JPH03102614A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH03102614A JPH03102614A JP23957289A JP23957289A JPH03102614A JP H03102614 A JPH03102614 A JP H03102614A JP 23957289 A JP23957289 A JP 23957289A JP 23957289 A JP23957289 A JP 23957289A JP H03102614 A JPH03102614 A JP H03102614A
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Landscapes
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- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は磁気記録媒体に関し、さらに詳しくけることに
よって、耐摩耗性を改善し、高い耐久性を発揮すること
のできる磁気記録媒体に関する. [従来の技術と発明が解決しようとする課8]近時、磁
気ディスク,磁気テープ、磁気テープなどの高密度記録
用磁気記録媒体においては、非磁性支持体上に形戊する
磁性層として、真空薄膜形或技術による強磁性金属薄膜
が使用されている. しかしながら、この種の磁気記録媒体は、一般に記録再
生時に磁気ヘッドと大きな相対速度で摺接するので,磁
性層が摩耗し易く、耐久性に乏しい問題がある. 本発明は上記事情を改善するためになされたものである
. すなわち、本発明の目的は、磁性層として強磁性金属薄
膜膜を有するIa気記録媒体において、走行安定性にす
ぐれ、長期間にわたって顕著な耐久性を発揮することの
できる、磁気記録媒体を提供することにある. [前記課題を解決するための手段] 本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に強磁性金属
薄層を有する磁気記録媒体において,この強磁性金属薄
層の上に下記一般式(1)で表わされるフッ素化合物を
含む保護層を形威して次ることを特徴とする. 一般式(1): (R+ ) @ X (R2 )。
よって、耐摩耗性を改善し、高い耐久性を発揮すること
のできる磁気記録媒体に関する. [従来の技術と発明が解決しようとする課8]近時、磁
気ディスク,磁気テープ、磁気テープなどの高密度記録
用磁気記録媒体においては、非磁性支持体上に形戊する
磁性層として、真空薄膜形或技術による強磁性金属薄膜
が使用されている. しかしながら、この種の磁気記録媒体は、一般に記録再
生時に磁気ヘッドと大きな相対速度で摺接するので,磁
性層が摩耗し易く、耐久性に乏しい問題がある. 本発明は上記事情を改善するためになされたものである
. すなわち、本発明の目的は、磁性層として強磁性金属薄
膜膜を有するIa気記録媒体において、走行安定性にす
ぐれ、長期間にわたって顕著な耐久性を発揮することの
できる、磁気記録媒体を提供することにある. [前記課題を解決するための手段] 本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に強磁性金属
薄層を有する磁気記録媒体において,この強磁性金属薄
層の上に下記一般式(1)で表わされるフッ素化合物を
含む保護層を形威して次ることを特徴とする. 一般式(1): (R+ ) @ X (R2 )。
ただし、式中R1 とR2はパーフルオロポリエーテル
基、Xは−COCO−、−SS+,多価の脂肪族基、芳
香族基,複素環基、これらに置換するとともにRl ,
R2 と連結し得る有機基を有する基、から選ばれる基
であり、mとnは1〜2の数である. 以下、本発明を詳しく説明する. −保護層一 本発明における保護層は、後述する強磁性金属薄膜上に
形成されるもので,上記一般式(1)で表わされる一種
または二種以上のフッ素化合物を含有する. このフッ素化合物は求核置換反応等の一般的合戊法によ
り原料のバーフル才ロボリエーテル化合物から容易に製
造することができる. 前記一般式(1)において.Rl.R2は炭素原子数に
制限はないが、分子量1万以下のバーフルオロポリエー
テル基が好ましい。中でも、末端がヒドロキシル基、カ
ルポキシル基、アルコキシ力ルポニル基、アルキルウレ
イド基4 フェニルウレイド基,カルバモイル基などの
極性基で置換されたものが、極性基により金属aI層の
表面に吸着させるために特に好ましい. Xとしては、多価の脂肋族基、多価の芳香族基、多価の
複素環基、および脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素,複
素環式炭化水素にR1とR2とにそれぞれ連結しうる置
換基を有する多価の基を挙げることができる. RI.R2とにそれぞれ連結しうる置換基としては、−
COO−、=NHCO− −OS一などを挙げること
ができる. 好ましいXとしては脂肪族基、芳香族基がRl.R2と
直結するか,またはそれらの置換基、−COO−、−N
HCO−、一〇−を介してRl.R2と連結したものを
挙げることができる。また、Xが複素環基である場合、
環中の炭素原子はR,,R2と直結していることが望ま
しい.なお、前記一般式(1)中のnとmはともに1で
あることが好ましい. ここで、前記一般式(1)で表わされるフッ素化合物を
具体的に第1表に例示する. (以下、余白) 前記保護層は、全部が前記フッ素化合物そのもので構成
されていることが好ましい。
基、Xは−COCO−、−SS+,多価の脂肪族基、芳
香族基,複素環基、これらに置換するとともにRl ,
R2 と連結し得る有機基を有する基、から選ばれる基
であり、mとnは1〜2の数である. 以下、本発明を詳しく説明する. −保護層一 本発明における保護層は、後述する強磁性金属薄膜上に
形成されるもので,上記一般式(1)で表わされる一種
または二種以上のフッ素化合物を含有する. このフッ素化合物は求核置換反応等の一般的合戊法によ
り原料のバーフル才ロボリエーテル化合物から容易に製
造することができる. 前記一般式(1)において.Rl.R2は炭素原子数に
制限はないが、分子量1万以下のバーフルオロポリエー
テル基が好ましい。中でも、末端がヒドロキシル基、カ
ルポキシル基、アルコキシ力ルポニル基、アルキルウレ
イド基4 フェニルウレイド基,カルバモイル基などの
極性基で置換されたものが、極性基により金属aI層の
表面に吸着させるために特に好ましい. Xとしては、多価の脂肋族基、多価の芳香族基、多価の
複素環基、および脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素,複
素環式炭化水素にR1とR2とにそれぞれ連結しうる置
換基を有する多価の基を挙げることができる. RI.R2とにそれぞれ連結しうる置換基としては、−
COO−、=NHCO− −OS一などを挙げること
ができる. 好ましいXとしては脂肪族基、芳香族基がRl.R2と
直結するか,またはそれらの置換基、−COO−、−N
HCO−、一〇−を介してRl.R2と連結したものを
挙げることができる。また、Xが複素環基である場合、
環中の炭素原子はR,,R2と直結していることが望ま
しい.なお、前記一般式(1)中のnとmはともに1で
あることが好ましい. ここで、前記一般式(1)で表わされるフッ素化合物を
具体的に第1表に例示する. (以下、余白) 前記保護層は、全部が前記フッ素化合物そのもので構成
されていることが好ましい。
このような保護層を形成するには、前記フッ素化合物を
溶媒に溶解して得られた溶液を強磁性金属簿層の表面に
塗布もしくは噴霧して乾燥するか、または逆に上記溶液
中に強磁性金属薄府を浸漬したのち乾燥すればよい。こ
こで、強磁性金属8M’F9の表面に対する上記フッ素
化合物の付着量は通常、0.5 〜100 mg/m2
であるのが好ましく、1〜20m g / m 2であ
るのがより好ましい.この付着量があまり少なすぎると
,F9!擦係数の低下、耐摩耗性,したがって耐久性と
いう効果が出ないし、また付着量があまり多すぎると、
摺動部材と磁性層との間でハリッキ現象が起こり,かえ
って走行性が悪くなる. また、前記フッ素化合物を樹脂中に含有させて保諧屑を
形或してもよく,その場合、その樹脂としては塩化ビニ
ル樹脂、塩化ビニルー酢酸ビニル樹脂、二1・ロセルロ
ース、ポリウレタン,ポリイミド、ボリアミド、ポリエ
ステル、アクリル捌脂、エボキシ樹脂、ポリカーポネー
トなどを,それぞれ単独かまたは二種以上を用いること
ができる. この保護層を形或するには、上記の樹脂を前記フッ素化
合物とともに溶媒に溶解し、後は前述したフッ素化合物
からなる保護層を形或する場合と同様にして処理すれば
よい。この場合、保護層中における樹脂とフッ素化合物
の配合比は、通常前者LOQ重量部に対してl重量部以
上とするのがよい。後者が1重量部を下回ると、摩擦係
数の低下、耐久性等の効果がでない。
溶媒に溶解して得られた溶液を強磁性金属簿層の表面に
塗布もしくは噴霧して乾燥するか、または逆に上記溶液
中に強磁性金属薄府を浸漬したのち乾燥すればよい。こ
こで、強磁性金属8M’F9の表面に対する上記フッ素
化合物の付着量は通常、0.5 〜100 mg/m2
であるのが好ましく、1〜20m g / m 2であ
るのがより好ましい.この付着量があまり少なすぎると
,F9!擦係数の低下、耐摩耗性,したがって耐久性と
いう効果が出ないし、また付着量があまり多すぎると、
摺動部材と磁性層との間でハリッキ現象が起こり,かえ
って走行性が悪くなる. また、前記フッ素化合物を樹脂中に含有させて保諧屑を
形或してもよく,その場合、その樹脂としては塩化ビニ
ル樹脂、塩化ビニルー酢酸ビニル樹脂、二1・ロセルロ
ース、ポリウレタン,ポリイミド、ボリアミド、ポリエ
ステル、アクリル捌脂、エボキシ樹脂、ポリカーポネー
トなどを,それぞれ単独かまたは二種以上を用いること
ができる. この保護層を形或するには、上記の樹脂を前記フッ素化
合物とともに溶媒に溶解し、後は前述したフッ素化合物
からなる保護層を形或する場合と同様にして処理すれば
よい。この場合、保護層中における樹脂とフッ素化合物
の配合比は、通常前者LOQ重量部に対してl重量部以
上とするのがよい。後者が1重量部を下回ると、摩擦係
数の低下、耐久性等の効果がでない。
なお,保護層形威用の前記溶媒としては、たとえば、シ
クロヘキサノン、トルエン、メチルエチルケトン、ジメ
チルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、テトラヒド
ロフラン等々を挙げることができる. 一強磁性金属薄層一 この強磁性金属薄層は後述する非磁性支持体上に形成さ
れるものである. この強磁性金属?J層は、以下に説明する真空蒸着法、
イオンプレーティング法、スフバッタリング法等の真空
薄膜形成技術によって形戊することができる. 真空蒸着法: lO−4〜I(16Tartの真空下で強磁性金属材料
を抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱等により革発
させ、非磁性支持体上に蒸発金属を沈着させる方法であ
り、一般に高い抗磁力を得るために非磁性支持体に対し
て強磁性金属材料を剰めに蒸着する斜方蒸着法が採用さ
れる. なお、より高い抗磁力を得るために酸素雰囲気で行なわ
れることもある. イオンプレーティング法: 真空蒸着法の一種であり、lO−4〜10iTorrの
不活性ガス雰囲気中でDCグロー放電、RFグロー放電
を起こして、放電中に強磁性金属材料を蒸発させる方法
である. スパッタリング法: 10−3〜10−’Tartのアルゴンガスを主威分と
する雰囲気中でグロー放電を起こし、生じたアルゴンガ
スイオンでターゲット表面の原子を叩出す方法である.
グロー放電の方法により直流2極、3極スバッタ法、高
周波スバッタ法などがあり、またマグネトロン放電を利
用したマグネトロンスバッタ法等がある. このスパッタリング法による時は、非磁性支持体上に予
めCr,W,Vなどの下地膜を形威しておいてもよい. 上述した真空薄膜形威技術に使用される強磁性金属材料
としては、Fe,Co、Nf等の金属のほかに、たとえ
ばCo−Nf合金、Co−Pt合金,Co−Ni−Pt
合金,Fe−Co合金、Fe−Ni合金、Fe−Co−
Ni合金、Fe−Co−B合金、C o − N i
− F e − B合金、Co−Cr合金、あるいはこ
れらにCr,An等の金属の含有されたもの等を挙げる
ことができる.特にCo−Cr合金を使用した場合には
、垂直磁化膜を形威することができる. このようにして形威される強磁性金属薄膜の厚みは特に
限定はされないが、通常、0.04〜IJLm程度であ
る. 一非磁性支持体一 この非磁性支持体には、公知の材料を使用することがで
きる. たとえばポリエチレンテレフタレート等のポリエステル
類、ポリエチレンやポリプロピレン等ノポリオレフィン
類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース
誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニ
ル系樹脂、ポリカーポネート、ポリイミド、ポリアミド
イミド,アルミニウム合金,チタン合金等の軽金属、ア
ルミナガラス等のセラミックス等を挙げることができる
. なお.非磁性支持体の形態としては、フィルム、シート
,ディスク、カード、ドラムなどがあり,これも特に限
定されない. 一その他一 本発明の磁気記録媒体の基本構造は、前記非磁性支持体
上に前記強磁性金属薄層とさらにこのうえに前記保iI
層を積層してなるものであるが、これらの層が設けられ
る面とは反対側の非支持体上にバックコート層を形成し
ても良い. このバックコート層の形成には、一般にニトロセルロー
ス、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体,フェノール樹脂
、ポリフッ化ビニル、ポリウレタン、ブタジェン系共重
合体などから選ばれる結合剤用樹脂と、導電性を付与す
るためのカーボン系微粉末または表面粗度のコントロー
ルおよび耐久性向上のための無機顔料粉末とを、アセト
ン、メチルエチルケトン、トルエン等から選ばれる有機
溶媒に混合分散させて塗料を調製し、この塗料を非支持
体面に塗布、乾燥すればよい. [実施例] 次に実施例と比較例とを挙げて本発明をさらに具体的に
説明する. (実施例1〜8、比較例1) 厚ミ1 0 g mのポリエチレンテレフタレートフィ
ルム9枚の表面に予め真空蒸着法によりcoを被着させ
、厚み1000 の強磁性金属薄膜を形成した。
クロヘキサノン、トルエン、メチルエチルケトン、ジメ
チルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、テトラヒド
ロフラン等々を挙げることができる. 一強磁性金属薄層一 この強磁性金属薄層は後述する非磁性支持体上に形成さ
れるものである. この強磁性金属?J層は、以下に説明する真空蒸着法、
イオンプレーティング法、スフバッタリング法等の真空
薄膜形成技術によって形戊することができる. 真空蒸着法: lO−4〜I(16Tartの真空下で強磁性金属材料
を抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱等により革発
させ、非磁性支持体上に蒸発金属を沈着させる方法であ
り、一般に高い抗磁力を得るために非磁性支持体に対し
て強磁性金属材料を剰めに蒸着する斜方蒸着法が採用さ
れる. なお、より高い抗磁力を得るために酸素雰囲気で行なわ
れることもある. イオンプレーティング法: 真空蒸着法の一種であり、lO−4〜10iTorrの
不活性ガス雰囲気中でDCグロー放電、RFグロー放電
を起こして、放電中に強磁性金属材料を蒸発させる方法
である. スパッタリング法: 10−3〜10−’Tartのアルゴンガスを主威分と
する雰囲気中でグロー放電を起こし、生じたアルゴンガ
スイオンでターゲット表面の原子を叩出す方法である.
グロー放電の方法により直流2極、3極スバッタ法、高
周波スバッタ法などがあり、またマグネトロン放電を利
用したマグネトロンスバッタ法等がある. このスパッタリング法による時は、非磁性支持体上に予
めCr,W,Vなどの下地膜を形威しておいてもよい. 上述した真空薄膜形威技術に使用される強磁性金属材料
としては、Fe,Co、Nf等の金属のほかに、たとえ
ばCo−Nf合金、Co−Pt合金,Co−Ni−Pt
合金,Fe−Co合金、Fe−Ni合金、Fe−Co−
Ni合金、Fe−Co−B合金、C o − N i
− F e − B合金、Co−Cr合金、あるいはこ
れらにCr,An等の金属の含有されたもの等を挙げる
ことができる.特にCo−Cr合金を使用した場合には
、垂直磁化膜を形威することができる. このようにして形威される強磁性金属薄膜の厚みは特に
限定はされないが、通常、0.04〜IJLm程度であ
る. 一非磁性支持体一 この非磁性支持体には、公知の材料を使用することがで
きる. たとえばポリエチレンテレフタレート等のポリエステル
類、ポリエチレンやポリプロピレン等ノポリオレフィン
類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース
誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニ
ル系樹脂、ポリカーポネート、ポリイミド、ポリアミド
イミド,アルミニウム合金,チタン合金等の軽金属、ア
ルミナガラス等のセラミックス等を挙げることができる
. なお.非磁性支持体の形態としては、フィルム、シート
,ディスク、カード、ドラムなどがあり,これも特に限
定されない. 一その他一 本発明の磁気記録媒体の基本構造は、前記非磁性支持体
上に前記強磁性金属薄層とさらにこのうえに前記保iI
層を積層してなるものであるが、これらの層が設けられ
る面とは反対側の非支持体上にバックコート層を形成し
ても良い. このバックコート層の形成には、一般にニトロセルロー
ス、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体,フェノール樹脂
、ポリフッ化ビニル、ポリウレタン、ブタジェン系共重
合体などから選ばれる結合剤用樹脂と、導電性を付与す
るためのカーボン系微粉末または表面粗度のコントロー
ルおよび耐久性向上のための無機顔料粉末とを、アセト
ン、メチルエチルケトン、トルエン等から選ばれる有機
溶媒に混合分散させて塗料を調製し、この塗料を非支持
体面に塗布、乾燥すればよい. [実施例] 次に実施例と比較例とを挙げて本発明をさらに具体的に
説明する. (実施例1〜8、比較例1) 厚ミ1 0 g mのポリエチレンテレフタレートフィ
ルム9枚の表面に予め真空蒸着法によりcoを被着させ
、厚み1000 の強磁性金属薄膜を形成した。
次にこれらのうち8枚のフイルムの強磁性金属FM膜の
表面に、第l表に示すNo1〜8のフッ素化合物をそれ
ぞれフレオン液に溶解して得た溶液を塗布量が5 m
g / m ’となるように塗布し、得られた保護層を
有するフィルムを8mm@に裁断してサンプルテープを
作威した(実施例1〜8)。なお、前記9枚のフィルム
のうち、l枚は上記塗布工程を省いて8mm幅に裁断し
、ブランクテープとした(比較例1)。
表面に、第l表に示すNo1〜8のフッ素化合物をそれ
ぞれフレオン液に溶解して得た溶液を塗布量が5 m
g / m ’となるように塗布し、得られた保護層を
有するフィルムを8mm@に裁断してサンプルテープを
作威した(実施例1〜8)。なお、前記9枚のフィルム
のうち、l枚は上記塗布工程を省いて8mm幅に裁断し
、ブランクテープとした(比較例1)。
これらのテープにつき下記の要領で特性の測定を行なっ
た。
た。
動摩擦係数:
材質がステンレス(SUS304)のガイドビンを用い
、一定のテンシ竃ンをかけながら、テープを5mm/s
ecの速度で走行させた.シャトル耐久性; 1回につき5分間のシャトル走行を行ない、出力が−3
dBに低下するまでのシャトル回数で評価した。
、一定のテンシ竃ンをかけながら、テープを5mm/s
ecの速度で走行させた.シャトル耐久性; 1回につき5分間のシャトル走行を行ない、出力が−3
dBに低下するまでのシャトル回数で評価した。
スチル酎久性:
ポーズ状態での出力の−3dBまでの減衰時間を測定し
た. (以下、余白) 第2表 第2表から明らかなように、各実施例におけるテープは
摩擦係数係数が小さく、走行が極めて安定している.ま
た、スチル酎久性も極めてよく、100回シャトル走行
を行なっても、出力の−3dBの低下は見られず、高耐
久性のものであった. これに対して保護層のない比較例1のテープでは、往復
走行回数が多くなるほど摩擦係数が大となり、走行も不
安定でテープの摩擦が見られ、耐久性が劣っていた. [発明の効果] 以上で明らかなように、本発明によれば、強磁性金属薄
膜を有する磁気記録媒体において、潤滑剤として特定化
合物を含む保護層を設けたので、摺動部材との摩擦係数
を小さくすることができ、走行安定性や#摩耗性の優れ
た高耐久性の磁気記録媒体を提供することができる。
た. (以下、余白) 第2表 第2表から明らかなように、各実施例におけるテープは
摩擦係数係数が小さく、走行が極めて安定している.ま
た、スチル酎久性も極めてよく、100回シャトル走行
を行なっても、出力の−3dBの低下は見られず、高耐
久性のものであった. これに対して保護層のない比較例1のテープでは、往復
走行回数が多くなるほど摩擦係数が大となり、走行も不
安定でテープの摩擦が見られ、耐久性が劣っていた. [発明の効果] 以上で明らかなように、本発明によれば、強磁性金属薄
膜を有する磁気記録媒体において、潤滑剤として特定化
合物を含む保護層を設けたので、摺動部材との摩擦係数
を小さくすることができ、走行安定性や#摩耗性の優れ
た高耐久性の磁気記録媒体を提供することができる。
Claims (1)
- (1)非磁性支持体上に強磁性金属薄層を有する磁気記
録媒体において、この強磁性金属薄層の上に一般式(1
)で表わされるフッ素化合物を含む保護層を形成してな
ることを特徴とする磁気記録媒体。 一般式(1): (R_1)_m−X−(R_2)_n (ただし式中、R_1とR_2はパーフルオロポリエー
テル基、Xは−COCO−、−SS−、多価の脂肪族基
、芳香族基、複素環基、これらに置換するとともにR_
1とR_2に連結し得る有機基を有する基、から選ばれ
る基であり、mとnは1〜2の数である。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23957289A JPH03102614A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23957289A JPH03102614A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03102614A true JPH03102614A (ja) | 1991-04-30 |
Family
ID=17046792
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23957289A Pending JPH03102614A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03102614A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006075282A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Pentax Corp | 内視鏡用把持部材及び把持装置 |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP23957289A patent/JPH03102614A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006075282A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Pentax Corp | 内視鏡用把持部材及び把持装置 |
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