JPS6113438A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （仁ｌｌ（分！− この発明は磁気記録媒体に関し、特に目づまり、ドロッ
プアウトの少ない、走行安定性及び耐久性等のすぐ九た
磁気記録媒体に関するものである。

（ロ）従　　　　びその０　Ａ 現在、磁気記録媒体は、オーディオ、ビデオ、コンピュ
ーター、磁気ディスク等の分野で広範囲に使用されるよ
うになっており、それに伴い、磁気記録媒体に記録する
情報量も年々増加の一途をたどり、そのため磁気記録媒
体に対しては記録密度の向上が益々要求されるようにな
ってきている。

塗布型の磁気記録媒体より薄型化が容易で飽和磁化も大
きい非バインダー型磁気記録媒体、即ち強磁性薄膜から
なる磁気記録媒体は、腐食、衝撃及び摩擦強度に問題が
あり、磁気信号の記録、再生及び消去の過程で磁気ヘッ
ドとの高速相対運動により摩擦もしくは破壊が生ずるこ
とがある。すなわち電気メッキ、無電解メッキ、スパッ
タリング、真空蒸着、イオンブレーティング等の方法に
よる強磁性薄膜を設けた磁気記録媒体はバインダーを含
まないため、磁気ヘッドとの接触摺動時に摩擦のため磁
気記録層が削りとられるか、破壊され易いものであった
。

又１強磁性薄膜からなる磁気記録媒体はその表面が腐食
し易いが、腐食が進行すると、ヘッドタッチ、耐摩耗性
等の実用特性が劣化し、電磁変換特性にも悪影響を及ぼ
す。

そのため磁気金属薄膜表面上に潤滑剤を塗布する方法（
特公昭３９−２５２４６号公報）があるが、そのような
方法では磁気ヘッド等で潤滑剤が　　　　　′拭きとら
れる等して潤滑作用が永続的でなく、勿論この方法では
防錆効果、耐久性等の効果は期待すべくもなかった。

又、潤滑作用を継続的に磁気記録層上に供給する手段と
して磁気記録層の反対側の面に液状又は半固体状の潤滑
剤及び有機バインダーを主成分とする潤滑層（バックコ
ート層）を設ける方法（特公昭５７−２９７６９号公報
）も提案され、この方法では磁気記録層の裏面ににじみ
出た潤滑剤がロール状に巻かれた際磁気記録層に移り、
磁気記録層の表面に常に潤滑剤を供給でき、磁気記録層
の耐久性（スリキズやハガレの程度）や動摩擦係数の変
化において、すぐれた効果が奏せられるとするものであ
るが、この方法のように強磁性薄膜にトップコート層を
設けないでバックコート層のみに潤滑剤を含有させたも
のでは磁気薄膜と磁気ヘッドとの摩擦レベルは依然とし
て高く、走行不良をもたらし、又耐腐食、防錆効果にお
いても未だ充分なものとは言えないものであった。

又、塗布型の磁気記録層においても、トップコート層を
設けて磁性層の保護を図っているが、従来のトップコー
ト層は容易にはがれやすいという欠点を有していた。

バー１題声を　゛するための手 本発明者等はそれらの欠点を改善すべく、鋭意研究の結
果、非磁性基材上に磁気記録層を設けた磁気記録媒体に
おいて、磁気記録層表面上に特定成分のトップコート層
を設けることにより、前記欠点とされていた走行性、耐
久性等の改善されたすぐれた磁気記録媒体が得られるこ
とを見出し先に提案しているが（特願昭５９−１５２５
８号、特願昭５９−１５２！５９号、特願昭５９−７７
５８３号）、本発明者等が更に研究を進めた結果、上記
従来のトップコート層には微粒子顔料が入っていないの
でトップコート自体がヘッドに対してクリーニング効果
を持っていないため上記のはがれやすい欠点を有する事
を見出し、そしてトップコート層に電子顕微鏡にて１０
〜１０００個／１００、−の粒径２０〇八未満の微粒子
顔料が観察され、表面粗度Ｒ２０＝　４００八以下であ
るときに、上記の欠点が改善され、目づまり、レベルダ
ウン、ドロップアウトが少なく、摩擦が小さく、削れの
ない電磁変換特性の点で安定した。磁気記録媒体が得ら
れる事を見出し、本発明に到達したものである。

即ち１本発明は非磁性基材上に磁気記録層を設けた磁気
記録媒体において、該磁気記録層上のトップコート層に
電子顕微鏡シ；て１０〜１０００個／１００Ｐの粒径２
００Ａ未満の微粒子顔料が観察され、表面粗度Ｒ２０＝
４００Ａ以下であることを特徴とする磁気記録媒体に関
するものである。

本発明において、トップコート層に電子顕微鏡にて１０
〜１０００個／１００Ｐの粒径２００Ａ未満の微粒子顔
料が観察され、表面粗度Ｒ２０＝４００八以下であるも
のとするには、平均粒径４００＾未満、好ましくは２０
〜２００Ａ未満の微粒子顔料をトップコート層組成中に
含有させて、下記の方法を選択することができる。

１、平均粒径４００Ａ未満の微粒子顔料の含有量か変え
、トップコートを塗布し、乾燥炉を通し。

電子線又は紫外線硬化させる。

２、溶剤組成を相溶性の良いもの、悪いもの喀選択する
。

３、微粒子顔料入りのトップコートを塗布し、乾燥炉を
通さず、電子線又は紫外線硬化させる。

４、微粒子顔料入りのトップコートを塗布し、トップコ
ートの塗布時加熱させながら、粘度の高いまま塗布する
。

５、上記１，３の過程において、乾燥炉を通しく又は通
さず）、未硬化のままカレンダーをかけ、その後、電子
線又は紫外線硬化させる。

６、上記５の過程で乾燥炉を通しく又は通さず）、その
後わずかに低線量（０，０１〜２Ｍｒａｄ）の条件で半
硬化し、その後カレンダーをかけ、その後電子線又は紫
外線硬化させる。

７、上記１〜６の工程において最終段階にカレンダ一工
程を加えてもよい。

磁気記録層上にトップコート層が設けられると、塗布型
の磁性層にあっては、摩擦効果が改善でき、粉落ちや耐
久性が向上し、又強磁性薄膜上にトツプコート層が設け
られると、防錆性、耐腐食性、耐久性、走行安定性の優
れた磁気記録媒体が得られるが、トップコート層のある
磁気記録媒体は繰返し使用されるうちに、ヘッドにトッ
プコート層の削れ物が付着し、堆積する。そのため、目
づまり、レベルダウン、ドロップアウトが起こりやすく
なる。その傾向は微粒子顔料を含有しないものにおいて
著しい。微粒子顔料を含有する事により、該微粒子顔料
が研磨剤の作用を為し、ヘッド付着物を削り落とし、ヘ
ッドへのクリーニング効果が出るため、目づまり、レベ
ルダウンがなくなり。

ドロップアウトが低減できるのである。

そして、トップコート層に電子顕微鏡にて１０〜１００
０個／１００Ｆの２００Ａ未満の微粒子顔料が観察され
、表面粗度Ｒ２０＝４００Ａ以下であるとき、上記の特
性の外に更にヘッドとのスペーシングロスが少なくなり
、型持の低下が少なく、又摩擦が低く、削れの少ないも
のが得られる・前記２００Ａ未満の無機顔料が電子顕微
鏡にて１０個／１００Ｐ未満となると、ヘッドクリーニ
ング効果がなくなり、ヘッドにモノマー、ポリマー等が
付着しやすい。一方、前記２００Ａ未満の無機顔料が電
子顕微鏡にて１０００個／１００Ｐを超えると、ヘッド
面荒れ（削れやすい）、摩耗、トップコート削れが増え
て、好ましくない。

又、本発明において、トップコート層にさらに酸化防止
剤及び／又はモノマー、オリゴマー、ポリマーのうちの
少なくとも１種を含有させることができる。酸化防止剤
を含有させるとトップコート層の磁性層に対する吸着性
を向上させるため、トップコートのはがれ及び削れが少
なくなり、又モノマー、オリゴマー、ポリマーの少なく
とも１種を含有させることにより、酸化防止剤による磁
性層に対する接着力が均一なものとなり、それにより電
磁変換特性が良好となり、微少な不均一なむらがなくな
り、削れも一層少なくなる。

そして温、湿度、特に高温、多湿下で走行性が安定とな
り、ヘッド付着、トップコート削れが少なくなり、摩擦
の変化も安定するのである。

微粒子顔料としては、Ｚ　ｒ　０２　、　Ｃｒ　２０３
．、　。

Ａ　ｌ　２０３　、Ｙ２０３　、Ｃｅ　０２　、Ｆｅ３
Ｏ４、Ｆｅ２Ｏ３，ＺｒＳｉＯ４，５ｂ２０ｙ、５ｎ０
２、ＴｉＯ２等があげられる。

これら微粒子顔料の粒径は４００＾未満、更に好ましく
は２０〇八未満のものである。微粒子顔料の粒径が４０
０Ａ以上になるとスペーシングロスが大となり、出力変
動も大となり、また微粒子顔料のトップコート層中での
不均一性も目立ち出し１画像むら及び歪を生じ、画像へ
の影響がある。

これら微粒子顔料は、例えば５ｉ０２の場合。

■無水硅酸の超微粒子コロイド溶液（スノーテックス、
水系、メタノールシリカゾル、日量化学）■精製四塩化
ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子状無水シリカ
（標準品１００Ａ）（アエロジル、日本アエロジル株式
会社）などが挙げられる。

又、前記■の超微粒子コロイド溶液及び■と同様の気相
法で製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに
酸化チタン及び前述微粒子顔料が使用され得る。

本発明のトップコート層には前述の酸化防止剤、モノマ
ー、オリゴマー、ポリマー等の有機バインダー（有機バ
インダーは含有しなくてもよい）の外に潤滑剤等のこの
種トップコート層に添加される添加剤を含むことができ
る。

又、トップコート層にはドロップアウト対策としてカー
ボンブラックを含有させることができる。

本発明のトップコート層に使用するカーボンブラックは
ファーネス、チャンネル、アセチレン、サーマル、ラン
プ等、いずれの方法で製造されたものでもよいが、アセ
チレンブラック、ファーネスブラック、チャンネルブラ
ック、ローラーおよびディスクブラックおよびドイツナ
フタリンブラックが好ましい。本発明で使用するカーボ
ンブラックの粒子径は電子顕微鏡撮影法により測定して
４００Ａ未満のもの、特に２０〇八未満のものが好まし
い。

本発明のトップコート層に用い得る酸化防止剤は金属の
酸化を防止するものであれば、いずれのものでも良いが
、次のような通常の酸化防止剤が用いられる。これらは
１）フェノール系酸化防止剤、２）アミン系酸化防止剤
、３）リン系酸化防止剤、４）硫黄系酸化防止剤、５）
有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤、６）キノ
ン系酸化防止剤、７）無機酸、無機塩系酸化防止剤のよ
うに構造的に大別される。

上記各種酸化防止剤の具体例を挙げると、ｌ）フェノー
ル系酸イビ防止剤としては、２，６−ジー第三ブチル−
Ｐ−クレゾール、２，６−ジー第三ブチル−フェノール
、２，４−ジ−メチル−６−第三ブチル−フェノール、
ブチルヒドロキシアニソール、２，２′−メチレンビス
（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、４．４’
−ブチリデンビス（３−メチル−６−第三ブチルフェノ
ール）、４．４’−チオビス（３−メチル−６−第三ブ
チルフェノール）、テトラキス〔メチレン−３（３，５
−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネートコメタン、１，１゜３−トリス（２−メチル−４
−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニルツブタン、ジブ
チルヒドロキシトルエン、没食子酸プロピル、グアヤク
脂、ノルジヒドログアヤレチン酸等がある。放射線硬化
型としてはモノグリコールサリチレート、２，５−ジ第
三ブチルハイドロキノン、２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン、２，４．５−トリヒドロキシブチロフェノン
、ハイドロキノン等のメタクリレート、アクリレートタ
イプが挙げられる。

２）アミン系酸化防止剤としては、フェニル−β−ナフ
チルアミン、ベーナフチルアミン、Ｎ、Ｎ’−ジー第ニ
ブチルーＰ−フェニレンジアミン、フェノチアジン、Ｎ
、Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミンの他、ア
ルカノールアミン、リン脂質等が挙げられる。アミン系
でもジメチルアミノエチルメタクリレート、アクリレー
ト等の放射線硬化可能のものが放射線硬化型として挙げ
られる。

３）リン系酸化防止剤としては放射線硬化型或いは放射
線硬化型でないものが用いられ、リン酸エステル部分の
Ｒとしてはアルキル基、アルキルフェニル基、その他酸
化エチレン、酸化プロピレンを含有し、そのＲとしてＣ
が１〜２６が好ましく、更に好ましいのは１〜２２であ
る。リン酸エステルとしてはモノ、ジ、トリのものが含
まれ、モノあるいはジの成分が多いものであってもよく
、トリタイプのものはカットされていてもよい。またリ
ン酸エステルはＮＨＡタイプのもの及びメタクリレート
タイプ、アクリレートタイプのものも含まれる。具体的
にはトリデシルホスファイト。

トリオクタデシルホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリラウリルトリチオホスファイト等の亜リン酸エ
ステルや、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ブチ
ルホスフェート、セチルホスフェート、ブトキシエチル
ホスフェート、２−エチルへキシルホスフェート、β−
クロロエチルホスフェート、ブトキシエチルホスフェー
トジエチルアミン塩、ジ（２−エチルヘキシル）ホスフ
ェート、エチレングリコールアシッドホスフェート、（
２−ヒドロキシエチル）メタクリレート・ホスフェート
、ブチルヒドロキシメタクリレート・ホスフェート、カ
プリルヒドロキシメタクリレート・ホスフェート、ミリ
スチルヒドロキシメタクリレート・ホスフェート、ステ
アリルヒドロキシメタクリレート・ホスフェート、セチ
ルヒドロキシメタクリレート・ホスフェート、プチルブ
エニルヒドロキシメタクリレート・ホスフェート、アミ
ルフェニルヒドロキシメタクリレート・ホスフェート、
ノニルフェニルヒドロキシメタクリレート・ホスフェー
ト、及びこれらのアクリレートタイプ、フェニルホスフ
ェート、その他のアルコール、及びノニルフェニル等の
フェニルホスフェート、バナジウム系酸性リン酸エステ
ル等のリン酸エステルが挙げられる。

４）硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリルチオジプロ
ピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ラウ
リルステアリルチオジプロピオネート、シミリスチルチ
オジプロピオネート、ジステアリルβ、β′−チオジブ
チレート、２−メルカプトベンゾイミダゾール、ジラウ
リルサルファイドの他、４，４″−チオ−ビス（３−メ
チル−６−第三ブチル−フェノール）、２．２’−チオ
−ビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）等の
メタクリレート、アクリレート等の放射線硬化型が挙げ
られる。またこれらは酸化エチレン、酸化プロピレンを
含有していてもよい。

５）有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤として
はソルビトール、グリセリン、プロピレングリコール、
アジピン酸、クエン酸、アスコルビン酸等が挙げられ、
これらの放射線硬化型であってもよい。

６）キノン系酸化防止剤としてはヒドロキノン、トコフ
ェロール等があり、これらの中で放射線硬化型であって
もよい。

７）無機酸、無機塩系酸化防止剤としてはリン酸がその
代表例として挙げられる。

上記酸化防止剤の中でも、強磁性薄膜への裏型転写を抑
え得るという点から、分子中にアクリル系二重結合を有
する放射線硬化型のもの１例えばモノグリコールサリチ
レートメタクリレート（アクリレート）、４−第三ブチ
ルカテコールメタクリレート（アクリレート）、ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート（アクリレート）、エチ
ルヒドロキシメタクリレート（アクリレート）ホスフェ
ート、セチルヒドロキシホスフェートメタクリレート（
アクリレート）、ステアリルメタクリレート（アクリレ
ート）ホスフェート、及び上記のもののフェニルタイプ
のもの、２，２′チオ−ビス（４−メチル−６−第三ブ
チル−フェノール）メタクリレート（アクリレート）等
が好ましい。リン酸エステルの製法としては公知の方法
で行なわれるが、特公開５７−４４２２３号公報記載の
方法も挙げられる。放射線硬化型酸化防止剤では強磁性
薄膜へのオンライン硬化ができるため熱硬化時の巻きし
まりによる裏型転写による表面性の劣化がなく、そのた
め出力の低下がない。そしてドロップアウトの防止、ロ
ール状に巻かれたときの内外径の個所による出力差の減
少といった特性上の効果の他、オンラインでの製造が可
能といった処理上の効果をもあげ得るものである。

潤滑剤としては従来この種磁気記録媒体に用いられる潤
滑剤としてシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂肪
酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性剤
等を用いることができるが、脂肪酸および／又は脂肪酸
エステルを用いるのが好ましい。

脂肪酸としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、
ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣＯＯ
Ｈ，Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）であり、脂肪酸
エステルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基性脂肪
酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコールからなる脂肪
酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基性脂肪酸と該
脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が２１〜２３個より成
る一価のアルコールとから成る脂肪酸エステル等が使用
され、又前記脂肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金
属からなる金属石鹸、レシチン等が使用される。

シリコーンとしては脂肪酸変性よりなるもの、一部フッ
素変性されているものが使用される。アルコールとして
は高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解置
換、テロメリゼーション。

オリゴメリゼーション等によって得られるものが使用さ
れる。

潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。これらは強磁性薄膜への裏型転写を抑えるため、
ドロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外
径の個所による出力差の減少の他、オンライン上での製
造が可能である等の利点を持つ。

放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、フリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、　　　　　　　ＣＨ３ＣＨ２＝
ＣＨＣ０ＯＲ，ＣＨ２＝Ｃ−ＧＯＯＲｌ（＞Ｈ２＝ＣＨ
−ＣＨ２Ｃ○ＯＲ。

ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２０ＣＯＲ。

ＣＨ２０Ｃ０ＣＨ＝ＣＨ２ＲＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２，ＲＣ
ＯＯＣＨ２−ＣＨ＝　ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖又は
分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数は７
以上、好ましくは１２以上２３以下であり、これらは弗
素置換体とすることもできる。弗素置換体としては ＣｎＦ２ｎ＋Ｉ＋　、　ＣｎＦ　　２ｎ＋１（ＣＨ２）
ｍ　　　（但し、　ｍ　＝１〜５）、Ｒ ＣｎＦ２ｎ＋１ＳＯ２ＮＣＨ２ＣＨ２−。

ＣｎＦ２ｎ＋＋ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２’ＣＨ２−１等
がある。

これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレート（アクリレ−ト）、グリコー
ルのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンのメ
タクリレート（アクリレート）等が挙げられる。

本発明トップコート層で用いることのできる有機バイン
ダーとしてはポリマー、モノマー、オリゴマーが挙げら
れる。

ポリマーとしては、従来、磁気記録媒体用に利用されて
いる熱可塑性、熱硬化性又は反応型樹脂やこれらの混合
物が使用されるが、得られる塗膜強度等の点から硬化型
、特に放射線硬化型の樹脂が好ましい。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、゛平均
分子量が１０，０００〜２００，０００、重合度が約２
００〜２，０００程度のもので、例えば塩化ビニール−
酢酸ビニール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）
、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（カルボン酸導入のものも含む）、塩化ビニール−塩化
ビニリデン共重合体、塩化ビニール−アクリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重
合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、
アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸
エステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エ
ステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステ
ル−スチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロ
ン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹
脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニト
リル共重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体
、ポリアミド樹脂、ポリビニールブチラール、セルロー
ス誘導体（セルロースアセテート、セルロースダイアセ
テート、セルローストリアセテート、セルロースプロピ
オネート、ニトロセルロース等）、スチレン−ブタジェ
ン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテル
−アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合
成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物が使用され
る。

熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は２００，０００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹
脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好
ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂
、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂
、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミ
ン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプ
レポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソ
シアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオ
ールとポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアルデ
ヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／ト
リフェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリア
ミン樹脂、及びこれらの混合物である。

而して好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化
ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレ
タンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）、或
いは塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体（カルボン酸導入のものも含む）、又はアクリル変性
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
カルボン酸導入のものも含む）及びウレタンアクリレー
トからなる放射線硬化系樹脂からなるものであり、放射
線硬化系樹脂については前記の好ましい組合せの外に、
ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合
乾燥する基を熱可塑性□樹脂の分子中に含有または導入
した樹脂等を用いることができる。その他、使用可能な
バインダー成分としては、単量体としてアクリル酸、メ
タクリル酸、アクリルアミド等がある。二重結合のある
バインダーとしては、種々のポリエステル、ポリオール
、ポリウレタン等をアクリル二重結合を有する化合物で
変性することもできる。更に必要に応じて多価アルコー
ルと多価カルボン酸を配合することによって種々の分子
量のものもできる。放射線感応樹脂として上記のものは
その一部であり、これらは混合して用いることもできる
。

本発明トップコート層で用いられる放射線硬化型モノマ
ー、放射線硬化型オリゴマー及び放射線硬化型ポリマー
としては、イオン化エネルギーに感応し、ラジカル重合
性を示す不飽和二重結合を有すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を分
子中に含有または導入した七ツマ−、オリゴマー及びポ
リマー等を挙げることができる。

放射線硬化型モノマーとしては分子量２，０００未満の
化合物が、オリゴマーとしては分子量２゜０００乃至１
万のものが用いられる。これらはスチレン、エチルアク
リレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレー
ト、１，６−ヘキサングリコールジアクリレート、１，
６−ヘキサングリコールジアクリレート等も挙げられる
が、特に好ましいものとして、Ｎ−ビニルピロリドン、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（メタクリレ
ート）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（メタ
クリレート）、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト（メタクリレート）、トリメチロールプロパンジアク
リレート（メタクリレート）、多官能オリゴエステルア
クリレート（アロエックスＭ−７１００、Ｍ−５４００
，５５００，５７００等、東亜合成）、ウレタンエラス
トマーにツボラン４０４０）のアクリル変性体、あるい
はこれらのものに０００Ｈ等の官能基が導入されたもの
、フェノールエチレンオキシド付加物のアクリレート（
メタクリレート）、下記一般式で示されるペンタエリス
リトール縮合環にアクリル基（メタクリ基）又はε−カ
プロラクトン−アクリル基のついた化合物、 特殊ペンタエリスリトール縮合物Ａという）、ｍ＝１、
ａ＝３．ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエリスリト
ール縮合物Ｂという）、ｍ＝１．ａ＝６、ｂ＝ｏの化合
物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物Ｃとい３）
）、ｍ＝２、ａ＝６、ｂ＝ｏの化合物（以下、特殊ペン
タエリスリトール縮合物りという）、及び下記一般式で
示される特殊アクリレート類等が挙げられる。

（１）　（ＣＨ２＝　ＣＨＣＯＯＣ）ｌ、）　３−　Ｃ
ＣＨ，ＯＨ（特殊アクリレートＡ） （２）　（ＣＨｘ　＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）　３　　ＣＣ
Ｈ２ＣＨ３（特殊アクリレートＢ） （３）（Ｃ）Ｉ２＝ＣＨＣＯ（ＯＣａ）１６）ｎ　　０
ＣＨ２）３ＣＣＨ，ＣＨ３（ｎΦ３）　　　　（特殊ア
クリレートＣ）（特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） （特殊アクリレートＦ） （７）　　　　　　　　　　　ＣＨ２Ｃ００Ｃ）ｌ　＝
　ＣＨユ（特殊アクリレートＧ） （８）　ＣＨｘ　＝ＣＨＣｏＯ（ＣＨｘ　ＣＨ２Ｏ）　
ａ　　’ＯＣＨ＝ＣＨ２（特殊アクリレートＨ） （特殊アクリレート■） ＣＨ２ＣＨｘ　ｏ−ｃｏ　　ＣＣＨ２）ｔ　ｏｃｏｃｏ
　：ｌ：　ｃＨ２（特殊アクリレートＪ） Ａニアクリル酸、Ｘ：多価アルコール、Ｙ：多塩基酸、
　　（特殊アクリレートＫ）又、放射線硬化型オリゴマ
ーとしては、下記一般式で示される多官能オリゴエステ
ルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性
体あるいはこれらのものにＣ０ＯＨ等の官能基が導入さ
れたもの、等が挙げられる。

（式中Ｒ＋　、　Ｒ２：アルキル基、ｎ：整数）これら
のモノマー、オリゴマー、ポリマーの少なくとも１種の
有機バインダーを用いることにより、トップコート層が
補強され、塗膜の破断強度が上がり、塗膜の強化が為さ
れ、トップコート削れが少なく、かつ高温多湿下での走
行性が安定となる。そこでドロップアウトの少ない、ヘ
ッド付着、トップコート削れが少なく、摩擦の変化も安
定した磁気記録媒体が得られる。又、放射線硬化型バイ
ンダーを用いると、トップコート層の製造上、連続処理
が可能であり、オンラインで処理できるので、省エネル
ギー、コストの低減に役立つ。

トップコート層に使用し得る他の添加剤の使用割合は有
機バインダー：酸化防止剤＝ＱＨＩＱＱ〜９０：１０、
好ましくは０：１００〜７０：３０（重量）、潤滑剤は
有機バインダー十酸化防止剤１００重量部に対し０．５
〜３００重量部である。又、カーボンブラックの配合割
合はカーボン／微粒子顔料＝１／９〜８／２、好ましく
は１７９〜５１５である。

本発明において有機バインダーが存在すると、酸化防止
剤の磁性層への均一な吸着力が得られ、削れ、目づまり
、レベルダウン、ドロップアウトが生じ難くなる。

トップコート層の厚みとしては５〜８００＾が好ましい
。あまり厚すぎると型持の低下を生じたり、ケズレを生
じる。又、あまり薄すぎると目づまりが発生する。強磁
性薄膜の場合は４５０Ａ以下が好ましい。トップコート
なしの強磁性薄膜の表面粗度は１００Ａ以下が好ましい
ため、この上にトップコート層を形成する場合、あまり
厚すぎるとケズレを生じることが判った。あまり少なす
ぎるとトップコート層の吸着が弱すぎ、目づまりを発生
することが予想される。このようなことは本発明ではじ
めて判明したものである。特に好ましい範囲としては５
〜４５０＾であり、中でも１０〜３００Ａが更に好まし
い。

一方、本発明の磁性層は１強磁性徴粒子およびバインダ
ーを含む塗膜からなる塗布型および強磁性金属薄膜より
なる金属薄膜型のいずれも適用でき、強磁性物質として
はで−Ｆｅ２０３、Ｆｅ５０４　、　Ｃｏドープ？　　
Ｆ　Ｃ２０３、ＧｏドープＩＦ　Ｃ２０３Ｆ　Ｃ３０４
固溶体、Ｃｏ系化合物被覆型？−Ｆｅ２０３　、Ｃｏ系
化合物被覆型１−Ｆｅ３０４（ン−Ｆｅ２０３との中間
酸化状態も含む、ここでいうｃｏ系化合物とは、酸化コ
バルト、水酸化コバルト、コバルトフェライト、コバル
トイオン吸着物等、コバルトの磁気異方性を保磁力向上
に活用する場合を示す）、あるいは鉄、コバルト、ニッ
ケルその他の強磁性金属あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｒｈ％Ｆｅ−Ｃｕ、Ｆｅ−Ａｕ
、Ｇｏ−Ｃｕ、Ｇ。

−Ａｕ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｇｏ−Ｇ
ｄ、Ｇｏ−８ｍ、Ｇｏ−Ｐｔ、Ｎｉ　−Ｃｕ。

Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｄ、Ｍｎ−Ｂ　ｉ、Ｍｎ−８ｂ、Ｍｎ−
Ａ１．Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒのような磁
性合金、更にＢａフェライト、Ｓｒフェライトのような
フェライト系磁性体を挙げることができる。

従来１強磁性粉末としては例えば？−Ｆｅ２０３、ＣＯ
含有２ｒ　　Ｆ　８２０３　、　Ｆ　Ｃ３０４、Ｇ。

含有Ｆｅ３０４　、ＣｒＯ２等がよく使用されていたが
、これら強磁性粉末の保磁力および最大残留磁束密度等
の磁気特性は高感度高密度記録用としては不十分であり
、約Ｉ　Ｐｍ以下の記録波長の短い信号や、トラック巾
の狭い磁気記録にはあまり適していない。

磁気記録媒体に対する要求が厳しくなるにつれて、高密
度記録に適する特性を備えた強磁性粉末が開発され、ま
た提案されている。このような磁性粉末はＦｅ、Ｃｏ、
Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ等の金属ま
たは合金、これらとＡ１．Ｃｒ、Ｓｉ等との合金などが
ある。ががる合金粉末を用いた磁気記録層は高密度記録
の目的には高い保磁力と高い残留磁束密度とを有する必
要があり、上記磁性粉末がこれらの基準に合致するよう
に種々の製造方法或いは合金組成を選択するのが好まし
い。

合金磁性粉末については、本発明者等が種々の合金粉末
を用いて磁気記録媒体を製作したところＢＥＴ法による
比表面積が４８ｍ２／ｇ以上で、磁性層の保磁力が１０
０００　ｅ以上で、しかも磁性層の表面粗度〔後述のタ
リステップによる測定においてカットオフ０．１７ｍｍ
でＲ２０（２０回平均値）のこと、以下同じ〕が０．０
８．−以下のときに、ノイズレベルが充分に低く、高密
度、短波長の記録に適する磁気記録媒体が得られること
を見出しているが、このような磁性層と本発明のトップ
コート層とを組合せた場合には、シンチング現象（急速
停止時の巻きゆるみ）、ドロップアウト、摩擦の減少と
いう効果が生じ、更に磁気テープのベースであるポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポ
リイミド、ポリアミド等のプラスチックフィルムが約ｌ
ｌＰｍ程度以下という薄いものが用いられる傾向から、
テープを巻装したときの巻締りが益々大きくなり、バッ
クコートがある場合にはバックコート面の粗さが磁性面
へ転写して出力低下の原因となってくるが、上記磁気記
録層及びトップコート層の組合せでは、このような問題
点も改善され好ましい、なお、強磁性物質として強磁性
金属を主成分とするものは、塗膜の電気抵抗が高くドロ
ップアウトを発生し易いので帯電対策が必要であるが、
本発明のトップコート層との組合せにより、そのような
問題も解決され得、極めて好都合である。このような磁
性粉を使用する方が好ましい。

上記磁気記録層における保磁力の好ましい範囲は１００
０〜２００００　ｅであり、これ以上の範囲では記録時
に磁気ヘッドが飽和し、また消磁が困難になる。磁性粉
の比表面積は大きい程Ｓ／Ｎ比を改善する傾向があるが
、あまり比表面積が大きいと磁性粉へのバインダー中へ
の分散が悪くなり、また効果が飽和する傾向を有するこ
とが分った。一方、磁気記録層における表面粗度は記録
感度に影響を与え、その表面粗度が小さいと短波長の記
録感度が上昇する。上記の特性を満足させ得る強磁性合
金としてはＣ０１Ｆｅ−Ｇｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ　ｉ、　
Ｃｏ−Ｎ　ｉなど、またこれにＣｒ、ＡＩ、Ｓｔ等を添
加した微粉末が用いられる。これらは金属塩をＢＨ，等
の還元剤で湿時還元した微粉末、酸化鉄表面をＳｔ化合
物で被覆した後、Ｈ２ガス中で乾式還元した微粉末、或
いは合金を低圧アルゴン中で蒸発させた微粉末などで、
軸比１：５−１：１０を有し、残留磁束密度Ｂｒ＝２０
００〜３０００ガウスのもので、且つ上記保磁力及び比
表面積の条件を満たすものである。

合金磁性粉は各種バインダーを用いて磁性塗料とするこ
とができるが、一般には熱硬化性樹脂系バインダー及び
放射線硬化系バインダーが好適であり、その他添加剤と
して分散剤、潤滑剤、帯電防止剤を常法に従って用いる
ことができる。ＢＥＴ比表面積が４８ｍ２／ｇ以上の磁
性粉を用いるため、分散性に問題があるので分散剤とし
ては界面活性剤や有機チタンカップリング剤、シランカ
ップリング剤などを用いると良い。バインダーとしては
塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、
ポリウレタンプレポリマー及びポリイソシアネートより
成るバインダー、或いはこれに更にニトロセルロースを
加えたバインダー、その他公知の熱硬化性バインダー、
或いはイオン化エネルギーに感応するアクリル系二重結
合やマレイン系二重結合などを樹脂の基として含有する
放射線硬化型バインダーなどが使用できる。

通常の方法に従って、合金磁性粉末をバインダー及び所
定の溶剤並びに各種添加剤と混合して磁性塗料とし、こ
れをポリエステルベース等の基体に塗布し、熱硬化ま、
たは放射線硬化して磁性膜を形成し、そしてさらにカレ
ンダー加工を行なう。

なお放射線硬化型のバインダーを用いる場合には、製造
上、連続ｉ化が可能であり、上記の夏型転写がないので
ドロップアウトが防止でき、さらに好＊Ｌい。その上、
放射線硬化はオンライン上で処理できるので省エネルギ
一対策、製造時の人員の減少にも役立ち、コストの低減
につながる。

特性面では熱硬化時の巻きしまりによるドロップアウト
の外に、ロール状に巻かれたときの内外径の個所の圧力
のちがいにより磁気テープの長さ方向の距離による出力
差が生じることもなくなる。

ベース厚がｌｌＰｍ以下と薄くなり、また金属磁性粉の
硬度が’Ｆ−Ｆｅ２０３などの磁性酸化物よりも小さい
ために磁性層の表面硬度が小さく巻きしまりの影響を受
は易くなるが、放射線硬化型のバックコート層ではこの
影響を取除くことができ、内外径での出力差やドロップ
アウトの差を除くことができるため特に好ましい。

本発明の強磁性薄膜に用いられる強磁性金属あるいは強
磁性合金としては、鉄、コバルト、ニッケルその他の強
磁性金属あるいはＦｅ−Ｇｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ
、Ｆｅ−Ｒｈ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｆｅ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、
Ｃｏ−Ａｕ、Ｇｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ
−Ｇｄ、Ｃｏ−８ｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｆｅ−
Ｇｏ−Ｎｄ。

Ｍｎ−Ｂ１．Ｍｎ−５ｂ、Ｍｎ−Ａ１．Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃ
ｒ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒのような磁性合金を挙げることが
できる。

強磁性薄膜は非磁性基材、即ちポリエステルフィルム、
ポリアミドフィルム等のプラスチックフィルム、アルミ
板、ステンレス板等の金属板、ガラス板のような無機質
の板等の公知の基材の上に直接あるいは非磁性薄膜層を
介して、上記金属又は合金を真空蒸着、スパッタリング
、イオンブレーティング、メッキその他の方法で形成さ
れ得る。

本発明の強磁性薄膜は前記どのような方法によって製造
されたものでも勿論用いることができるが、前記特公昭
５７−２９７６９号公報実施例５に記載のような真空度
５．０Ｘ１０−６Ｔｏｒｒの真空中で、その幅方向が蒸
発源に対して５０’傾斜して蒸着するもの（１）よりも
、現在一般に行なわれているところの、蒸着方向が長手
方向に傾斜（９０°〜３０°）し、幅方向には傾斜して
いないもので、雰囲気として、０２又は０２とＡｒを導
入しながら、〜Ｉ　Ｘ　１０−４Ｔｏ　ｒ　ｒで蒸着し
たもの（２）が好ましく用いられる。

前記の（１）の方法で製造された蒸着膜は全面金属状態
（空気中に取り出した後に自然酸化された表面を除けば
）であるのに対して、（２）の方法の微量の酸素ガスの
存在する真空中で金属又は合金を蒸着するものでは磁性
金属は酸素を含有し、その酸素は金属と固溶せず、酸化
物の状態で存在する。そして、この酸化物の存在が磁気
記録媒体にとっては好ましく、特にベースとの界面及び
ベースと反対側の表面に酸化物が多く存在する場合に、
本発明において良好な特性が得られることが判明した。

又、強磁性金属薄膜への酸素導入法としては前記の酸素
の存在下での蒸着のほかに、酸素の存在しない真空蒸着
での蒸着膜を、例えば９０℃、２０％ＲＨ等の雰囲気中
で強制酸化し、そのベースと反対側の表面を酸化物のみ
とすることもできる。

酸素を含有する強磁性薄膜の酸素の含有量は磁気記録層
表面に微粒子顔料、モノマー、オリゴマー、ポリマーの
少なくとも１種、酸化防止剤。

潤滑剤等を含むトップコート層を設ける方法としては、
前記添加剤を溶剤で希釈して磁性層表面上に薄く塗布し
たり、該添加剤を大気中、不活性ガス中、あるいは真空
中で気化せしめてその蒸気を磁性層表面に当てるなどの
手段があり、これらを適用することができる。

また本発明の磁性層及びトップコート層に放射線硬化型
添加剤を用いる場合、その架橋に使用する活性エネルギ
ー線としては、放射線加速器を線源とした電子線、Ｃｏ
６０を線源としたンー線、５ｒ９０を線源としたβ−線
、Ｘ線発生器を線源としたＸ線あるいは紫外線等が使用
される。

特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。

本発明においてバックコート層は必要ないが、バックコ
ート層があれば走行性が更に安定し、好ましい。バック
コート層は通常用いられる無機顔料、潤滑剤、有機バイ
ンダー等を含むものである。

Ｉｎ１皿立羞米 以上記載のとおり、本発明にあっては磁気記録層上のト
ップコート層に電子顕微鏡にて粒径２００Ａ未満の微粒
子顔料がｌＯ〜１０００個／１００と１！察され、表面
粗度がＲ２０＝４００Ａ未満であるトップコート層を設
けることにより、トップコート層を設けることにより奏
せられる防錆性。

耐腐食性、耐久性、走行安定性がすぐれていることに加
えて、ヘッドとのスペーシングロスが少なくなり、型持
の低下が少なく、又、摩擦が低く、削れが少ないという
効果が奏せられる。又、前記酸化防止剤、有機バインダ
ーを含有させることにより、トップコート層の吸着力が
増し、高温多湿下での走行性が安定となり、トップコー
ト削れかなく、摩擦の変化も安定する等の効果が奏せら
れるものである。

ホ　　　日　の 本発明の磁気記録媒体は、オーディオテープ、ビデオテ
ープ、コンピューター用テープ、エンドレステープ、磁
気ディスク、磁気カメラ等として利用でき、中でもドロ
ップアウトが最も重要な特性の１つであるビデオテープ
、コンピューター用テープ、ビデオフロッピーとして用
いることができ非常に有用である。

近年、特に技術進歩が著しく、シかも市場性の拡大して
いるビデオカセットテープ、ビデオテープ接触転写プリ
ント用マスターテープ、市場の拡大が予想される８ミリ
ビデオカセツトテープ、ビデオフロッピー等には本発明
の、電子顕微鏡にて１０〜１０００個／　１００　Ｐの
粒径２００Ａ未満の微粒子顔料がｌｌｔ察され、表面粗
度Ｒ２０＝４００Ａ以下であるトップコート層を設けた
磁気記録層を用いることにより、極めて良好な電磁変換
特性と物性信頼性を有する高性能テープを得ることがで
き１本発明の磁気記録媒体は有用性の大きいすぐれたも
のであるということができる。

へ）明の　　的実 以下に本発明の実施例を示す。なお、本発明がこの実施
例に限定されるものでないことは理解されるべきである
。

実施例 （１）員且亙匁及戒 １　　射　　化型　性　）　　　　重量部コバルト被覆
針状？Ｆｅ２Ｏ３１２０部（長軸０．４Ｆ、単軸０．０
５．、、、Ｈｅ　６０００　ｅ　）カーボンブラック　
　　　　　　　　　　５部（帯電防止用三菱カーボンブ
ラックＭ　Ａ　−６００）／−Ａ１２０３粉末（Ｏ，Ｓ
、−粉状）　　　　２部分散剤（大豆油精製レシチン）
　　　　　３部溶剤（ＭＥＫ／トルエン５０１５０）　
　　　１００部上記組成物をボールミル中にて３時間混
合し、針状磁性酸化鉄を分散剤により良く湿潤させる。

次に アクリル二重結合導入飽和ポリエステル樹脂１０部（固
型分換算） アクリル二重結合導入塩酢ビ共重合体 １０部（固型分換算） アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー　　　　　　　１０部（固型分換算）溶剤（ＭＥＫ／
トルエン５０１５０）　　　２００部潤滑剤（高級脂肪
酸変性シリコンオイル）３部のバインダーの混合物を良
く混合溶解させる。これを先の磁性粉処理を行なったボ
ールミル中に投入し再び４２時間混合分散させる。

この様にして得られた磁性塗料を１５Ｐのポリエステル
フィルム上に塗布し、永久磁石（１６００ガウス）上で
配向させ、赤外線ランプ又は熱風により溶剤を乾燥させ
た後、表面平滑化処理後、ＥＳＴ社製エレクトロカーテ
ンタイプ電子線加速装置を使用して、加速電圧１５０Ｋ
ｅＶ、電極電流２０ｍＡ、全照射量５　Ｍ　ｒ　ａ　ｄ
の条件下でＮ２雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を硬
化させた。

盗豆夏ス　　　　　　　　　　　　　　　重量部Ｆ　ｅ
　−Ｇ　ｏ　−Ｎ　ｉ合金粉末　　　　　　　１００（
Ｈｃ＝１２０００ｅ、長軸０．４部ｍ、短軸０゜０５、
−ｍ、ＢＥＴ比表面積５２ｍ２／ｇ）塩化ビニル・酢酸
ビニル・ビニルアルコール共重合体（米国ＵＣＣ社製Ｖ
ＡＧＨ）　　　　　　　１５ポリビニルブチラール樹脂
　　　　　　　　１０アクリル二重結合導入ウレタン　
　　　　　１０メチルエチルケトン／トルエン（５０１
５０）　　　２５０をポリエステルフィルムに３．５と
の厚さに塗布し、電子線硬化とカレンダー加工を行った
。

厚さ１２．＋ａｍのポリエステルフィルムを円筒状冷却
キャンの局面に沿わせて移動させ、０２＋Ａｒ（容積比
１：１）を毎分８００ｃｃの速さで流し真空度を１．０
Ｘ１０−４Ｔｏｒｒとしたチャンバー内で、Ｃｏ８０、
Ｎ　ｉ　２０よりなる合金を溶融し、入射角９０°〜３
０°の部分のみ斜め蒸着し膜厚０．１５ＰｍのＣｏ−Ｎ
ｉ−○薄膜を形成した。酸素はベースとの界面およびベ
ースと反対側の表面に多く偏在していた。またベースと
反対側の表面はほぼ酸化物のみで覆われていた。Ｈｅ＝
１００００ｅ。膜中の平均酸素量はＣＯとＮｉに対する
原子比（０／ＣｏＮ１）Ｘ　１００で４０％であった。

厚さ１２７−ｍのポリエステルフィルムを円筒状冷却キ
ャンの局面に沿わせて移動させ、真空度を５、ＯＸ　１
０＝Ｔｏ　ｒ　ｒとしたチャンバー内で、強」（牲」１
腺」−の場合と同様に蒸着した。膜厚は０゜１５Ｐｍで
実質的にＧｏ−Ｎｉより成る。

このテープを９０℃、２０％ＲＨ雰囲気中で強制酸化し
、そのベースと反対側の表面を酸化物のみとした。Ｈｅ
”９０００ｅ。膜中の平均酸素量はＣＯとＮｉに対する
原子比で４５％であった。

酸素による酸化工程を省略した以外は１１１１ｍと同様
に厚さ１２Ｐｍの・ポリエステルフィルムを円筒状冷却
キャンの局面に沿わせて移動させ、真空度を５．０Ｘ１
０＝Ｔｏｒｒとしたチャンバー内で、Ｗ上の場合と同様
に蒸着した。膜厚は０．１５Ｐｍで実質的にＣｏ−Ｎｉ
よりなるものであった。Ｈｃ＝９５００ｅ。

（２）トップコート層の形成 Ｏトップニー８組成 トップコート　　１　　　　　　　　　　重量部ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート　０．５にコロイダル５
ｉ０２　　粒径１００Ａ　　　０．００１フツ素変性ス
テアリン酸シリコーン　　０．４部ＭＥＫ　　　　　　
　　　　　　　　　　　　１００トツプコート　　２　
　　　　　　　　　重量部ステアリル（２）ヒドロキシ
アクリレートホスフェート（モノ、ジの混合物）０．５ ■の製法のコロイダルＴｉＯ２１００Ａ　　０．０４ス
テアリン酸アクリレート　　　　　　　　０．５ミリス
チルミリスチレート　　　　　　　０．１ＭＥＫ／　ト
ルエン（１／１）　　　　　　　　１００トップコート
組　３　　　　　　　　　　重量部ヒドロキシエチルメ
タクリレート　　　　　　ＩＴ　ｉ　０２　（■の製法
のコロイダル、１８０Ａ）０．００１ ミリスチン酸　　　　　　　　　　　　　０．２トルエ
ン　　　　　　　　　　　　　　　１００トツプコート
　　４　　　　　　　　　　重量部ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート　　１．５Ｃｒ２０３（■と同様の気
相法）１８０Ａ　　　０．０１ブ工ノキシ変性体、分子
量３０，０００　　　　０．２アクリル変性ポリウレタ
ン工ラストマー分子量４，０００　　　　０．１ 多官能アクリレート、分子量５００　　　　０．１ステ
アリン酸アクリレート　　　　　　　　　　ＩＭＥＫ／
　トルエン（１／１）　　　　　　　　１００トツプコ
ート　　５　　　　　　　　　　重量部モノグリコール
サリチレートアクリレート２．５Ｓｉ０２（■の気相法
）　　１００Ａ　　　　０．００２ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート（分子量３５２）　　　　　　０
．６ Ｎ−ビニルピロリドン（分子量１１１）　　　０．３Ｍ
ＥＫ／トルエン（１／１）　　　　　　　　１００１（
１−）−ツブコート　　１ ジメチルアミノエチルメタクリレートとフッ素変性ステ
アリン酸シリコーンを０．５に：０．４にとしてラッカ
ー濃度を調整し、６００Ａのトップコート膜厚とした。

そして表面粗度を塗布方法で調整し、１０〜６００Ａ迄
のものを作成した。

電子顕微鏡にてｆＲ察される粒径２００Ａ未満の微粒子
顔料の個数と表面粗度Ｒ２０との関係、及びこれらと特
性との関係を第１表に示す。

第１表から次のことが言える。

１．５ｉ０２入りのトップコートは５ｉ０２がトップコ
ート層中に１０〜１０００個／１００と含有されている
ことが電子顕微鏡にて観察されるものは、ヘッド付着、
目づまり、出力変動、トップコート削れ、面荒れ、ドロ
ップアウト、摩擦が良好である： ２、Ｒ２０＝４００八以下のものが摩擦が低くなり、ヘ
ッドへのクリーニング効果が充分であり、ヘッド付着、
目づまり、出力変動、トップコート削れ、面荒れ、ドロ
ップアウトが良好である。

３、ＳｉＯ２がトップコート層中に２０００個／１００
Ｐｔ有されていることが電子顕微鏡にて観察されるもの
は、表面粗度が悪くなるため、トップコート削れを生じ
、ヘッド付着、目づまり、出力変動、ドロップアウトが
大となる。また、ヘッド付着、トップコート削れが大の
ため５０回後の摩擦が大となる。

４．５ｉ０２がトップコート層中に５個／１０〇戸含有
されていることが電子顕微鏡にて１ｉｆｔ察されるもの
は、表面粗度が悪くなり、ヘッド付着、目づまり、トッ
プコート削れ、面荒れを生じる。

５、このようにトップコート層中に粒径２００Ａ未満の
微粒子顔料が１０〜１０００個／１００．−含有されて
いることが電子顕微鏡にて観察され、表面粗度Ｒ２０＝
４００Ａ以下で良好な特性の磁気記録媒体が得られてい
る。

２　　　　３−トップコート　　１′ トツプコ一ト組成１において、コロイダル５ｉＯ２５０
八を使用しくトップコート組成１′）、トップコート膜
厚１００Ａとしたものの、電子顕微鏡にて観察される微
粒子顔料の個数と表面粗度Ｒ２０との関係、及びこれら
と特性との関係を第２表に示す。第２表から微粒子顔料
１０〜１０００個／１００□の範囲が良いことがわかる
。

ス】１１１ 磁性層２，３についても実施例１のものを塗布したら同
様のことが言えたが、なお１表面粗度は磁性層ｌの２’
　Ｆ　ｅ　２０３では４００Ａ以下でもよかったが、電
磁変換特性から２００Ａ以下のものの方が好ましいこと
がわかった。

なお、磁性層１については？ｒＦｅ２Ｏ３タイプの磁性
粉のため、電磁変換特性からトップコート膜厚８００Ａ
以下が好ましく、さらに好ましいのは４５０＾以下であ
った。なお、型持面で７Ｆｅ２０３と同一のレベルでよ
いなら膜厚８００八以下でもよい。

例４　　　２−トップコート　　２ 上記組合せの実施例４（微粒子顔料９００個／１００）
−含有が観察された）と微粒子顔料なしの比較例１のも
のの特性を第３表に示す。

第　　３　　表 第３表から微粒子顔料入りのものは各特性で良くなって
いること、微粒子顔料なしのものはヘッドへのクリーニ
ング作用がないため各特性で悪くなっており、５０回後
の摩擦も悪いことがわかる。

ス１ｔｉ一旦−１− 第４表に各種磁性層とトップ層の組合せのものの特性を
示す。比較例２は実施例５のトップコート組成３におけ
る微粒子顔料を除いたもの（トップコート３′）である
。

第４表 第４表のとおり、本発明のものが良いことがわかる。バ
インダー入りのもの（実施例６．７）は４０℃、８０％
の高温走行で特にすぐれていることがわかる。

なお１本発明で用いるオリゴマー、ポリマーの分子量は
次のような測定方法による数平均分子量によっている。

＊ＧＰＣによる平均分子量測定 ＧＰＣ（Ｇｅｌ　　Ｐｅｒｍｅａｔ　ｔｏｎ　　Ｃｈｒ
ｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）とは試料中の分子を移動相中
のその大きさに基いて分離する方法で、分子ふるいの役
をする多孔質ゲルをカラムに充填し液体クロマトグラフ
ィーを行なう方法である。

平均分子量を算出するには標準試料として分子量既知の
ポリスチレンを使いその溶出時間から検量線を作成する
。これよりポリスチレン換算の平均分子量を計算する。

与えられた高分子量物質中に分子量Ｍｉである分子がＮ
ｉ個あったとすると 数平均分子量Ｍ　ｎ　＝　　ΣＮ１Ｍ１　　で表わせる
。

ΣＮｉ 又、上記特性の測定方法は以下のようである。

１、表面粗度 タリステップ（ＴＡＹＬＯＲ−ＨＯＢＳＯＮ社製）を用
いて得たチャートから２０点平均法で求めた。カットオ
フ０．１７ｍｍ、針圧０．ＩＸ２゜５Ｐを用いた。

２、目づまり ＶＨ８を改造し、目づまりの出やすい条件に設定し、各
温度、湿度で測定した。

３、ドロップアウト ＶＨ８を改造し、ドロップアウトの出やすい条件に設定
し、各温度、湿度で５ＭＨｚの単一信号を記録し、再生
した場合の信号が、平均再生レベルより１８ｄＢ以上低
下する時間が１５Ｐ秒以上のであるものの個数を、サン
プル１０個について１分間当りで数え、その平均をとる
。

４、出力変動 ２のドロップアウト測定時に出力変動も合わせて測定し
た。

５６ヘツド付着、トップコートケズレ ＶＨ８を改造し、上記状態のデツキを各温度。

湿度で一定回数走行させ、ヘッド付着及びトップコート
ケズレを顕微鏡写真でＩ！察した。

６、平均粒径、個数 ａ、走査型電顕、加速電圧０．５に〜２０ＫｅＶ、倍率
１万〜１０万倍、によるトップコート層に含まれている
微粒子顔料の平均粒子径を推定し、１００Ｐの視野で１
０点を数える。この場合、粒子が凝集している場合があ
るので、バラツキが大の絡合は一次粒子径をかぞえる。

５１個数 １００Ｐの視野で１０点を数え、１００Ｐ当りになおす
。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基材上に磁気記録層を設けた磁気記録媒体
   において、該磁気記録層上のトップコート層に電子顕微
   鏡にて１０〜１０００個／１００μの粒径２００Å未満
   の微粒子顔料が観察され、表面粗度Ｒ２０＝４００Å以
   下であることを特徴とする磁気記録媒体。