
１８　　２００　　４Ｘ１０９　−２．２　　　中　　
フェライト＋７　　３００　　　ｚｘｉｏａ　　−２，
０中　　フェライト１８　１０００　　３Ｘ１０Ｂ　　
−１１，０大　　７ｚライトまた、これらの磁性層表面
は、オージェ分光　４分析の結果、１００〜２０〜１０
０Åの厳化物層で覆われていることが判明した。 なお、上記実施例では、無機微粒子として。 コロイダルシリカを用いたが、他の物質１例えばアルミ
ナゾル、チタンブラック、ジルコニアあるいは各種ヒド
ロシル等を用いてもよいことは言うまでもない。 なお、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｒｕ−Ｃｒ−３ｉ　−Ｂ系非晶質を
用いて作成したヘッドを用いた場合も、同様の結果かえ
られた。 また、センダストを用いて作成したヘッドを用いた場合
は、上記の場合に比べて効果が少なかった。

【図面の簡単な説明】

ｆ３１図は１本発明に用いる磁気ヘッドの１例を示す正
面図である。 ｌ・・・・・・磁気ヘッド。 ２１．２２・・・・・・コア半休、 ３１．３２・・・・・・金属強磁性体、４・・・・・・
ギャップ

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. （１）可とう性基板上にＣｏを主成分とする強磁性金属
   薄膜層を設け、さらにこの強磁性金属薄膜層表面に有機
   物トップコート層を設け、しかも他方の面にバックコー
   ト層を設けた磁気記録媒体において、 有機物トップコート層が放射線硬化型の分子量２０００
   未満の化合物、酸化防止剤および潤滑剤を含有し、 バックコート層が無機顔料、有機バインダーおよび潤滑
   剤を含有し、 かつ強磁性金属薄膜層が酸素を含んでおり、さらに磁気
   ヘッドのギャップ長をａμｍとした時、媒体表面が１ｍ
   ｍ＾２当り平均１０＾５／ａ＾２以上の突起を有し、し
   かもこの突起が３０〜３００Åの高さを有することを特
   徴とする磁気記録媒体。
2. （２）可とう性基板が高分子からなり、この基板上に、
   径が３０〜３００Åの大きさを有する微粒子を配設し、
   その上に強磁性金属薄膜層および有機物トップコート層
   を設けてなる特許請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒
   体。
3. （３）強磁性金属薄膜が、表面に強磁性金属の酸化物の
   層を有する特許請求の範囲第１項または第２項に記載の
   磁気記録媒体。
4. （４）トップコート層の酸化防止剤が放射線硬化型のも
   のである特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれか
   に記載の磁気記録媒体。
5. （５）トップコート層の潤滑剤が放射線硬化型のものを
   含むものである特許請求の範囲第１項ないし第４項のい
   ずれかに記載の磁気記録媒体。
6. （６）トップコート層の厚みが１０〜１００Åである特
   許請求の範囲第１項ないし第５項のいずれかに記載の磁
   気記録媒体。
7. （７）バックコート層の有機バインダーが放射線硬化型
   樹脂である特許請求の範囲第１項ないし第６項のいずれ
   かに記載の磁気記録媒体。
8. （８）バックコート層の有機バインダーが （Ａ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を２個
   以上有する分子量５，０００〜１００，０００のプラス
   チック状化合物、 （Ｂ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個
   以上有するか、または放射線硬化性を有しない、分子量
   ３，０００〜１００，０００のゴム状化合物、および （Ｃ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個
   以上有する、分子量２００〜３，０００の化合物 よりなる樹脂組成物である特許請求の範囲１項ないし第
   ７項のいずれかに記載の磁気記録媒体。
9. （９）ａが０．１〜０．５μｍである特許請求の範囲第
   １項ないし第８項のいずれかに記載の磁気記録媒体。
10. （１０）可とう性基板上にＣｏを主成分とする強磁性金
    属薄膜層を設け、かつ強磁性金属薄膜層表面に有機物ト
    ップコート層を設け、しかも他方の面にバックコートを
    設けた磁気記録媒体を、磁気ヘッドを用いて記録再生を
    行う磁気記録方法において、 有機物トップコート層が酸化防止剤と、潤滑剤とを含有
    し、 バックコート層が無機顔料、有機バインダーおよび潤滑
    剤を含有し、 かつ、強磁性金属薄膜層が酸素を含み、 さらに、磁気ヘッドのギャップ長をａμｍとしたとき、
    媒体表面が１ｍｍ＾２当り平均１０＾５／ａ＾２個以上
    の突起を有し、しかも突起が３０〜３００Åの高さを有
    することを特徴とする磁気記録方法。
11. （１１）磁気ヘッドの少なくともギャップ部端面が金属
    強磁性体で構成されている特許請求の範囲第１０項に記
    載の磁気記録方法。
12. （１２）金属強磁性体がＣｏを主成分とする非晶質磁性
    合金である特許請求の範囲第１１項に記載の磁気記録方
    法。
13. （１３）ａが０．１〜０．５μｍである特許請求の範囲
    第１０項ないし第１２項のいずかに記載の磁気記録方法
    。