JPS60226016A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ℃（■１１ｉ亙＝ この発明は磁気記録媒体に関し、特に摩擦抵抗の低い、
走行安定性及び耐久性大、電磁変換特性の低下のない、
強磁性薄膜を磁気記録層とするすぐれた磁気記録媒体に
関するものである。

（口　びその□　、 現在、磁気記録媒体は、オーディオ、ビデオ、コンピュ
ーター、磁気ディスク等の分野で広範囲に使用されるよ
うになっており、それに伴い、磁気記録媒体に記録する
情報量も年々増加の一途をたどり、そのため磁気記録媒
体に対しては記録密度の向上が益々要求されるようにな
ってきている。

塗布型の磁気記録媒体より薄型化が容易で飽和磁化も大
きい非バインダー型磁気記録媒体、即ち強磁性薄膜から
なる磁気記録媒体は、腐食、衝撃及び摩擦強度に問題が
あり、磁気信号の記録、再生及び消去の過程で磁気ヘッ
ドとの高速相対運動により摩擦もしくは破壊が生ずるこ
とがある。すなわち電気メッキ、無電解メッキ、スパッ
タリング、真空蒸着、イオンブレーティング等の方法に
よる強磁性薄膜を設けた磁気記録媒体はバインダーを含
まないため、磁気ヘッドとの接触摺動時に摩擦のため磁
気記録層が削りとられるか、破壊され易いものであった
。

又、強磁性薄膜からなる磁気記録媒体はその表面が腐食
し易いが、腐食が進行すると、ヘッドタッチ、耐摩耗性
等の実用特性が劣化し、電磁変換特性にも悪影響を及ぼ
す。

そのため磁気金属薄膜表面上に潤滑剤を塗布する方法（
特公昭３９−２５２４６号公報）があるが、そのような
方法では磁気ヘッド等で潤滑剤が拭きとられる等して潤
滑作用が永続的でなく、勿論この方法では防錆効果、耐
久性等の効果は期待すべくもなかった。

又、潤滑作用を継続的に磁気記録層上に供給する手段と
して磁気記録層の反対側の面に液状又は半固体状の潤滑
剤及び有機バインダーを主成分とする潤滑層（バックコ
ート層）を設ける方法（特公昭５７−２９７６９号公報
）も提案され、この方法では磁気記録層の裏面ににじみ
出た潤滑剤がロール状に巻かれた際磁気記録層に移り、
磁気記録層の表面に常に潤滑剤を供線でき、磁気記録層
の耐久性（スリキズやハガレの程度）や動摩擦係数の変
化において、すぐれた効果が奏せられるとするものであ
るが、この方法のように強磁性薄膜にトップコート層を
設けないでバックコート層のみに潤滑剤を含有させたも
のでは磁気薄膜と磁気ヘッドとの摩擦レベルは依然とし
て高く、走行不良をもたらし、又耐腐食、防錆効果にお
いても未だ充分なものとは言えないものであった。

ハ　４　、を　するための 本発明者等はそれらの欠点を改善すべく、鋭意研究の結
果、非磁性基材上に強磁性薄膜を設けた磁気記録媒体に
おいて、薄膜表面上に特定成分のトップコート層を設け
ることにより、前記欠点とされていた走行性、耐久性等
の改善されたすぐれた磁気記録媒体が得入れることを見
出し先番。提案しているが（特願昭５９−１５２５８号
、特願昭５９−１５２５９号）、本発明者等が更に研究
を進めた結果、上記トップコート層の表面上に３００Ａ
以下の突起を有機物で形成したときに、型持上の影響が
なく、摩擦抵抗が低く、走行安定性のよい磁気記録媒体
が得られることを見出し、本発明に到達したものである
。

即ち１本発明は非磁性基材上に強磁性薄膜を設けた磁気
記録媒体において、諒強磁性薄膜の表面上のトップコー
ト層に有機物で３００Ａ以下の突起を形成してなること
を特徴とする磁気記録媒体に関するものである。

強磁性薄膜上にトップコート層が設けられると、防錆性
、耐腐食性、耐久性、走行安定性の優れた、目づまりの
発生のない磁気記録媒体が得られるが、トップコート層
の表面に有機物で３００Ａ以下の突起が形成されている
と、上記の特性の外に更に型持低下がなく、摩擦抵抗の
低いすぐれた磁気記録媒体が得られる。通常、突起が２
００Ａを超えると型持低下（−２ｄ　Ｂ以下）するが、
突起が有機物で形成されているため３００八以下の突起
なら一２ｄＢ以内におさまり、しかも突起が有機物のた
め摩擦が低いという利点がある。

前記３００Ａ以下の突起を有機物で形成する方法として
は、不均一な相を形成させる、例えば樹脂とモノマーの
相溶性の良くないものを選択し不均一の相として形成す
るか、或いはトップコート組成中に潤滑剤を多量に入れ
で形成したり、トップコート塗布時、乾燥炉の温度を低
くしたり、乾燥炉の通過時間を速くしたりする等、種々
の方法が使用でき、前者は樹脂モノマー、潤滑剤の偏在
、後者は残留溶剤が多くなる事によりあられれるもので
あるが、前記の突起ができるものであれば、いずれの方
法も採用できる。

木登明の磁侃Ｖ、録亦体し；お【する蒸着膜上の■起の
状態の一態様を添付の模式図に示す。第１図、第２図は
側面より見た図、第３図が平面図であり、図中、１が蒸
着膜表面、２がトップコート層、３が有機物突起であり
、３の有機物突起の高さが３００Ａ以下である。

本発明の強磁性薄膜に用いられる強磁性金属あるいは強
磁性合金としては、鉄、コバルト、ニッケルその他の強
磁性金属あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ％Ｃｏ−Ｎｉ
、Ｆｅ−Ｒｈ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｆｅ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、
Ｃｏ−Ａｕ−Ｃｏ−Ｙ、Ｇｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ
−Ｇｄ、Ｃｏ−８ｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｎｄ、Ｍｎ−Ｂ　ｉ、Ｍｎ−８ｂ、Ｍｎ−Ａｌの
ような磁性合金を挙げることができる。

強磁性薄膜は非磁性基材、即ちポリエステルフィルム、
ポリアミドフィルム等のプラスチックフィルム、アルミ
板、ステンレス板等の金属板、ガラス板のような無機質
の板等の公知の基材の上に直接あるいは非磁性薄膜層を
介して、上記金属又は合金を真空蒸着、スパッタリング
、イオンプレーティング、メッキその他の方法で形成さ
れ得る。

本発明の強磁性薄膜は前記どのような方法によって製造
されたものでも勿論用いることができるが、前記特公昭
５７−２９７６９号公報実施例５に記載のような真空度
５．０ＸＩＯ−６Ｔｏｒｒの真空中で、その幅方向が蒸
発源に対して５０°傾斜して蒸着するもの（１）よりも
、現在一般に行なわれているところの、蒸着方向が長手
方向に傾斜（９０°〜３０°）し、幅方向には傾斜して
いないもので、雰囲気として、０２又は０２とＡｒを導
入しながら、〜ｌＸｌ０−’Ｔｏｒｒで蒸着したもの（
２）が好ましく用いられる。

前記の（１）の方法で製造された蒸着膜は全面金属状態
（空気中に取り出した後に自然酸化された表面を除けば
）であるのに対して、（２）の方法の微量の酸素ガスの
存在する真空中で金属又は合金を蒸着するものでは磁性
金属は酸素を含有し、その酸素は金属と固溶せず、酸化
物の状態で存在する。そして、この酸化物の存在が磁気
記録媒体にとっては好ましく、特にベースとの界面及・
びベースと反対側の表面に酸化物が多く存在する場合に
、本発明において良好な特性が得られることが判明した
。

又、強磁性金属薄膜への酸素導入法としては前記の酸素
の存在下での蒸着のほかに、酸素の存在しない真空蒸着
での蒸着膜を１例えば９０℃、２０％ＲＨ等の雰囲気中
で強制酸化し、そのベースと反対側の表面を酸化物のみ
とすることもできる。

酸素を含有する強磁性薄膜の酸素の含有量は前述の通り
磁気記録層が強磁性薄膜のみからなり、トップコート層
のないものでは、バックコート層に潤滑剤が含有された
ものであっても、摩擦レベルが高く、走行安定性がなく
、又耐久性においても劣り、トップコート層のない蒸着
膜において、現在骨なわれている蒸着法で製造される蒸
着膜は酸素を含有量るものであるが、これは酸素を含有
しない蒸着膜に比して耐食性、−抗磁力、電磁変換特性
等の点ですぐれているけれども、磁気へラド等との摩擦
抵抗が未だ大きく不十分で、走行安定性、耐久性の点で
実用レベルの特性が得られない。そして、バックコート
層の潤滑剤が蒸着膜に裏型転写し、膜をいため、出力が
不安定な状態となり、出力ダウン、目づまりをしたり１
画像が出ないか、或いは摩擦レベルが不安定となり、時
には膜がとれたり、或いはこわれたりする。特にスチー
ル時の測定において、膜がつきぬけてとれてしまい、目
づまりを発生し問題となる。したが１でバックコート層
に潤滑剤を含有させるだけでは。

満足できる磁気記録媒体は得られず、又、トップコート
層に潤滑剤のみを塗布するものでは一時的摩擦の低下し
か得られず、防錆性、耐腐食性、耐久性の点でも著しく
劣る故にそれらを解決する技術手段として、本発明では
３００Ａ以下の有機物の突起を有するトップコート層を
設けるものである。

本発明のトップコート層の成分は特に制限されないが、
潤滑剤、酸化防止剤、有機バインダー等を含むことがで
きる。

潤滑剤としては従来この種磁気記録媒体番；用いられる
潤滑剤としてシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂
肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性
剤等を用いることができるが、脂肪酸および／又は脂肪
酸エステルを用いるのが好ましい。

脂肪酸としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、
ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣＯＯ
Ｈ，Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）であり、脂肪酸
エステルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基性脂肪
酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコールからなる脂肪
酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基性脂肪酸と該
脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が２１〜２３個より成
る一価のアルコールとから成る脂肪酸エステル等が使用
される。

シリコーンとしては脂肪酸変性よりなるもの、一部フッ
素変性されているものが使用される。アルコールとして
は高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解置
換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等によ
って得られるものが使用される。

潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。これらは強磁性薄膜への裏型転写を抑えるため、
ドロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外
径の個所による出力差の減少の他、オンライン上での製
造が可能である等の利点を持つ。

放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤をＣＨ２＝　ＣＨ−ＣＨ２Ｇ　ＯＯＲ。

ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２０ＣＯＲ１ＲＣＯＯＣＨ２
−ＣＨ＝ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖又は分校状の飽和
もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数は７以上、好まし
くは１２以上２３以下であり、これらは弗素置換体とす
ることもできる。弗素置換体としては ＣｎＦｚｎｒ／−１ＣｎＦｘｎ＋ｒ　（ＣＨ２）ｍ　（
但し、ｍ＝１〜５）、　Ｒ （ ＣｎＦｚｎ＋ｌＳＯ２ＮＣ８２ＣＨ２。

ＣｎＦｚｎ＋／ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２。

ＣｎＦｚｎ−７０−００−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２−等があ
る。

これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコー
ルのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンのメ
タクリレート（アクリレート）等が挙げられる。

酸化防止剤は金属の酸化を防止するものであれば、いず
れのものでも良いが、次のような通常の酸化防止剤が用
いられる。これらは１）フェノール系酸化防止剤、２）
アミン系酸化防止剤、３）リン系酸化防止剤、４）硫黄
系酸化防止剤、５）有機酸、アルコール、エステル系酸
化防止剤、６）キノン系酸化防止剤、７）無機酸、無機
塩系酸化防止剤のよう［；構造的に大別される。

上記各種酸化防止剤の具体例を挙げると。

１）フェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジー第
三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−シー第ニブチル−
フェノール、２，４−ジ−メチル−６−第三ブチル−フ
ェノール、ブチルヒドロキシアニソール、２，２′−メ
チレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）
、４．４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−第三ブ
チルフェノール）、４．４’−チオビス（３−メチル−
６ンー３　（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオネートコメタン、１，１゜３−トリ
ス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェ
ニル）ブタン、ジブチルヒドロキシトルエン、没食子酸
プロピル、グアヤク脂、ノルジヒドログアヤレチン酸等
がある。放射線硬化型としてはモノグリコールサリチレ
ート、２，５−ジ第三ブチルハイドロキノン、２．４−
ジヒドロキシベンゾフェノン、２，４．５−）−リヒド
ロキシブチロフェノン、ハイドロキノン等のメタクリレ
ート、アクリレートタイプが挙げられる。

２）アミン系酸化防止剤としては、フェニル−β−ナフ
チルアミン、払−ナフチルアミン、Ｎ、Ｎ’−ジー第ユ
ニブチルｐ−フェニレンジアミン、フェノチアジン、Ｎ
、Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミンの他、ア
ルカノールアミン、リン脂質等が挙げられる。アミン系
でもジメチルアミノエチルメタクリレート、アクリレー
ト等の放射線硬化可能のものが放射線硬化型として挙げ
られる。

”１１Ｈ％／　ｘｉｉ＊ルｘ　、Ｌ　ｊｈｌ　ｔ＋　ｌ
　ｆ　＋４　＆　ｌｕｍ　ｍ　７Ｌｍｄ、、は放射線硬
化型でないものが用いられ、リン酸エステル部分のＲと
してはアルキル基、アルキルフェニル基、その他酸化エ
チレン、酸化プロピレンを含有し、そのＲとしてＣが１
〜２６が好ましく、更に好ましいのは１〜２２である。

リン酸ステルとしてはモノ、ジ、トリのものが含まれ、
モノあるいはジの成分が多いものであってもよく、トリ
タイプのものはカットされていてもよい。またリン酸エ
ステルはＮＨ４タイプのもの及びメタクリレートタイプ
、アクリレートタイプのものも含まれる。具体的にはト
リフェニルホスファイト、トリオクタデシルホスファイ
ト、トリデシルホスファイト、トリラウリルトリチオホ
スファイト等の亜リン酸エステルや、ヘキサメチルホス
ホリックトリアミド、ブチルホスフェート、セチルホス
フェート、ブトキシエチルホスフェート、２−エチルへ
キシルホスフェート、β−クロロエチルホスフェート、
ブトキシエチルホスフェートジエチルアミン塩、ジ（２
−エチルヘキシル）ホスフェート、エチレングリコール
アシッドホスフェート、（２−ヒドロキシエチル）メタ
クリレート・ホスフェート、ブチルヒドロキシメタクリ
レート・ホスフェート、カプリルヒドロキシメタクリレ
ート・ホスフェート、ミリスチルヒドロキシメタクリレ
ート・ホスフェート、ステアリルヒドロキシメタクリレ
ート・ホスフェート、セチルヒドロキシメタクリレート
・ホスフェート、ブチルフェニルヒドロキシメタクリレ
ート・ホスフェート、アミルフェニルヒドロキシメタク
リレート・ホスフェート、ノニルフェニルヒドロキシメ
タクリレート・ホスフェート、及びこれらのアクリレー
トタイプ、フェニルホスフェート、その他のアルコール
、及びノニルフェニル等のフェニルホスフェート、バナ
ジウム系酸性リン酸エステル等のリン酸エステルが挙げ
られる。

４）硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリルチオジプロ
ピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ラウ
リルステアリルチオジプロピオネート、シミリスチルチ
オジプロピオネート、ジステアリルβ、β′−チオジブ
チレート、２−メルカプトベンゾイミダゾール、ジラウ
リルサルファイドの他、４，４′−チオ−ビス（３−メ
チル−６−第三ブチル−フェノール）、２．２’−チオ
−ビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）等の
メタクリレート、アクリレート等の放射線硬化型が挙げ
られる。またこれらは酸化エチレン、酸化プロピレンを
含有していてもよい。

５）有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤として
はソルビトール、グリセリン、プロピレングリコール、
アジピン酸、クエン酸、アスコルビン酸等が挙げられ、
これらの放射線硬化型であってもよい。

６）キノン系酸化防止剤としてはヒドロキノン、トコフ
ェロール等があり、これらの中で放射線硬化型であって
もよい。

７）無機酸、無機塩系酸化防止剤としてはリン酸がその
代表例として挙げられる。

上記酸化防止剤の中でも、強磁性薄膜への裏型転写を抑
え得るという点から、分子中にアクリル系二重結合を有
する放射線硬化型のもの、例えばモノグリコールサリチ
レートメタクリレート（アクリレート）、４−第三ブチ
ルカテコールメタクリレート（アクリレート）、ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート（アクリレート）、エチ
ルヒドロキシメタクリレート（アクリレート）ホスフェ
ート、セチルヒドロキシホスフェートメタクリレート（
アクリレート）、ステアリルメタクリレート（アクリレ
ート）ホスフェート、及び上記のもののフェニルタイプ
のもの、２，２′チオ−ビス（４−メチル−６−第三ブ
チル−フェノール）メタクリレート（アクリレート）等
が好ましい。リン酸エステルの製法としては公知の方法
で行なわれるが、特公開５７−４４２２３号公報記載の
方法も挙げられる。放射線硬化型酸化防止剤では強磁性
薄膜へのオンライン硬化ができるため熱硬化時の巻きし
まりによる裏型転写による表面性の劣化がなく、そのた
め出力の低下がない。そしてドロップアウトの防止、ロ
ール状に巻かれたときの内外径の個所による出力差の減
少といった特性上の効果の他、オンライン上での製造が
可能といった処環上の効果をもあげ得るものである。

本発明トップコート層で用いることのできる有機バイン
ダーとしてはポリマー、モノマー、オリゴマーが挙げら
れる。

ポリマーとしては、従来、磁気記録媒体用に利用されて
いる熱可塑性、熱硬化性又は反応型樹脂やこれらの混合
物が使用されるが、得られる塗膜強度等の点から硬化型
、特に放射線硬化型の樹脂が好ましい。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、平均分
子量が１０，０００〜２００，０００、重合度が約２０
０〜２，０００程度のもので、例えば塩化ビニール−酢
酸ビニール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）、
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
カルボン酸導入のものも含む）、塩化ビニール−塩化ビ
ニリデン共重合体、塩化ビニール−アクリロニトリル共
重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、ア
クリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸エ
ステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エス
テル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル
−スチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロン
−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂
、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリ
ル共重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体、
ポリアミド樹脂、ポリビニールブチラール、セルロース
誘導体（セルロースアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオ
ネート、ニトロセルロース等）、スチレン−ブタジェン
共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテル−
アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成
ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物が使用される
。

熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は２００，０００以下の分子量であり。

塗布、乾燥後に加熱することにより、縮合、付加等の反
応により分子量は無限大のものとなる。又、これらの樹
脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融
しないものが好ましい、具体的には例えばフェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂
、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アク
リル系反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセ
ルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイ
ソシアネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共
重合体とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリ
エステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、尿
素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子
量ジオール／トリフェニルメタントリイソシアネートの
混合物、ポリアミン樹脂、及びこれらの混合物である。

而して好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化
ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレ
タンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）、或
いは塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体（カルボン酸導入のものも含む）、又はアクリル変性
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
カルボン酸導入のものも含む）及びウレタンアクリレー
トからなる放射線硬化系樹脂からなるものであり、放射
線硬化系樹脂については前記の好ましい組合せの外に、
ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合
乾燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入し
た樹脂等を用いることができる。その他、使用可能なバ
インダー成分としては、単量体としてアクリル酸、メタ
クリル酸、アクリルアミド等がある。二重結合のあるバ
インダーとしては、種々のポリエステル、ポリオール、
ポリウレタン等をアクリル二重結合を有する化合物で変
性することもできる。更に必要に応じて多価アルコール
と多価カルボン酸を配合することによって種々の分子量
のものもできる。放射線感応樹脂として上記のものはそ
の一部であり、これらは混合して用いることもできる。

さらに好ましいのは（Ａ）放射線により硬化性をもつ不
飽和二重結合を２個以上有する、分子量５，０００〜ｉ
ｏｏ、ｏｏｏのプラスチック状化合物、（Ｂ）放射線に
より硬化性をもつ不飽和二重結合を１個以上有するか、
又は放射線硬化性を有しない、分子量３，０００〜ｉｏ
ｏ、ｏ。

Ｏのゴム状化合物、および（Ｃ）放射線により硬化性を
もつ不飽和二重結合を１個以上有する、分子量２００〜
３，０００の化合物を、（Ａ）２０〜７０重量％、（Ｂ
）２０〜８０重量％、（Ｃ）１０〜４０重量％の割合で
用いた組合せである。

前記放射線硬化型モノマー、放射線硬化型オリゴマー及
び放射線硬化型ポリマーとしては、イオン化エネルギー
に感応し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合を有す
アクリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル
化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレー
トのようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸
誘導体等の不飽和結合等の、放射線照射による架橋ある
いは重合乾燥する基を分子中に含有または導入した千ツ
マ−、オリゴマー及びポリマー等を用いることができる
。

放射線硬化型モノマーとしては分子量２，０００未満の
化合物が、オリゴマーとしては分子量２゜０００乃至１
万のものが用いられる。これらはスチレン、エチルアク
リレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレー
ト、■、６−ヘキサングリコールジアクリレート、１，
６−ヘキサンゲリコールジメタクリレート等も挙げられ
るが、特に好ましいものとして、Ｎ−ビニルピロリドン
、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（メタクリ
レート）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（メ
タクリレート）、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート（メタクリレート）、トリメチロールプロパンジア
クリレート（メタクリレート）、多官能オリゴエステル
アクリレート（アロエツクＸＭ−７１００，Ｍ−５４０
０，５５００，５７００等、東亜合成）、ウレタンエラ
ストマーにツボラン４０４０）のアクリル変性体、ある
いはこれらのものにＣ０ＯＨ等の官能基が導入されたも
の、フェノールエチレンオキシド付加物のアクリレート
（メタクリレート）、下記一般式で示されるペンタエリ
スリトール縮金環にアクリル基（メタクリ基）又はε−
カプロラクトン特特殊ペンタエリスリトール綜合物上い
う）、ｍ−１、ａ＝３．ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Ｂという）、ｍ−′１、ａ　
＝　６、ｂ＝ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリト
ール縮合物Ｃという）、ｍ＝２、ａ　＝　６、ｂ＝ｏの
化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物りとい
う）、及び下記一般式で示される特殊アクリレート類等
が挙げられる。

（１）（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ）１２）３−ＣＣＨ２０
Ｈ（特殊アクリレートＡ） （２）　（ＣＨ，＝ＣＨＣ００Ｃ）ｌ、）　３、−ＣＣ
Ｈ２ＣＨ３（特殊アクリレートＢ） （３）（Ｃｔ１２＝ＣＨＣＯ＋ＯＣ３％）ｎ　０ＣＨ２
）３　ＣＨ２ＣＨ２（ｎ＝Ｆ３）　（特殊アクリレート
Ｃ）（特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣ）ｌ　＝　ＣＨ２（特殊アクリレ
ートＦ） （７）　ＣＨ，Ｃ００ＣＨ＝　ＣＨ２ １ （特殊アクリレートＧ） （８）Ｃ１１，＝ＣＨＣ００−（Ｃ）Ｉ２ＣＩ（，０）
４−ＣＯＣＨ＝ＣＨ２（特殊アクリレートＨ） （特殊アクリレートＩ） （特殊アクリレートＪ） Ａニアクリル酸、Ｘ：多価アルコール、Ｙ：多塩基酸、
（特殊アクリレートＫ）又、放射線硬化型オリゴマーと
しては、下記一般式で示される多官能オリゴエステルア
クリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体あ
るいはこれらのものにＣｏＯＨ等の官能基が導入された
もの、等が挙げられる。

（式中Ｒ，，Ｒ２：アルキル基、ｎ：整数）有機バイン
ダーを用いることにより、トップコート層がバインダー
により補強され、塗膜の破断強度が上がり、塗膜の強化
が為され、トップコート削れが少なく、かつ高温走行で
の耐久性が改善できる。そこでドロップアウトの少ない
、かつロール状に巻き取った形での硬化の際の巻きしま
りのない、長さ方向で均一の特性を有する磁気記録媒体
が得られる。バインダーがない場合、高温走行でのスト
シブを生じ、摩擦が大のためケズレが大であり、付着が
生じる。又、放射線硬化型バインダーを用いると、トッ
プコート層の製造上、連続処理が可能であり、オンライ
ン上で処理できるので、省エネルギー、コストの低減に
役立つ。

強磁性薄膜表面に潤滑剤を含むトップコート層を設ける
方法としては、前記添加剤を溶剤で希釈して強磁性金属
薄膜上に薄く塗布したり、該添加剤を大気中、不活性ガ
ス中、あるいは高空中で気化せしめてその蒸気を強磁性
金属表面に当てるなどの手段、またバインダーと共に混
合、塗布する手段があり、これらを適用することができ
る。

また本発明のトップコート層に放射線硬化型添加剤を用
いる場合、その架橋に使用する活性エネルギー線として
は、放射線加速器を線源とした電子線、Ｃｏ６０を線源
とした１−線、５ｒ９０を線源としたβ−線、Ｘ線発生
器を線源としたＸ線あるいは紫外線等が使用される。

特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。

本発明においてバックコート層は必要ないが、バックコ
ート層があれば走行性が更に安定し、好ましい。バック
コート層は通常用いられる無機顔料、潤滑剤、有機バイ
ンダー等を含むものである。

Ω壮麦見叫肱象 以上記載のとおり、本発明にあっては強磁性薄膜上のト
ップコート層の表面上に有機物で３００Ａ以下の突起を
形成することにより、トップコート層を設けることによ
り奏せられる（１）防錆性、耐腐食性、耐久性、走行安
定性がすぐれていること、（２）目づまりが発生しない
ことに加えて、さらに（３）電磁変換特性の低下がない
こと、（４）摩゛擦抵抗が低いこと等のすぐれた効果が
奏せられるものである。

（ホ　日のＪ 本発明の磁気記録媒体は、オーディオテープ、ビデオテ
ープ、コンピューター用テープ、エンドレステープ、磁
気ディスク等として利用でき、中でもドロップアラ１へ
が最も重要な特性の１っであるビデオテープ、コンピュ
ーター用テープとして用いることができ非常に有用であ
る。

近年、特に技術進歩が著しく、しかも市場性の拡大して
いる高バイアスのＨｉＦｉ用オーディオカセットテープ
、ビデオカセットテープ、ビデオテープ接触転写プリン
ト用マスターテープ等には本発明の３００Ａ以下の有機
物の突起を有するトップコート層を設けた金属薄膜から
なる磁気記録層を用いることにより、極めて良好な電磁
変換特性と物性信頼性を有する高性能テープを得ること
ができ、本発明の磁気記録媒体は有用性の大きいすぐれ
たものであるということができる。

八　日　の　１ 以下に本発明の実施例を示す。なお１本発明がこの実施
例に限定されるものでないことは理解されるべきである
。

実施例 （１）蓋立ｌ曵星處 暑皿立亙■よ 厚さ１２Ｐｍのポリエステルフィルムを円筒状冷却キャ
ンの局面に沿わせて移動させ、ｏ２＋Ａｒ　（容積比１
：１）を毎分８００ｃｃの速さで流し真空度を１．０Ｘ
１０−４Ｔｏｒｒとしたチャンバー内で、Ｃｏ８０、Ｎ
　ｉ　２０よりなる合金を溶融し、入射角９０°〜３０
°の部分のみ斜め蒸着し膜厚０．１５ｐｍのＣｏ−Ｎｉ
−０薄膜を形成した。酸素はベースとの界面およびベー
スと反対側の表面に多く偏在していた。またベースと反
対側の表面はほぼ酸化物のみで覆われていた。Ｈｅ＝　
１００００　ｅ　、膜中の平均酸素量はＧｏとＮｉに対
する原子比（０／ＣｏＮ　ｉ　Ｘ　１００）で４０％で
あった。

羞ＪＬＬ降鳳」ユ 厚さ１２　、Ｌｍ　ｍのポリエステルフィルムを円筒状
冷却キャンの局面に沿わせて移動させ、真空度を５．０
Ｘ１０−６Ｔｏｒｒとしたチャンバー内で、１の場合と
同様に蒸着した。膜厚は０゜１５ｐｍで実質的にＧｏ−
Ｎｉより成る。

このテープを９０℃、２０％ＲＨ雰囲気中で強制酸化し
、そのベースと反対側の表面を酸化物のみとした。Ｈｃ
＝９０００ｅ。膜中の平均酸素量はＧｏとＮｉに対する
原子比で４５％であった。

（２）トップコート層の形成 Ｏトップコート組成 トップコート　１　重量部 モノグリコールサリチレートアクリレート１．０ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート１．０ミリスチン酸
　０．５ ＭＥＫ／シクロヘキサノン（１／１）　１００トツプコ
ート　２　重量部 ２．６ジ第三ブチルｐ−クレゾール　０．８ペンタ工リ
スリトールテトラアクリレート分子量　３５２　０．５ アクリル変性塩ビ一酢ビービニルアルコール共重合体（
マレイン酸含有）分子量２０，０００　０．７ステアリ
ン酸　０．１ ミリスチン酸ブチル　０．１ シクロへキサノン　１００ 」ヨ乙スー；二−ヒ刈−暖１ ａ、メタアクリロキシエチルホスフェート　ｌエポキシ
変性体分子量ｇｏ、ｏｏｏ　’　ｏ。５ｂ１ベヘン酸　
２．０ ＭＥＫ／トルエン（１／１）　１００ ０上記各トップコート組成を用いてトップコート層を形
成した。

トップコート組成１について、乾燥温度、溶剤を変える
事により次のように突起を変えることができる。

■トップコート組成１を乾燥温度９０℃、通過時間１０
ｓｅｃとする事により、その後電子線照射３　Ｍ　ｒ　
ａ　ｄとし突起５０Ａとなった。

■乾燥温度７０℃、通過時間１０ｓｅｃとすることによ
り、その後電子線照射３　Ｍ　ｒ　ａ　ｄとし突起１０
０Ａとなった。

■■においてＭＥＫのみとする事により、乾燥が速すぎ
て偏在が多くなり５０〇八となった（電子線同上）。（
ＭＥＫ沸点８０℃） ■■においてシクロヘキサノンのみとする事により３０
０八となった。（シクロヘキサノン沸点１５５℃） ■トップコート組成１においてモノグリコーノけりチレ
ートアクリレートを抜いたところ（製法は■）１００Ｏ
Ａとなった（電子線同上）。

ωつにおいてミリスチン酸５．０重量部とする事により
突起５００Ａとなった。これをカレンダ一工程の温度、
圧力を５０〜１１０℃、５〜１００ｋｇ／ａｍ２の範囲
に変える事により突起の調節が可能である（電子線照射
３Ｍｒａｄ）。

温度７０℃、圧力１．０　ｋ　ｇ７　ｃ　ｍ２としたと
ころ３００Ａとなった。

■トップコート組成１においてモノグリコールサリチレ
ートアクリレートに代えてジメチルアミノエチルメタク
リレートを用い、製法■にしたところ表面粗度３００Ａ
で突起がなかった。

トップコート組成１に関し、上記各種処理を施した結果
を第１表に示す。

第１表から判るように有機物からなる突起が３００Ａ以
下のものは摩擦も低く、型持低下も−２゜ＯｄＢ以内で
あり良好であった。突起は２ＯＡ以上であればまた効果
がある事が■においてカレンダー条件を変える事により
わかった。この場合、未乾燥状態でカレンダ一温度７０
℃、圧力１０ｋｇ　／　ｃ　ｍ　２の条件でカレンダー
をかける事により。

その後電子線照射３　Ｍ　ｒ　ａ　ｄにより２ＯＡのも
のが得られた。

次いでトップコート層２を次のようにして形成した。即
ち強磁性薄膜２上、トップコート組成２を塗布し、製法
■で加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流６ｍＡ、３Ｍｒａ
ｄ、Ｎ２ガス中で照射を行なった。突起２００Ａであっ
た。

トップコート層３を次のようにして形成した。

即ち強磁性薄膜２上、トップコート組成３ａを塗布し、
製法６片加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流１０ｍＡ、３
Ｍｒａｄ、Ｎ２ガス中で照射を行なった。その上にベヘ
ン酸を塗布、同様に電子線照射を行なった。突起１００
Ａであった。

これらの特性を第２表に示す。

第２表において突起３０〇八以下で摩擦、型持とも良好
な結果となり、トップコートの削れもなかった。

なお本発明のオリゴマー及びポリマーの分子量は次の測
定方法による数平均分子量によっている。

）ＫＧＰＣによるバインダーの平均分子量測定ＧＰＣ（
Ｇｅｌ　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　Ｃｈｌｏｍａｔｏｇｒ
ａｐｈｙ）とは試料中の分子を移動相中のその大きさに
基いて分離する方法で、分子ふるいの役をする多孔質ゲ
ルをカラムに充填し液体クロマトグラフィーを行なう方
法である。

平均分子量を算出するには標準試料として分子量既知の
ポリスチレンを使いその溶出時間から検量線を作成する
。これよりポリスチレン換算の平均分子量を計算する。

与えられた高分子量物質中に分子量Ｍ１である分子がＮ
ｉ個あったとすると 数平均分子量Ｍ　ｎ　＝　ΣＮ　ｉ　Ｍ　ｉ　で表わせ
る。

ΣＮｉ 又上記各種特性の測定方法について以下に記す。

１、スチール特性 ５　Ｍ　Ｈｚで記録し、再生出力のスチール特性を測定
する。１０分以上をＯＫレベルとする。

２、磁性面側摩擦測定 磁気テープの磁性面がシリンダー側に来るように巻きつ
け、一方の端面に２０ｇの負荷をかけ、シリンダーを９
０°回転したときの張力変化を読みとって摩擦測定をす
る。

３、突起（下記■、■のいずれかによる）■Ｒｍａｘ　
ＴＡＹＬＯＲ−ＨＯＢＳＯＮ社製タリス社製プリステッ
プ法におけるＲｍａｘ値、カットオフ０．１７ｍｍ、針
圧２＋ｏｇ、針Ｑ、ＩＸ２゜５Ｐを用いた。

■表面Ｉ！祭　走査型電子顕微鏡（Ｓ　Ｅ　Ｍ）にて加
速電圧３０ＫＶ以下、倍率１５００〜５０００倍で斜め
よりＩ！察する。

【図面の簡単な説明】

添付の図面は本発明磁気記録媒体のトップコート層の様
子を示す模式図で、第１図、第２図が側面より見た図、
第３図が平面図であり１図中、■が蒸着膜表面、２がト
ップコート層、３が有機物突起である。 代理人　大多和　明敏 代理人　大多和　暁子

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基材上に強磁性薄膜を設けた磁気記録媒体
   において、該強磁性薄膜の表面上のトップコート層に有
   機物で３００Ａ以下の突起を形成してなることを特徴と
   する磁気記録媒体。