JPH0991663A - 磁気記録媒体、及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低域から高域にわたって高い再生出力が得ら
れ、電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を提供すること
である。 【解決手段】 Ｃｏが２５〜３５ａｔ．％、残りが不可
避不純物及びＦｅのＦｅ−Ｃｏ系合金が用いられ、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が支持体上に設けられてなる
磁気記録媒体であって、前記磁性膜中のＦｅの割合は４
７〜６４ａｔ．％、前記磁性膜中のＣｏの割合は１７〜
３２ａｔ．％、前記磁性膜中のＮの割合は３〜２５ａ
ｔ．％、前記磁性膜中のＯの割合は２〜２０ａｔ．％で
ある磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ−
Ｏ系金属磁性膜を有する磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【発明が解決しようとする課題】磁性膜を蒸着やスパッ
タ等の乾式メッキ手段で構成した金属薄膜型の磁気記録
媒体が広く知られている。この磁性膜を構成する材料と
して種々のものが有る。例えば、これまでは、主とし
て、Ｃｏ−ＮｉやＣｏ−Ｃｒ系の磁性合金が用いられて
いる。

【０００３】しかし、Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｒ等は価格が高
い。このようなことからＦｅが注目されて来た。例え
ば、Ｆｅ_1-X-Y Ｎ_X Ｏ_Y （但し、０．２５≦Ｘ＋Ｙ＜
０．６０，Ｘ＞Ｙ）の酸化窒化鉄膜を有する磁気記録媒
体が提案（特開昭６１−５４０２３号公報）されてい
る。

【０００４】このものは、磁気特性に優れ、かつ、耐候
性や耐久性に優れたものである。しかし、高域での高い
再生出力が得られていない。従って、本発明の目的は、
低域から高域にわたって高い再生出力が得られ、電磁変
換特性に優れた磁気記録媒体を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】前記本発明の目的は、Ｃ
ｏが２５〜３５ａｔ．％、残りが不可避不純物及びＦｅ
のＦｅ−Ｃｏ系合金が用いられ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系
の磁性膜が支持体上に設けられてなる磁気記録媒体であ
って、前記磁性膜中のＦｅの割合は４７〜６４ａｔ．
％、前記磁性膜中のＣｏの割合は１７〜３２ａｔ．％、
前記磁性膜中のＮの割合は３〜２５ａｔ．％、前記磁性
膜中のＯの割合は２〜２０ａｔ．％であることを特徴と
する磁気記録媒体によって達成される。

【０００６】又、Ｆｅが４７〜６４ａｔ．％，Ｃｏが１
７〜３２ａｔ．％，Ｎが３〜２５ａｔ．％，Ｏが２〜２
０ａｔ．％のＦｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が設けられ
てなる磁気記録媒体の製造方法であって、前記Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｎ−Ｏ系の磁性膜を構成する為に、蒸発源に置かれ
る材料としてＣｏが２５〜３５ａｔ．％、残りが不可避
不純物及びＦｅのＦｅ−Ｃｏ系合金が用いられ、そして
イオンアシスト蒸着法により前記Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系
の磁性膜が成膜されることを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法によって達成される。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体は、Ｃｏが
２５〜３５ａｔ．％、残りが不可避不純物及びＦｅのＦ
ｅ−Ｃｏ系合金が用いられ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系の磁
性膜が支持体上に設けられてなる磁気記録媒体であっ
て、前記磁性膜中のＦｅの割合は４７〜６４ａｔ．％、
前記磁性膜中のＣｏの割合は１７〜３２ａｔ．％、前記
磁性膜中のＮの割合は３〜２５ａｔ．％、前記磁性膜中
のＯの割合は２〜２０ａｔ．％である。特に、Ｃｏが２
５〜３５ａｔ．％、残りが不可避不純物及びＦｅのＦｅ
−Ｃｏ合金が用いられ、イオンアシスト蒸着法によりＦ
ｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が支持体上に設けられてな
る磁気記録媒体であって、前記磁性膜中のＦｅの割合は
４７〜６４ａｔ．％、前記磁性膜中のＣｏの割合は１７
〜３２ａｔ．％、前記磁性膜中のＮの割合は３〜２５ａ
ｔ．％、前記磁性膜中のＯの割合は２〜２０ａｔ．％で
ある。

【０００８】又、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、
Ｆｅが４７〜６４ａｔ．％，Ｃｏが１７〜３２ａｔ．
％，Ｎが３〜２５ａｔ．％，Ｏが２〜２０ａｔ．％のＦ
ｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が設けられてなる磁気記録
媒体の製造方法であって、前記Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系の
磁性膜を構成する為に、蒸発源に置かれる材料としてＣ
ｏが２５〜３５ａｔ．％、残りが不可避不純物及びＦｅ
のＦｅ−Ｃｏ系合金が用いられ、そしてイオンアシスト
蒸着法により前記Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が成膜
される。

【０００９】本発明の磁気記録媒体は、例えば成膜速度
が大きな蒸着法を例にとって説明すると次のようにな
る。先ず、例えば全金属成分中Ｆｅ＋Ｃｏが９５〜９
８．５ｗｔ％（所謂、純度が９５〜９８．５ｗｔ％）、
Ａｕ，Ｐｔ，Ａｇの合計量が０〜０．０５ｗｔ％（０で
あることに越したことはないが、不可避不純物として多
少含まれる場合が有る。又、含有するにしても、Ａｕと
ＰｔとＡｇの合計量を出来るだけ少なく、例えば０．０
５ｗｔ％以下に抑える）、残りがその他の金属成分（例
えば、Ｎｉ，Ｍｎ，Ｃｒ等）であるＦｅ−Ｃｏ系合金
（Ｆｅ＋Ｃｏ合金）材料を、斜め蒸着装置のルツボの中
に入れる。このような純度（９５〜９８．５ｗｔ％）の
合金材料を用いたのは、純度が９９．９５ｗｔ％以上と
言った高純度のものを用いる場合に比べて遙に安価であ
るからによる。尚、純度が９８．５ｗｔ％以上の高純度
のものを用いるのを排除するものではない。そして、斜
め蒸着装置内を所定の真空度に排気すると共に、電子銃
あるいはその他の手段によりＦｅ−Ｃｏ合金材料を蒸発
させ、走行する支持上にＦｅ−Ｃｏ合金粒子を付着・堆
積させる。この付着・堆積に際しては、Ｆｅ−Ｃｏ合金
粒子あるいは堆積面に向けて窒素ガス（又は窒素イオ
ン）や酸素ガス（又は酸素イオン）等を照射し、非磁性
の支持体上に設ける磁性膜をＦｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系膜と
する。尚、この成膜に際し、窒素ガス（又は窒素イオ
ン）と酸素ガス（又は酸素イオン）との関係を調整す
る。

【００１０】尚、蒸発源に置くＦｅ−Ｃｏ合金材料とし
て純度が１００ｗｔ％のものを用いる訳ではないから、
成膜される金属磁性膜中にＦｅやＣｏ以外の金属元素が
含まれる。例えば、Ｎｉ，Ｍｎ，Ｃｒ等が含まれる。
又、微量ではあるが、Ａｕ，Ｐｔ，Ａｇ等が０．０５ｗ
ｔ％以下含まれる場合が有る。しかし、いずれにせよ、
ＦｅやＣｏ以外の金属元素の含有量は約５ｗｔ％以下で
あるから、これらの金属元素による変動は僅かであり、
Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎ，Ｏで規定した。

【００１１】ところで、イオンアシスト蒸着法によりＦ
ｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系磁性膜を成膜するに際して、二元蒸
着法を用いれば、Ｆｅ−Ｃｏ合金を用いなくても良い。
しかし、このようにして得られたＦｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系
磁性膜は、本発明のような高域での高い再生出力が得ら
れなかった。この理由は次のように考えられた。Ｆｅ−
Ｃｏ合金は、ＦｅとＣｏとを溶融することによって得ら
れていることから、ＦｅとＣｏとはミクロ的にも混じり
合ったものと考えられる。そして、ＦｅとＣｏとは蒸気
圧や融点が似たものであることから、蒸発源に置かれた
材料がＦｅ−Ｃｏ合金である場合、これからの蒸発粒子
もＦｅ−Ｃｏ粒子であり、堆積した膜をミクロ的に観察
してもＦｅ−Ｃｏ粒子が堆積したものである。つまり、
蒸発源に置かれたＦｅ−Ｃｏ合金からの堆積Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｎ−Ｏ系磁性膜をμｍオーダーでのミクロ的観察及び
ｃｍオーダーでのマクロ的観察いずれにあっても、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系磁性膜における堆積Ｆｅ−Ｃｏ粒子
は、Ｆｅ−Ｃｏ合金粒子からなっている。

【００１２】これに対して、一つの蒸発源にはＦｅを、
もう一つの蒸発源にはＣｏを置き、二元蒸着法を用いた
場合、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系磁性膜が得られているもの
の、これをμｍオーダーで観察すると、意図した組成の
Ｆｅ−Ｃｏ合金粒子のものとは異なっていた。このよう
なことから、蒸発源に置く材料が合金であるか否かによ
り、得られたＦｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系磁性膜が微視的な状
態では相違しており、Ｆｅ−Ｃｏ合金からのＦｅ−Ｃｏ
−Ｎ−Ｏ系磁性膜のＸ線回折パターンと金属Ｆｅと金属
Ｃｏからの二元蒸着によるＦｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系磁性膜
のＸ線回折パターンとを比べると、Ｆｅ−Ｃｏ系合金か
らのＦｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系磁性膜はピークの半値幅が小
さく、そして飽和磁束密度も大きく、これに起因して本
発明の磁性膜は高域でも再生出力が高いと考えられた。

【００１３】本発明で用いるイオンアシスト蒸着装置
（特に、イオンアシスト斜め蒸着装置）を図１に示す。
図１中、１支持体、２ａは支持体１の供給側ロール、２
ｂは支持体１の巻取側ロール、３は冷却キャンロール、
４は遮蔽板、５はルツボ、６はＣｏが２５〜３５ａｔ．
％、残りが不可避不純物及びＦｅのＦｅ−Ｃｏ合金、７
は電子銃、８は真空容器、９は酸素ガス供給ノズル、１
０はイオン銃である。尚、酸素ガス供給ノズル９から酸
素ガス等のＯ活性種を照射する代わりに、一個のイオン
銃１０によって窒素イオン及び酸素イオンを共に照射す
るようにしたり、二個のイオン銃から別々に窒素イオン
と酸素イオンとを照射するようにしても良い。そして、
ルツボ５に置く材料を特定のＦｅ−Ｃｏ合金とした他
は、通常のイオンアシスト斜め蒸着に準じて行わせるこ
とによって、本発明になるＦｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系磁性膜
が得られる。

【００１４】このようにして得られた本発明になる磁気
記録媒体を図２に示す。図２中、１は支持体である。こ
の支持体１は磁性を有するものでも非磁性のものでも良
いが、一般的には、非磁性のものである。例えば、ポリ
エチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、
ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系
の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラ
スやセラミック等の無機系材料、アルミニウム合金など
の金属材料が用いられる。支持体１面上には磁性膜の密
着性を向上させる為のアンダーコート層が必要に応じて
設けられる。すなわち、表面の粗さを適度に粗すことに
よりイオンアシスト斜め蒸着で構成される磁性膜の密着
性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面の表面粗さを適
度なものとして走行性を改善する為、例えばＳｉＯ₂ 等
の粒子を含有させた厚さが０．０１〜０．５μｍの塗膜
を設けることによってアンダーコート層が構成されてい
る。

【００１５】アンダーコート層の上には、図１に示した
イオンアシスト斜め蒸着装置によって保磁力Ｈｃが１０
００Ｏｅ以上、特に１２００〜１６００Ｏｅ、飽和磁束
密度Ｂｓが４０００〜７０００Ｇ、Ｆｅが４７〜６４ａ
ｔ．％、Ｃｏが１７〜３２ａｔ．％、Ｎが３〜２５ａ
ｔ．％、Ｏが２〜２０ａｔ．％であるＦｅ−Ｃｏ−Ｎ−
Ｏ系の金属薄膜型の磁性膜２１が１５００〜２５００
Å、特に１８００〜２２００Å厚形成される。斜め蒸着
の際の最小入射角は３０°〜８０°、望ましくは約４５
°〜７０°である。

【００１６】２２は、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系磁性膜２１
の上に設けられた厚さが１０〜２００Å程度の保護膜で
ある。この保護膜２２は、例えばダイヤモンドライクカ
ーボン、グラファイト等のカーボン膜、酸化珪素、炭化
珪素などの含珪素膜などで構成される。これらの中で
も、ダイヤモンドライクカーボンが好ましい。２３は、
保護膜２２の上に設けられた潤滑剤層である。すなわ
ち、炭化水素系の潤滑剤やパーフルオロポリエーテル等
のフッ素系潤滑剤、特にフッ素系潤滑剤を含有させた塗
料を所定の手段で塗布することにより、約２〜５０Å、
好ましくは約１０〜３０Å程度の厚さの潤滑剤層２３が
設けられる。

【００１７】２４は、支持体１の他面に設けられたカー
ボンブラック等を含有させた厚さが０．１〜１μｍ程度
のバックコート層である。尚、バックコート層２４は、
Ａｌ−Ｃｕ合金等の金属を蒸着させて形成したものであ
っても良い。尚、本発明のＦｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系磁性膜
は一層であっても、二層以上のものでも良い。Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｎ−Ｏ系磁性膜が二層以上ある場合には、上層側に
あるＦｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系磁性膜の組成が上記要件を満
たしておれば良い。又、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系磁性膜以
外の磁性膜が設けられていても良い。このような場合に
も、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系磁性膜が最上層に設けられて
いれば良い。

【００１８】そして、上記のように構成させた磁気記録
媒体は、耐蝕性、及び電磁変換特性に優れたものであっ
た。

【００１９】

【実施例１】図１に示されるイオンアシスト斜め蒸着装
置に６．３μｍ厚のＰＥＴフィルム１を装着し、５×１
０^-6Ｔｏｒｒの真空雰囲気下においてＰＥＴフィルム１
が走行させられている。酸化マグネシウム製のルツボ５
にＦｅ−Ｃｏ（Ｆｅ；６５ａｔ．％，Ｃｏ；３５ａｔ．
％）合金６が入っており、１０ｋｗの電子銃７を作動さ
せてＦｅ−Ｃｏを蒸発させ、ＰＥＴフィルム１にＦｅ−
Ｃｏ合金粒子を蒸着させた。この時、イオン銃１０に窒
素ガスを５ｓｃｃｍの割合で供給すると共に、酸素ガス
供給ノズル９から酸素ガスを６ｓｃｃｍの割合で供給し
た。

【００２０】そして、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系金属磁性膜
が成膜された後、このＦｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系金属磁性膜
上にダイヤモンドライクカーボン膜を１００Å厚設け
た。更に、この上に、パーフルオロポリエーテル（ＦＯ
ＭＢＬＩＮ ＺＤＯＬ モンテカチーニ社製）をフッ素
系不活性液体（フロリナート ＦＣ−７７ 住友３Ｍ社
製）に０．０５ｗｔ％となるよう希釈した塗料を用い
て、ダイコーティング方式により乾燥膜厚が２０Åとな
るよう金属磁性膜上に塗布し、１０５℃で乾燥させた。

【００２１】又、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系金属磁性膜とは
反対側のＰＥＴフィルム１裏面に、平均粒径が４０ｎｍ
のカーボンブラックと平均粒径が８０ｎｍのカーボンブ
ラックとを２：１の割合で混ぜ、ウレタン系樹脂と塩化
ビニル系樹脂とのバインダ樹脂中に分散させたバックコ
ート用塗料をダイコーティング方式により乾燥膜厚が
０．５μｍとなるよう塗布し、乾燥させた。

【００２２】そして、８ｍｍ幅にスリットし、図２に示
されるタイプの８ｍｍＶＴＲ用磁気テープ（磁性膜の厚
さ；１８５０Å、保磁力Ｈｃ；１３５０Ｏｅ、飽和磁束
密度Ｂｓ；５５００Ｇ）を得た。

【００２３】

【実施例２〜６】実施例１において、ルツボ５に入れる
Ｆｅ−Ｃｏ合金、イオン銃１０に導入する窒素ガス量、
及び酸素ガス供給ノズル９に導入する酸素ガス量を表−
１のものとした以外は実施例１に準じて行い、８ｍｍＶ
ＴＲ用磁気テープを作製した。 表−１ Ｆｅ−Ｃｏ合金（ａｔ．％） 窒素ガス量 酸素ガス量 Ｆｅ Ｃｏ （ｓｃｃｍ） （ｓｃｃｍ） 実施例２ ６５ ３５ ３０ ２ 実施例３ ７０ ３０ ２０ ８ 実施例４ ７０ ３０ ２０ ４ 実施例５ ７５ ２５ ７ ７ 実施例６ ７５ ２５ １５ １５

【００２４】

【比較例１〜３】実施例１において、ルツボ５に入れる
Ｆｅ−Ｃｏ合金、イオン銃１０に導入する窒素ガス量、
及び酸素ガス供給ノズル９に導入する酸素ガス量を表−
２のものとした以外は実施例１に準じて行い、８ｍｍＶ
ＴＲ用磁気テープを作製した。 表−２ Ｆｅ−Ｃｏ合金（ａｔ．％） 窒素ガス量 酸素ガス量 Ｆｅ Ｃｏ （ｓｃｃｍ） （ｓｃｃｍ） 比較例１ １００（Ｆｅのみ） ７ １１ 比較例２ ５０ ５０ ３５ ７ 比較例３ ８５ １５ １５ １６

【００２５】

【比較例４〜６】実施例１，３，５において、Ｆｅ−Ｃ
ｏ合金を用いる代わりに、金属Ｆｅと金属Ｃｏとを用
い、かつ、二元蒸着を用いた以外は実施例１，３，５に
準じて行い、８ｍｍＶＴＲ用磁気テープを作製した。
尚、金属Ｆｅと金属Ｃｏとの使用割合は、該当する実施
例で用いた合金におけるＦｅとＣｏとの組成比と同じに
した。

【００２６】

【特性】上記各例で得た磁気テープについて、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｎ−Ｏ系磁性膜の膜組成、及び保磁力Ｈｃ、飽和磁
束密度Ｂｓを調べたので、その結果を表−３に示す。 表−３ 膜組成（ａｔ．％） Ｈｃ Ｂｓ Ｆｅ Ｃｏ Ｎ Ｏ (Oe) (G) 実施例１ ５８ ３２ ３ ７ １３５０ ５５００ 実施例２ ４７ ２６ ２５ ２ １２５０ ５０００ 実施例３ ５３ ２２ １５ １０ １３９０ ５２００ 実施例４ ５６ ２４ １５ ５ １２８０ ５５００ 実施例５ ６４ ２１ ５ １０ １３７０ ６０００ 実施例６ ５３ １７ １０ ２０ １５２０ ４８００ 比較例１ ８０ − ５ １５ ６５０ ７０００ 比較例２ ３０ ３０ ３０ １０ １１００ ４０００ 比較例３ ６０ １０ １０ ２０ １５５０ ４３００ 比較例４ ５８ ３２ ３ ７ １３６０ ７０００ 比較例５ ５３ ２２ １５ １０ １４２０ ４８００ 比較例６ ６４ ２１ ５ １０ １３９０ ５７００ 又、上記各例の磁気テープの耐蝕性ΔＢｓ（６０℃、９
０％ＲＨの環境下に１週間放置し、飽和磁束密度Ｂｓの
低下で表示）、及び１〜１５ＭＨｚでの再生出力を調べ
たので、その結果を表−４に示す。

【００２７】 表−４ 耐蝕性ΔＢｓ 再生出力（ｄＢ） （％） １ＭＨｚ ５ＭＨｚ １０ＭＨｚ １５ＭＨｚ 実施例１ ９ ＋４ ＋３ ＋２ ＋１ 実施例２ ２ ＋３ ＋２ ＋１ ０ 実施例３ ３ ＋３ ＋３ ＋２ ＋１ 実施例４ ４ ＋４ ＋３ ＋２ ＋２ 実施例５ ８ ＋４ ＋４ ＋３ ＋２ 実施例６ ５ ＋１ ＋１ ０ ０ 比較例１ １７ ＋３ ０ −２ −５ 比較例２ ５ ０ −１ −１ −３ 比較例３ ７ ０ ０ ０ ０ 比較例４ １０ ＋１ ＋１ ０ −１ 比較例５ ５ ＋１ ０ ０ −１ 比較例６ ９ ＋２ ＋２ ＋１ ０

【００２８】

【発明の効果】低域から高域にわたる広い範囲で出力が
高く、かつ、耐蝕性に優れたものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の製造装置の概略図

【図２】本発明の磁気記録媒体の概略図

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 5/85 7303−5Ｄ Ｇ１１Ｂ 5/85 Ａ Ｈ０１Ｆ 10/16 Ｈ０１Ｆ 10/16 41/20 41/20 (72)発明者 石川 准子 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内 (72)発明者 遠藤 克巳 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 Ｃｏが２５〜３５ａｔ．％、残りが不可
   避不純物及びＦｅのＦｅ−Ｃｏ系合金が用いられ、Ｆｅ
   −Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が支持体上に設けられてなる
   磁気記録媒体であって、 前記磁性膜中のＦｅの割合は４７〜６４ａｔ．％、 前記磁性膜中のＣｏの割合は１７〜３２ａｔ．％、 前記磁性膜中のＮの割合は３〜２５ａｔ．％、 前記磁性膜中のＯの割合は２〜２０ａｔ．％ であることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 Ｆｅが４７〜６４ａｔ．％，Ｃｏが１７
   〜３２ａｔ．％，Ｎが３〜２５ａｔ．％，Ｏが２〜２０
   ａｔ．％のＦｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が設けられて
   なる磁気記録媒体の製造方法であって、 前記Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ−Ｏ系の磁性膜を構成する為に、蒸
   発源に置かれる材料としてＣｏが２５〜３５ａｔ．％、
   残りが不可避不純物及びＦｅのＦｅ−Ｃｏ系合金が用い
   られ、 そしてイオンアシスト蒸着法により前記Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ
   −Ｏ系の磁性膜が成膜されることを特徴とする磁気記録
   媒体の製造方法。