JPS6142723A - 磁気記録媒体および磁気記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 工　発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体、特に金属薄膜型の磁気記録媒
体と磁気記録方法に関する。

先行技術とその問題点 ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、金属薄膜型
の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。

このような金属薄Ｓ型の媒体の磁性層としては、特性上
、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわゆ
る斜め蒸着法によって形成したＣｏ系、Ｃｏ−Ｎｉ系等
からなる蒸着膜力ζ好適である。

このような媒体は、スペーシングロスによる特性低下が
大きいので、その表面をできるだけ平滑化する必要があ
る。

しかし、あまり表面を平坦にすると、摩擦が大きくなり
、ヘッドタッチ、走行面で支障が出る。

ところで、金属薄膜型の媒体では、磁性層が０．０５〜
０．５１Ｌｍと非常にうすいため、媒体の表面性は基板
の表面性に依存する。

このため、基板表面に比較的なだらかないわゆるしわ状
、ミミズ状等の突起を設ける旨が提案されている（特開
昭５３−１１８１１５号等）。

また、特開昭５８−６８２２７号、同５８−１００２２
１号には、基体表面に微粒子を配設して、光学顕微鏡で
５０〜４００倍で観察でき、しかも触針式表面粗さ測定
装置で実測できる高さの凹凸を設ける旨が提案されてい
る。

しかし、これらでも、走行摩擦、耐久走行性、走行安定
性等の物性や、電磁変換特性の点で未だ不十分である。

一方、特公昭３９−２５２４６号等には、強磁性金属薄
膜層表面に、有機物潤滑剤からなるトップコート層を設
け、走行摩擦を低減する旨が提案されている。

しかし、有機物潤滑剤を用いるときには、潤滑剤のヘッ
ドへの付着、ヘッド目づまりが発生し、実用上大きな問
題となる。

すなわち、現状では、走行摩擦を下げ、しかも走行面で
支障の出ない範囲で、ヘッド付着、ヘッド目づまりを解
消し、かつ電磁変換特性の面でも不都合の生じない技術
は未だ実現していない。

■　発明の目的 °太発明の目的は、金属薄膜型の磁気記録媒体と、それ
を用いた磁気記録方法において、摩擦、耐久走行性、走
行安定性等の物性を改良し、しかも物性面で支障のない
範囲でヘッド付着や目づまりを解消し、かつ電磁変換特
性の面でも何ら不都合が生じないようにすることにある
。

このような目的は、下記の本発明によって達成される。

すなわち本発明は 可とう性の基板上にＣＯを主成分とする強磁性金属薄ｉ
層を設け、さらにこの強磁性金属薄膜層表面に有機物ト
ップコート層を設けた磁気記録媒体において、 有機物トップコート層が放射線硬化型の分子１２０００
未満の化合物、酸化防止剤および潤滑剤を含有し、 かつ強磁性金属薄膜層が酸素を含んでおり、さらに、磁
気ヘッドのギャップ長をａ７ｔｍとしたとき、媒体表面
が１鳳脂２当り平均１０５／ａ２以上の突起を有し、し
かもこの突起が３０〜３００人の高さを有することを特
徴とする磁気記録媒体である。

また、第２の発明は、 可とう性基板上にＣＯを主成分とする強磁性金属薄膜層
を設け、かつ強磁性金属薄膜層表面に有機物トップコー
ト層を設けた磁気記録媒体を、磁気ヘッドを用いて記録
再生を行う磁気記録方法において、 有機物トップコート層が放射線硬化型の分子量２０００
未満の化合物、酸化防止剤および潤滑剤を含有し、 かつ、強磁性金属薄膜層が酸素を含み、さらに、磁気ヘ
ッドのギャップ長をａμｍとしたとき、媒体表面がｌ履
■２昌り平均１０５／ａ２個以上の突起を有し、しかも
突起が３０〜３００人の高さを有することを特徴とする
８１気記録方法である。

■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明における磁性層としての強磁性金属薄ＩＩ！２層
は、ＣＯを主成分とし、これにＯを含み、さらに必要に
応じＮｉおよび／またはＣｒが含有される組成を有する
。

すなわち、好ましい態様においては、Ｃｏ単独からなっ
てもよく、ＣＯとＮｉからなってもよい、　Ｎｉが含ま
れる場合、Ｃｏ　／　Ｎ　ｉの重量比は、１．５以上で
あることが好ましｌ／）。

さらに、強磁性金属薄膜層中には、Ｃｒが含有されてい
てもよい。

Ｃｒが含有されると、電磁変換特性が向上し、出力およ
びＳ／Ｎ比が向上し、さらに膜強度も向上する。

このような場合、Ｃｒ／ＣＯあるいはＣｒ／（Ｃｏ＋Ｎ
ｉ）の１重量比は０．１以下、特に０．００１〜０．１
、より好ましくは、０．００５〜０．０５であることが
好ましい。

さらに、強磁性金属薄膜中にはＯが含有されるものであ
る。

強磁性金属薄膜中の平均酸素量は、原子比、特にＯ／（
ＣｏまたはＣｏ＋Ｎｉ）の原子比で、０．５以下、より
好ましくは０．０５〜０．５であることが好ましい。

この場合、強磁性金属薄膜層の表面では、酸素が強磁性
金属（Ｃｏ、Ｎｉ）と酸化物を形成している。

すなわち、表面部、特に表面から５０〜５００人、より
好ましくは５０〜２００人の厚さの範囲には、オージェ
分光分析により、酸化物を示すピークが認められるもの
である。　そして、この酸化物層の酸素含有量は、原子
比で０．５〜１．０程度である。

なお、このような強磁性金属薄膜中には、さらに他の微
量成分、特に遷移元素、例えばＦｅ、Ｍｎ、Ｖ、Ｚｒ、
Ｎｂ、Ｔａ、Ｔｉ。

Ｚ　ｎ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｗ　、　Ｃｕ等が含まれてい
てもよい。

このような強磁性金属薄ｒＭＪ暦は、好ましい態様にお
いて、上記したＣＯを主成分とする柱状結晶粒の集合体
からなる。

この場合、強磁性金属薄膜層の厚さは、０．０５〜０．
５４ｍ、好ましくは、０．０７〜０．３終ｍとされる。

そして、柱状の結晶粒は、ｓｇの厚さ方向のほぼ全域に
亘る長さをもち、その長手方向は、基体の主面の法線に
対して、１０〜７０°の範囲にて傾斜していることが好
ましい。

なお、酸素は、表面部の柱状の結晶粒の表面に前記のと
おり化合物の形で存在するものである。

また、強磁性金属薄Ｓ層の酸素の濃度勾配の何頭には特
に制限はない。

また、結晶粒の短径は、５０〜５００人程度の長さをも
つことが好ましい。

このような強磁性金属薄Ｉｌｉ暦を形成する基板は、非
磁性のものでありさえすれば特に制限はないが、特に可
とう性の基板、特にポリエステル、ポリイミド等の樹脂
製のものであることが好ましい。

また、その厚さは１種々のものであってよいが、特に５
〜２０ｇｍであることが好ましい。

この場合、基板の強磁性金属薄ｒＦｉ４層形成層形裏面
には、公知の種々のバックコート層が形成されていても
よい。

このように構成される本発明の磁気記録媒体の表面には
、微細な突起が所定の密度で設けられる。

微細な突起は、３０〜３００人、より好ましくは５０〜
２５０人の高さを有するものである。

すなわち、本発明の突起は、光学顕微鏡で観察でき、か
つ触針型表面粗さ計で測定できるものではなく、走査型
ないし透過型の電子顕微鏡にて観察できる程度のもので
ある。

突起高さが３００人をこえ、光学ｍ微鏡にて観察できる
ものとなると、電磁変換特性の劣化と、走行安定性の低
下をもたらす。

また、５０λ未満となると、物性の向上の実効がない。

そして、その密度は１ｍ膳２あたり平均１０５／　８２
個、より好ましくは２ＸＩＯ１ｌ／ａ２〜１Ｘ１０９／
ａ２個である。

この場合、ａはμｍ単位にて、用いる磁気ヘッドのギャ
ップ長を表わす。

そして、ａは、０．１〜０．５Ｂｍ、特に０．１〜０．
４ルｍとされる。

なお、突起密度が１０５／ａ２個／ｍｍ２．より好まし
くは２Ｘ１０６／ａ２個／　１１２未満となると、ノイ
ズが増大し、スチル特性が低下し、ヘッド目づまりが多
発する等物性の低下をきたし、実用に耐えない。

また、１０９／ａ２個／ｍｍ２をこえると、物性上の効
果が少なくなってしまう。

このような突起を設けるには、通常、基板上に微粒子を
配設すればよい、　微粒子径は、３０〜３００人、特に
５０〜２５０人とすればよく、これにより微粒子径を対
応した微細突起が形成される。

用いる微粒子としては、通常コロイド粒子として知られ
ているものであって１例えば５ｉ０２（コロイダルシリ
カ）、Ａ１２０３（アルミナゾル）、ＭｇＯ，ＴｉＯ２
。

ＺｎＯ、Ｆｅ２０３　　、ジル：ニア、ＣｄＯ。

ＮｉＯ，ＣａＷＯモ、ＣａＣＯ３゜ ＢａＣＯ３、ＣｏＣＯ３、ＢａＴｉＯ３。

Ｔｆ（チタンブラック）　　＋　Ａ　ｕ　＋　Ａ　ｇ　
ｔ　Ｃｕ　＋Ｎｉ、Ｆｅ、各種ヒドロシルや、樹脂粒子
等が使用可使である。　この場合、特に無機物質を用い
るのが好ましい。

このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基板状に塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したものを塗
布、乾燥してもよい。

なお、場合によっては、これら塗布液を基板上に配設す
るのではなく、微粒子をトップコート層中に鰯加して突
起を設けることもてきる。

また、樹脂分を用いる場合、これら微粒子にもとづく微
細突起に！ＩＩ畳してゆるやかな突起を設けることもで
きるが、通常はこのようにする必要はない。

なお、基板と強磁性金属薄膜層との間には、必要に応じ
、公知の各種下地層を介在させることもできる。

また、もし必要であるならば、強磁性金属薄ｎｉ　ｅを
複数に分割して、その間に非強磁性金属薄ＩＩＩ　ＦＪ
を介在させてもよい。

本発明において、磁性層の形成は電解蒸着、イオンブレ
ーティング、メッキ等を用いることもできるが、いわゆ
る斜め蒸着法によって形成されることが好ましい。

この場合、基体法線に対する、蒸着物質の入射角の最小
値は、２０°以上とすることが好ましい。

入射角が２０”未満となると、電磁変換特性が低下する
。

なお、蒸着雰囲気は、通常、アルゴン、ヘリウム、真空
等の不活性雰囲気に、酸素ガスを含む雰囲気とし、１０
−５〜１００Ｐａ程度の圧力とし、また、蒸着距離、基
体搬送方向、キャンやマスクの構造、配置等は公知の条
件と同様にすればよい。

そして、＃素雰囲気での蒸着により１表面に金属酸化物
の被膜が形成される。　なお、金属酸化物が形成される
酸素ガス分圧は、実験から容易に求めることができる。

なお、表面に金属酸化物の被膜を形成するには、各種酸
化処理が可能である。

適用できる酸化処理としては下記のようなものがある。

１）乾式処理 ａ、エネルギー粒子処理 特願昭５８−７６６４０号に記載したように、蒸着の後
期に、イオンガンや中性ガンにより酸素をエネルギー粒
子として磁性層にさしむけるもの。

ｂ、グロー処理 ０２　　、Ｈ２０，０２＋Ｈ２０等とＡｒ。

Ｎ２等の不活性ガスとを用い、これをグロー放電してプ
ラズマを生じさせ、このプラズマ中に磁性膜表面をさら
すもの。

Ｃ１酸化性ガス オゾン、加熱水蒸気等の酸化性ガスを吹きつけるもの。

ｄ、加熱処理 加熱によって酸化を行うもの、　加熱温度は６０〜１５
０℃程度。

２）湿式処理 ａ、陽極酸化 す、アルカリ処理 Ｃ１酸処理 クロム酸塩処理、過マンガン酸塩処理、リン酸塩処理等
を用いる。

ｄ、酸化剤処理 Ｈ２Ｏ２等を用いる。

ところで、トップコート層に潤滑剤のみを塗布するもの
では、一時的な摩擦の低下しか得られず、防錆性、耐腐
食性、耐久性の点でも著しく劣る。

本発明では特定のトップコート層は、放射線硬化型の分
子１ｚｏｏｏ未満の化合物、酸化防上剤および潤滑剤を
含有するものである。

本発明のトップコート層で用いられる放射線硬化型の分
子量２０００未満の化合物としては、イオン化エネルギ
ーに感応し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合を有
すアクリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステ
ル化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレ
ートのようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン
酸誘導体等の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あ
るいは重合乾燥する基を分子中に含有または導入した分
子量２０００未満の化合物等を用いることができる。

それらの放射線硬化型の分子量２０００未満の化合物は
、スチレン、エチルアクリレート。

エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、ジエチレングリコールメタクリレート、１．６−
ヘキサングリコールジアクリレート、１．６−ヘキサン
グリコールジアクリレート等も挙げられるが、 特に好ましいものとしては、Ｎ−ビニルピロリドン、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート（メタクリレ−
１・）、ペンタエリスリトールアクリレート（メタクリ
レート）、トリメチロールプロパントリアクリレート（
メタクリレート）、トリメチロールプロパンジアクリレ
ート（メタクリレート）、フェノールエチレンオキシド
付加物の７クリレート（メタクリレート）、下記一般式
で示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基（
メタクリル基）、またはε−カプロラクトン−アクリル
基のついた化合物、 式中、ｍ＝ｌ、ａ＝２、ｂ＝４の化合物（以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Ａという）、 ｍ＝ｌ、ａ＝３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｂという）。

ｍ５＝１．ａｘ６、ｂ−ｏの化合物（以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物Ｃという）。

ｍ＝２、ａ＝８．ｂ＝ｏの化合物（以下、特殊ぺ／タエ
リスリトール縮合物りという）、および下記式一般式で
示される特殊アクリレート類等が挙げられる。

１）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ００Ｈ２）３−ＣＣＨ２０
Ｈ（特殊アクリレートＡ） ２）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ００ＣＨ２）　３−ＣＣＨ
２ＣＨ３（＃殊アクリレートＢ） ３）　　（ＣＨ２＝ＣＨ０Ｃ（ＯＣ３Ｈｓ）ｎ　−０Ｃ
Ｈ２）３−ＣＣＨ２ＣＨ３（ｎ中３）　　　（特殊アク
リレートＣ）（特殊アクリレートＤ） （＃殊７クリレートａ＞ （特殊アクリレートＦ） （ｎ中１６）　　（特殊アクリレートＧ）８）　　ＣＨ
２＝ＣＨＣ０Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２０）４−ＣＣＨ２０Ｈ
２（特殊アクリレートＨ） （特殊アクリレートエ） （特殊アクリレートＪ） Ａニアクリル酸、　　ｘ：多価アルコールＹ：多塩基酸
　　（特殊アクリレ−）Ｋ）放射線硬化型の分子量２０
００未満の化合物を用いることにより、強磁性薄膜との
付着性がよく、トップコート層が分子＞ｔ　２０００未
満の化合物により補強され、塗膜の破断強度が上がり、
塗膜の強化が為され、トップコート削れが少なく、かつ
高温走行での耐久性が改善できる。　そこで、ドロップ
アウトの少ない、かつロール上に巻き取った形での硬化
の際の巻きしまりのない、長さ方向で均一の特性を有す
る磁気記録媒体が得られる。

前記放射線硬化型の分子量２０００未満の化合物がない
場合、高温走行でのストップを生じ、ケズレが大であり
、付着が生じるが、放射線硬化型の分子量２０００未満
の化合物を用いると、架橋性が上り、トップコートの削
れかなくなり、走行中の目づまりがなく、スチル特性が
向上する。

また、放射線硬化型ポリマーと比較しても、削れや目づ
まりがより少なくなり、ざらにスチル特性が向上する上
に、ポリマーに比べて分子量が小さいため、粘度が低く
、塗布膜が均一となり、そのため電磁変換特性でエンベ
ロープが良好となる。

本発明では放射線硬化型の分子量２０００未満の化合物
を用いるが、分子量が２０００以上となると摩擦抵抗が
高くなる傾向となる。

また、放射線硬化型分子量２０００未満の化合物を用い
ると、トップコート層の製造上、連続処理が可能であり
、オンライン上で処理できるので、省エネルギー、コス
トの低減に役立つ、　これらの化合物は単独、または混
合物の形で用いることができる。

本発明で用いられる酸化防止剤としては、通常の酸化防
止剤剤が用いられ、これらは１）フェノール系酸化防止
剤 ２）アミン系酸化防止剤、 ３）リン系酸化防止剤、 ４）硫黄系酸化防止剤、 ５）有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤、 ６）午ノン系酸化防止剤、 ７）無機酸、無機塩系酸化防止剤のように構造的に大別
される。

上記、各種酸化防止剤の具体例を挙げると、 １）フェノール系酸化防止剤としては、２．６−ジー第
三ブチル−Ｐ−クレゾール、２．６−ジー第三ブチル−
フェノール、２．４−ジ−メチル−６−第三ブチル−フ
ェノール、ブチルヒドロキシアニソール、２．２′−メ
チレンビス（４−メチル−６−ｆ５三ブチルフェニノー
ル）、４．４’−７’チリデンビス（３−メチル−６−
第三ブチルフェノール）、４．４′−チオビス（３−メ
チル−６−第三ブチルフェノール）、テトラキス〔メチ
レン−３（３，５−ジ第三ブチルー４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネートコメタン、ｌ　、　１　、３−ト
リス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフ
ェニル）ブタン、ジブチルヒドロキソトルエン、没食子
酸プロピル、グアヤク脂、ノルジヒドログアヤレチン酸
等がある。

放射線硬化型としては、モノグリコールサリチレート、
２，５−ジ第三ブチルハイドロキノン、２．４−ジヒド
ロキシベンゾフェノン。

２．４．５−）リヒドロキシブチロフェノン、ハイドロ
キノン等のメタクリレート、アクリレートタイプが挙げ
られる。

２）アミン系酸化防止剤としては、 フェニル−β−ナフチルアミン、α−ナフチルアミン、
Ｎ、Ｎ’　−ジー第ニブチル−ｐ−フェニレンジアミン
、フェニルチアジン、Ｎ。

Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミンの他、アル
カノールアミン、リン脂質等が挙げられる。

アミン系でもジメチルアミノエチルメタクリレート、ア
クリレートあるいはビニルタイプ等の放射線硬化可能の
ものが放射線硬化型として挙げられる。

３）リン系酸化防止剤としては、放射線硬化型あるいは
放射線硬化型でないものが用いられ、リン酸エステル部
分のＲとしてはアルキル基、アルキルフェニル基、その
他酸化エチレン、酸化プロピレンを含有し、そのＲとし
てＣが１〜２６が好ましく、さらに好ましいのは１〜２
２である。　　リン酸エステルとしてはモノ、ジ、トリ
のものが含まれ、モノあるいはジの成分が多いものであ
ってもよく、トリタイプのものはカットされていてもよ
い。

また、リン酸エステルは、ＮＨ４タイプのものおよびメ
タクリレート、アクリレート、ビニルタイプのものも含
まれる。

具体的にはトリフェニルホスファイト、トリオクタデシ
ルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリ
ルトリチオホスファイト等の亜リン酸ニスエルや、ヘキ
サメチルホリックトリアミド、ブチルホスフェート、セ
チルホスフェート、ブトキシエチルホスフェート、２−
エチルへキシルホスフェート、β−クロロエチルホスフ
ェート、ブトキシエチルホスフェートジエチルアミン塩
、ジ（２−エチルへキシル）ホスフェート、エチレング
リコールアシッドホスフェート、（２−ヒドロキシエチ
ル）メタクリレート・ホスフェート、ブチルヒドロキシ
メタクリレート−ホスフェート、カプリルヒドロキシメ
タクリレート・ホスフェート、ミリスチルヒドロキシメ
タクリレート・ホスフェート、ステアリルヒドロキシメ
タクリレート・ホスフェート、セチルヒドロキシメタク
リレート・ホスフェート、ブチルフェニルヒドロキシメ
タクリレート・ホスフェート、アミルフェニルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、ノニルフェニルヒド
ロキシメタクリレート・ホスフェート、およびこれらの
７クリレートタイプ、フェニルホスフェート、その他の
アルコール、およびノニルフェニル等のフェニルホスフ
ェート、バナジウム系酸性リン酸エステル等のリン酸エ
ステルが挙げられる。

４）硫黄系酸化防止剤としては、 ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジ
プロピオネート、ラウリルステアリルチオジプロピオネ
ート、ジミリスリルチオジプロピオネート、ジステアリ
ルβ、β′−チオブチレート、２−メルカプトベンゾイ
ミダゾール、ジラウリルサルファイドの他、４．４’−
チオ−ビス（３−メチル−６−第三ブチル−フェノール
）、２．２’−チオ−ビス（４−メチル−６−第三ブチ
ルフェノール）等のメタクリレート、アクリレート、ビ
ニルタイプ等の放射線硬化型が挙げられる。

また、これらは酸化エチレン、酸化プロピレンを含有し
ていてもよい。

５）有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤として
は、ソルビトール、グリセリン、プロピレングリコール
、アジピン酸、クエン酸、アスコビン酸等が挙げられ、
これらの放射線硬化型であってもよい。

６）キノン系酸化防止剤としては、ヒドロキノン、トコ
フェロール等があり、これらの中で放射線硬化型であっ
てもよい。

７）無機酸、無機塩系酸化防止剤としては、す／酸がそ
の代表例として挙げられる。

上記酸化防止剤の中でも、強磁性薄膜への裏型転写を抑
えうるという点から、分子中にアクリル系二重結合を有
する放射線硬化型のもの、例えばモノグリコールサリチ
レートメタクリレート（アクリレート）、４−第三ブチ
ルカテコールメタクリレート（アクリレート）、ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート（アクリレート）、エチ
ルヒドロキシメタクリレート（アクリレート）ホスフェ
ート、セチルヒドロキシホスフェートメタクリレート（
アクリレート）。

ステアリルメタクリレート（アクリレート）ホスフェー
ト、および上記のもののフェニルタイプのもの、２．２
′チオ−ビス（４−メチル−６−第三ブチル−フェノー
ル）メタクリレート（アクリレート）等が好ましい。

リン酸エステルの製法としては公知の方法で行われるが
、特開昭５７−４４２２３号公報記載の方法も挙げられ
る。

放射線硬化型防止剤では強磁性薄膜へのオンライン硬化
ができるため熱硬化時の巻きしまりによる裏型転写によ
る表面性の劣化がなく、そのため出力の低下がない。

強磁性薄ＪＩりのトップコートは１００λ以下が好適で
あり、これ以上厚くすると電時の低下を生じる。　また
、あまり厚すぎると強磁性薄膜の表面粗度が１００λ以
下のため、この上の酸化防止剤の暦が厚さを増し、該層
が削れる。

このようなことは本発明においてはじめて判明したこと
である。　そして、ドロップアウトの防止、ロール状に
巻かれたときの内外径の個所による出力差の減少といっ
た特性上の効果の他、オンライン上での製造が可能とい
った処理上の効果をもあげうるちのである。

本発明で用いられる潤滑剤としては、従来この種の磁気
記録媒体に用いられる潤滑剤として、シリコンオイル、
フッ素オイル、脂肪酸、脂肪酸エステル、パラフィン、
波動パラフィン、界面活性剤等を用いることができるが
、脂肪酸および／または脂肪酸エステルを用いるのが好
ましい。

脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸。

ラウリン酸、ミリスチン酸、ノ々ルミチン酸、ステアリ
ン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール
酸、リルン酸、ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂
肪酸（ＲＣＯＯＨｌＲは炭素数１１以上のアルキル基）
であり、脂肪酸エステルとしては、炭素数１２〜１６の
一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコール
からなる脂肪酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基
性脂肪酸と脂肪酸の炭素数と合計して、炭素数が２１〜
２３個よりなる一価のアルコールとからなる脂肪酸エス
テル等力ζ使用される。

シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。　アルコールと
しては高級アルコールよるなるもの、フッ素としてｔ±
電解置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション
等によって得られるものが使用される。

潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。

これらは強磁性ｓＩｌ！Ｊへの裏型転写を抑えるため、
ドロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外
径の個所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造
が可能である等の利点を持つ。

放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系あるいはビニル系二重結合とを分子中に有する化
合物、例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、ビニル酢酸エステル、アクリル酸アミド系化合物、
ビニルアルコールエステル、メチルビニルアルコールエ
ステル イド等があり、これらの潤滑剤を構造式で表すＣＨ２　
＝ＣＨ−ＣＨ２　ＣＯＯＲ。

ＣＨ２　＝ＣＨＣＯＮＨＣＨ２　０ＣＯＲＲＣＯＯＣＨ
＝ＣＨ２　　、 ＲＣＯＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖ま
たは分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で，炭素数
は７以上、好ましくは１２以上２３以下であり、これら
はフッ素置換体とすることもできる。

フッ素置換体としては、 ＣｎＦ　　　ＣＨ２　ＮＨＣＨ２　ＣＨ２　−、２ｎ＋
１ ０“□１。ぺ）ＣＨ＝ＣＨ２°１２− 等がある。

これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート　（アクリレート）、
グリセリンのメタクリレート　（アクリレート）、グリ
コールのメタクリレート　（アクリレート）、シリコー
ンのメタクリレート　（アクリレート）、ステアリン酸
ビニル、ミルスチン酸ビニル等が挙げられる。

本発明のトップコート層には、上記添加剤の外にポリマ
ーも用いることができる。　それらのポリマーは、従来
、磁気記録媒体に利用されている熱可塑性、熱硬化性、
または反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、得
られる塗膜強度等の点から硬化型、特に放射線硬化型の
樹脂が好ましい。

熱可塑性樹脂としては、軟化温度が１５０℃以下、平均
分子量が１００００〜２０００００、重合度が約２００
〜２０００程度のもので、例えば塩化ビニール−酢酸ビ
ニール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）、塩化
ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（カル
ボン酸導入のものも含む）、塩化ビニール−塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニール−アクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、
アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、アクリ
ル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸エステ
ル−アクリフニトリル共重合体、メタクリル酸エステル
−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−ス
チレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロン−シ
リコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポ
リフッ化ビニル、塩化ビニリデンーアクリロニロリル共
重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体、ポリ
アミド樹脂、ポリビニールブチラール、セルロース誘導
体（セルロースアセテート、セルロースダイアセテート
、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネー
ト、ニトロセルロース等）、スチレン−ブタジェン共重
合体、ポリエステル樹脂、グロロビニルエーテルーアク
リル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム
系の熱可塑性樹脂およびこれらの混合物が使用される。

熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗布液の状態
では２０００００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
が無限大のものとなる。　また、これらの樹脂のなかで
、樹脂が熱分解するまでのあいだに軟化または溶融しな
いものが好ましい。

具体的には、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂。

メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリ
ル系反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセル
ロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイン
シアネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重
合体とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエ
ステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、尿素
ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量
ジオール／トリフェニルメタントイフシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂、およびこれらの混合物である。

好ましいものは、ａｍ素樹脂（硝化綿等）、塩化ビニル
−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタンの
組み合わせからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）、ある
いは塩化ビニル−酢酸ビニルービニルアルコール共重合
体（カルボン酸導入のものも含む）、またはアクリル変
性塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（カルボン酸導入のものも含む）、およびウレタンアク
リレートからなる放射線硬化系樹脂からなるものであり
、放射線硬化系樹脂については、前記の好ましい組み合
わせの外に、ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を
示すアクリル酸、メタクリル酸あるいはそれらのエステ
ル化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレ
ートのようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン
酸誘導体等の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あ
るいは重合乾燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有ま
たは導入した樹脂等を用いることができる。

その他、使用可能なバインダー成分としては、単量体と
してアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド等があ
る。

二重結合のあるバインダーとしては、種々のポリエステ
ル、ポリオール、ポリウレタン等をアクリル二重結合を
有する化合物で変性することもできる。

さらに必要に応じて、多価アルコールと多価カルボン酸
を配合することによって、種々の分子量のものもできる
。　放射線感応樹脂として上記のものはその一部であり
、これらは混合して用いることもできる。

さらに好ましいのは、（Ａ）放射線により硬化性をもつ
不飽和二重結合を２個以上有する、分子量５０００〜１
０００００のプラスチック状化合物、ＣＢ）放射線によ
り硬化性をもつ不飽和二重結合を１個以上有するか、ま
たは放射線硬化性を有しない、分子量３０００〜１００
０００のゴム状化合物、および（Ｃ）放射線により硬化
性をもつ不飽和二重結合を１個以上有する、分子量２０
０〜３０００の化合物を。

（Ａ）２０〜７０重景％、（Ｂ）２０〜８０重量％、（
Ｃ）１０〜４０重量％の割合で用いた組み合わせである
。

これにより、塗膜の破断強度が上り、塗膜の強化がなさ
れ、バックコート削れが少なく、バラフコ−ＩＦＦから
磁性層へのＳ機充填粉末の移転がないためドロップアウ
トの少ない、かつロール状に巻き取った形での硬化の際
の巻きしまりのない、長さ方向で均一の特性を有する磁
気記録媒体が得られる。

強磁性体薄膜に、放射線硬化型の分子量２０００未満の
化合物、酸化防止剤および潤滑剤を含むトップコートｅ
を設ける方法としては　前記添加剤を溶剤で希訳して強
磁性金属薄膜上に薄く塗布したり、添加剤を大気中、不
活性ガス中、あるいは真空中で気化せしめて、その蒸気
を強磁性金属表面に当てるなどの手段があり。

これらを適用することができる。

このとき、放射線硬化型の分子量２０００未満の化合物
、酸化防止剤、潤滑剤を混合、塗布して硬化したり、ま
ず放射線硬化型の分子量２０００未満の化合物、酸化防
止剤を塗布、硬化後、塗Ｉｒｉ膜上に前記潤滑剤を塗布
あるいは蒸着して、塗布あるは蒸着■りを形成すること
ができる。　前記添加剤の塗布にあたっては、溶剤を用
いて行うことができる。

また、前記添加剤の蒸着は、添加剤を大気中、不活性ガ
ス中、あるいは真空中で気化せしめてその蒸気を、膜を
形成すべき物質の表面に当てて行うものである。

添加剤の蒸着法によるものでは、その膜の表面が均一と
なり、出力波形が良好なものが得られる。

本発明のトップコート層における放射線硬化型の分子量
２０００未満の化合物、酸化防止剤、潤滑剤の使用割合
は、放射線硬化型の分子量２０００未満の化合物：酸化
防止剤＝１０：９０〜９０：１０、好ましくは３０　：
　７０〜７０：３０（重量）、潤滑剤は分子量２０００
未満の化合物＋酸化防止剤１００重量部に対し、０．５
〜１００重量部である。

放射線硬化型の分子量２０００未満の化合物の量が、こ
れより少ないと被膜の強度が低下し、削れやすくなる。

また、酸化防止剤がこれより少ないと、錆止め効果が弱
まり、強磁性薄膜の腐食が起こり、膜のダメージが大き
く、電磁変換特性において出力が低下する。− トップコート層の厚みとしては、１０〜１００人が好ま
しい、　あまり厚すざると、型持の低下を生じたり、ケ
ズレを生ずる。　また、あまり薄すぎると目づまりが発
生する。

特に、好ましい範囲としては１０〜５０人である。

本発明において、トップコート層に前記の放射線硬化型
の分子量２０００未満の化合物を含有することによりト
ップコート層が補強され、削れが少なく、酸化防止剤を
含有することにより、防錆効果が著しく、また、潤滑剤
を含ませることにより、磁性層の表面の摩擦抵抗が低下
するという効果が奏せられ、走行安定性、耐久性の優れ
た。ドロップアウトの減少した磁気記録媒体が得られる
。

本発明のトップコート層に含まれる潤滑剤および酸化防
止剤は放射線硬化型のものが好ましい。

この場合、その架橋に使用する活性エネルギー線としは
、放射線加速器を線源とした電子線、Ｃｏ６０を線源と
したγ−線、５ｒ９０を線源としたβ−線、Ｘ線発生器
を線源としたＸ線あるいは紫外線等が使用される。

特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。

トップコート層を硬化する際に使用する放射線特性とし
ては、透過力の面から加速電圧１００〜７５０ＫＶ、好
マシくは１５０〜３００ＫＶ（７）放射線加速器を用い
吸収線量を０．５〜２０メガラツトになるように照射す
るのが好都合である。

本発明の放射線硬化に際しては、米国エナージーサイエ
ンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速器
（エレクトロカーテンシステム）等が、テープコーティ
ング加エラインへの導入の加速器内部の２次Ｘ線の遮蔽
等にきわめて有利である。

また、従来より放射線加速用に広く活用されているとこ
ろのファンデグラフ型加速器を使用してもよい。

また、放射線架橋に際しては、Ｎ２ガス、Ｈｅガス等の
不活性ガス気流中で、放射線をバラフコ−）Ｇ、トップ
コート層に照射することが重要である。

空気中で放射線を照射することは、バインダー成分の架
橋に際し、放射線により生じた０３等の影響でポリマー
中に生じたラジカルが有利に架橋反応に働くとこを阻害
するのできわめて不利である。

従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、
特に酸素濃度が最大で５％であるＮ２　、Ｈｅ　、ＣＯ
２等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。

本発明のトップコート層には、光重合増感剤を加えるこ
とにより、紫外線硬化を行うこともできる。

光重合増感剤としては従来公知のものでよく、例えば、
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル
、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾイ
ン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノン
、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類、
アントラキノン、フエナントラギノン等のキノン類、ベ
ンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフ
ィド等のスルフィト類、等を挙げることができる。

光重合増感剤は固形分に対し、０．１−１０重量％の範
囲が望ましい。

他方、用いる磁気ヘッドは、種々のものが使用できる。

この場合、磁気ヘッドとしては、少なくもギャップ部端
面を金属磁性体で構成したものであることが好適である
。

この場合、コア全体を金属強磁性体から形成することも
でき、必要に応じ、ギャップ部端面を含むコアの一部を
金属強磁性体から形成することもできる。

第１図には、例えばフェライト等の強磁性体からなるコ
ア半休２１．２２のギャップ部端面に１〜５μｍ程度の
厚さの金属強磁性体３１゜３２をスパッタリング等によ
り被若し、ガラス買等のギャップ４を介してコア半休２
１．２２をつきあわせて磁気へラド１を構成した例が示
される。

これによりきわめて良好な電磁変換特性かえられ、しか
も走行が良好となり、ヘッド付刃やヘッド目づまりも良
好となる。

そして、その形状、構造等は公知のものであってよい。

ただ、ギャップ長ａは、前記のとおり、通常、０．１−
０．５１Ｌｍ、特に０．１〜０．４ｇ、ｍ、またトラッ
ク幅は、通常、１０〜５０終ｍ、靭に１０〜２０μｍと
する。

用いる金属強磁性体としては、種々のものが可能であり
、非晶質磁性金属、センダスト、ハードパーマロイ、パ
ーマロイ等の薄膜、薄板等はいずれも使用可能である。

ただ、これらのうちで、ヘッド目づまりないし付着が特
に少なく、電磁変換特性が良好なのは、Ｃｏを主成分と
する非晶質磁性合金である。

このような非晶質磁性合金としては、Ｃｏ７０〜９５ａ
ｔ％で、ガラス化元素として、Ｚｒ。

Ｎｂ、Ｔａ、Ｈｆ、希土類元素、Ｓｉ、Ｂ。

Ｐ、Ｃ，Ａｎ等、特にＺｒおよび／またはＮｂを５〜２
０ａｔ％含有するものが好適である。

あるいは、Ｃ０６５〜８５ａｔ％で、ガラス化元素とし
てＳｔおよび／またはＢを１５〜３５ａｔ％含有するも
のも好適である。　この場合、さらにＬＯａｔ％以下の
Ｆｅ、２５ａｔ％以下のＮｉ、総計２０ａｔ％以下ｃ７
）Ｃｒ、Ｔｉ、Ｒｕ。

Ｗ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｔ　ｉ　、　Ｍ　ｎ等の１種以上
が含有されていてもよい。

これら非晶質磁性合金は、スパッタリングや高速急冷法
等を用いて、コア半体ないしギャップ部等として形成さ
れる。

このような磁気ヘッドを用いて、前記した媒体に対して
記録再生を行うには、いわゆるＶＨ５方式、ベータ方式
、８ｍｍビデオ方式、Ｕ規格方式等公知のビデオ録画シ
ステムに従えばよい。

■　発明の具体的作用効果 本発明によれば、走行摩擦がきわめて小さくなり、安定
化する。

また、走行耐久性が格段と向上し、多数回走行後も走行
摩擦の増大がなく、くりかえし録画、再生回数が格段と
向上し、スチル特性が格段と向上する。

そして、走行安定性も高く、高温多湿から低温低湿まで
、巾広い条件下できわめて高い安定性を示す。

さらに、スペーシングロスにもとづく再生出力もきわめ
て小さい。

また、ノイズもきわめて少ない。

そして、ヘッドの目づまりやヘッドの付着もきわめて少
ない。

このような効果は、金属強磁性体性ヘッドを用いるとき
、より高いものとなる。

また、このような効果は、最低記録波長１ルｍ未満の高
密度記録において、より一暦高いものとなる。

■　発明の具体的実施例 以下に本発明の実施例を示す。

実施例１ 実質的に微粒子を含まない平滑なポリエステルフィルム
（厚さ１２Ｂｍ）上にコロイダルシリカを塗布し、微小
突起を有する基板を得た。

突起高さは約１５０人、突起密度は約１０７個／ｍ１１
２であった・ （１）磁性層の形成 東ｉユ亘１」 上記基板を円筒上冷却キャンの周面に沿わせて移動させ
、０２　＋　Ａ　ｒ　（容積比１：ｌ）を毎分８００ｃ
ｃの早さで流し、真空度を１゜０ＸＩＯ−’Ｔｏｒｒと
したチャフ　／＜−内で、Ｃ０８０、Ｎｉ　２０よりな
る合金を溶融し、入射角９０”〜３０’の部分のみ斜め
蒸着し、ｆｌ！厚０．１５ｇｍのＣｏ−Ｎｉ−０薄膜を
形成した。

酸素はベースとの界面およびベースと反対側の表面に多
く偏在していた。

また、ベースと反対側の表面は、はぼ酸化物のみの覆わ
れていた。

Ｈｃ＝１００００ｅ。

膜中の平均酸素量は、ＣｏとＮｆに対する原子比 （−Ｘ　Ｉ　ＯＯ） ｏＮｉ で４０％であった。

１１立且１」 上記基板を円筒状冷却キャンの周面の沿わせて移動させ
、真空度を５．０Ｘ１０４Ｔｏｒｒとしたチャンバー内
で、’　　　　　ｉの場合と同様に蒸着した。　膜厚は
、Ｏ，１５ＩＬｍで実質的にＣｏ−Ｎｉよりなる。

このテープを９０℃、２０％ＲＨ雰囲気中で強制酸化し
、そのベースと反対側の表面を酸化物のみとした。

Ｈｃ＝９０００ｅ、　　ｌＮ中の平均酸素量は、Ｃｏと
Ｎｉに対する原子比で４５％であった。

強１ｔＬＩＩえ】 酸素による酸化工程を省略した以外は、強［と同様に、
上記基板を円筒状冷却 キャンの周面に沿わせて移動させ、真空度を５　、　Ｏ
Ｘ　１０”ＢＴｏｒｒとしたチャンバー内で。

）　　　　　１の場合と同様に蒸着した。　膜厚は、０
．１５層ｍで実質的にＣｏ−Ｎｉよりなるものであった
。

Ｈｃ＝９５００ｅ。

（２）トップコート層の形成 トップコート組成 ト・プコート　　１　　　　　　　　　　重量部２．６
ジ第３ブチルｐ−クレゾール　　　ｌペンタエリスリト
ールテトタアクリレート分子量３５２　　　１．５ ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　０．１ＭＥＫ
　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｚｏ。

ト　−　　プ　コ　−　ト　　　　　　　２ペンタエリ
スリトールテトタアクリレート分子量３５２　０．６ Ｎ−ビニルピロリドン　分子量１１１　０．３ミスチリ
ン酸　　　　　　　　　　　　　　０．３ミスチルアル
コールのメタクリレ−）　　１．０ＭＥＫ／トルエン（
１／１）　　　　　　　ｔｏ。

ト　−　　プ　コ　−　ト　　　　　′　３ジメチルア
ミノエチルメタクリレート　　ｌトリメチルプロパント
リアタリレート 分子量２９６　０．６ Ｎ−ビニルピロリドン　分子量１１１　０．３ステアリ
ン酸　　　　　　　　　　　　　０．１ＭＥＫ／）ルエ
ン（１／１）　　　　　　ｌｏ　。

トープコート　　　′　よび １、）ツブコート層１は強磁性薄膜上、トップコート組
成１をそのまま塗布し、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電
流６ｍＡ、３　Ｍｒａｄ、　Ｎ　２ガス中で照射を行っ
た。

膜厚が２０人であった。

２、トップコート層２は強磁性薄膜上、トップコート組
成２を塗布し、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流６ｍＡ
、３　Ｍｒａｄ、　Ｎ　２ガス中で照射を行った。

膜厚が４０人であった。

３、トップコート層３は強磁性薄膜上、トップコート組
成３を塗布し、加速電圧１５０　ＫｅＶ、電極電流１０
層Ａ、５　Ｍｒａｄ、　Ｎ　２ガス中で照射を行った。

膜厚が４０人であった。

４、トープコ−４重量部 ａ、ジメチルアミノエチルメタクリレート　ｌＮ−ビニ
ルピロリドン　分子量ｉｌｌ　　２ＭＥＫ／）ルエン（
１／１）　　　　　１００このものを強磁性ＩＪ模膜上
塗布、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流１０ｓ＋＾、　
５Ｍｒａｄ、　Ｎ２ガス中で照射を行った。

その上に ｂ、ステアリルメタクリレート０．３ フツ素オイル（テロメリゼーション法）０．２ ＭＥＫ　　　　　　　　　　　　　　１００を塗布、加
速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流４ｍＡ、２　Ｍｒａｄ、
　Ｎ　２ガス中で照射を行った。

１１口厚が５０人であった。

５、強磁性薄膜上のトップコート組成４のａの上に、４
ＸＬＯ−３Ｔｏｒｒの条件の雰囲気中でステアリルアル
コールを吸着させた。

膜厚は３０人であった。

６、強磁性薄膜上のトップコート組成４のａの上に、　
　４Ｘ　１０’Ｔｏｒｒの条件の雰囲気中でツー２素変
性オイルを吸着させた。

ＩＩ莫厚は３０人であった。

ト　−　　プ　コ　−　ト　　１ トップコート１の組成の中から放射線硬化型の分子量２
０００未満の化合物を除き、その除いた分子量だけ酸化
防止剤の分量を増やしたものである。

１′　１　　　ト　　−　　プ　コ　−　　ト　　２ト
ツプコート３の組成の中から放射線硬化型の分子量２０
００未満の化合物を除き、その除いた分子量だけ酸化防
止剤の分量を増やしたものである。

これら強磁性体薄膜およびトップコート膜を用いて表１
に示される媒体を作成した。

特性を下記に示す。

なお、用いた磁気ヘッドは、第１図に示されるものであ
り、ギャップ長０．２５１Ｌｍ、）ラック長２０μｍの
ものである。　この場合。

コア半休２１．２２はフェライト酸、ギャップ端面は、
スパッタリングにより形成した３ｉＬｍ厚のＣｏｏ、８
ＮｉＯ，１Ｚｒ０．１　（原子比）であり、ギャップ材
はガラスとした。

また、比較用として、フェライト製磁気ヘッドを用いた
。

なお、１０５／ａ２は１．６Ｘ１０６である。

なお、上記特性の測定方法について、以下に記す。

１、突起観察 ＳＥＭ（走査型電子顕微Ｍ）およびＴＥＭ（透過型電子
顕微鏡）を使用 ２、スチル特性 ５ＭＨｚで記録し、再生出力のスチル特性を測定する。

１０分以上をＯＫレベルとする。

３、磁性面側摩擦測定 磁気テープがシリンダー側に来るように巻きつけ、一方
の端面に２０ｇの負荷をかけ、シリンダーを９０°回転
したときの張力変化を読みとって摩擦測定をする。

４、出力 中心周波数５ＭＨｚで記録、再生した場合のＳ／Ｎ比（
相対値）を示す。

ＶＨＳ（７）ＶＴＲを改造し、５ＭＨｚまテｆｉ定でき
るようにする。

５、目づまり ＶＨＳのＶＴＲデツキを用い、５０回走行時の目づまり
を計測した。

実施例２ 磁性膜表面の突起高さおよび密度と特性の関係を次表に
示す。

なお、最短記録波長０．７１Ｌｍの信号を用いて実験を
行った。　磁気ヘッドは実施例１の非晶質ヘッドとフェ
ライトヘッドを用いた。

また、トップコートは、実施例１のトップコート暦２を
、磁性膜製造条件は実施例１の磁性層ｌを用いた。

表　　　　　　２ １　　　５０　　２ｘｌＯＪｌ　　＋０．３　　　少　
　　非晶質２　　　５０　　５ｘｔｏｓ　　−０，１少
　　　非晶質３　　１００　　４ＸｌＯａ　　−０，３
無　　　非晶質４　　１００　　５Ｘ１０９　−０．３
　　　無　　　非晶質５　　１ｏｏ　　　２Ｘ１０１０
　−０．５　　　無　　　非晶質６　　２００　　３Ｘ
ｌＯ’　　−０，５ＦＪ　　　　非ａｓ質７　　２００
　　４Ｘ１０ｇ　　−０，５無　　　非晶質８　　２０
０　　３Ｘ１０１０　−０．６　　　少　　　非晶質９
　　３００　　２ＸＩＯ♂　−０，４ｓ　　　非晶質１
０　　３００　　３Ｘ１０９　−０．４　　　無　　　
非晶質１１　　３００　　３Ｘ１０１’　　−０，６少
　　　非晶質１２　　　−一〇　　　　　大　　　非晶
質１３　１０００　　３Ｘ１０Ｂ　　−８，５大　　　
非晶質１４　　１ＱＱ　　　１ｘｌＱ７　−Ｑ、３　　
　大　　　非晶質＋５　　１００　　４ＸｌＯ’　　−
２，３大　　フェライト１８　　２００　　４Ｘ１０９
　−２．５　　　大　　フェライト１７　　３００　　
２Ｘ１０ａ　　−２，２大　　フェライト１＄　　１０
００　　３Ｘ１０’　　−１１，５大　　７ｘ９４トま
た、これらの磁性層表面は、オージェ分光分析の結果、
１００〜２００人の酸化物層で覆われていることが判明
した。

なお、上記実施例では、無機微粒子として、コロイダル
シリカを用いたが、他の物質、例えばアルミナゾル、チ
タンブラック、ジルコニアあるいは各種ヒドロシル等を
用いてもよいことは言うまでもない。

なお、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｒｕ−Ｃｒ−３ｔ　−Ｂ系非晶質を
用いて作成したヘッドを用いた場合も、同様の結果かえ
られた。

また、センダストを用いて作成したヘッドを用いた場合
は、上記の場合に比べて効果が少なかった。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に用いる磁気ヘッドの１例を示す正面
図である。 １　　・・・・磁気ヘッド。 ２１．２２・・・・コア半休。 ３１．３２・・・・金属強磁性体。 ４　　・・・・ギャップ

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. （１）可とう性の基板上にＣｏを主成分とする強磁性金
   属薄膜層を設け、さらにこの強磁性金属薄膜層表面に有
   機物トップコート層を設けた磁気記録媒体において、 有機物トップコート層が放射線硬化型の分子量２０００
   未満の化合物、酸化防止剤および潤滑剤を含有し、 かつ強磁性金属薄膜層が酸素を含んでおり、さらに、磁
   気ヘッドのギャップ長をａμｍとしたとき、媒体表面が
   １ｍｍ＾２当り平均１０＾５／ａ＾２以上の突起を有し
   、しかもこの突起が３０〜３００Åの高さを有すること
   を特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）可とう性基板が高分子からなり、この基板上に、
   径が３０〜３００Åの大きさを有する微粒子を配設し、
   その上に強磁性金属薄膜層および有機物トップコート層
   を設けてなる特許請求範囲第１項に記載の磁気記録媒体
   。
3. （３）強磁性金属薄膜が、表面に強磁性金属の酸化物の
   層を有する特許請求の範囲第１項または第２項に記載の
   磁気記録媒体。
4. （４）トップコート層の酸化防止剤が放射線硬化型のも
   のである特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれか
   に記載の磁気記録媒体。
5. （５）トップコート層の潤滑剤が放射線硬化型のものを
   含むものである特許請求の範囲第１項ないし第４項のい
   ずれかに記載の磁気記録媒体。
6. （６）トップコート層の厚みが１０〜１００Åである特
   許請求の範囲第１項ないし第５項のいずれかに記載の磁
   気記録媒体。
7. （７）ａが０．１〜０．５μｍである特許請求の範囲第
   １項ないし第６項のいずれかに記載の磁気記録媒体。
8. （８）可とう性基板上にＣｏを主成分とする強磁性金属
   薄膜層を設け、かつ強磁性金属薄膜層表面に有機物トッ
   プコート層を設けた磁気記録媒体を、磁気ヘッドを用い
   て記録再生を行う磁気記録方法において、 有機物トップコート層が、放射線硬化型の分子量２００
   ０未満の化合物、酸化防止剤およびび潤滑剤を含有し、 かつ、強磁性金属薄膜層が酸素を含み、 さらに、磁気ヘッドのギャップ長をａμｍとしたとき、
   媒体表面が１ｍｍ＾２当り平均１０＾５／ａ＾２個以上
   の突起を有し、しかも突起が３０〜３００Åの高さを有
   することを特徴とする磁気記録方法。
9. （９）磁気ヘッドの少なくともギャップ部端面が金属強
   磁性体で構成されている特許請求の範囲第８項に記載の
   磁気記録方法。
10. （１０）金属強磁性体がＣｏを主成分とする非晶質磁性
    合金である特許請求の範囲第９項に記載の磁気記録方法
    。
11. （１１）ａが０．１〜０．５μｍである特許請求の範囲
    第８項ないし第１０項のいずれかに記載の磁気記録方法
    。