JPH0765372A - 磁気記録媒体の製造方法及びその装置 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法及びその装置Info
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- JPH0765372A JPH0765372A JP21249693A JP21249693A JPH0765372A JP H0765372 A JPH0765372 A JP H0765372A JP 21249693 A JP21249693 A JP 21249693A JP 21249693 A JP21249693 A JP 21249693A JP H0765372 A JPH0765372 A JP H0765372A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気特性、耐久性、耐蝕性に優れた磁気記録
媒体を提供することを目的とする。 【構成】 支持体上に乾式メッキ手段で金属磁性薄膜を
設ける工程と、金属磁性薄膜が設けられた支持体を液体
に浸ける工程とを具備する磁気記録媒体の製造方法。
媒体を提供することを目的とする。 【構成】 支持体上に乾式メッキ手段で金属磁性薄膜を
設ける工程と、金属磁性薄膜が設けられた支持体を液体
に浸ける工程とを具備する磁気記録媒体の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体の製造方
法及びその装置に関するものである。
法及びその装置に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されている。すなわち、真空蒸着、スパッタリング
あるいはイオンプレーティングといった乾式メッキ手段
により磁性層を構成した磁気記録媒体が提案されている
ことは周知の通りである。そして、この種の磁気記録媒
体は磁性体の充填密度が高いことから、高密度記録に適
したものである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されている。すなわち、真空蒸着、スパッタリング
あるいはイオンプレーティングといった乾式メッキ手段
により磁性層を構成した磁気記録媒体が提案されている
ことは周知の通りである。そして、この種の磁気記録媒
体は磁性体の充填密度が高いことから、高密度記録に適
したものである。
【０００３】このような乾式メッキ手段による磁気記録
媒体の製造装置は、図２のように構成されているものが
一般的である。尚、図２中、２１は冷却キャン、２２ａ
はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２３
の供給側ロール、２２ｂはＰＥＴフィルム２３の巻取側
ロール、２４はルツボ、２５は磁性金属、２６は真空容
器である。そして、真空容器２６内を所定の真空度のも
のに排気した後、電子銃を作動させてルツボ２４内の磁
性金属２５を蒸発させ、ＰＥＴフィルム２３に対して磁
性金属２５の蒸発粒子を堆積（蒸着）させることによっ
て磁気記録媒体が製造されている。
媒体の製造装置は、図２のように構成されているものが
一般的である。尚、図２中、２１は冷却キャン、２２ａ
はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２３
の供給側ロール、２２ｂはＰＥＴフィルム２３の巻取側
ロール、２４はルツボ、２５は磁性金属、２６は真空容
器である。そして、真空容器２６内を所定の真空度のも
のに排気した後、電子銃を作動させてルツボ２４内の磁
性金属２５を蒸発させ、ＰＥＴフィルム２３に対して磁
性金属２５の蒸発粒子を堆積（蒸着）させることによっ
て磁気記録媒体が製造されている。
【０００４】ところで、このような装置により金属薄膜
型の磁気記録媒体を製造するに際して、磁性粒子の蒸着
部分に酸素を供給し、磁気特性の向上を図ろうとするこ
とが試みられた。すなわち、ＰＥＴフィルム２３の走行
方向とは逆方向に酸素を供給することが提案（特公昭６
１−５６５６３号公報）されたのである。そして、この
ものは、それなりの特長を奏するものであった。
型の磁気記録媒体を製造するに際して、磁性粒子の蒸着
部分に酸素を供給し、磁気特性の向上を図ろうとするこ
とが試みられた。すなわち、ＰＥＴフィルム２３の走行
方向とは逆方向に酸素を供給することが提案（特公昭６
１−５６５６３号公報）されたのである。そして、この
ものは、それなりの特長を奏するものであった。
【０００５】
【発明の開示】しかしながら、前記提案のものでは満足
できないことが次第に判って来た。すなわち、酸素ガス
を吹き付けているとは言え、真空中における成膜段階に
おいて酸素ガス吹付量を多くすることは出来ず、従って
まばらなものとなり、酸化膜が出来ている部分とそうで
ない部分とが斑のように出来てしまい、均一な皮膜が出
来ていないことから、磁気特性や耐久性が均一なものと
ならず、決して予想されたような優れたものでないこと
が判って来たのである。
できないことが次第に判って来た。すなわち、酸素ガス
を吹き付けているとは言え、真空中における成膜段階に
おいて酸素ガス吹付量を多くすることは出来ず、従って
まばらなものとなり、酸化膜が出来ている部分とそうで
ない部分とが斑のように出来てしまい、均一な皮膜が出
来ていないことから、磁気特性や耐久性が均一なものと
ならず、決して予想されたような優れたものでないこと
が判って来たのである。
【０００６】このような点についての研究を鋭意押し進
めて行った結果、液体中に溶けている酸素を利用すると
均一な酸化処理が可能となるのではないかとの啓示を得
るに至り、この技術思想を試みた処、これは予想以上の
成果を奏するものであった。本発明はかかる知見に基づ
いて達成されたものであり、磁気特性、耐久性、耐蝕性
に優れた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
めて行った結果、液体中に溶けている酸素を利用すると
均一な酸化処理が可能となるのではないかとの啓示を得
るに至り、この技術思想を試みた処、これは予想以上の
成果を奏するものであった。本発明はかかる知見に基づ
いて達成されたものであり、磁気特性、耐久性、耐蝕性
に優れた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【０００７】この本発明の目的は、支持体上に乾式メッ
キ手段で金属磁性薄膜を設ける工程と、金属磁性薄膜が
設けられた支持体を液体に浸ける工程とを具備すること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法によって達成され
る。又、支持体上に乾式メッキ手段で金属磁性薄膜を設
ける手段と、金属磁性薄膜が設けられた支持体を液体に
浸ける浸漬手段とを具備することを特徴とする磁気記録
媒体の製造装置によって達成される。
キ手段で金属磁性薄膜を設ける工程と、金属磁性薄膜が
設けられた支持体を液体に浸ける工程とを具備すること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法によって達成され
る。又、支持体上に乾式メッキ手段で金属磁性薄膜を設
ける手段と、金属磁性薄膜が設けられた支持体を液体に
浸ける浸漬手段とを具備することを特徴とする磁気記録
媒体の製造装置によって達成される。
【０００８】尚、液体に浸ける浸漬時間としては、液体
の種類（特に、溶存酸素の量）によって差は有るもの
の、約０．０１〜５０時間、好ましくは約１〜２０時
間、更に好ましくは約２〜１０時間程度である。又、上
記の発明において、金属磁性薄膜が設けられた支持体を
液体に浸けている際に、液中に酸化性のガスを供給する
よう構成されてなることが、又、超音波を作用させるよ
う構成されてなることが、又、液体を加熱、例えば１５
℃〜７０℃程度に加熱するよう構成されてなることが、
又、電圧を印加、例えば１〜３００Ｖ程度印加するよう
構成されてなることが好ましい。
の種類（特に、溶存酸素の量）によって差は有るもの
の、約０．０１〜５０時間、好ましくは約１〜２０時
間、更に好ましくは約２〜１０時間程度である。又、上
記の発明において、金属磁性薄膜が設けられた支持体を
液体に浸けている際に、液中に酸化性のガスを供給する
よう構成されてなることが、又、超音波を作用させるよ
う構成されてなることが、又、液体を加熱、例えば１５
℃〜７０℃程度に加熱するよう構成されてなることが、
又、電圧を印加、例えば１〜３００Ｖ程度印加するよう
構成されてなることが好ましい。
【０００９】そして、本発明で用いられる液体は溶存酸
素が多いものを選択することが好ましく、例えば水やア
ルコールを用いることが出来る。尚、上記のような処理
は、これによって得られる磁気記録媒体表面の中心線平
均粗さＲａが２〜３．５ｎｍ、十点平均粗さＲｚが２０
〜３５ｎｍのものとなる内容のものが好ましい。つま
り、このような内容の処理によれば、走行性、耐久性、
並びに電磁変換特性が好ましいものとなる。
素が多いものを選択することが好ましく、例えば水やア
ルコールを用いることが出来る。尚、上記のような処理
は、これによって得られる磁気記録媒体表面の中心線平
均粗さＲａが２〜３．５ｎｍ、十点平均粗さＲｚが２０
〜３５ｎｍのものとなる内容のものが好ましい。つま
り、このような内容の処理によれば、走行性、耐久性、
並びに電磁変換特性が好ましいものとなる。
【００１０】以下、具体的な実施例を挙げて説明する。
【００１１】
〔実施例１〕図１は、本発明になる磁気記録媒体の製造
装置の概略図である。同図中、１は冷却キャン、２ａは
支持体３の供給側ロール、２ｂは支持体３の巻取側ロー
ル、４は防着板、５はルツボ、６は磁性金属、７は真空
容器である。
装置の概略図である。同図中、１は冷却キャン、２ａは
支持体３の供給側ロール、２ｂは支持体３の巻取側ロー
ル、４は防着板、５はルツボ、６は磁性金属、７は真空
容器である。
【００１２】尚、支持体３は非磁性のものであり、この
支持体３はＰＥＴ等のポリエステル、ポリアミド、ポリ
イミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、ポリプロ
ピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系の樹脂、
塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラスやセラ
ミック等の無機系材料、アルミニウム合金などの金属材
料が用いられる。そして、支持体３面上には、必要に応
じて磁性層（磁性薄膜）の密着性を向上させる為のアン
ダーコート層が設けられている。すなわち、表面の粗さ
を適度に粗すことにより、例えば斜め蒸着法により構成
される磁性薄膜の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒
体表面の表面粗さを適度なものとして走行性を改善する
為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．０
０５〜０．１μｍの塗膜を設けることによってアンダー
コート層が構成されている。
支持体３はＰＥＴ等のポリエステル、ポリアミド、ポリ
イミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、ポリプロ
ピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系の樹脂、
塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラスやセラ
ミック等の無機系材料、アルミニウム合金などの金属材
料が用いられる。そして、支持体３面上には、必要に応
じて磁性層（磁性薄膜）の密着性を向上させる為のアン
ダーコート層が設けられている。すなわち、表面の粗さ
を適度に粗すことにより、例えば斜め蒸着法により構成
される磁性薄膜の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒
体表面の表面粗さを適度なものとして走行性を改善する
為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．０
０５〜０．１μｍの塗膜を設けることによってアンダー
コート層が構成されている。
【００１３】ルツボ５に充填される磁性金属としては、
例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合
金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃ
ｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたも
の等が挙げられる。
例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合
金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃ
ｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたも
の等が挙げられる。
【００１４】８は真空容器７に隣接して設けられた水槽
であり、この水槽８中を支持体３が蛇行して走行できる
ように構成されている。９は、水槽８中に空気（酸素）
を吹き込む為のノズルである。上記のように構成させた
装置において、真空容器７内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ
程度、例えば２×１０-5Ｔｏｒｒの真空度に排気した
後、抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱などにより
ルツボ５内の磁性金属（８０ａｔ％Ｃｏ−２０ａｔ％Ｎ
ｉ）６を蒸発させ、ＰＥＴフィルム等の支持体３に対し
て４００〜２００００Å、例えば１５００Å厚さＣｏ−
Ｎｉ磁性金属６を蒸着させることによって金属薄膜型の
磁気記録媒体が製造される。
であり、この水槽８中を支持体３が蛇行して走行できる
ように構成されている。９は、水槽８中に空気（酸素）
を吹き込む為のノズルである。上記のように構成させた
装置において、真空容器７内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ
程度、例えば２×１０-5Ｔｏｒｒの真空度に排気した
後、抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱などにより
ルツボ５内の磁性金属（８０ａｔ％Ｃｏ−２０ａｔ％Ｎ
ｉ）６を蒸発させ、ＰＥＴフィルム等の支持体３に対し
て４００〜２００００Å、例えば１５００Å厚さＣｏ−
Ｎｉ磁性金属６を蒸着させることによって金属薄膜型の
磁気記録媒体が製造される。
【００１５】このようにして磁性薄膜が形成され、そし
て巻取側ロール２ｂに巻き取る過程において、支持体３
を空気（酸素）が吹き込まれている水槽８中において蛇
行させながら走行させ、１〜２０時間（本実施例では５
時間）にわたって水温が１５〜７０℃（本実施例では２
０℃）の水中に浸漬させた後、水槽８から引き上げ、乾
燥工程を経た後に巻取側ロール２ｂに巻き取る。
て巻取側ロール２ｂに巻き取る過程において、支持体３
を空気（酸素）が吹き込まれている水槽８中において蛇
行させながら走行させ、１〜２０時間（本実施例では５
時間）にわたって水温が１５〜７０℃（本実施例では２
０℃）の水中に浸漬させた後、水槽８から引き上げ、乾
燥工程を経た後に巻取側ロール２ｂに巻き取る。
【００１６】この後、平均粒径２０ｎｍのカーボンブラ
ック及び塩化ビニル系樹脂とウレタンプレポリマーとか
らなるバインダ樹脂を分散させてなるバックコート用の
塗料をダイレクトグラビア法により磁性層とは反対側の
支持体３に塗布し、乾燥厚さが０．５μｍのバックコー
ト層を設ける。そして、フッ素パーフルオロポリエーテ
ル（グレード：ＦＯＭＢＬＩＮ ＺＤＩＡＣ カルボキ
シル基変性、日本モンテジソン社製）をフッ素不活性液
体（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）
に０．１％となるよう希釈・分散させた塗料をダイ塗工
方式により乾燥後の厚さが２０Å程度となるよう磁性面
に塗布し、７０℃で乾燥させる。
ック及び塩化ビニル系樹脂とウレタンプレポリマーとか
らなるバインダ樹脂を分散させてなるバックコート用の
塗料をダイレクトグラビア法により磁性層とは反対側の
支持体３に塗布し、乾燥厚さが０．５μｍのバックコー
ト層を設ける。そして、フッ素パーフルオロポリエーテ
ル（グレード：ＦＯＭＢＬＩＮ ＺＤＩＡＣ カルボキ
シル基変性、日本モンテジソン社製）をフッ素不活性液
体（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）
に０．１％となるよう希釈・分散させた塗料をダイ塗工
方式により乾燥後の厚さが２０Å程度となるよう磁性面
に塗布し、７０℃で乾燥させる。
【００１７】この後、所定の幅にスリットし、磁気テー
プを得る。 〔実施例２〕実施例１において、水温を１５℃、水中滞
留時間を２０時間とした他は同様に行い、磁気テープを
得た。 〔実施例３〕実施例１において、水温を３５℃、水中滞
留時間を１０時間とした他は同様に行い、磁気テープを
得た。
プを得る。 〔実施例２〕実施例１において、水温を１５℃、水中滞
留時間を２０時間とした他は同様に行い、磁気テープを
得た。 〔実施例３〕実施例１において、水温を３５℃、水中滞
留時間を１０時間とした他は同様に行い、磁気テープを
得た。
【００１８】〔実施例４〕実施例１において、水温を７
０℃、水中滞留時間を１時間とした他は同様に行い、磁
気テープを得た。 〔実施例５〕実施例１において、水槽８中の水をエタノ
ールに置換した他は同様に行い、磁気テープを得た。
０℃、水中滞留時間を１時間とした他は同様に行い、磁
気テープを得た。 〔実施例５〕実施例１において、水槽８中の水をエタノ
ールに置換した他は同様に行い、磁気テープを得た。
【００１９】〔実施例６〕実施例５において、エタノー
ルの温度を３０℃、エタノール中滞留時間を５０時間と
した他は同様に行い、磁気テープを得た。 〔実施例７〕実施例５において、エタノールの温度を５
０℃、エタノール中滞留時間を１時間とした他は同様に
行い、磁気テープを得た。
ルの温度を３０℃、エタノール中滞留時間を５０時間と
した他は同様に行い、磁気テープを得た。 〔実施例７〕実施例５において、エタノールの温度を５
０℃、エタノール中滞留時間を１時間とした他は同様に
行い、磁気テープを得た。
【００２０】〔実施例８〕実施例１において、水槽８中
にノズル９から空気（酸素）を１００ｃｃ／ｍｉｎの割
合で吹き込んだ他は同様に行い、磁気テープを得た。 〔実施例９〕実施例１において、水槽８中にノズル９か
ら空気（酸素）を１０００ｃｃ／ｍｉｎの割合で吹き込
んだ他は同様に行い、磁気テープを得た。
にノズル９から空気（酸素）を１００ｃｃ／ｍｉｎの割
合で吹き込んだ他は同様に行い、磁気テープを得た。 〔実施例９〕実施例１において、水槽８中にノズル９か
ら空気（酸素）を１０００ｃｃ／ｍｉｎの割合で吹き込
んだ他は同様に行い、磁気テープを得た。
【００２１】〔実施例１０〕実施例５において、水槽８
中にノズル９から空気（酸素）を５００ｃｃ／ｍｉｎの
割合で吹き込んだ他は同様に行い、磁気テープを得た。 〔実施例１１〕実施例１において、水槽８中の水に３０
ｋＨｚの超音波発振器を用いて超音波を作用させた他は
同様に行い、磁気テープを得た。
中にノズル９から空気（酸素）を５００ｃｃ／ｍｉｎの
割合で吹き込んだ他は同様に行い、磁気テープを得た。 〔実施例１１〕実施例１において、水槽８中の水に３０
ｋＨｚの超音波発振器を用いて超音波を作用させた他は
同様に行い、磁気テープを得た。
【００２２】〔実施例１２〕実施例５において、水槽８
中のエタノールに３０ｋＨｚの超音波発振器を用いて超
音波を作用させた他は同様に行い、磁気テープを得た。 〔実施例１３〕実施例１において、水槽８中に２００Ｖ
の電圧を印加した他は同様に行い、磁気テープを得た。
中のエタノールに３０ｋＨｚの超音波発振器を用いて超
音波を作用させた他は同様に行い、磁気テープを得た。 〔実施例１３〕実施例１において、水槽８中に２００Ｖ
の電圧を印加した他は同様に行い、磁気テープを得た。
【００２３】〔比較例１〕実施例１において、ルツボ５
内の磁性金属（８０ａｔ％Ｃｏ−２０ａｔ％Ｎｉ）６を
蒸発させ、１５００Å厚さのＣｏ−Ｎｉ磁性金属６を蒸
着させる際に、特公昭６１−５６５６３号公報の如くに
酸素ガスを供給して酸化膜を構成し、水槽８中を経ずし
て巻き取り、磁気テープを得た。
内の磁性金属（８０ａｔ％Ｃｏ−２０ａｔ％Ｎｉ）６を
蒸発させ、１５００Å厚さのＣｏ−Ｎｉ磁性金属６を蒸
着させる際に、特公昭６１−５６５６３号公報の如くに
酸素ガスを供給して酸化膜を構成し、水槽８中を経ずし
て巻き取り、磁気テープを得た。
【００２４】〔特性〕上記各例で得た磁気テープについ
て、保磁力、耐久性、耐蝕性、及び表面粗さを調べたの
で、その結果を下記の表−１に示す。 表−１ 保磁力 耐久性 耐蝕性 表面粗さ（ｎｍ） （Oe) (dB) （％） Ｒａ Ｒｚ 実施例１ １１９０ −１．５ ７ ２．０ ２０ 実施例２ １２１０ −１．３ ６ ２．１ ２０ 実施例３ １２９０ −０．７ ５ ２．４ ２８ 実施例４ １３４０ −０．４ ３ ３．１ ３２ 実施例５ １２００ −１．２ ６ ２．５ ２３ 実施例６ １２８０ −０．９ ４ ２．７ ２２ 実施例７ １２１０ −１．０ ６ ２．０ ２５ 実施例８ １２００ −１．５ ７ ２．１ ２２ 実施例９ １２８０ −０．７ ５ ２．５ ２８ 実施例10 １２５０ −１．０ ５ ２．６ ２６ 実施例11 １２２０ −１．３ ７ ３．４ ３３ 実施例12 １２１０ −１．０ ６ ２．８ ２９ 実施例13 １２００ −１．３ ６ ２．７ ２４ 比較例１ １１８０ −１．８ ９ １．５ １４ ＊耐久性は３時間スチル再生した場合の再生出力の低下
で表示 ＊耐蝕性は温度６０℃、湿度９０％ＲＨ下に３０日間放
置後の飽和磁束密度の低下で表示 ＊Ｒａは中心線平均粗さ、Ｒｚは十点平均粗さ これによれば、磁性薄膜が形成されたものを液中に浸し
て酸化膜を形成してなる場合には、磁気特性の向上が図
れており、しかも耐久性や耐蝕性にも優れた特長が奏さ
れており、さらには磁性層表面の粗さも適度なものとな
っており、貼り付きが起きにくいものとなって、走行特
性も良好なものとなる。
て、保磁力、耐久性、耐蝕性、及び表面粗さを調べたの
で、その結果を下記の表−１に示す。 表−１ 保磁力 耐久性 耐蝕性 表面粗さ（ｎｍ） （Oe) (dB) （％） Ｒａ Ｒｚ 実施例１ １１９０ −１．５ ７ ２．０ ２０ 実施例２ １２１０ −１．３ ６ ２．１ ２０ 実施例３ １２９０ −０．７ ５ ２．４ ２８ 実施例４ １３４０ −０．４ ３ ３．１ ３２ 実施例５ １２００ −１．２ ６ ２．５ ２３ 実施例６ １２８０ −０．９ ４ ２．７ ２２ 実施例７ １２１０ −１．０ ６ ２．０ ２５ 実施例８ １２００ −１．５ ７ ２．１ ２２ 実施例９ １２８０ −０．７ ５ ２．５ ２８ 実施例10 １２５０ −１．０ ５ ２．６ ２６ 実施例11 １２２０ −１．３ ７ ３．４ ３３ 実施例12 １２１０ −１．０ ６ ２．８ ２９ 実施例13 １２００ −１．３ ６ ２．７ ２４ 比較例１ １１８０ −１．８ ９ １．５ １４ ＊耐久性は３時間スチル再生した場合の再生出力の低下
で表示 ＊耐蝕性は温度６０℃、湿度９０％ＲＨ下に３０日間放
置後の飽和磁束密度の低下で表示 ＊Ｒａは中心線平均粗さ、Ｒｚは十点平均粗さ これによれば、磁性薄膜が形成されたものを液中に浸し
て酸化膜を形成してなる場合には、磁気特性の向上が図
れており、しかも耐久性や耐蝕性にも優れた特長が奏さ
れており、さらには磁性層表面の粗さも適度なものとな
っており、貼り付きが起きにくいものとなって、走行特
性も良好なものとなる。
【００２５】特に、液中に浸すのみではなく、この時に
酸素を吹き込んだり、液を加熱したり、超音波をかけた
り、電圧を印加することによって、上記の特長が一層奏
されたものとなっている。これに対して、成膜時に酸素
を吹き付ける従来の手法では本発明の特長が到底に奏せ
られていない。
酸素を吹き込んだり、液を加熱したり、超音波をかけた
り、電圧を印加することによって、上記の特長が一層奏
されたものとなっている。これに対して、成膜時に酸素
を吹き付ける従来の手法では本発明の特長が到底に奏せ
られていない。
【００２６】
【効果】本発明によれば、磁気特性の向上効果や耐久性
並びに耐蝕性の改善効果が著しく、更には表面粗さも適
度なものとなり、高性能な磁気記録媒体が得られる。
並びに耐蝕性の改善効果が著しく、更には表面粗さも適
度なものとなり、高性能な磁気記録媒体が得られる。
【図１】本発明になる磁気記録媒体の製造装置の概略説
明図
明図
【図２】従来の磁気記録媒体の製造装置の概略説明図
１ 冷却キャン ２ａ 供給側ロール ２ｂ 巻取側ロール ３ 支持体 ５ ルツボ ６ 磁性金属 ７ 真空容器 ８ 水槽 ９ ノズル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (9)
- 【請求項１】 支持体上に乾式メッキ手段で金属磁性薄
膜を設ける工程と、金属磁性薄膜が設けられた支持体を
液体に浸ける工程とを具備することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 金属磁性薄膜が設けられた支持体を液体
に浸けている際に、液中に酸化性のガスを供給すること
を特徴とする請求項１の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 金属磁性薄膜が設けられた支持体を液体
に浸けている際に、超音波を作用させることを特徴とす
る請求項１または請求項２の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項４】 金属磁性薄膜が設けられた支持体を液体
に浸けている際に、該液体を加熱することを特徴とする
請求項１〜請求項３の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項５】 金属磁性薄膜が設けられた支持体を液体
に浸けている際に、電圧を印加することを特徴とする請
求項１〜請求項４の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項６】 液体は溶存酸素が多いものであることを
特徴とする請求項１〜請求項５の磁気記録媒体の製造方
法。 - 【請求項７】 液体が水であることを特徴とする請求項
１〜請求項６の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項８】 液体がアルコールであることを特徴とす
る請求項１〜請求項６の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項９】 支持体上に乾式メッキ手段で金属磁性薄
膜を設ける手段と、金属磁性薄膜が設けられた支持体を
液体に浸ける浸漬手段とを具備することを特徴とする磁
気記録媒体の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21249693A JPH0765372A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 磁気記録媒体の製造方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21249693A JPH0765372A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 磁気記録媒体の製造方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0765372A true JPH0765372A (ja) | 1995-03-10 |
Family
ID=16623629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21249693A Pending JPH0765372A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 磁気記録媒体の製造方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0765372A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11242595B1 (en) | 2021-04-03 | 2022-02-08 | King Faisal University | Method of making metal nanostructures using low temperature deposition |
-
1993
- 1993-08-27 JP JP21249693A patent/JPH0765372A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11242595B1 (en) | 2021-04-03 | 2022-02-08 | King Faisal University | Method of making metal nanostructures using low temperature deposition |
| US11898235B2 (en) | 2021-04-03 | 2024-02-13 | King Faisal University | Method of making metal nanostructures using low temperature deposition |
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