JPS5961105A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS5961105A JPS5961105A JP57171675A JP17167582A JPS5961105A JP S5961105 A JPS5961105 A JP S5961105A JP 57171675 A JP57171675 A JP 57171675A JP 17167582 A JP17167582 A JP 17167582A JP S5961105 A JPS5961105 A JP S5961105A
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- Japan
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- oxygen
- magnetic
- evaporation
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- magnetic layer
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- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12931—Co-, Fe-, or Ni-base components, alternative to each other
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
熱蒸発させて得る蒸気流を支持体に対して斜め方向から
入射させて強磁性結晶柱を支持体に対して斜めに形成し
たいわゆる斜方蒸着型磁性層を有する磁気記録媒体の改
良に関する。
入射させて強磁性結晶柱を支持体に対して斜めに形成し
たいわゆる斜方蒸着型磁性層を有する磁気記録媒体の改
良に関する。
近年、情報量の増大と狡に、高密度磁気記録媒体の出現
が望まれており、特に理想的な高密度磁気記録媒体とし
て、金属薄膜型磁気記録媒体の開発が盛・んに進められ
ている。薄膜化技術としては、真空蒸着法、イオンブレ
ーテインク法、スパッタリング法、湿式メッキ法等の各
種方法が試みられて来た。しかし、高密度記録に適した
高保磁力媒体を安定に得るには、特公昭４ １ − １
９，３８９ 号に開示された、いわゆる斜方蒸着方法
がすぐれ念力法である。斜方蒸着方法とは、真空雰囲気
内で、Ｃｏ 、 Ｃｏ − Ｎｉ等の強磁性材料を加熱
蒸発せしめて得る蒸気流を高分子等から成る非磁性支持
体に対し、蒸気流の方向と支持体上に立てた法線とのな
す角が、通常４５度以上の角度でもって、支持体に入射
させて強磁性結晶柱全支持体に対して斜めに形成する真
空蒸着方法である。Ｃｏ 又はＣｏ−Ｎｉ拐料を用い
て１、ＱＯＯＯｅ ８度の高保磁力全行るには通常、最
小斜入射角度θｍｉｎ は約６０度以上ＶＣ−３−る
必要がある。
が望まれており、特に理想的な高密度磁気記録媒体とし
て、金属薄膜型磁気記録媒体の開発が盛・んに進められ
ている。薄膜化技術としては、真空蒸着法、イオンブレ
ーテインク法、スパッタリング法、湿式メッキ法等の各
種方法が試みられて来た。しかし、高密度記録に適した
高保磁力媒体を安定に得るには、特公昭４ １ − １
９，３８９ 号に開示された、いわゆる斜方蒸着方法
がすぐれ念力法である。斜方蒸着方法とは、真空雰囲気
内で、Ｃｏ 、 Ｃｏ − Ｎｉ等の強磁性材料を加熱
蒸発せしめて得る蒸気流を高分子等から成る非磁性支持
体に対し、蒸気流の方向と支持体上に立てた法線とのな
す角が、通常４５度以上の角度でもって、支持体に入射
させて強磁性結晶柱全支持体に対して斜めに形成する真
空蒸着方法である。Ｃｏ 又はＣｏ−Ｎｉ拐料を用い
て１、ＱＯＯＯｅ ８度の高保磁力全行るには通常、最
小斜入射角度θｍｉｎ は約６０度以上ＶＣ−３−る
必要がある。
しかるにθｍｔｎ’ｉ６０度以上の条件で蒸着した場合
、蒸気流をマスクでさまたげる割合が、＠、激に増加し
、支持体に何着する蒸気流の量が著しく減少し、蒸着効
率が極めて低（なったり、また蒸着スピードが低下１−
る等の欠点が生ずる。これらの欠点を改良１−る方法と
して酸素中蒸着法が開示されている。酸素９余（方蒸着
法とは、酸素雰囲気下で側方蒸着を行わせる方法であり
、不方法により保磁力を増大させることが可能となり、
従って、０冊１］を小さくすることが可能となる。即ち
、酸素中斜方蒸着法は、高保磁力化又は低入射角化の点
で丁ぐれた方法である。しかしながら、斜方蒸着法或い
は酸素中斜方蒸着法で作成したＣｏ又はＣｏ −Ｎｉ斜
蒸着膜は耐錆性がまだまだ不十分であり、実用化への大
ぎな障害となっていた。磁性層の耐錆性を改善する試み
として、Ｃｒｆ添加する方法が開示されている。
、蒸気流をマスクでさまたげる割合が、＠、激に増加し
、支持体に何着する蒸気流の量が著しく減少し、蒸着効
率が極めて低（なったり、また蒸着スピードが低下１−
る等の欠点が生ずる。これらの欠点を改良１−る方法と
して酸素中蒸着法が開示されている。酸素９余（方蒸着
法とは、酸素雰囲気下で側方蒸着を行わせる方法であり
、不方法により保磁力を増大させることが可能となり、
従って、０冊１］を小さくすることが可能となる。即ち
、酸素中斜方蒸着法は、高保磁力化又は低入射角化の点
で丁ぐれた方法である。しかしながら、斜方蒸着法或い
は酸素中斜方蒸着法で作成したＣｏ又はＣｏ −Ｎｉ斜
蒸着膜は耐錆性がまだまだ不十分であり、実用化への大
ぎな障害となっていた。磁性層の耐錆性を改善する試み
として、Ｃｒｆ添加する方法が開示されている。
しかし所望の耐錆性を得る為には多量のＣｒ添加−例え
ば１０原子パーセント（以下ａｔ％と記す）以上−が必
要となるため、磁束密度が急激に減少し電磁変換特性が
著しく低下する等の欠点を有している。
ば１０原子パーセント（以下ａｔ％と記す）以上−が必
要となるため、磁束密度が急激に減少し電磁変換特性が
著しく低下する等の欠点を有している。
本発明者等は耐錆性及び磁気特性に優れた磁気記録媒体
を開発丁べくＣｒ添加効果につぎ詳細に検削し、実験を
くり返した。その結果Ｃｒと酸素をある特定の範囲で組
み合せることにより磁気特性、耐錆性共に優れた磁気記
録媒体となり得ることを見い出し本発明に到った。
を開発丁べくＣｒ添加効果につぎ詳細に検削し、実験を
くり返した。その結果Ｃｒと酸素をある特定の範囲で組
み合せることにより磁気特性、耐錆性共に優れた磁気記
録媒体となり得ることを見い出し本発明に到った。
本発明の磁気記録媒体は非磁性高分子フィルム上に斜方
蒸着法により作成した少な（ともＣｏ 、 Ｎｉ 、
Ｃｒ 及び酸素を含む磁性層を有する磁気記録媒体に
おいて前記Ｃｒの含有率が２〜８ ａｔ％、前記酸素の
含有率が５〜２５ ａｔ％且つ前記Ｃｒに対する酸素の
原子数比が２〜１０であることを特徴とする。
蒸着法により作成した少な（ともＣｏ 、 Ｎｉ 、
Ｃｒ 及び酸素を含む磁性層を有する磁気記録媒体に
おいて前記Ｃｒの含有率が２〜８ ａｔ％、前記酸素の
含有率が５〜２５ ａｔ％且つ前記Ｃｒに対する酸素の
原子数比が２〜１０であることを特徴とする。
本発明におづ′る磁性層は耐錆性および磁気特性を損わ
ぬ範囲でＣｏ 、 Ｎｉ 、 Ｃｒ、酸素以外の他の原
素を微量含有していてもよい。
ぬ範囲でＣｏ 、 Ｎｉ 、 Ｃｒ、酸素以外の他の原
素を微量含有していてもよい。
また、不発明における磁性層としては単層、２層以上の
重層、あるいは中間層、下地層とを組合わせた多層構成
であっても良い。
重層、あるいは中間層、下地層とを組合わせた多層構成
であっても良い。
さらに、実用上の緒特性を改良するための所望の各種処
理を磁性層側又は非磁性高分子フィルム側に施してもよ
い。
理を磁性層側又は非磁性高分子フィルム側に施してもよ
い。
以下、本発明を図面及び実施例により説明する。
図面は、本発明の磁気記録媒体を製造するための好まし
い蒸着装置の概略断面図である。
い蒸着装置の概略断面図である。
図に示された蒸着装置は真空ボンダ９によりその内部が
真空にされる真空室１０、この真空室］０内部に設けら
れたテープ送出ロールらから送り出されたテープ状の非
磁性高分子フィルム８をテープ巻取ロール７まで案内、
支持するクーリングキャン５、加熱蒸発することにより
磁性層を非磁性高分子フィルム８に形成する蒸発材料が
チャージされる２つの蒸発源１，２、およびこの蒸発源
１，２とり面に立て几法線の方向と蒸発源からの蒸気流
の方向とのなづ一角度θの内、最小斜入射角θｍｉｎ
を規定する。さらに、真空室１０内へ酸素全供給する
酸素の吹き出し口３が真空室１０内部へ開口している。
真空にされる真空室１０、この真空室］０内部に設けら
れたテープ送出ロールらから送り出されたテープ状の非
磁性高分子フィルム８をテープ巻取ロール７まで案内、
支持するクーリングキャン５、加熱蒸発することにより
磁性層を非磁性高分子フィルム８に形成する蒸発材料が
チャージされる２つの蒸発源１，２、およびこの蒸発源
１，２とり面に立て几法線の方向と蒸発源からの蒸気流
の方向とのなづ一角度θの内、最小斜入射角θｍｉｎ
を規定する。さらに、真空室１０内へ酸素全供給する
酸素の吹き出し口３が真空室１０内部へ開口している。
また真空室ｌＯ中央刊近には搬送系と蒸着部の分離を兼
ねた防着板１１が設けられている。
ねた防着板１１が設けられている。
以上のように構成された装置において、真空室１０は、
真空ポンプ９によりその内部が真空にされる。蒸発源１
，２には蒸発材料例えば蒸発源１，２にそれぞれＣｒ
、 Ｃｏ −Ｎｉがチャージされる。チャージされた蒸
究利料は従来公知の加熱手段により加熱される。この加
熱手段としては例えば電子ビーム加熱を用いることがで
きる。加熱された蒸発材料は融解気化し、蒸気流となっ
て真を室１０内部上方・＼上列し非磁性高分子フィルム
８上に蒸着する。この際酸素の吹き出し口３からは酸素
が真空室１０内に導入され適度な酸素雰囲気中で蒸着が
行なわれるようになっており、形成される磁性層に所望
の含有率で酸素原子が含有せしめられる。テープ送出ロ
ール６がら送り出された非磁性高分子フィルム８はクー
リングキャン５に案内される除に斜入射角度θが高角度
（はぼ９０度）から低角度へと変化しながらいわゆる斜
方蒸着が行なわれ最小斜入射角ｏｒｎｉｎ 全づ−ぎ
ると蒸着を終了し、テープ巻取ロール７に巻き取られる
。
真空ポンプ９によりその内部が真空にされる。蒸発源１
，２には蒸発材料例えば蒸発源１，２にそれぞれＣｒ
、 Ｃｏ −Ｎｉがチャージされる。チャージされた蒸
究利料は従来公知の加熱手段により加熱される。この加
熱手段としては例えば電子ビーム加熱を用いることがで
きる。加熱された蒸発材料は融解気化し、蒸気流となっ
て真を室１０内部上方・＼上列し非磁性高分子フィルム
８上に蒸着する。この際酸素の吹き出し口３からは酸素
が真空室１０内に導入され適度な酸素雰囲気中で蒸着が
行なわれるようになっており、形成される磁性層に所望
の含有率で酸素原子が含有せしめられる。テープ送出ロ
ール６がら送り出された非磁性高分子フィルム８はクー
リングキャン５に案内される除に斜入射角度θが高角度
（はぼ９０度）から低角度へと変化しながらいわゆる斜
方蒸着が行なわれ最小斜入射角ｏｒｎｉｎ 全づ−ぎ
ると蒸着を終了し、テープ巻取ロール７に巻き取られる
。
なお、上述の蒸着装置においては２つの独立した蒸発源
を有する２元日時蒸着方法が採用されたが、不発明の磁
気記録媒体を得るためには、この方法に限定される必要
はな（要するに所定の組成の磁性層が形成されればよ（
、例えば一つの蒸発源に所定の組成のＣｏ −Ｎ１−Ｃ
ｒ合金イ２料を一度にチャージして蒸着を行なってもよ
いことは言うまでもない。
を有する２元日時蒸着方法が採用されたが、不発明の磁
気記録媒体を得るためには、この方法に限定される必要
はな（要するに所定の組成の磁性層が形成されればよ（
、例えば一つの蒸発源に所定の組成のＣｏ −Ｎ１−Ｃ
ｒ合金イ２料を一度にチャージして蒸着を行なってもよ
いことは言うまでもない。
次に実施例により本発明を説明する。
非磁性高分子フィルムとして１０μｍ厚のポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）、蒸発材料としてＣｏ ９
ｏＮｆ １０ 及びＣｒまたはＣｏ ａ ｏＮｉ ２
０及びＣｒｆ用いθｒｎｉｎ を４２°に設定して加
熱手段として１．６ｋｗの電子ビームを用い図面に示さ
れる蒸着装置により斜方蒸着を行った。非磁性高分子フ
ィルムの搬送速度は１０ ｍ ／ｍｉｎ。
テレフタレート（ＰＥＴ）、蒸発材料としてＣｏ ９
ｏＮｆ １０ 及びＣｒまたはＣｏ ａ ｏＮｉ ２
０及びＣｒｆ用いθｒｎｉｎ を４２°に設定して加
熱手段として１．６ｋｗの電子ビームを用い図面に示さ
れる蒸着装置により斜方蒸着を行った。非磁性高分子フ
ィルムの搬送速度は１０ ｍ ／ｍｉｎ。
真空度は１０’ｔｏｒｒ台であった。Ｃｒの加熱パワー
と酸素の吹き出し量を変えることにより磁性層中のＣｒ
と酸素の含有率が異なる磁性層を作成した。作成された
磁性層の組成はオーシュ分析で求めた。また、膜厚は触
釧型膜厚計で測定した。本実施例により得られた磁性層
の膜厚はほぼ］、５００Ａであった。耐錆性は温度６０
’Ｃ！、相対湿度９０％の恒温１亘湿雰１用気中で２０
０日間放置試験を行（・、光学ケンビ鏡で磁性膜の表面
を観察しサビ（局所０勺腐蝕）の有無で判定を下した。
と酸素の吹き出し量を変えることにより磁性層中のＣｒ
と酸素の含有率が異なる磁性層を作成した。作成された
磁性層の組成はオーシュ分析で求めた。また、膜厚は触
釧型膜厚計で測定した。本実施例により得られた磁性層
の膜厚はほぼ］、５００Ａであった。耐錆性は温度６０
’Ｃ！、相対湿度９０％の恒温１亘湿雰１用気中で２０
０日間放置試験を行（・、光学ケンビ鏡で磁性膜の表面
を観察しサビ（局所０勺腐蝕）の有無で判定を下した。
丙生出力は磁性膜の磁束密度に依存することが知られて
おり不発明者等の研究で（ま良好な記録再生特性を有す
る為には、斜方蒸着法による磁気記録媒体は４０００Ｇ
ａｕｓｓ以−Ｌの磁束密度が必要であるとの結果が得ら
′ｉｔて（・る。
おり不発明者等の研究で（ま良好な記録再生特性を有す
る為には、斜方蒸着法による磁気記録媒体は４０００Ｇ
ａｕｓｓ以−Ｌの磁束密度が必要であるとの結果が得ら
′ｉｔて（・る。
従って、不実施例においては磁束密度を磁束と膜厚から
求め、その値か４０００Ｇａｕｓｓ以」二あるかどうか
で判定を下した。磁束のＩ１１定（ま試別振動型磁化測
定装置を用いた。
求め、その値か４０００Ｇａｕｓｓ以」二あるかどうか
で判定を下した。磁束のＩ１１定（ま試別振動型磁化測
定装置を用いた。
結果を下記表１及び表２に示づ−。
表１はＣＯとＮｉの原子数の比が９０：１０の場合であ
り、表２はＣＯとＮ１の原子数の比力玉８０：２０の場
合である。
り、表２はＣＯとＮ１の原子数の比力玉８０：２０の場
合である。
×はサビの発生が認めｈ展ら
磁束密度の判定ば ○は４０００Ｇａｕｓｓ以上×は４
０００Ｇａｕｓｓ以下 表 ２ サビ及び磁束密度の判定は表１と同じ 上記結果から耐錆性す磁気特性が共に優れた磁気記録媒
体はＣｒの含有率が２〜８ ａｔ％、酸素の含有率が５
〜２５ ａｔ％であり、かつＣｒに対する酸素の原子数
比が２〜１０である少なくともＣｏ 、 Ｎｉ 、 Ｃ
ｒ 及び酸素からなる磁性層を有する磁気記録媒体で
あることがわかる。しかしながらＣｒと酸素がなぜ耐錆
性と磁気特性へこのような影響を与えるのかの明確な理
由は現時点では明らかではない。なお、上記実施例にお
いてはＣｏとＮ１の原子数比が８０：２０及び９０：１
０のものについて記したがＣＯとＮｉの原子数比が７５
：２５及び９５：５の場合においても同様な結果が得ら
れた。
０００Ｇａｕｓｓ以下 表 ２ サビ及び磁束密度の判定は表１と同じ 上記結果から耐錆性す磁気特性が共に優れた磁気記録媒
体はＣｒの含有率が２〜８ ａｔ％、酸素の含有率が５
〜２５ ａｔ％であり、かつＣｒに対する酸素の原子数
比が２〜１０である少なくともＣｏ 、 Ｎｉ 、 Ｃ
ｒ 及び酸素からなる磁性層を有する磁気記録媒体で
あることがわかる。しかしながらＣｒと酸素がなぜ耐錆
性と磁気特性へこのような影響を与えるのかの明確な理
由は現時点では明らかではない。なお、上記実施例にお
いてはＣｏとＮ１の原子数比が８０：２０及び９０：１
０のものについて記したがＣＯとＮｉの原子数比が７５
：２５及び９５：５の場合においても同様な結果が得ら
れた。
以上、詳細に述べたように本発明の磁気記録媒体は耐錆
性及び磁気特性が共に優れ、実用上の利用価値は極めて
高い。
性及び磁気特性が共に優れ、実用上の利用価値は極めて
高い。
図面は、本発明の磁気記録媒体を製造するための好まし
い蒸着装置の概略断面図である。 １．２・・・・・・蒸 発 源 ３・・・・・・酸素
吹き出し口４・・・・・ ・・マ ス り ５
・・・・・クーリングキャン６ ・・・・・テープ送出
ロール ７・・・テープ巻取ロール８・・・・・非磁性
高分子フィルム
い蒸着装置の概略断面図である。 １．２・・・・・・蒸 発 源 ３・・・・・・酸素
吹き出し口４・・・・・ ・・マ ス り ５
・・・・・クーリングキャン６ ・・・・・テープ送出
ロール ７・・・テープ巻取ロール８・・・・・非磁性
高分子フィルム
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ン 非磁性高分子フィルム上に胴方蒸着法により作成
した少なくともＣｏ 、Ｎｉ 、Ｃｒ および酸素か
らなる磁性層を有する磁気記録媒体冗おいて、 前記Ｃｒの含有率が２〜８原子パーセント、前記酸素の
含有率が５〜２５原子パーセント、かつ前記Ｃｒに対す
る前記酸素の原子数比が２〜１０であることを！特徴と
する磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57171675A JPS5961105A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 磁気記録媒体 |
| US06/537,620 US4511635A (en) | 1982-09-30 | 1983-09-30 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57171675A JPS5961105A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5961105A true JPS5961105A (ja) | 1984-04-07 |
| JPH0559569B2 JPH0559569B2 (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=15927607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57171675A Granted JPS5961105A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4511635A (ja) |
| JP (1) | JPS5961105A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6166218A (ja) * | 1984-09-10 | 1986-04-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| US5316631A (en) * | 1989-02-16 | 1994-05-31 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Method for fabricating a magnetic recording medium |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59119531A (ja) * | 1982-12-25 | 1984-07-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| DE3573672D1 (en) * | 1984-01-26 | 1989-11-16 | Hitachi Maxell | Magnetic recording medium and production thereof |
| JPH0766507B2 (ja) * | 1984-02-16 | 1995-07-19 | コニカ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPS6111921A (ja) * | 1984-06-27 | 1986-01-20 | Tdk Corp | 磁気記録媒体および磁気記録方法 |
| JPS6139921A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-26 | Tdk Corp | 磁気記録媒体および磁気記録方法 |
| JPS6142723A (ja) * | 1984-08-02 | 1986-03-01 | Tdk Corp | 磁気記録媒体および磁気記録方法 |
| JPS6142724A (ja) * | 1984-08-03 | 1986-03-01 | Tdk Corp | 磁気記録媒体および磁気記録方法 |
| KR890004257B1 (ko) * | 1984-10-29 | 1989-10-28 | 니뽕 빅터 가부시끼가이샤 | 자기 기록매체 및 그 제조법 |
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