JPH0773459A - 磁気記録媒体の製造方法及びその装置 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法及びその装置Info
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- JPH0773459A JPH0773459A JP21542693A JP21542693A JPH0773459A JP H0773459 A JPH0773459 A JP H0773459A JP 21542693 A JP21542693 A JP 21542693A JP 21542693 A JP21542693 A JP 21542693A JP H0773459 A JPH0773459 A JP H0773459A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 保磁力や飽和磁束密度などの磁気特性に優
れ、かつ、耐久性や耐蝕性にも優れた磁気記録媒体を提
供することを目的とする。 【構成】 非磁性の支持体上に磁性材料を堆積させ、金
属薄膜型の磁気記録媒体を製造する方法であって、磁性
材料の堆積時ないしは堆積直後の時点において、金属薄
膜面に対して略垂直に酸化性のガスをあてる磁気記録媒
体の製造方法。
れ、かつ、耐久性や耐蝕性にも優れた磁気記録媒体を提
供することを目的とする。 【構成】 非磁性の支持体上に磁性材料を堆積させ、金
属薄膜型の磁気記録媒体を製造する方法であって、磁性
材料の堆積時ないしは堆積直後の時点において、金属薄
膜面に対して略垂直に酸化性のガスをあてる磁気記録媒
体の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体の製造方
法及びその装置に関するものである。
法及びその装置に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されている。すなわち、真空蒸着、スパッタリング
あるいはイオンプレーティングといった乾式メッキ手段
により磁性層を構成した磁気記録媒体が提案されている
ことは周知の通りである。そして、この種の磁気記録媒
体は磁性体の充填密度が高いことから、高密度記録に適
したものである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されている。すなわち、真空蒸着、スパッタリング
あるいはイオンプレーティングといった乾式メッキ手段
により磁性層を構成した磁気記録媒体が提案されている
ことは周知の通りである。そして、この種の磁気記録媒
体は磁性体の充填密度が高いことから、高密度記録に適
したものである。
【０００３】このような乾式メッキ手段による磁気記録
媒体の製造装置は、図２のように構成されているものが
一般的である。尚、図２中、２１は冷却キャン、２２ａ
はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２３
の供給側ロール、２２ｂはＰＥＴフィルム２３の巻取側
ロール、２４はルツボ、２５は磁性金属、２６は真空容
器である。そして、真空容器２６内を所定の真空度のも
のに排気した後、電子銃を作動させてルツボ２４内の磁
性金属２５を蒸発させ、ＰＥＴフィルム２３に対して磁
性金属２５の蒸発粒子を堆積（蒸着）させることによっ
て磁気記録媒体が製造されている。
媒体の製造装置は、図２のように構成されているものが
一般的である。尚、図２中、２１は冷却キャン、２２ａ
はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２３
の供給側ロール、２２ｂはＰＥＴフィルム２３の巻取側
ロール、２４はルツボ、２５は磁性金属、２６は真空容
器である。そして、真空容器２６内を所定の真空度のも
のに排気した後、電子銃を作動させてルツボ２４内の磁
性金属２５を蒸発させ、ＰＥＴフィルム２３に対して磁
性金属２５の蒸発粒子を堆積（蒸着）させることによっ
て磁気記録媒体が製造されている。
【０００４】ところで、このような装置により金属薄膜
型の磁気記録媒体を製造するに際して、磁性粒子の蒸着
部分に酸素を供給し、磁気特性の向上を図ろうとするこ
とが試みられた。すなわち、ＰＥＴフィルム２３の走行
方向とは逆方向に酸素を供給することが提案（特公昭６
１−５６５６３号公報）されたのである。そして、この
ものは、それなりの特長を奏するものであった。
型の磁気記録媒体を製造するに際して、磁性粒子の蒸着
部分に酸素を供給し、磁気特性の向上を図ろうとするこ
とが試みられた。すなわち、ＰＥＴフィルム２３の走行
方向とは逆方向に酸素を供給することが提案（特公昭６
１−５６５６３号公報）されたのである。そして、この
ものは、それなりの特長を奏するものであった。
【０００５】
【発明の開示】しかしながら、前記提案のものでは満足
できていなかったことから、更なる検討を鋭意押し進め
て行った結果、磁気特性の向上効果は磁性薄膜の堆積面
に対する酸素ガスの吹付角度によって大きく変わること
が見出されるに至った。すなわち、特公昭６１−５６５
６３号公報の提案の如く、磁性薄膜の堆積面に対して平
行方向に酸素ガスを吹き付けるのではなく、垂直に吹き
付けると、この場合には保磁力が格段に向上し、又、ス
チル耐久性や耐蝕性も大幅に改善されるに至ることを見
出したのである。
できていなかったことから、更なる検討を鋭意押し進め
て行った結果、磁気特性の向上効果は磁性薄膜の堆積面
に対する酸素ガスの吹付角度によって大きく変わること
が見出されるに至った。すなわち、特公昭６１−５６５
６３号公報の提案の如く、磁性薄膜の堆積面に対して平
行方向に酸素ガスを吹き付けるのではなく、垂直に吹き
付けると、この場合には保磁力が格段に向上し、又、ス
チル耐久性や耐蝕性も大幅に改善されるに至ることを見
出したのである。
【０００６】このような知見を基にして本発明が達成さ
れたものであり、本発明は、保磁力や飽和磁束密度など
の磁気特性に優れ、かつ、耐久性や耐蝕性にも優れた磁
気記録媒体を提供することを目的とする。この本発明の
目的は、非磁性の支持体上に磁性材料を堆積させ、金属
薄膜型の磁気記録媒体を製造する方法であって、磁性材
料の堆積時ないしは堆積直後の時点において、金属薄膜
面に対して略垂直に酸化性のガスをあてることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
れたものであり、本発明は、保磁力や飽和磁束密度など
の磁気特性に優れ、かつ、耐久性や耐蝕性にも優れた磁
気記録媒体を提供することを目的とする。この本発明の
目的は、非磁性の支持体上に磁性材料を堆積させ、金属
薄膜型の磁気記録媒体を製造する方法であって、磁性材
料の堆積時ないしは堆積直後の時点において、金属薄膜
面に対して略垂直に酸化性のガスをあてることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
【０００７】又、非磁性の支持体上に磁性材料を堆積さ
せ、金属薄膜型の磁気記録媒体を製造する方法であっ
て、磁性材料の堆積時ないしは堆積直後の時点におい
て、金属薄膜面に対して略垂直に高温の酸化性のガスを
あてることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法によっ
て達成される。又、非磁性の支持体上に磁性材料を堆積
させ、金属薄膜型の磁気記録媒体を製造する装置であっ
て、非磁性の支持体に磁性材料が堆積時ないしは堆積直
後の時点において金属薄膜面に対して略垂直に酸化性の
ガスをあてるノズルを具備してなることを特徴とする磁
気記録媒体の製造装置によって達成される。
せ、金属薄膜型の磁気記録媒体を製造する方法であっ
て、磁性材料の堆積時ないしは堆積直後の時点におい
て、金属薄膜面に対して略垂直に高温の酸化性のガスを
あてることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法によっ
て達成される。又、非磁性の支持体上に磁性材料を堆積
させ、金属薄膜型の磁気記録媒体を製造する装置であっ
て、非磁性の支持体に磁性材料が堆積時ないしは堆積直
後の時点において金属薄膜面に対して略垂直に酸化性の
ガスをあてるノズルを具備してなることを特徴とする磁
気記録媒体の製造装置によって達成される。
【０００８】又、非磁性の支持体上に磁性材料を堆積さ
せ、金属薄膜型の磁気記録媒体を製造する装置であっ
て、非磁性の支持体に磁性材料が堆積時ないしは堆積直
後の時点において金属薄膜面に対して略垂直に酸化性の
ガスをあてるノズルと、酸化性のガスを加熱する加熱手
段とを具備してなることを特徴とする磁気記録媒体の製
造装置によって達成される。
せ、金属薄膜型の磁気記録媒体を製造する装置であっ
て、非磁性の支持体に磁性材料が堆積時ないしは堆積直
後の時点において金属薄膜面に対して略垂直に酸化性の
ガスをあてるノズルと、酸化性のガスを加熱する加熱手
段とを具備してなることを特徴とする磁気記録媒体の製
造装置によって達成される。
【０００９】尚、酸化性のガスの吹付量は、磁性材料の
種類、磁性膜の厚さ、幅などによっても多少の相違は有
るが、約５０〜１０００ｃｃ／ｍｉｎ程度である。但
し、幅が５０ｃｍを越えるような場合には１０００ｃｃ
／ｍｉｎ以上を要することも有る。又、空気、酸素やオ
ゾンのような酸化性のガスは常温であっても良いが、約
５０〜２５０℃に加熱されている場合に特長が一層発揮
されていることから好ましい。
種類、磁性膜の厚さ、幅などによっても多少の相違は有
るが、約５０〜１０００ｃｃ／ｍｉｎ程度である。但
し、幅が５０ｃｍを越えるような場合には１０００ｃｃ
／ｍｉｎ以上を要することも有る。又、空気、酸素やオ
ゾンのような酸化性のガスは常温であっても良いが、約
５０〜２５０℃に加熱されている場合に特長が一層発揮
されていることから好ましい。
【００１０】以下、具体的な実施例を挙げて説明する。
【００１１】
〔実施例１〕図１は、本発明になる磁気記録媒体の製造
装置の概略図である。同図中、１は冷却キャン、２ａは
支持体３の供給側ロール、２ｂは支持体３の巻取側ロー
ル、４は防着板、５はルツボ、６は磁性金属、７は真空
容器である。
装置の概略図である。同図中、１は冷却キャン、２ａは
支持体３の供給側ロール、２ｂは支持体３の巻取側ロー
ル、４は防着板、５はルツボ、６は磁性金属、７は真空
容器である。
【００１２】８はノズルであり、このノズル８のノズル
口８ａは冷却キャン１の中心に向かって配設されてい
る。支持体３は非磁性のものであり、この支持体３はＰ
ＥＴ等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
スルフォン、ポリカーボネート、ポリプロピレン等のオ
レフィン系の樹脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系
の樹脂といった高分子材料、ガラスやセラミック等の無
機系材料、アルミニウム合金などの金属材料が用いられ
る。そして、支持体３面上には、必要に応じて磁性層
（磁性薄膜）の密着性を向上させる為のアンダーコート
層が設けられている。すなわち、表面の粗さを適度に粗
すことにより、例えば斜め蒸着法により構成される磁性
薄膜の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面の表
面粗さを適度なものとして走行性を改善する為、例えば
ＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５〜０．
１μｍの塗膜を設けることによってアンダーコート層が
構成されている。
口８ａは冷却キャン１の中心に向かって配設されてい
る。支持体３は非磁性のものであり、この支持体３はＰ
ＥＴ等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
スルフォン、ポリカーボネート、ポリプロピレン等のオ
レフィン系の樹脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系
の樹脂といった高分子材料、ガラスやセラミック等の無
機系材料、アルミニウム合金などの金属材料が用いられ
る。そして、支持体３面上には、必要に応じて磁性層
（磁性薄膜）の密着性を向上させる為のアンダーコート
層が設けられている。すなわち、表面の粗さを適度に粗
すことにより、例えば斜め蒸着法により構成される磁性
薄膜の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面の表
面粗さを適度なものとして走行性を改善する為、例えば
ＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５〜０．
１μｍの塗膜を設けることによってアンダーコート層が
構成されている。
【００１３】ルツボ５に充填される磁性金属としては、
例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合
金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃ
ｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたも
の等が挙げられる。
例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合
金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃ
ｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたも
の等が挙げられる。
【００１４】上記のように構成させた装置において、真
空容器７内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度、例えば２×
１０-5Ｔｏｒｒの真空度に排気した後、抵抗加熱、高周
波加熱、電子ビーム加熱などによりルツボ５内の磁性金
属６を蒸発させ、ＰＥＴフィルム等の支持体３に対して
０．０４〜２μｍ厚さ磁性金属６を蒸着させることによ
って金属薄膜型の磁気記録媒体が製造される。
空容器７内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度、例えば２×
１０-5Ｔｏｒｒの真空度に排気した後、抵抗加熱、高周
波加熱、電子ビーム加熱などによりルツボ５内の磁性金
属６を蒸発させ、ＰＥＴフィルム等の支持体３に対して
０．０４〜２μｍ厚さ磁性金属６を蒸着させることによ
って金属薄膜型の磁気記録媒体が製造される。
【００１５】この磁性薄膜の形成に際しては、ノズル８
のノズル口８ａから酸素ガスが磁性金属６の蒸着部分に
約１００〜３００ｃｃ／ｍｉｎ程度の割合で吹き付けら
れ、磁性薄膜の表層部分が強制酸化させられる。尚、図
１からも判る通り、磁性金属６が堆積して磁性薄膜が形
成された瞬間から直後の間である位置において酸素ガス
が吹き付けられるよう、かつ、その吹付角度（衝突角
度）が９０°であるようノズル８のノズル口８ａはセッ
ティングされている。
のノズル口８ａから酸素ガスが磁性金属６の蒸着部分に
約１００〜３００ｃｃ／ｍｉｎ程度の割合で吹き付けら
れ、磁性薄膜の表層部分が強制酸化させられる。尚、図
１からも判る通り、磁性金属６が堆積して磁性薄膜が形
成された瞬間から直後の間である位置において酸素ガス
が吹き付けられるよう、かつ、その吹付角度（衝突角
度）が９０°であるようノズル８のノズル口８ａはセッ
ティングされている。
【００１６】このようにして磁性薄膜が形成され、そし
て酸化処理が施され、巻取側ロール２ｂに巻き取られた
後、巻取側ロール２ｂを取り出し、そして平均粒径２０
ｎｍのカーボンブラック及び塩化ビニル系樹脂とウレタ
ンプレポリマーとからなるバインダ樹脂を分散させてな
るバックコート用の塗料をダイレクトグラビア法により
磁性層とは反対側の支持体３に塗布し、乾燥厚さが０．
５μｍのバックコート層を設ける。
て酸化処理が施され、巻取側ロール２ｂに巻き取られた
後、巻取側ロール２ｂを取り出し、そして平均粒径２０
ｎｍのカーボンブラック及び塩化ビニル系樹脂とウレタ
ンプレポリマーとからなるバインダ樹脂を分散させてな
るバックコート用の塗料をダイレクトグラビア法により
磁性層とは反対側の支持体３に塗布し、乾燥厚さが０．
５μｍのバックコート層を設ける。
【００１７】そして、フッ素パーフルオロポリエーテル
（グレード：ＦＯＭＢＬＩＮ ＺＤＩＡＣ カルボキシ
ル基変性、日本モンテジソン社製）をフッ素不活性液体
（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）に
０．１％となるよう希釈・分散させた塗料をダイ塗工方
式により乾燥後の厚さが２０Å程度となるよう磁性面に
塗布し、７０℃で乾燥させる。
（グレード：ＦＯＭＢＬＩＮ ＺＤＩＡＣ カルボキシ
ル基変性、日本モンテジソン社製）をフッ素不活性液体
（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）に
０．１％となるよう希釈・分散させた塗料をダイ塗工方
式により乾燥後の厚さが２０Å程度となるよう磁性面に
塗布し、７０℃で乾燥させる。
【００１８】この後、所定の幅にスリットし、磁気テー
プなどにする。ところで、磁性金属としてＣｏ−Ｎｉ
（８０ａｔ％−２０ａｔ％）合金を用い、電子銃を用い
て１５００Å厚さの磁性薄膜を１０μｍのＰＥＴフィル
ム上に堆積させ、この堆積時に酸素ガス（純度９９．９
％）を吹き付けた場合における磁気特性（保磁力、飽和
磁束密度）、及び耐久性や耐蝕性を調べたので、その結
果を下記の表−１に示す。
プなどにする。ところで、磁性金属としてＣｏ−Ｎｉ
（８０ａｔ％−２０ａｔ％）合金を用い、電子銃を用い
て１５００Å厚さの磁性薄膜を１０μｍのＰＥＴフィル
ム上に堆積させ、この堆積時に酸素ガス（純度９９．９
％）を吹き付けた場合における磁気特性（保磁力、飽和
磁束密度）、及び耐久性や耐蝕性を調べたので、その結
果を下記の表−１に示す。
【００１９】 表−１ 酸 素 ガ ス 保磁力 飽和磁束密度 耐久性 耐蝕性 吹付量 温度 （Oe) （Ｇ） 実施例１ 100cc/min 25℃ 1180 6400 -1.5dB ７％ 実施例２ 150cc/min 25℃ 1210 6100 -1.4dB ５％ 実施例３ 200cc/min 25℃ 1310 5100 -1.1dB ４％ 実施例４ 100cc/min 50℃ 1190 6200 -1.4dB ６％ 実施例５ 150cc/min 50℃ 1330 5600 -0.7dB ５％ 実施例６ 200cc/min 50℃ 1420 4800 -0.4dB ３％ 実施例７ 100cc/min 80℃ 1320 5600 -0.5dB ４％ 実施例８ 150cc/min 80℃ 1410 5000 -0.4dB ３％ 実施例９ 200cc/min 80℃ 1440 4200 -0.3dB ２％ 比較例１ 150cc/min 25℃ 1180 5300 -1.8dB ９％ 比較例２ − − 460 8800 − １６％ ＊比較例１は特公昭６１−５６５６３号公報提案の技術
の如く、酸素ガスの吹付方向はテープ走行方向とは１８
０°逆の方向の場合 ＊比較例２は酸素ガスを吹き付けない場合 ＊耐久性は３時間スチル再生した場合の再生出力の低下
で表示 ＊耐蝕性は温度６０℃、湿度９０％ＲＨ下に３０日間放
置後の飽和磁束密度の減少率で表示 これによれば、蒸着手段で磁性薄膜を形成するに際し
て、成膜直後の磁性薄膜に酸素ガスを吹き付けることに
よって磁気特性や耐久性並びに耐蝕性が向上することが
判る。
の如く、酸素ガスの吹付方向はテープ走行方向とは１８
０°逆の方向の場合 ＊比較例２は酸素ガスを吹き付けない場合 ＊耐久性は３時間スチル再生した場合の再生出力の低下
で表示 ＊耐蝕性は温度６０℃、湿度９０％ＲＨ下に３０日間放
置後の飽和磁束密度の減少率で表示 これによれば、蒸着手段で磁性薄膜を形成するに際し
て、成膜直後の磁性薄膜に酸素ガスを吹き付けることに
よって磁気特性や耐久性並びに耐蝕性が向上することが
判る。
【００２０】しかしながら、単に、酸素ガスを吹き付け
れば良いと言うのではなく、成膜直後の磁性薄膜に対し
て９０°の角度で酸素ガスが衝突するように吹き付けら
れることが大事なことも判る。つまり、成膜直後の磁性
薄膜に対して９０°の角度で酸素ガスが衝突するように
吹き付けられた場合には、磁気特性の向上効果や耐久性
並びに耐蝕性の改善効果が著しかったのである。
れば良いと言うのではなく、成膜直後の磁性薄膜に対し
て９０°の角度で酸素ガスが衝突するように吹き付けら
れることが大事なことも判る。つまり、成膜直後の磁性
薄膜に対して９０°の角度で酸素ガスが衝突するように
吹き付けられた場合には、磁気特性の向上効果や耐久性
並びに耐蝕性の改善効果が著しかったのである。
【００２１】
【効果】本発明によれば、磁気特性の向上効果や耐久性
並びに耐蝕性の改善効果が著しく、高性能な磁気記録媒
体が得られる。
並びに耐蝕性の改善効果が著しく、高性能な磁気記録媒
体が得られる。
【図１】本発明になる磁気記録媒体の製造装置の概略説
明図
明図
【図２】従来の磁気記録媒体の製造装置の概略説明図
１ 冷却キャン ２ａ 供給側ロール ２ｂ 巻取側ロール ３ 支持体 ５ ルツボ ６ 磁性金属 ８ ノズル ８ａ ノズル口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 非磁性の支持体上に磁性材料を堆積さ
せ、金属薄膜型の磁気記録媒体を製造する方法であっ
て、磁性材料の堆積時ないしは堆積直後の時点におい
て、金属薄膜面に対して略垂直に酸化性のガスをあてる
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 非磁性の支持体上に磁性材料を堆積さ
せ、金属薄膜型の磁気記録媒体を製造する方法であっ
て、磁性材料の堆積時ないしは堆積直後の時点におい
て、金属薄膜面に対して略垂直に高温の酸化性のガスを
あてることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 非磁性の支持体上に磁性材料を堆積さ
せ、金属薄膜型の磁気記録媒体を製造する装置であっ
て、非磁性の支持体に磁性材料が堆積時ないしは堆積直
後の時点において金属薄膜面に対して略垂直に酸化性の
ガスをあてるノズルを具備してなることを特徴とする磁
気記録媒体の製造装置。 - 【請求項４】 非磁性の支持体上に磁性材料を堆積さ
せ、金属薄膜型の磁気記録媒体を製造する装置であっ
て、非磁性の支持体に磁性材料が堆積時ないしは堆積直
後の時点において金属薄膜面に対して略垂直に酸化性の
ガスをあてるノズルと、酸化性のガスを加熱する加熱手
段とを具備してなることを特徴とする磁気記録媒体の製
造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21542693A JPH0773459A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 磁気記録媒体の製造方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21542693A JPH0773459A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 磁気記録媒体の製造方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0773459A true JPH0773459A (ja) | 1995-03-17 |
Family
ID=16672148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21542693A Pending JPH0773459A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 磁気記録媒体の製造方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0773459A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015081374A (ja) * | 2013-10-23 | 2015-04-27 | 住友金属鉱山株式会社 | 両面成膜方法と両面成膜装置および金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 |
-
1993
- 1993-08-31 JP JP21542693A patent/JPH0773459A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015081374A (ja) * | 2013-10-23 | 2015-04-27 | 住友金属鉱山株式会社 | 両面成膜方法と両面成膜装置および金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 |
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