JPS5974606A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPS5974606A JPS5974606A JP57185218A JP18521882A JPS5974606A JP S5974606 A JPS5974606 A JP S5974606A JP 57185218 A JP57185218 A JP 57185218A JP 18521882 A JP18521882 A JP 18521882A JP S5974606 A JPS5974606 A JP S5974606A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/658—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing oxygen, e.g. molecular oxygen or magnetic oxide
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
不発明は真空雰囲気内で、強磁性材料を加熱蒸発させて
得る蒸気流を支持体に対して斜めの方向から入射させて
強磁性結晶柱を支持体に対して斜めに形成したいわゆる
斜方蒸着型磁性層を有する磁気記録媒体の改良に関する
。
得る蒸気流を支持体に対して斜めの方向から入射させて
強磁性結晶柱を支持体に対して斜めに形成したいわゆる
斜方蒸着型磁性層を有する磁気記録媒体の改良に関する
。
近年、情報量の増大とともに“、高密度磁気記録媒体の
出現が望まれており、特に、理想的な高密度磁気記録媒
体として、金属薄膜型磁気記録媒体の開発か盛んに進め
られている。
出現が望まれており、特に、理想的な高密度磁気記録媒
体として、金属薄膜型磁気記録媒体の開発か盛んに進め
られている。
薄膜化技術としては、真空蒸着法、イオンプレーテング
法、スパッタリング法、湿式メッキ等の各棟方法が挙げ
られるが、高密度記録に適した高保磁力媒体を安定に得
るには、特公昭41−L9,389号に開示された、い
わゆる斜方蒸着方法がすぐれた方法である。
法、スパッタリング法、湿式メッキ等の各棟方法が挙げ
られるが、高密度記録に適した高保磁力媒体を安定に得
るには、特公昭41−L9,389号に開示された、い
わゆる斜方蒸着方法がすぐれた方法である。
斜方蒸着方法とは、真空雰囲気内で、C01Co−Ni
等の強磁性材料を加熱蒸発せしめて得る蒸気流を、高分
子等から成る非磁性支持体に対して蒸気流の方向と支持
体上に立てた法線とのなす角度が、通常401f以上の
角度で、支持体に入射せしめて、強磁性結晶柱を支持体
に対して斜めに形成する真空蒸着方法である。この斜方
蒸着方法の一部として、単なる熱蒸着以外に蒸気流の一
部を強制的にイオン化させて支持体に対して剥め入射せ
しめる、いわゆるイオンブレーティング型の斜方蒸着方
法か知られている。このような斜方蒸着方法により形成
された磁性層は斜方蒸着型磁性層と呼はれる。
等の強磁性材料を加熱蒸発せしめて得る蒸気流を、高分
子等から成る非磁性支持体に対して蒸気流の方向と支持
体上に立てた法線とのなす角度が、通常401f以上の
角度で、支持体に入射せしめて、強磁性結晶柱を支持体
に対して斜めに形成する真空蒸着方法である。この斜方
蒸着方法の一部として、単なる熱蒸着以外に蒸気流の一
部を強制的にイオン化させて支持体に対して剥め入射せ
しめる、いわゆるイオンブレーティング型の斜方蒸着方
法か知られている。このような斜方蒸着方法により形成
された磁性層は斜方蒸着型磁性層と呼はれる。
強磁性材料としては、通常、COl又はC0−Ni合金
等のCOを主成分とする合金材料或いは、これに酸素を
添加した合金組成が用いられる。しかし、これらの斜方
蒸着型磁性層は経時安定性がまだまだ不十分であり、実
用化への大きな障害となっていた。本発明者等は、C0
1Co−Ni、Co−0、又はCo −Ni −0等に
微量のCr等を添加したり、或いは更に、斜方蒸着型磁
性層の平均密度をある値以上とする等により、経時安定
性及び電磁変換特性にすぐれた斜方蒸着型磁性層をMす
る磁気記録媒体を提案した。
等のCOを主成分とする合金材料或いは、これに酸素を
添加した合金組成が用いられる。しかし、これらの斜方
蒸着型磁性層は経時安定性がまだまだ不十分であり、実
用化への大きな障害となっていた。本発明者等は、C0
1Co−Ni、Co−0、又はCo −Ni −0等に
微量のCr等を添加したり、或いは更に、斜方蒸着型磁
性層の平均密度をある値以上とする等により、経時安定
性及び電磁変換特性にすぐれた斜方蒸着型磁性層をMす
る磁気記録媒体を提案した。
しかしながら、これらの斜方蒸着型磁性層の組成及び膜
構造においては、磁気ヘッドとのゝこすり”に対する磁
性層自体の耐摩耗性が必ずしも十分でなく、改良が望ま
れていた。
構造においては、磁気ヘッドとのゝこすり”に対する磁
性層自体の耐摩耗性が必ずしも十分でなく、改良が望ま
れていた。
本発明は、このような果状に鑑みなされたものであり、
経時安定性にすぐれ、且つ耐摩耗性にすぐれた斜方蒸着
型磁性層を有する磁気記録媒体を提供することを主たる
目的とする。
経時安定性にすぐれ、且つ耐摩耗性にすぐれた斜方蒸着
型磁性層を有する磁気記録媒体を提供することを主たる
目的とする。
本発明者等は、上記の欠点を改良すべ(、鋭意研死を重
ねた結果、磁性層組成として、Co −Cr −0、又
はCo −Ni −Cr −OK微量のMo、Ta 、
’Wの内の少なくとも1種の元素を添加することによ
り、耐摩耗性にすぐれた磁気記録媒体が得られることを
見出し、本発明に到」つたものである。
ねた結果、磁性層組成として、Co −Cr −0、又
はCo −Ni −Cr −OK微量のMo、Ta 、
’Wの内の少なくとも1種の元素を添加することによ
り、耐摩耗性にすぐれた磁気記録媒体が得られることを
見出し、本発明に到」つたものである。
本発明の磁気記録媒体は支持体上にCo、Cr、O又は
C01Ni、Cr、0を主成分としMo 。
C01Ni、Cr、0を主成分としMo 。
Era 、 Wの内の少なくとも1種の元素を0,1〜
3原子数係含有する斜方蒸着型磁性層を有することを特
徴とする。
3原子数係含有する斜方蒸着型磁性層を有することを特
徴とする。
本発明における、支持体としては、ポリエチレンテレフ
タレート(以下簡単のためPETと記す)、ポリイミド
等の高分子材料、更には、Al、Cu等の非磁性金属材
料、又はガラス、セラミクスのような無機質の支持体も
使用出来る。これらの支持体の形状、厚さ等は用途に応
じて任意に選定される。
タレート(以下簡単のためPETと記す)、ポリイミド
等の高分子材料、更には、Al、Cu等の非磁性金属材
料、又はガラス、セラミクスのような無機質の支持体も
使用出来る。これらの支持体の形状、厚さ等は用途に応
じて任意に選定される。
本発明における磁性層組成は、C01Cr、0、又は、
Co、 Ni 、 Cr 、 Oを主成分とするCo糸
金合金組成Mo、Ta、Wの内の少なくとも、1種の元
素を01〜5原子数パーセント(以下簡単のためat%
と記す)含有するものであるが、史に、COに対して、
0〜25 at %のNiを含む合金組成に、適当量の
Cr、0及びMO1’ra、wの内少なくとも1棟の元
素を01〜3 at %含む組成が好ましい。
Co、 Ni 、 Cr 、 Oを主成分とするCo糸
金合金組成Mo、Ta、Wの内の少なくとも、1種の元
素を01〜5原子数パーセント(以下簡単のためat%
と記す)含有するものであるが、史に、COに対して、
0〜25 at %のNiを含む合金組成に、適当量の
Cr、0及びMO1’ra、wの内少なくとも1棟の元
素を01〜3 at %含む組成が好ましい。
Cr添加量としては、磁性層の経時安定性と磁気特性(
特に保磁力と磁束密度)を考慮して決められる。Cr添
加量が多いと経時安定性は向上するが、磁束密度が減少
し、従って、鴇生出力が低下する。本発明においては、
Cr添加量としては、平均して1〜20at%が好まし
く、特には2〜8at%が好ましい。
特に保磁力と磁束密度)を考慮して決められる。Cr添
加量が多いと経時安定性は向上するが、磁束密度が減少
し、従って、鴇生出力が低下する。本発明においては、
Cr添加量としては、平均して1〜20at%が好まし
く、特には2〜8at%が好ましい。
酸素添加量としては、これも磁性層の磁気特性と経時安
定性を考慮して決められるが、通常平均して3〜3 Q
at%が好ましく、特に10〜20at係が好ましい
。磁性層中の酸素の分布は必ずしも均一でなくとも良し
・。又、ミクロに見ても磁性層の柱状組織の中に一様に
含まれていなくとも良く、例えば、柱状組織の界面、或
いは表面に多く存在していてもよい。酸素を磁性層中に
添加せしめるためには、必ずしも酸素が含有された蒸着
材料を用いなくともよく、蒸着中、或いは、蒸着後にイ
ガ性層を酸素算囲気等に曝すことによって、磁性層中に
酸素を混入させれば良い。
定性を考慮して決められるが、通常平均して3〜3 Q
at%が好ましく、特に10〜20at係が好ましい
。磁性層中の酸素の分布は必ずしも均一でなくとも良し
・。又、ミクロに見ても磁性層の柱状組織の中に一様に
含まれていなくとも良く、例えば、柱状組織の界面、或
いは表面に多く存在していてもよい。酸素を磁性層中に
添加せしめるためには、必ずしも酸素が含有された蒸着
材料を用いなくともよく、蒸着中、或いは、蒸着後にイ
ガ性層を酸素算囲気等に曝すことによって、磁性層中に
酸素を混入させれば良い。
MOlTa、W等の添加量としては、0.1〜aat係
が望ましい。1V10、Ta、W等の添加効果の原因は
、まだ十分解明されてはいないが、例えば、斜方蒸着型
磁性層中に形成される柱状組織そのものの硬度を増大す
る等の効果があるのではないかと推定しているが、まだ
定かではない。
が望ましい。1V10、Ta、W等の添加効果の原因は
、まだ十分解明されてはいないが、例えば、斜方蒸着型
磁性層中に形成される柱状組織そのものの硬度を増大す
る等の効果があるのではないかと推定しているが、まだ
定かではない。
また本発明の合金組成の特徴を損わぬ範凹で、微量の添
加物を菩んでもよい。
加物を菩んでもよい。
本発明においては、斜方蒸着型磁性層の膜厚は、通常5
0 ’0〜5000A程度が望ましい。
0 ’0〜5000A程度が望ましい。
また本発明における磁性層としては、単層でも、或いは
2層以上の重層、或いは、中間層、下地層と組合せた多
層構成であっても良い。
2層以上の重層、或いは、中間層、下地層と組合せた多
層構成であっても良い。
まだ実用上の緒特性を改良するための所望の各種表面処
理を磁性層側又は支持体側に施しても良い。
理を磁性層側又は支持体側に施しても良い。
以下、本発明を図面及び実施例により詳細に説明する。
図面は、本発明の磁気記録媒体を製造するための好まし
い蒸着装置の概略断面図である。
い蒸着装置の概略断面図である。
図に示された蒸着装置は真空排気系9によりその内部が
排気され所望の真紫度に保たれる真空槽8、この真伊槽
8内部に設けられた送出ロール6から送り出されたテー
プ状の支持体5を巻取ロール7まで案内、支持する円筒
状冷却キャン1、加熱蒸発することにより磁性層を支持
体5上に形成する蒸発材料がチャージされる蒸発源2,
2(および斜方蒸着を行なう際の蒸気流の最小斜入射角
θminを規定するマスク3からなっている。
排気され所望の真紫度に保たれる真空槽8、この真伊槽
8内部に設けられた送出ロール6から送り出されたテー
プ状の支持体5を巻取ロール7まで案内、支持する円筒
状冷却キャン1、加熱蒸発することにより磁性層を支持
体5上に形成する蒸発材料がチャージされる蒸発源2,
2(および斜方蒸着を行なう際の蒸気流の最小斜入射角
θminを規定するマスク3からなっている。
以上のように構成された蒸着装置において、本発明の磁
気記録媒体は例えば次のようにして製造される。
気記録媒体は例えば次のようにして製造される。
真孕槽8は、真空排気系9によりその内部が適度が真空
反に保たれる蒸発源2には蒸発材料Co −Ni−Cr
合金あるいはCo −Cr合金がチャージされ、蒸発源
2′にはMOlTa、Wの内の少なくとも1種の元素が
チャージされる。蒸発源2,21にチャージされた蒸発
材料は従来公知の加熱手段により加熱され、2元同時蒸
着が行なわれる。上記加熱手段としては例えば、電子ビ
ーム加熱、誘導加熱、抵抗加熱等を用いることができる
。加熱された蒸発材料は融)Ilif気化し、蒸気流と
なって真空槽8内部上方へ」1昇する。送出ロール6か
ら送り出された支持体5には円筒状冷却キャン1に案内
される除に斜入射角度θが高角度(はぼ90#)から低
角度へと変化しなが゛ら、蒸発材料の蒸気流が蒸着され
、斜方蒸着が行なわれ、最小斜入射角θminをすぎる
と蒸着が終了し、巻取ロール7に巻き取られる。このよ
うにして支持体5上に設けられた磁性層には酸素雰囲気
に曝され、磁性層中に酸素が取り込まれる。
反に保たれる蒸発源2には蒸発材料Co −Ni−Cr
合金あるいはCo −Cr合金がチャージされ、蒸発源
2′にはMOlTa、Wの内の少なくとも1種の元素が
チャージされる。蒸発源2,21にチャージされた蒸発
材料は従来公知の加熱手段により加熱され、2元同時蒸
着が行なわれる。上記加熱手段としては例えば、電子ビ
ーム加熱、誘導加熱、抵抗加熱等を用いることができる
。加熱された蒸発材料は融)Ilif気化し、蒸気流と
なって真空槽8内部上方へ」1昇する。送出ロール6か
ら送り出された支持体5には円筒状冷却キャン1に案内
される除に斜入射角度θが高角度(はぼ90#)から低
角度へと変化しなが゛ら、蒸発材料の蒸気流が蒸着され
、斜方蒸着が行なわれ、最小斜入射角θminをすぎる
と蒸着が終了し、巻取ロール7に巻き取られる。このよ
うにして支持体5上に設けられた磁性層には酸素雰囲気
に曝され、磁性層中に酸素が取り込まれる。
なお、本発明の磁気記録媒体を製造するためには必ずし
も上述の装置及び方法に限定されるものではなく、本発
明の磁気記録媒体を製造しうるものであれば、いかなる
装置及び方法をも使用し得ることは言うまでもない。
も上述の装置及び方法に限定されるものではなく、本発
明の磁気記録媒体を製造しうるものであれば、いかなる
装置及び方法をも使用し得ることは言うまでもない。
次に、本発明を実施例により説明する。
〔実施例1〕
図に示される斜方蒸着装置を用(・、真空槽内を5 X
10−5Torr以下の圧力に真空排気し蒸発源2に
チャージされたCo −Ni −Cr合金及び蒸発源2
IにチャージされたMoを電子ビーム加熱方式によりそ
れぞれ溶融、蒸発させて、23μm厚のPE’[’フィ
ルレムから成る支持上に、2元同時蒸着法により斜方蒸
着型磁性層を形成した。斜入射角度としては45°近傍
に選んだ。膜厚が約150OAとなるように支持体の搬
送速度と蒸発源への加熱)くワーを市I]御した。
10−5Torr以下の圧力に真空排気し蒸発源2に
チャージされたCo −Ni −Cr合金及び蒸発源2
IにチャージされたMoを電子ビーム加熱方式によりそ
れぞれ溶融、蒸発させて、23μm厚のPE’[’フィ
ルレムから成る支持上に、2元同時蒸着法により斜方蒸
着型磁性層を形成した。斜入射角度としては45°近傍
に選んだ。膜厚が約150OAとなるように支持体の搬
送速度と蒸発源への加熱)くワーを市I]御した。
Co 、!I Niの組成については、両者の蒸気圧が
ほぼ等しいため、はぼ一定の組成比で支持体に付着させ
ることが出来た。CrとMoについては、Co及びNi
との蒸気圧の差が太き(・ため、所望の組成の磁性層が
得られるよう蒸発源2への加熱パワーを制御した。又、
MOについては、蒸発源21への加熱)くワーを佑IJ
御することによって所望の添加量を得た。
ほぼ等しいため、はぼ一定の組成比で支持体に付着させ
ることが出来た。CrとMoについては、Co及びNi
との蒸気圧の差が太き(・ため、所望の組成の磁性層が
得られるよう蒸発源2への加熱パワーを制御した。又、
MOについては、蒸発源21への加熱)くワーを佑IJ
御することによって所望の添加量を得た。
酸累については、蒸庸終了後、酸素芥囲気に曝ずことに
より、膜中にとり込ませた。得られた蒸着膜は、オージ
ェ電子分析及びX線マイクロアナライザーにより組成分
析を行なった。本実施例におけるCo 、’ Ni 、
C+“、0の組成は原子数φで71:8ニア:14で
あった。向」摩耗性の評価法としては、得られた蒸着膜
を1/2インチ幅のテープ状にスリットし、VI−1s
方式小型ビデオカセットに組込み、録画後、スチルモー
ドで再生した場合の、磁気ヘッドとのゝこずり ”によ
り、磁性層が破壊されることによる再生画面の消失まで
の時間の長短で評価した。又、再生出力の測定も実施例 得られた各種組成のテープ状サンプルの中から、静磁気
特性と、経時安定性の良いものを選んで、Mo添加量と
耐摩耗性、及び再生出力との関係を測定し結果を表1に
示した。
より、膜中にとり込ませた。得られた蒸着膜は、オージ
ェ電子分析及びX線マイクロアナライザーにより組成分
析を行なった。本実施例におけるCo 、’ Ni 、
C+“、0の組成は原子数φで71:8ニア:14で
あった。向」摩耗性の評価法としては、得られた蒸着膜
を1/2インチ幅のテープ状にスリットし、VI−1s
方式小型ビデオカセットに組込み、録画後、スチルモー
ドで再生した場合の、磁気ヘッドとのゝこずり ”によ
り、磁性層が破壊されることによる再生画面の消失まで
の時間の長短で評価した。又、再生出力の測定も実施例 得られた各種組成のテープ状サンプルの中から、静磁気
特性と、経時安定性の良いものを選んで、Mo添加量と
耐摩耗性、及び再生出力との関係を測定し結果を表1に
示した。
表 1
(CO71−Nia−Cr7−014 ) K対するM
o添加効果表1から明らかなように、Mo添加により耐
摩耗性が向上するか、一方添加量を3.3at%以上と
すると、再生出力が低下するため、0.09〜3.3a
t%の範囲が最適組成であった。
o添加効果表1から明らかなように、Mo添加により耐
摩耗性が向上するか、一方添加量を3.3at%以上と
すると、再生出力が低下するため、0.09〜3.3a
t%の範囲が最適組成であった。
また表1に記載したCo −1’Ji −Cr −0組
成以外でもMo添加によりほぼ同様の耐摩耗性の改善効
果が得られた。
成以外でもMo添加によりほぼ同様の耐摩耗性の改善効
果が得られた。
〔実施例2〕
実施例1とほぼ同様の方法でCo−Cr合金とWを用い
て、Co −Cr −0−Wより成る磁性層を作成した
。本実施例におけるC01Cr、Oの原子数条は83:
5:12であった。各種合金組成サンプルの中で、静磁
気特性と経時安定性の良いサンプルを選んでW添加量と
耐摩耗性、及び再生出力の関係を調べた。結果を表2に
示した。
て、Co −Cr −0−Wより成る磁性層を作成した
。本実施例におけるC01Cr、Oの原子数条は83:
5:12であった。各種合金組成サンプルの中で、静磁
気特性と経時安定性の良いサンプルを選んでW添加量と
耐摩耗性、及び再生出力の関係を調べた。結果を表2に
示した。
表 2
実施例1と同様に、はぼ0.1〜3.1at%のW添加
が最適であった。また衣2に記載したCo−Cr −0
組成以外でもW添加によりほぼ同様の耐摩耗性の改善か
えられた。
が最適であった。また衣2に記載したCo−Cr −0
組成以外でもW添加によりほぼ同様の耐摩耗性の改善か
えられた。
〔実施例3〕
実施例1と同様の方法で、Co −Ni−Cr合金とT
aを用いて、Co −Ni −Cr −0−Taより成
る磁性層を作成した。本実施例におけるCo、 Ni
、 Cr 、 Oの組成は原子数チで69:16.5:
4.5:10であった。上記実施例と同様に耐摩耗性、
及び再生出力の関係を調べた。結果を表3に示す。
aを用いて、Co −Ni −Cr −0−Taより成
る磁性層を作成した。本実施例におけるCo、 Ni
、 Cr 、 Oの組成は原子数チで69:16.5:
4.5:10であった。上記実施例と同様に耐摩耗性、
及び再生出力の関係を調べた。結果を表3に示す。
辰 3
(C069−Niz65−Cr4.5−Oto )に対
するTa添加効果実施例1,2と同様はぼ0.1〜3.
lat係のTa添加が最適であった。抜だ表3に記載し
た以外のCo −Ni −Cr −0組成以外でも、+
11a添加によりほぼ同様の耐摩耗性の改善かえられた
。
するTa添加効果実施例1,2と同様はぼ0.1〜3.
lat係のTa添加が最適であった。抜だ表3に記載し
た以外のCo −Ni −Cr −0組成以外でも、+
11a添加によりほぼ同様の耐摩耗性の改善かえられた
。
〔実施例4〕
実施例1と同様の方法で、Co −Ni −Cr合金と
Mo−’W金合金用いてCo −1’Ji −Cr −
0−Mo−’Wよりなる磁性層を作成した。本実施例に
おけるCo 、 Ni 、Cr、0の原子数φテア5:
10:4:11であった。上記実施例と同様に耐摩耗性
、及び再生出力の関係を調べた。
Mo−’W金合金用いてCo −1’Ji −Cr −
0−Mo−’Wよりなる磁性層を作成した。本実施例に
おけるCo 、 Ni 、Cr、0の原子数φテア5:
10:4:11であった。上記実施例と同様に耐摩耗性
、及び再生出力の関係を調べた。
結果を表4に示す。
表 4
(CO75−Ni1o−Cr4−Os1)に対するMo
及びW添加効果1νIOとWの今日1添加量がほぼ01
1〜3.2 at飴の範囲ですぐれた″効果が得られた
。また、表4に記載した以外のCo −Ni −Cr
−0組成以外でもMo及びW添加によりほぼ同様の耐摩
耗性の改善が得られた。
及びW添加効果1νIOとWの今日1添加量がほぼ01
1〜3.2 at飴の範囲ですぐれた″効果が得られた
。また、表4に記載した以外のCo −Ni −Cr
−0組成以外でもMo及びW添加によりほぼ同様の耐摩
耗性の改善が得られた。
以上の実施例から明らかな如く、Co −Cr−Ol又
はCo −Ni −Cr −0より成る磁性層に01〜
3at%のMo 、 W、 Taの内少なくとも1種の
元累を添加することにより、耐摩耗性が犬ぎく改善され
ることが明らかであり、本発明は、蒸着テープの実用化
に大きく貢献するものである。
はCo −Ni −Cr −0より成る磁性層に01〜
3at%のMo 、 W、 Taの内少なくとも1種の
元累を添加することにより、耐摩耗性が犬ぎく改善され
ることが明らかであり、本発明は、蒸着テープの実用化
に大きく貢献するものである。
図面は、本発明の磁気記録媒体を得るために使用する製
造装置の1実施例の概略断面図である。 1・・・円筒状冷却キャン 2,21・・・蒸 発
源3・・・マ ス り 4・・・・・・
・・・蒸 気 流5・・・支 持 体 6・・・・
・・・・・送出ロール゛l・・・巻取ロール 8・・・
・・・・・・真 空 槽9・・・真空排気系
造装置の1実施例の概略断面図である。 1・・・円筒状冷却キャン 2,21・・・蒸 発
源3・・・マ ス り 4・・・・・・
・・・蒸 気 流5・・・支 持 体 6・・・・
・・・・・送出ロール゛l・・・巻取ロール 8・・・
・・・・・・真 空 槽9・・・真空排気系
Claims (1)
- 支持体上KCO1Cr、O1又はCo、Ni、Cr、O
を主成分とし、MOlTa 、 W ノ内の少なくとも
1種の元素を0.1〜3原子数係含有する斜方蒸着型磁
性層を有することを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57185218A JPS5974606A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57185218A JPS5974606A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5974606A true JPS5974606A (ja) | 1984-04-27 |
JPH0559570B2 JPH0559570B2 (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=16166940
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57185218A Granted JPS5974606A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5974606A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4786553A (en) * | 1986-03-28 | 1988-11-22 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium |
US5006388A (en) * | 1987-08-06 | 1991-04-09 | Sumitomo Metal Mining Company Limited | Magnetic disc |
JPH09190622A (ja) * | 1997-01-14 | 1997-07-22 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55105302A (en) * | 1979-02-07 | 1980-08-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS5615014A (en) * | 1979-07-18 | 1981-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Metallic thin film type magnetic recording medium |
-
1982
- 1982-10-21 JP JP57185218A patent/JPS5974606A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55105302A (en) * | 1979-02-07 | 1980-08-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS5615014A (en) * | 1979-07-18 | 1981-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Metallic thin film type magnetic recording medium |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4786553A (en) * | 1986-03-28 | 1988-11-22 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium |
US5006388A (en) * | 1987-08-06 | 1991-04-09 | Sumitomo Metal Mining Company Limited | Magnetic disc |
JPH09190622A (ja) * | 1997-01-14 | 1997-07-22 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0559570B2 (ja) | 1993-08-31 |
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