JPS5974607A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS5974607A JPS5974607A JP57185219A JP18521982A JPS5974607A JP S5974607 A JPS5974607 A JP S5974607A JP 57185219 A JP57185219 A JP 57185219A JP 18521982 A JP18521982 A JP 18521982A JP S5974607 A JPS5974607 A JP S5974607A
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 72
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 28
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 17
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 14
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 4
- QNRATNLHPGXHMA-XZHTYLCXSA-N (r)-(6-ethoxyquinolin-4-yl)-[(2s,4s,5r)-5-ethyl-1-azabicyclo[2.2.2]octan-2-yl]methanol;hydrochloride Chemical compound Cl.C([C@H]([C@H](C1)CC)C2)CN1[C@@H]2[C@H](O)C1=CC=NC2=CC=C(OCC)C=C21 QNRATNLHPGXHMA-XZHTYLCXSA-N 0.000 abstract 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 17
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 2
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001342895 Chorus Species 0.000 description 1
- 229910020676 Co—N Inorganic materials 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- HAORKNGNJCEJBX-UHFFFAOYSA-N cyprodinil Chemical compound N=1C(C)=CC(C2CC2)=NC=1NC1=CC=CC=C1 HAORKNGNJCEJBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/658—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing oxygen, e.g. molecular oxygen or magnetic oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/225—Oblique incidence of vaporised material on substrate
- C23C14/226—Oblique incidence of vaporised material on substrate in order to form films with columnar structure
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
熱蒸発させて得る蒸気流全支持体に対して斜め方向から
入射させて強磁性結晶柱を支持体に対して斜めに形成［
７たいわゆる斜方蒸着型磁性層を有する磁気記録媒体の
改良に関する。
入射させて強磁性結晶柱を支持体に対して斜めに形成［
７たいわゆる斜方蒸着型磁性層を有する磁気記録媒体の
改良に関する。
近年、情報量の増大とともに、高密度磁気記録媒体の出
現が望まれており、特に、理想的な高密度磁気記録媒体
として、金属薄膜型磁気記録媒体の開発が盛んに進めら
れている。
現が望まれており、特に、理想的な高密度磁気記録媒体
として、金属薄膜型磁気記録媒体の開発が盛んに進めら
れている。
薄膜化技術としては、真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法、スパッタリング法、湿式メッキ等の各種方法が挙
げられるが、高密度記録に適した高保磁力媒体を安定に
得るには、特公昭４１ − １９，３８９号に開示され
た、いわゆる斜方蒸着方法がすぐれた方法である。
グ法、スパッタリング法、湿式メッキ等の各種方法が挙
げられるが、高密度記録に適した高保磁力媒体を安定に
得るには、特公昭４１ − １９，３８９号に開示され
た、いわゆる斜方蒸着方法がすぐれた方法である。
斜方蒸着方法とは、真空雰囲気内で、Ｃｏ ＋Ｃｏ−Ｎ
ｉ等の強磁性材料を加熱蒸発せしめて得る蒸気流を、高
分子等から成る非磁性支持体に対して蒸気流の方向と支
持体上に立てた法線々のなす角度が、通常４０度以上の
角度でもって、支持体に入射せしめて、強磁性結晶柱を
支持体に対して斜めに形成する真空蒸着方法である。こ
の斜方蒸着方法の一種として、単なる熱蒸着以外に蒸気
流の一部全強制的にイオン化させて支持体に対して斜め
入射せしめる、いわゆるイオンブレーティング型の斜方
蒸着方法が知られている。このような斜方蒸着方法によ
り形成された磁性層は斜方蒸着型磁性層と呼ばれる。
ｉ等の強磁性材料を加熱蒸発せしめて得る蒸気流を、高
分子等から成る非磁性支持体に対して蒸気流の方向と支
持体上に立てた法線々のなす角度が、通常４０度以上の
角度でもって、支持体に入射せしめて、強磁性結晶柱を
支持体に対して斜めに形成する真空蒸着方法である。こ
の斜方蒸着方法の一種として、単なる熱蒸着以外に蒸気
流の一部全強制的にイオン化させて支持体に対して斜め
入射せしめる、いわゆるイオンブレーティング型の斜方
蒸着方法が知られている。このような斜方蒸着方法によ
り形成された磁性層は斜方蒸着型磁性層と呼ばれる。
強磁性月料としては、通常、Ｃｏ又はＣｏ−Ｎｉ合金等
のＣｏ ｆ主成分とする合金材料或いは、これに酸素を
添加した合金組成が用いられる。
のＣｏ ｆ主成分とする合金材料或いは、これに酸素を
添加した合金組成が用いられる。
しかし、これらの斜方蒸着型磁性層は経時安定性がまだ
不十分であり、実用化への大きな障害となっていた。本
発明者等は、既にＣｏ 。
不十分であり、実用化への大きな障害となっていた。本
発明者等は、既にＣｏ 。
Ｃｏ−Ｎｉ 、 Ｃｏ−０又はＣｏ−Ｎｉ−０等に微量
ノＣｒ等を添加したり、或いは更に、側方蒸着型磁性層
の平均密度をある値以上とする等により、経時安定性及
び電磁変換特性にすぐれた斜方蒸着型磁性層を有する磁
気記録媒体を提案した・しかしながら耐錆性と電磁変９
さ特性（以後電磁と記す）の双方の特性全満足する斜方
蒸着型磁性層を有する磁気記録媒体は残念ながら得られ
ていない。
ノＣｒ等を添加したり、或いは更に、側方蒸着型磁性層
の平均密度をある値以上とする等により、経時安定性及
び電磁変換特性にすぐれた斜方蒸着型磁性層を有する磁
気記録媒体を提案した・しかしながら耐錆性と電磁変９
さ特性（以後電磁と記す）の双方の特性全満足する斜方
蒸着型磁性層を有する磁気記録媒体は残念ながら得られ
ていない。
本発明の目的は、耐錆性と電磁の双方の特性を満足する
磁気記録媒体全提供することにある。
磁気記録媒体全提供することにある。
本発明者等はＣ０−Ｃｒ−ｏ又はＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ −
Ｏｋ主成分とする斜方蒸着型磁性層の改良に関し鋭意研
究を重ねた結果非磁性支持体上にＣｏ−Ｃｒ−０又はＣ
ｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−０ｆ主成分とする斜方蒸着型磁性層を
少くとも２層設けることにより耐錆性及び電磁の双方共
に優れた特性を有する磁気記録媒体を見出し本発明に到
った５本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に斜方
蒸着により作成したＣｏ−Ｃｒ−（）又はＣｏ−Ｎｉに
ｒ−Ｏｆｆ主成分する少なくとも２層の磁性層を有する
ことを特徴とする。本発明における磁性層はＣｏ−Ｃｒ
−０又はＣｏ−Ｎ１−Ｃｒ−０２主成分とする斜方蒸着
型磁性層であるが、磁性層の組成としてはＣｏが９０〜
５５原子数係（以下ａｔ％と記す） Ｎｉが０〜２５３
１％、 Ｃｒが２〜８ ａ１％酸素が５〜３０ａ１係が
好ましい。又Ｃｏ−Ｃｒ−０又はＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ −
０′ｆｆ：主成分とする磁性層に、所望の特性全損なわ
ない範囲で不純物元素を含めてもよい。
Ｏｋ主成分とする斜方蒸着型磁性層の改良に関し鋭意研
究を重ねた結果非磁性支持体上にＣｏ−Ｃｒ−０又はＣ
ｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−０ｆ主成分とする斜方蒸着型磁性層を
少くとも２層設けることにより耐錆性及び電磁の双方共
に優れた特性を有する磁気記録媒体を見出し本発明に到
った５本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に斜方
蒸着により作成したＣｏ−Ｃｒ−（）又はＣｏ−Ｎｉに
ｒ−Ｏｆｆ主成分する少なくとも２層の磁性層を有する
ことを特徴とする。本発明における磁性層はＣｏ−Ｃｒ
−０又はＣｏ−Ｎ１−Ｃｒ−０２主成分とする斜方蒸着
型磁性層であるが、磁性層の組成としてはＣｏが９０〜
５５原子数係（以下ａｔ％と記す） Ｎｉが０〜２５３
１％、 Ｃｒが２〜８ ａ１％酸素が５〜３０ａ１係が
好ましい。又Ｃｏ−Ｃｒ−０又はＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ −
０′ｆｆ：主成分とする磁性層に、所望の特性全損なわ
ない範囲で不純物元素を含めてもよい。
本発明の磁気記録媒体の磁性層は斜方蒸着法により作成
されるが、蒸発粒子の］部をイオン化する斜方蒸着法全
利用することもできるっ 斜方蒸着全行う際の０ｍ ｉ ｎは保磁力との兼ね合い
で決められるが本発明では４５度以下が望ましい。本発
明における磁性層は蒸発材料としてＣ０−Ｃｒ又はＣｏ
−Ｎｉ−Ｃｒ合金を用イテ１元的な蒸着法により作成し
ても良いし、蒸発材料としてＣｏ−Ｎｉ合金とＣｒｆ用
いこれら全別個の蒸発源にチャージする２元同時蒸着法
等素或いは水蒸気等を蒸看至１／’ｌに導入して斜方蒸
着中に含まぜてもよいし、又蒸着後に磁性層を酸素又は
水蒸気寺にふれさせることで磁性層中に酸素を取り込ま
せても良い。磁性層の密度は５．０ ？ ／ ｔｒｉ以
上が耐候性上から好ましい。膜厚は磁性層全体で６００
から５０００しい。又必ずしも２層構成でなく数層重ね
た構成でも良い 各層の厚みは異なっていても良い。各
磁性層内の柱状粒子の成長方向は磁性層間でほぼ同一方
向に向いていてもよいし、又は互いに交差する方向に向
いていてもよい。
されるが、蒸発粒子の］部をイオン化する斜方蒸着法全
利用することもできるっ 斜方蒸着全行う際の０ｍ ｉ ｎは保磁力との兼ね合い
で決められるが本発明では４５度以下が望ましい。本発
明における磁性層は蒸発材料としてＣ０−Ｃｒ又はＣｏ
−Ｎｉ−Ｃｒ合金を用イテ１元的な蒸着法により作成し
ても良いし、蒸発材料としてＣｏ−Ｎｉ合金とＣｒｆ用
いこれら全別個の蒸発源にチャージする２元同時蒸着法
等素或いは水蒸気等を蒸看至１／’ｌに導入して斜方蒸
着中に含まぜてもよいし、又蒸着後に磁性層を酸素又は
水蒸気寺にふれさせることで磁性層中に酸素を取り込ま
せても良い。磁性層の密度は５．０ ？ ／ ｔｒｉ以
上が耐候性上から好ましい。膜厚は磁性層全体で６００
から５０００しい。又必ずしも２層構成でなく数層重ね
た構成でも良い 各層の厚みは異なっていても良い。各
磁性層内の柱状粒子の成長方向は磁性層間でほぼ同一方
向に向いていてもよいし、又は互いに交差する方向に向
いていてもよい。
好ましくは互いに交差するように選んだ方が良い、更に
磁性層間に非磁性の中間層を設けても良い。
磁性層間に非磁性の中間層を設けても良い。
非磁性支持体とじ一部はポリエチレンテレフタレート（
以ｉ Ｐ Ｅ Ｔと記す）やポリイミド等の非磁性高分
子フィルムが望ましいが、必要に応じて表面処理全施し
たものでも、下地層′と設けたものでも良い。更に実用
上の諸行性を更に向上させる為に磁性層側又は支持体側
に各種処理を施しても良い。
以ｉ Ｐ Ｅ Ｔと記す）やポリイミド等の非磁性高分
子フィルムが望ましいが、必要に応じて表面処理全施し
たものでも、下地層′と設けたものでも良い。更に実用
上の諸行性を更に向上させる為に磁性層側又は支持体側
に各種処理を施しても良い。
以下、本発明全図面及び実施例により説明する。
図面（は、本発明の磁気記録媒体を製造するだめの好ま
しい蒸着装置の概略断面図である。
しい蒸着装置の概略断面図である。
図面に示される蒸着装置は真空ボンダ９によシその内部
が真空にされる蒸着室ＩＯ１この蒸着室］Ｏ内部に設け
られた送出コア６から送り出されたテープ状の支持体８
を巻取コア７まで案内、支持するクーリングキャン５、
加熱蒸発することにより磁性層を支持体８上に形成する
蒸発材・料がチャージされる。２つの蒸発源１ 、２、
およびこの蒸発源１，２とクーリングキャン５の間に設
けられたマスク４からなる。ここでマスク４は支持体８
の表面に立てた法線の方向と蒸発源からの蒸気流の方向
となす角度０の内、最小斜入射角θｍｉｎを規定する。
が真空にされる蒸着室ＩＯ１この蒸着室］Ｏ内部に設け
られた送出コア６から送り出されたテープ状の支持体８
を巻取コア７まで案内、支持するクーリングキャン５、
加熱蒸発することにより磁性層を支持体８上に形成する
蒸発材・料がチャージされる。２つの蒸発源１ 、２、
およびこの蒸発源１，２とクーリングキャン５の間に設
けられたマスク４からなる。ここでマスク４は支持体８
の表面に立てた法線の方向と蒸発源からの蒸気流の方向
となす角度０の内、最小斜入射角θｍｉｎを規定する。
さらに蒸着室１０内へ酸素を供給する酸素の吹き出し口
３が蒸着室１０内部へ開口している。また蒸着室１０中
央付近には搬送系と蒸着部との分離を兼ねた防着板Ｊ１
が設けられている。
３が蒸着室１０内部へ開口している。また蒸着室１０中
央付近には搬送系と蒸着部との分離を兼ねた防着板Ｊ１
が設けられている。
以上のように構成された蒸腐装置において、本発明の磁
気記録媒体は例えば次のようにして製造される、 蒸着室１０は、真空ボンダ９によりその内部が真空にさ
れる。蒸発源１，２には蒸発材７１４ Ｃｏ−Ｎｉ 、
Ｃｒがそれぞれチャージされる。チャージされた蒸発
材料は従来公知の加熱手段により加熱される。この加熱
手段としては例えば電子ビーム加熱、誘導加熱、抵抗加
熱等を用いることができる。加熱された蒸発材料は融解
気化し、蒸気流となって蒸着室１０内部上方へ上昇し、
支持体８上に蒸着する、この際酸素の吹き出し口３から
は酸素が蒸着室１０内に導入され、適度な酸素雰囲気中
で蒸着が行なわれるようになっており、形成される磁性
層に所望の含有率で酸素が含有せしめられる。送出コア
６から送り出された支持体８はクーリングキャン５に案
内される際に斜入射角度θが高角度（はぼ９０度）から
低角度へと変化し７ながら、斜方蒸着が行なわれ最小斜
入射角θｍｉｎ ｆすぎると蒸溜を終丁し、巻取コア７
に巻き取られる。このようにして非磁性支持体５上に第
１の磁性層が形成されたのちは、第１の磁性層が巻かれ
ている巻取コア７と送出コア６金入れ換えた後、第１の
磁性層全形成したのと同様にして第１の磁性層上１で第
２の磁性層全形成する。
気記録媒体は例えば次のようにして製造される、 蒸着室１０は、真空ボンダ９によりその内部が真空にさ
れる。蒸発源１，２には蒸発材７１４ Ｃｏ−Ｎｉ 、
Ｃｒがそれぞれチャージされる。チャージされた蒸発
材料は従来公知の加熱手段により加熱される。この加熱
手段としては例えば電子ビーム加熱、誘導加熱、抵抗加
熱等を用いることができる。加熱された蒸発材料は融解
気化し、蒸気流となって蒸着室１０内部上方へ上昇し、
支持体８上に蒸着する、この際酸素の吹き出し口３から
は酸素が蒸着室１０内に導入され、適度な酸素雰囲気中
で蒸着が行なわれるようになっており、形成される磁性
層に所望の含有率で酸素が含有せしめられる。送出コア
６から送り出された支持体８はクーリングキャン５に案
内される際に斜入射角度θが高角度（はぼ９０度）から
低角度へと変化し７ながら、斜方蒸着が行なわれ最小斜
入射角θｍｉｎ ｆすぎると蒸溜を終丁し、巻取コア７
に巻き取られる。このようにして非磁性支持体５上に第
１の磁性層が形成されたのちは、第１の磁性層が巻かれ
ている巻取コア７と送出コア６金入れ換えた後、第１の
磁性層全形成したのと同様にして第１の磁性層上１で第
２の磁性層全形成する。
非磁性支持体として１０μ厚のＩ） Ｅ Ｔ 、蒸発材
料としてＣｏ５ｏＮｉ２ｏ及びＣｒ ｆ用いた。
料としてＣｏ５ｏＮｉ２ｏ及びＣｒ ｆ用いた。
θｎ］団ヲ４２°に設定して、２台の１．６ Ｉ（Ｗの
電子ビーム加熱手段により２つの蒸発源を加熱し、図に
示烙れる蒸着装置により酸素全１０ＣＣ／Ｉηｉｎ流し
ながら蒸着を行い約７５ＯＡ厚の酸素全含有したＣ ｏ
−Ｎ ｉ合金の第１層目の磁性層を作成した。ＰＥＴ支
持体の搬送速度は１０ｍ／ｍＩｎ真空度は４ Ｘ １０
−５ｔｏｒｒ であった。
電子ビーム加熱手段により２つの蒸発源を加熱し、図に
示烙れる蒸着装置により酸素全１０ＣＣ／Ｉηｉｎ流し
ながら蒸着を行い約７５ＯＡ厚の酸素全含有したＣ ｏ
−Ｎ ｉ合金の第１層目の磁性層を作成した。ＰＥＴ支
持体の搬送速度は１０ｍ／ｍＩｎ真空度は４ Ｘ １０
−５ｔｏｒｒ であった。
次にＣｏ−Ｎｉ−００第２層目の磁性層を設けたＰＥ′
ｒ支持体を巻き戻した後上述した方法で更にＣｏ−Ｎｉ
−０の第２層目の磁性層を設けて２層構成の磁性層を作
成した。このようにして得られたサンプルｆ Ａ １と
したオーノエ電子分析法によりこのサンプルＡＩの磁性
層の組成分析を行ったところＣｏ 、 Ｎｉ 、 Ｃｒ
及びＯの組成は原子数パーセントで６９ ：１７ ：４
：１０であった７膜厚は２層合ぜて１５０ＯＡであっ
た。ミクロトームで磁性層の断面を切断して電子ケンビ
鏡で観堅したところ柱状粒子の方向は２層共同方向であ
った。
ｒ支持体を巻き戻した後上述した方法で更にＣｏ−Ｎｉ
−０の第２層目の磁性層を設けて２層構成の磁性層を作
成した。このようにして得られたサンプルｆ Ａ １と
したオーノエ電子分析法によりこのサンプルＡＩの磁性
層の組成分析を行ったところＣｏ 、 Ｎｉ 、 Ｃｒ
及びＯの組成は原子数パーセントで６９ ：１７ ：４
：１０であった７膜厚は２層合ぜて１５０ＯＡであっ
た。ミクロトームで磁性層の断面を切断して電子ケンビ
鏡で観堅したところ柱状粒子の方向は２層共同方向であ
った。
また上述した方法と同一の方法で第１層目の磁性層全蒸
着し、第１層目の磁性層が設けられたＰＥＴ支持体全巻
取コアに巻きとる、次にこのＰＥＴ支持体が巻かれてい
る巻取コアと送出コアを入れ換えた後上述した方法で第
２層目の磁性層の蒸着を行った。このようにして得られ
たサンプル２１６．２とした。組成分析の結果Ｃｏ 、
Ｎｉ 、 Ｃｒ及びＯの原子数パ−セントは６９：１
７：４：１０、膜厚（／ｉ２層合わぜて１５００Ａ、密
度は５．１ ？ ／ ｃｔｔゾであった。柱状組織の方
向は磁性層間で交差していた。密度は５．１ ？ ／
ａｄであった。
着し、第１層目の磁性層が設けられたＰＥＴ支持体全巻
取コアに巻きとる、次にこのＰＥＴ支持体が巻かれてい
る巻取コアと送出コアを入れ換えた後上述した方法で第
２層目の磁性層の蒸着を行った。このようにして得られ
たサンプル２１６．２とした。組成分析の結果Ｃｏ 、
Ｎｉ 、 Ｃｒ及びＯの原子数パ−セントは６９：１
７：４：１０、膜厚（／ｉ２層合わぜて１５００Ａ、密
度は５．１ ？ ／ ｃｔｔゾであった。柱状組織の方
向は磁性層間で交差していた。密度は５．１ ？ ／
ａｄであった。
なお、比較例のために上述と同様の方法で０ｍ１ｎ４２
°で、磁性層が１層だけの蒸着を行った。このようにし
て得られたサンプルｆ １６３とした。膜厚ば１５００
Ａ、組成はＣ０６９Ｎ１ｎＣｚ Ｏ＋ｏ、密度は５．１
？ ／ ｃＡであった。
°で、磁性層が１層だけの蒸着を行った。このようにし
て得られたサンプルｆ １６３とした。膜厚ば１５００
Ａ、組成はＣ０６９Ｎ１ｎＣｚ Ｏ＋ｏ、密度は５．１
？ ／ ｃＡであった。
さらに、上述と同様の方法で０ｍ１ｎ６０°で磁性層が
１層だけの蒸着を行った。このようにして得られ／ヒザ
ンプルｆＡ４とした。膜厚ば１５００Ａ、組成はＣ０６
９Ｎｉ１７Ｃｒ４Ｑ＋ｏ 、密度は４．８ ｉ１ｉ’
／ ａｄであった。
１層だけの蒸着を行った。このようにして得られ／ヒザ
ンプルｆＡ４とした。膜厚ば１５００Ａ、組成はＣ０６
９Ｎｉ１７Ｃｒ４Ｑ＋ｏ 、密度は４．８ ｉ１ｉ’
／ ａｄであった。
捷た、０ｍ１ｎ６０°で酸素ガスの流量１２５０ｃｃ／
’ｍｉｎ流しながら００８ＯＮｉ２０の蒸着を行った。
’ｍｉｎ流しながら００８ＯＮｉ２０の蒸着を行った。
このようにして得られたサンプルｆ Ａ ５とした。膜
厚は１５００Ａ、組成はＣ０６４Ｎ１ｔ６０２０、密度
は４．７ Ｖ ／ ｃｒｄであった。
厚は１５００Ａ、組成はＣ０６４Ｎ１ｔ６０２０、密度
は４．７ Ｖ ／ ｃｒｄであった。
作成した各サンプルに耐錆性及び電磁（Ｓ中で１．００
日間の放置試験を行い光学ケンビ鏡で磁性層表面を観察
しサビ（局所的腐蝕）の有無で判定？下した。
日間の放置試験を行い光学ケンビ鏡で磁性層表面を観察
しサビ（局所的腐蝕）の有無で判定？下した。
Ｓ／Ｎ判定はサンプルを］／２インチ巾のテープ状にス
リットしＶ Ｉ−Ｉ Ｓ方式小型ビデオカセットに組み
込み６ＭＩ（ｚの信号を記録し、６ ＭＨｚの再生出力
（ングナルＳとした）と４．５ＭＨｚの変調ノイズ（ノ
イズＮとした）の比を求めることにより行った。表１に
測定結果を示す。
リットしＶ Ｉ−Ｉ Ｓ方式小型ビデオカセットに組み
込み６ＭＩ（ｚの信号を記録し、６ ＭＨｚの再生出力
（ングナルＳとした）と４．５ＭＨｚの変調ノイズ（ノ
イズＮとした）の比を求めることにより行った。表１に
測定結果を示す。
表１のサビの欄において、
○ はサビが認められなかったこと、
× はサビが発生したこと
××はサビの程度が重いこと
を表わす。
表１から明らかなように、サンプルＩ６１゜２即ち、組
成がＣｏ６９Ｎｉ ＋ｙＣｒ４０＋ｏ 、密度が５１？
／ ｃｎｌの２層構成の磁性層を有する本発明の磁気
記録媒体が耐錆性及び電磁の双方に優れた特性を有する
ことがわかる。上記本発明の実施例としては、組成およ
び密度が１種類のもののみを挙げだが、Ｃｒが２〜８
ａｔ％、ＮＩが０〜２５３１％、酸素が５〜３０ａｔ％
の範囲のものおよび他の密度のものについても上記実施
例とほぼ同様な結果即ち耐錆性及び電磁の双方に優れた
特性を得られることが確認されている。このように本発
明は蒸着テープの実用化に大きく貢献するものである。
成がＣｏ６９Ｎｉ ＋ｙＣｒ４０＋ｏ 、密度が５１？
／ ｃｎｌの２層構成の磁性層を有する本発明の磁気
記録媒体が耐錆性及び電磁の双方に優れた特性を有する
ことがわかる。上記本発明の実施例としては、組成およ
び密度が１種類のもののみを挙げだが、Ｃｒが２〜８
ａｔ％、ＮＩが０〜２５３１％、酸素が５〜３０ａｔ％
の範囲のものおよび他の密度のものについても上記実施
例とほぼ同様な結果即ち耐錆性及び電磁の双方に優れた
特性を得られることが確認されている。このように本発
明は蒸着テープの実用化に大きく貢献するものである。
図面は本発明の磁気記録媒体を製造するために使用され
る蒸着装置の概略断面図である。
る蒸着装置の概略断面図である。
Claims (1)
- 非磁性支持体上に２〜８原子数％のＣｒｆ含有するＣ
（１−Ｃｒ−０又はＣｏ−Ｎｉ −Ｃｒ −Ｏｆ主成分
とする斜方蒸着型磁性層を少なくとも２層有すること全
特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57185219A JPS5974607A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57185219A JPS5974607A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5974607A true JPS5974607A (ja) | 1984-04-27 |
Family
ID=16166958
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57185219A Pending JPS5974607A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5974607A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0415335A2 (en) * | 1989-08-30 | 1991-03-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
-
1982
- 1982-10-21 JP JP57185219A patent/JPS5974607A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0415335A2 (en) * | 1989-08-30 | 1991-03-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
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