JPH0798852A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0798852A JPH0798852A JP24437993A JP24437993A JPH0798852A JP H0798852 A JPH0798852 A JP H0798852A JP 24437993 A JP24437993 A JP 24437993A JP 24437993 A JP24437993 A JP 24437993A JP H0798852 A JPH0798852 A JP H0798852A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 走行性が良く、かつ、ドロップアウトが起き
難くて、再生特性に優れた磁気記録媒体を生産性良く得
ることの出来る技術を提供することである。 【構成】 支持体の一面に乾式メッキ手段でバックコー
ト膜を設ける工程と、支持体の他面に乾式メッキ手段で
金属磁性膜を設ける工程と、前記バックコート膜及び金
属磁性膜が設けられた支持体を潤滑剤溶液中を走行させ
る工程とを具備する磁気記録媒体の製造方法。
難くて、再生特性に優れた磁気記録媒体を生産性良く得
ることの出来る技術を提供することである。 【構成】 支持体の一面に乾式メッキ手段でバックコー
ト膜を設ける工程と、支持体の他面に乾式メッキ手段で
金属磁性膜を設ける工程と、前記バックコート膜及び金
属磁性膜が設けられた支持体を潤滑剤溶液中を走行させ
る工程とを具備する磁気記録媒体の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特に金属薄膜型の磁気
記録媒体の製造方法に関するものである。
記録媒体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体には、非磁
性支持体であるフィルム上に磁性粉やバインダを溶剤中
に分散させた磁性塗料を塗布してなる塗布型のものと、
バインダを用いず、磁性金属粒子をフィルム上に堆積さ
せてなる金属薄膜型のものとがある。
性支持体であるフィルム上に磁性粉やバインダを溶剤中
に分散させた磁性塗料を塗布してなる塗布型のものと、
バインダを用いず、磁性金属粒子をフィルム上に堆積さ
せてなる金属薄膜型のものとがある。
【０００３】これらの中、金属薄膜型の磁気記録媒体
は、磁性層にバインダを含まないことから、磁性材料の
充填密度が高く、高密度記録に適したものであると言わ
れている。ところで、現在発売又は開発されている金属
薄膜型の磁気記録媒体は、図４に示される構成である。
尚、図４中、３０はポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルム、３１はＣｏ−Ｎｉ合金などの磁性膜、３
２は潤滑剤の膜、３３はカーボンブラック等をバインダ
樹脂中に分散させてなるバックコート層である。
は、磁性層にバインダを含まないことから、磁性材料の
充填密度が高く、高密度記録に適したものであると言わ
れている。ところで、現在発売又は開発されている金属
薄膜型の磁気記録媒体は、図４に示される構成である。
尚、図４中、３０はポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルム、３１はＣｏ−Ｎｉ合金などの磁性膜、３
２は潤滑剤の膜、３３はカーボンブラック等をバインダ
樹脂中に分散させてなるバックコート層である。
【０００４】このような構造の磁気記録媒体は、図５の
ような真空蒸着装置によって磁性膜３１を成膜した後、
真空蒸着装置から取り出し、磁性膜３１の上に潤滑剤を
塗布して潤滑膜３２を形成し、又、ＰＥＴフィルム３０
の裏面にバックコート用の塗料を塗布してバックコート
層３３を形成しているのが通常である。尚、図５中、４
１は冷却キャンロール、４２ａはＰＥＴフィルム３０の
供給側ロール、４２ｂはＰＥＴフィルム３０の巻取側ロ
ール、４３はルツボ、４４は磁性金属、４５は真空容器
である。
ような真空蒸着装置によって磁性膜３１を成膜した後、
真空蒸着装置から取り出し、磁性膜３１の上に潤滑剤を
塗布して潤滑膜３２を形成し、又、ＰＥＴフィルム３０
の裏面にバックコート用の塗料を塗布してバックコート
層３３を形成しているのが通常である。尚、図５中、４
１は冷却キャンロール、４２ａはＰＥＴフィルム３０の
供給側ロール、４２ｂはＰＥＴフィルム３０の巻取側ロ
ール、４３はルツボ、４４は磁性金属、４５は真空容器
である。
【０００５】しかしながら、このような製造方法は、磁
性膜３１の形成が蒸着手段といった方法であるのに、バ
ックコート層３３の形成が塗布手段といった方法であ
り、各々の手段が違い過ぎることから、製造がそれだけ
煩瑣なものとなっている。
性膜３１の形成が蒸着手段といった方法であるのに、バ
ックコート層３３の形成が塗布手段といった方法であ
り、各々の手段が違い過ぎることから、製造がそれだけ
煩瑣なものとなっている。
【０００６】
【発明の開示】上記のような問題点に対する検討が鋭意
押し進められて行った結果、バックコート層の形成も磁
性膜の形成と同様な手段、すなわち蒸着手段のような乾
式メッキ手段の採用が提案されるに至った。しかしなが
ら、磁性膜のみならず、バックコート層（膜）も、従来
のような塗膜ではなく、金属薄膜で構成させると、この
ものは走行性が大幅に低下し、記録・再生特性は芳しい
ものではなかった。
押し進められて行った結果、バックコート層の形成も磁
性膜の形成と同様な手段、すなわち蒸着手段のような乾
式メッキ手段の採用が提案されるに至った。しかしなが
ら、磁性膜のみならず、バックコート層（膜）も、従来
のような塗膜ではなく、金属薄膜で構成させると、この
ものは走行性が大幅に低下し、記録・再生特性は芳しい
ものではなかった。
【０００７】そこで、金属磁性膜の表面に設けていた潤
滑剤を金属薄膜型のバックコート膜上にも設けることを
試みた処、このような磁気記録媒体の走行性は大幅に改
善されていることが判って来た。しかしながら、グラビ
アコータを用いて金属磁性膜の表面に潤滑剤を設けた
後、再度、グラビアコータを用いて金属薄膜型のバック
コート膜の表面に潤滑剤を設けた磁気記録媒体、あるい
は、逆に、グラビアコータを用いて金属薄膜型のバック
コート膜の表面に潤滑剤を設けた後、再度、グラビアコ
ータを用いて金属磁性膜の表面に潤滑剤を設けた磁気記
録媒体は、ドロップアウトの発生率が高く、これに対す
る改善が求められるに至った。
滑剤を金属薄膜型のバックコート膜上にも設けることを
試みた処、このような磁気記録媒体の走行性は大幅に改
善されていることが判って来た。しかしながら、グラビ
アコータを用いて金属磁性膜の表面に潤滑剤を設けた
後、再度、グラビアコータを用いて金属薄膜型のバック
コート膜の表面に潤滑剤を設けた磁気記録媒体、あるい
は、逆に、グラビアコータを用いて金属薄膜型のバック
コート膜の表面に潤滑剤を設けた後、再度、グラビアコ
ータを用いて金属磁性膜の表面に潤滑剤を設けた磁気記
録媒体は、ドロップアウトの発生率が高く、これに対す
る改善が求められるに至った。
【０００８】このドロップアウトに対する研究開発が鋭
意押し進められて行った結果、潤滑剤を各々の面に別々
に塗布するのではなく、潤滑剤溶液中を潜らせることに
よって一度に塗布させると、このものは別々に塗布する
方式に比べてドロップアウトの発生率が大幅に低下する
ことが見出されるに至った。本発明はこのような知見に
基づいてなされたものであり、本発明の目的は、走行性
が良く、かつ、ドロップアウトが起き難くて、再生特性
に優れた磁気記録媒体を生産性良く得ることの出来る技
術を提供することである。
意押し進められて行った結果、潤滑剤を各々の面に別々
に塗布するのではなく、潤滑剤溶液中を潜らせることに
よって一度に塗布させると、このものは別々に塗布する
方式に比べてドロップアウトの発生率が大幅に低下する
ことが見出されるに至った。本発明はこのような知見に
基づいてなされたものであり、本発明の目的は、走行性
が良く、かつ、ドロップアウトが起き難くて、再生特性
に優れた磁気記録媒体を生産性良く得ることの出来る技
術を提供することである。
【０００９】この本発明の目的は、支持体の一面に乾式
メッキ手段でバックコート膜を設ける工程と、支持体の
他面に乾式メッキ手段で金属磁性膜を設ける工程と、前
記バックコート膜及び金属磁性膜が設けられた支持体を
潤滑剤溶液中を走行させる工程とを具備することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
尚、バックコート膜及び金属磁性膜が設けられた支持体
を潤滑剤溶液中を走行させるに際して、潤滑剤溶液には
超音波振動を作用させておくことが好ましい。
メッキ手段でバックコート膜を設ける工程と、支持体の
他面に乾式メッキ手段で金属磁性膜を設ける工程と、前
記バックコート膜及び金属磁性膜が設けられた支持体を
潤滑剤溶液中を走行させる工程とを具備することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
尚、バックコート膜及び金属磁性膜が設けられた支持体
を潤滑剤溶液中を走行させるに際して、潤滑剤溶液には
超音波振動を作用させておくことが好ましい。
【００１０】以下、本発明について詳しく述べる。本発
明の磁気記録媒体に用いられる非磁性の支持体として
は、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の
ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォ
ン、ポリカーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン
系の樹脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂と
いった高分子材料などが用いられる。そして、支持体面
上には、必要に応じて密着性を向上させる為のアンダー
コート層が設けられている。すなわち、表面の粗さを適
度に粗すことにより、例えば斜め蒸着法により構成され
る薄膜の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面の
表面粗さを適度なものとして走行性を改善する為、例え
ばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５〜
０．１μｍの塗膜を設けることによってアンダーコート
層が構成されている。
明の磁気記録媒体に用いられる非磁性の支持体として
は、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の
ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォ
ン、ポリカーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン
系の樹脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂と
いった高分子材料などが用いられる。そして、支持体面
上には、必要に応じて密着性を向上させる為のアンダー
コート層が設けられている。すなわち、表面の粗さを適
度に粗すことにより、例えば斜め蒸着法により構成され
る薄膜の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面の
表面粗さを適度なものとして走行性を改善する為、例え
ばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５〜
０．１μｍの塗膜を設けることによってアンダーコート
層が構成されている。
【００１１】非磁性の支持体面上に金属磁性膜が設けら
れる。金属磁性膜の材料としては、例えばＦｅ，Ｃｏ，
Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合
金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎ
ｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、あるいは
これらにＡｌ等の金属を含有させたもの等が用いられ
る。尚、金属磁性膜の厚さは、例えば５００〜５０００
Å程度であることが好ましい。
れる。金属磁性膜の材料としては、例えばＦｅ，Ｃｏ，
Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合
金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎ
ｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、あるいは
これらにＡｌ等の金属を含有させたもの等が用いられ
る。尚、金属磁性膜の厚さは、例えば５００〜５０００
Å程度であることが好ましい。
【００１２】非磁性の支持体の反対側の面上にバックコ
ート膜が設けられる。バックコート膜の材料としては、
例えばＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの
群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金や
Ａｌ−Ｓｉ系合金を用いることが出来る。尚、Ｃｕ−Ａ
ｌ−Ｘ系合金を用いる場合には、Ａｌ含有量は５〜３０
ａｔ％であり、Ｘ含有量が５ａｔ％以下であることが好
ましい。特に、好ましくはＣｕ含有量は７０〜９０ａｔ
％、Ａｌ含有量は８〜２５ａｔ％、Ｍｎ含有量が０．５
〜４ａｔ％で、Ｆｅ含有量が０．４〜５ａｔ％で、Ｎｉ
含有量が０．４〜４ａｔ％であり、Ｍｎ，Ｆｅ，Ｎｉの
総含有量が１〜６ａｔ％であることが好ましい。Ａｌ−
Ｓｉ系合金を用いる場合には、Ａｌ含有量は１５〜７０
ａｔ％、Ｓｉ含有量は１５〜７０ａｔ％であることが好
ましい。
ート膜が設けられる。バックコート膜の材料としては、
例えばＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの
群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金や
Ａｌ−Ｓｉ系合金を用いることが出来る。尚、Ｃｕ−Ａ
ｌ−Ｘ系合金を用いる場合には、Ａｌ含有量は５〜３０
ａｔ％であり、Ｘ含有量が５ａｔ％以下であることが好
ましい。特に、好ましくはＣｕ含有量は７０〜９０ａｔ
％、Ａｌ含有量は８〜２５ａｔ％、Ｍｎ含有量が０．５
〜４ａｔ％で、Ｆｅ含有量が０．４〜５ａｔ％で、Ｎｉ
含有量が０．４〜４ａｔ％であり、Ｍｎ，Ｆｅ，Ｎｉの
総含有量が１〜６ａｔ％であることが好ましい。Ａｌ−
Ｓｉ系合金を用いる場合には、Ａｌ含有量は１５〜７０
ａｔ％、Ｓｉ含有量は１５〜７０ａｔ％であることが好
ましい。
【００１３】支持体面に設けられる金属磁性膜とバック
コート膜との関係は、金属磁性膜によって現れる応力の
方向とバックコート膜によって現れる応力の方向とが同
じであることが好ましい。例えば、金属磁性膜によって
現れる応力が引っ張り応力タイプの場合には、バックコ
ート膜によって現れる応力も引っ張り応力タイプのもの
となるようバックコート膜の種類や形成条件を選定する
ことが好ましい。かつ、双方の膜が引っ張り応力タイプ
のものである場合には、バックコート膜によって現れる
応力の絶対値が金属磁性膜によって現れる応力よりも大
きくなるよう設計し、これによってカール率が０〜１５
％、特に５〜１０％であるようにすることが一層好まし
い。又、金属磁性膜によって現れる応力が圧縮応力タイ
プの場合には、バックコート膜によって現れる応力も圧
縮応力タイプのものとなるようバックコート膜の種類や
形成条件を選定することが好ましい。かつ、双方の膜が
圧縮応力タイプのものである場合には、バックコート膜
によって現れる応力の絶対値が金属磁性膜によって現れ
る応力よりも小さくなるよう設計し、これによってカー
ル率が０〜１５％、特に５〜１０％であるようにするこ
とが一層好ましい。
コート膜との関係は、金属磁性膜によって現れる応力の
方向とバックコート膜によって現れる応力の方向とが同
じであることが好ましい。例えば、金属磁性膜によって
現れる応力が引っ張り応力タイプの場合には、バックコ
ート膜によって現れる応力も引っ張り応力タイプのもの
となるようバックコート膜の種類や形成条件を選定する
ことが好ましい。かつ、双方の膜が引っ張り応力タイプ
のものである場合には、バックコート膜によって現れる
応力の絶対値が金属磁性膜によって現れる応力よりも大
きくなるよう設計し、これによってカール率が０〜１５
％、特に５〜１０％であるようにすることが一層好まし
い。又、金属磁性膜によって現れる応力が圧縮応力タイ
プの場合には、バックコート膜によって現れる応力も圧
縮応力タイプのものとなるようバックコート膜の種類や
形成条件を選定することが好ましい。かつ、双方の膜が
圧縮応力タイプのものである場合には、バックコート膜
によって現れる応力の絶対値が金属磁性膜によって現れ
る応力よりも小さくなるよう設計し、これによってカー
ル率が０〜１５％、特に５〜１０％であるようにするこ
とが一層好ましい。
【００１４】上記金属磁性膜やバックコート膜は、蒸着
法、直流スパッタ法、交流スパッタ法、高周波スパッタ
法、直流マグネトロンスパッタ法、高周波マグネトロン
スパッタ法、イオンビームスパッタ法などの各種の乾式
メッキ手段を採用できる。乾式メッキ手段でバックコー
ト膜を設ける工程と、乾式メッキ手段で金属磁性膜を設
ける工程とは、どちらが先にあっても良い。勿論、同時
になされても良いが、バックコート膜を設けた後に金属
磁性膜を設けるようにすることが好ましい。
法、直流スパッタ法、交流スパッタ法、高周波スパッタ
法、直流マグネトロンスパッタ法、高周波マグネトロン
スパッタ法、イオンビームスパッタ法などの各種の乾式
メッキ手段を採用できる。乾式メッキ手段でバックコー
ト膜を設ける工程と、乾式メッキ手段で金属磁性膜を設
ける工程とは、どちらが先にあっても良い。勿論、同時
になされても良いが、バックコート膜を設けた後に金属
磁性膜を設けるようにすることが好ましい。
【００１５】このような乾式メッキ膜を形成する装置
は、例えば蒸着装置を二つ用意し、第１の蒸着装置で支
持体の一面にバックコート膜を設けた後、第２の蒸着装
置で支持体の他面に金属磁性膜を設けるように構成させ
たもであっても良い。勿論、二つの蒸着装置が独立タイ
プのものであっても、つながっているタイプのものであ
っても良い。
は、例えば蒸着装置を二つ用意し、第１の蒸着装置で支
持体の一面にバックコート膜を設けた後、第２の蒸着装
置で支持体の他面に金属磁性膜を設けるように構成させ
たもであっても良い。勿論、二つの蒸着装置が独立タイ
プのものであっても、つながっているタイプのものであ
っても良い。
【００１６】又、冷却キャンと、この冷却キャンに支持
体を添接させる第１の添接手段と、この第１の添接手段
による支持体添接方向とは逆に支持体を添接させる為に
反転させる反転手段と、この反転手段で反転させられた
支持体を前記冷却キャンに添接させる第２の添接手段
と、前記冷却キャンに添接させた支持体の一面にバック
コート膜を設ける第１の蒸着手段と、前記冷却キャンに
添接させた支持体の他面に金属磁性膜を設ける第２の蒸
着手段とを具備した磁気記録媒体の製造装置であっても
良い。すなわち、バックコート膜形成用と金属磁性膜形
成用の真空槽を各々用意するものの、冷却キャンを兼用
したタイプのものを用いることも出来る。
体を添接させる第１の添接手段と、この第１の添接手段
による支持体添接方向とは逆に支持体を添接させる為に
反転させる反転手段と、この反転手段で反転させられた
支持体を前記冷却キャンに添接させる第２の添接手段
と、前記冷却キャンに添接させた支持体の一面にバック
コート膜を設ける第１の蒸着手段と、前記冷却キャンに
添接させた支持体の他面に金属磁性膜を設ける第２の蒸
着手段とを具備した磁気記録媒体の製造装置であっても
良い。すなわち、バックコート膜形成用と金属磁性膜形
成用の真空槽を各々用意するものの、冷却キャンを兼用
したタイプのものを用いることも出来る。
【００１７】尚、これらの膜の形成時に酸化性ガスを供
給し、表層部分を酸化させ、酸化膜による保護膜が形成
されるようにすることが好ましいものである。上記のよ
うにして支持体の各々の面にバックコート膜と金属磁性
膜とが設けられた後、この支持体は潤滑剤の溶液中に漬
けられ、両面に潤滑剤の膜が設けられる。
給し、表層部分を酸化させ、酸化膜による保護膜が形成
されるようにすることが好ましいものである。上記のよ
うにして支持体の各々の面にバックコート膜と金属磁性
膜とが設けられた後、この支持体は潤滑剤の溶液中に漬
けられ、両面に潤滑剤の膜が設けられる。
【００１８】用いられる潤滑剤としてはパーフロオロポ
リエーテル、例えば-(C(R)F-CF2-O) p - （但し、Ｒは
Ｆ，ＣＦ3 ，ＣＨ3 などの基）、特にHOOC-CF2(O-C2F4)
p (OCF 2) q -OCF2-COOH ，F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2COO
H といったようなカルボキシル基変性パーフロオロポリ
エーテル、HOCH2-CF2(O-C2F4) p (OCF2) q -OCF2-CH2O
H，HO-(C2H4-O) m -CH2-(O-C2F4) p (OCF2) q -OCH2-(O
CH2CH2)n -OH ，F-(CF2CF 2CF2O)n -CF2CF2CH2OHといっ
たようなアルコール変性パーフロオロポリエーテル等が
挙げられる。
リエーテル、例えば-(C(R)F-CF2-O) p - （但し、Ｒは
Ｆ，ＣＦ3 ，ＣＨ3 などの基）、特にHOOC-CF2(O-C2F4)
p (OCF 2) q -OCF2-COOH ，F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2COO
H といったようなカルボキシル基変性パーフロオロポリ
エーテル、HOCH2-CF2(O-C2F4) p (OCF2) q -OCF2-CH2O
H，HO-(C2H4-O) m -CH2-(O-C2F4) p (OCF2) q -OCH2-(O
CH2CH2)n -OH ，F-(CF2CF 2CF2O)n -CF2CF2CH2OHといっ
たようなアルコール変性パーフロオロポリエーテル等が
挙げられる。
【００１９】すなわち、上記のような潤滑剤溶液中を走
行させ、この後スムージング処理し、乾燥処理すること
によって、各々の面に１０〜６０Å程度の厚さの潤滑剤
の膜が設けられる。そして、このようにして得られた磁
気記録媒体は、走行性が良く、かつ、ドロップアウトが
起き難く、再生特性に優れたものであった。しかも、生
産性が高いものであった。
行させ、この後スムージング処理し、乾燥処理すること
によって、各々の面に１０〜６０Å程度の厚さの潤滑剤
の膜が設けられる。そして、このようにして得られた磁
気記録媒体は、走行性が良く、かつ、ドロップアウトが
起き難く、再生特性に優れたものであった。しかも、生
産性が高いものであった。
【００２０】以下、具体的な実施例を挙げて本発明を説
明する。
明する。
【００２１】
【実施例】図１〜図３は本発明の一実施例を示すもの
で、図１は本発明になる磁気記録媒体の製造装置におけ
るバックコート膜並びに金属磁性膜の形成装置の概略
図、図２は潤滑膜形成装置の概略図、図３は得られた磁
気記録媒体の概略断面図である。
で、図１は本発明になる磁気記録媒体の製造装置におけ
るバックコート膜並びに金属磁性膜の形成装置の概略
図、図２は潤滑膜形成装置の概略図、図３は得られた磁
気記録媒体の概略断面図である。
【００２２】各図中、１はＰＥＴフィルムといった非磁
性の支持体、２は支持体１の裏面に設けられたバックコ
ート膜、３は支持体１の表面に設けられた磁性膜、４ａ
はバックコート膜２の表面に設けられた潤滑剤の膜（潤
滑膜）、４ｂは磁性膜３の表面に設けられた潤滑剤の膜
（潤滑膜）である。１１はバックコート膜２形成用の第
１の真空槽、１２は磁性膜３形成用の第２の真空槽であ
り、これら第１の真空槽１１と第２の真空槽１２とは隔
壁によって区分けされたものである。
性の支持体、２は支持体１の裏面に設けられたバックコ
ート膜、３は支持体１の表面に設けられた磁性膜、４ａ
はバックコート膜２の表面に設けられた潤滑剤の膜（潤
滑膜）、４ｂは磁性膜３の表面に設けられた潤滑剤の膜
（潤滑膜）である。１１はバックコート膜２形成用の第
１の真空槽、１２は磁性膜３形成用の第２の真空槽であ
り、これら第１の真空槽１１と第２の真空槽１２とは隔
壁によって区分けされたものである。
【００２３】これらの真空槽１１，１２には、冷却キャ
ンロール１３，１４が配設されている。１５ａは支持体
１の供給側ロール、１５ｂは支持体１の巻取側ロールで
あり、支持体１は供給側ロール１５ａから冷却キャンロ
ール１３にに巻き付けられ、そして冷却キャンロール１
３から離間してガイドローラに添接させられ、この後冷
却キャンロール１４に巻き付けられ、巻取側ロール１５
ｂに巻き取られて行くようになっている。
ンロール１３，１４が配設されている。１５ａは支持体
１の供給側ロール、１５ｂは支持体１の巻取側ロールで
あり、支持体１は供給側ロール１５ａから冷却キャンロ
ール１３にに巻き付けられ、そして冷却キャンロール１
３から離間してガイドローラに添接させられ、この後冷
却キャンロール１４に巻き付けられ、巻取側ロール１５
ｂに巻き取られて行くようになっている。
【００２４】１６は第１のルツボ、１７は第２のルツボ
であり、第１のルツボ１６にはバックコート膜構成用の
Ｃｕ−Ａｌ−Ｎｉ（８５ａｔ％−１０ａｔ％−５ａｔ
％）合金１８が充填されており、第２のルツボ１７には
磁性膜構成用のＣｏ−Ｎｉ（８０ａｔ％−２０ａｔ％）
合金１９が充填されている。そして、図示していない
が、電子銃などの手段によってルツボ内の金属が蒸発さ
せられるように構成されている。
であり、第１のルツボ１６にはバックコート膜構成用の
Ｃｕ−Ａｌ−Ｎｉ（８５ａｔ％−１０ａｔ％−５ａｔ
％）合金１８が充填されており、第２のルツボ１７には
磁性膜構成用のＣｏ−Ｎｉ（８０ａｔ％−２０ａｔ％）
合金１９が充填されている。そして、図示していない
が、電子銃などの手段によってルツボ内の金属が蒸発さ
せられるように構成されている。
【００２５】上記のように構成させた装置において、支
持体１を供給側ロール１５ａから巻取側ロール１５ｂに
走行させる。そして、先ず、第１の真空槽１１内を１０
-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度、例えば２×１０-5Ｔｏｒｒの
真空度に排気した後、抵抗加熱、高周波加熱、電子ビー
ム加熱などにより第１のルツボ１６内のバックコート膜
構成用のＣｕ−Ａｌ−Ｎｉ合金１８を蒸発させ、冷却キ
ャンロール１３に巻き付けられるように添接されている
支持体１の裏面にＣｕ−Ａｌ−Ｎｉ合金１８を１７００
Å厚さ蒸着させてバックコート膜２を形成する。
持体１を供給側ロール１５ａから巻取側ロール１５ｂに
走行させる。そして、先ず、第１の真空槽１１内を１０
-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度、例えば２×１０-5Ｔｏｒｒの
真空度に排気した後、抵抗加熱、高周波加熱、電子ビー
ム加熱などにより第１のルツボ１６内のバックコート膜
構成用のＣｕ−Ａｌ−Ｎｉ合金１８を蒸発させ、冷却キ
ャンロール１３に巻き付けられるように添接されている
支持体１の裏面にＣｕ−Ａｌ−Ｎｉ合金１８を１７００
Å厚さ蒸着させてバックコート膜２を形成する。
【００２６】バックコート膜２が形成された支持体１は
１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度、例えば２×１０-5Ｔｏｒ
ｒの真空度に排気されている第２の真空槽１２内に案内
され、冷却キャンロール１４に添接させられる。第２の
真空槽１２内に案内され、冷却キャンロール１２ｂに添
接されている支持体１の表面に、抵抗加熱、高周波加
熱、電子ビーム加熱などにより第２のルツボ１６ｂ内の
Ｃｏ−Ｎｉ合金１９を蒸発させ、支持体１の表面にＣｏ
−Ｎｉ合金１８を１５００Å厚さ蒸着させて磁性膜３を
形成する。
１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度、例えば２×１０-5Ｔｏｒ
ｒの真空度に排気されている第２の真空槽１２内に案内
され、冷却キャンロール１４に添接させられる。第２の
真空槽１２内に案内され、冷却キャンロール１２ｂに添
接されている支持体１の表面に、抵抗加熱、高周波加
熱、電子ビーム加熱などにより第２のルツボ１６ｂ内の
Ｃｏ−Ｎｉ合金１９を蒸発させ、支持体１の表面にＣｏ
−Ｎｉ合金１８を１５００Å厚さ蒸着させて磁性膜３を
形成する。
【００２７】尚、これらバックコート膜２及び磁性膜３
の形成に際しては、ノズル口から５０℃程度に加熱され
た酸素ガスが蒸着部分（金属薄膜）に約１５０ｃｃ／ｍ
ｉｎ程度の割合で吹き付けられ、金属薄膜の表層部分が
強制酸化させられる。尚、金属が堆積して薄膜が形成さ
れた瞬間から直後の間である位置において酸素ガスが吹
き付けられるよう、かつ、その吹付角度（衝突角度）が
９０°であるようノズルのノズル口はセッティングされ
ている。
の形成に際しては、ノズル口から５０℃程度に加熱され
た酸素ガスが蒸着部分（金属薄膜）に約１５０ｃｃ／ｍ
ｉｎ程度の割合で吹き付けられ、金属薄膜の表層部分が
強制酸化させられる。尚、金属が堆積して薄膜が形成さ
れた瞬間から直後の間である位置において酸素ガスが吹
き付けられるよう、かつ、その吹付角度（衝突角度）が
９０°であるようノズルのノズル口はセッティングされ
ている。
【００２８】上記のようにしてバックコート膜２並びに
磁性膜３が設けられた支持体１が巻き取られた巻取側ロ
ール１５ｂを取り出し、図２に示される装置に装填す
る。図２中、２０は潤滑剤溶液（例えばパーフルオロポ
リエーテル（グレード：ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ
カルボキシル基変性、日本モンテジソン社製）をフッ
素不活性液体（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリー
エム社製）に０．１％となるよう希釈・分散させた溶
液）が入れられている潤滑剤槽、２１は１６ｋＨｚの超
音波発振器、２２はガイドローラ、２３ａ，２３ｂはフ
イルムスムーサあるいはメタルスムーサなどのスムー
サ、２４は乾燥室である。
磁性膜３が設けられた支持体１が巻き取られた巻取側ロ
ール１５ｂを取り出し、図２に示される装置に装填す
る。図２中、２０は潤滑剤溶液（例えばパーフルオロポ
リエーテル（グレード：ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ
カルボキシル基変性、日本モンテジソン社製）をフッ
素不活性液体（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリー
エム社製）に０．１％となるよう希釈・分散させた溶
液）が入れられている潤滑剤槽、２１は１６ｋＨｚの超
音波発振器、２２はガイドローラ、２３ａ，２３ｂはフ
イルムスムーサあるいはメタルスムーサなどのスムー
サ、２４は乾燥室である。
【００２９】すなわち、図２中、上側の面が磁性膜３と
なるように巻取側ロール１５ｂを装填し、図２に示すよ
うなパス路を走行させることにより、潤滑剤がバックコ
ート膜２並びに磁性膜３の表面に塗布され、スムーサ２
３ａ，２３ｂにより厚さが制御され、乾燥処理を施すこ
とによって約２０Å厚さの潤滑膜４ａ，４ｂが設けられ
る。
なるように巻取側ロール１５ｂを装填し、図２に示すよ
うなパス路を走行させることにより、潤滑剤がバックコ
ート膜２並びに磁性膜３の表面に塗布され、スムーサ２
３ａ，２３ｂにより厚さが制御され、乾燥処理を施すこ
とによって約２０Å厚さの潤滑膜４ａ，４ｂが設けられ
る。
【００３０】そして、上記一連の作業が終わった後、原
反を所定の幅にスリットし、磁気テープなどにする。こ
のようにして得られた８ｍｍＶＴＲ用磁気テープをカセ
ットに装填し、ドロップアウトカウンタによりドロップ
アウト（１０μｓの間に１６ｄＢ低下）を測定した処、
ドロップアウトは８個／分であった。
反を所定の幅にスリットし、磁気テープなどにする。こ
のようにして得られた８ｍｍＶＴＲ用磁気テープをカセ
ットに装填し、ドロップアウトカウンタによりドロップ
アウト（１０μｓの間に１６ｄＢ低下）を測定した処、
ドロップアウトは８個／分であった。
【００３１】又、上記実施例において超音波発振器を作
動させずに得たものについては、ドロップアウトは９個
／分であった。これに対して、バックコート膜２の上に
グラビアコータによって潤滑膜４ａを設けた後、磁性膜
３の上にグラビアコータによって潤滑膜４ｂを設けるよ
うにした場合には、ドロップアウトが１５個／分であっ
た。
動させずに得たものについては、ドロップアウトは９個
／分であった。これに対して、バックコート膜２の上に
グラビアコータによって潤滑膜４ａを設けた後、磁性膜
３の上にグラビアコータによって潤滑膜４ｂを設けるよ
うにした場合には、ドロップアウトが１５個／分であっ
た。
【００３２】すなわち、本発明によればドロップアウト
の発生率が格段に低い磁気記録媒体の得られることが判
る。
の発生率が格段に低い磁気記録媒体の得られることが判
る。
【００３３】
【効果】本発明によれば、走行性が良く、かつ、ドロッ
プアウトが起き難い高性能な磁気記録媒体を効率良く得
られる。
プアウトが起き難い高性能な磁気記録媒体を効率良く得
られる。
【図１】バックコート膜並びに金属磁性膜の形成装置の
概略図
概略図
【図２】潤滑膜形成装置の概略図
【図３】磁気記録媒体の概略断面図
【図４】従来の金属薄膜型の磁気記録媒体の概略断面図
【図５】従来の金属薄膜型の磁気記録媒体の製造装置の
概略図
概略図
１ 支持体 ２ バックコート膜 ３ 磁性膜 ４ａ，４ｂ 潤滑膜 ２０ 潤滑剤槽 ２１ 超音波発振器 ２２ ガイドローラ ２３ａ，２３ｂ スムーサ ２４ 乾燥室
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 支持体の一面に乾式メッキ手段でバック
コート膜を設ける工程と、支持体の他面に乾式メッキ手
段で金属磁性膜を設ける工程と、前記バックコート膜及
び金属磁性膜が設けられた支持体を潤滑剤溶液中を走行
させる工程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。 - 【請求項２】 バックコート膜及び金属磁性膜が設けら
れた支持体を潤滑剤溶液中を走行させるに際して、超音
波振動を作用させることを特徴とする請求項１の磁気記
録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24437993A JPH0798852A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24437993A JPH0798852A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0798852A true JPH0798852A (ja) | 1995-04-11 |
Family
ID=17117813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24437993A Pending JPH0798852A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0798852A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006048801A (ja) * | 2004-08-03 | 2006-02-16 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1993
- 1993-09-30 JP JP24437993A patent/JPH0798852A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006048801A (ja) * | 2004-08-03 | 2006-02-16 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
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