JPS59229737A - 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS59229737A JPS59229737A JP58103426A JP10342683A JPS59229737A JP S59229737 A JPS59229737 A JP S59229737A JP 58103426 A JP58103426 A JP 58103426A JP 10342683 A JP10342683 A JP 10342683A JP S59229737 A JPS59229737 A JP S59229737A
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/735—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer
- G11B5/7356—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer comprising non-magnetic particles in the back layer, e.g. particles of TiO2, ZnO or SiO2
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録を実現できる金属薄膜型磁気テ
ープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体とその製造方法に
関する。
ープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体とその製造方法に
関する。
従来例の構成とその問題点
従来より磁気記録媒体としては、高分子基板やアルミニ
ウム基板上にＣｏをドープしたｒ Ｆｅ４ やバインダ
ー中に分散させて、塗布乾燥させたいわゆる塗布型の媒
体が広（実用に供されている。しかし近年の記録密度向
上の要望に応えるには原理的にも、技術的にも塗布型で
は限界がみえてきているため、新しく、面内、垂直を問
わず、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする金属薄膜型磁
気記録媒体が注目され、各方面で実用化を目指して努力
が続けられている。
ウム基板上にＣｏをドープしたｒ Ｆｅ４ やバインダ
ー中に分散させて、塗布乾燥させたいわゆる塗布型の媒
体が広（実用に供されている。しかし近年の記録密度向
上の要望に応えるには原理的にも、技術的にも塗布型で
は限界がみえてきているため、新しく、面内、垂直を問
わず、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする金属薄膜型磁
気記録媒体が注目され、各方面で実用化を目指して努力
が続けられている。
この金属薄膜型磁気記録媒体の実用化の面で、媒体構成
そのもの、媒体の製造方法で、従来の塗布型の技術をそ
のまま生かせない点が多いため、走行性能等の実用性能
と、電磁変換特性、耐食性能等の多くの性能を高い水準
でバランスさせる点で困難が伴っているのが実状である
。つまり、高分子基板の一方の面に、真空蒸着、スパッ
タリング、イオンブレーティング等で強磁性薄膜を形成
すると、反対側の面の物体は大気中で得られていた物性
と大きく変化し、極めて走行しにくいものになっている
。従って、磁性面と反対側の面〔以下これをパック面と
呼ぶ〕にバック層を形成し、走行性能を改良させる必要
がある。基本構成材料は、帯電防止剤、揚水化剤、潤滑
剤、結合樹脂等であるが、塗布型でよく用いられていた
アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオ
ン系界面活性剤等の有機界面活性剤は、水との親和性が
良いため、金属強磁性薄膜の錆の発生につながるため、
帯電防止剤として用いることができない。その対策とし
て、カーボンブラック、微粒子グラファイト等の固体帯
電防止剤の利用が検討されはじめているが、帯電防止効
果を発揮させるだけの量を混ぜると、表面形状が荒れて
きて、走行性能は改良されるが、テープやディスクのＣ
／Ｎが劣化する不都合がある。
そのもの、媒体の製造方法で、従来の塗布型の技術をそ
のまま生かせない点が多いため、走行性能等の実用性能
と、電磁変換特性、耐食性能等の多くの性能を高い水準
でバランスさせる点で困難が伴っているのが実状である
。つまり、高分子基板の一方の面に、真空蒸着、スパッ
タリング、イオンブレーティング等で強磁性薄膜を形成
すると、反対側の面の物体は大気中で得られていた物性
と大きく変化し、極めて走行しにくいものになっている
。従って、磁性面と反対側の面〔以下これをパック面と
呼ぶ〕にバック層を形成し、走行性能を改良させる必要
がある。基本構成材料は、帯電防止剤、揚水化剤、潤滑
剤、結合樹脂等であるが、塗布型でよく用いられていた
アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオ
ン系界面活性剤等の有機界面活性剤は、水との親和性が
良いため、金属強磁性薄膜の錆の発生につながるため、
帯電防止剤として用いることができない。その対策とし
て、カーボンブラック、微粒子グラファイト等の固体帯
電防止剤の利用が検討されはじめているが、帯電防止効
果を発揮させるだけの量を混ぜると、表面形状が荒れて
きて、走行性能は改良されるが、テープやディスクのＣ
／Ｎが劣化する不都合がある。
発明の目的
本発明は走行性能と高いＣ／Ｎをバランスさせた金属薄
膜型磁気記録媒体と、これを大皿に、再現良く製造でき
る方法とを提供することを目的とする。
膜型磁気記録媒体と、これを大皿に、再現良く製造でき
る方法とを提供することを目的とする。
発明の構成
本発明の金属薄膜型磁気記録媒体は、基板の一方の面側
に金属強磁性薄膜層を設け、前記基板の他方の面側には
結合剤中に炭素粉末が分散され平均表面粗さが１００人
〜１０００人のバック層を設けたことを特徴とする。
に金属強磁性薄膜層を設け、前記基板の他方の面側には
結合剤中に炭素粉末が分散され平均表面粗さが１００人
〜１０００人のバック層を設けたことを特徴とする。
また、本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法は、
基板の一方の面側に結合剤中に分散された炭素粉末を含
む層を塗布形成した後、これを乾燥処理し、ロール圧着
によるカレンダ処理した後、前記基板の他に金属強磁性
薄膜を蒸着することを特徴とする。
基板の一方の面側に結合剤中に分散された炭素粉末を含
む層を塗布形成した後、これを乾燥処理し、ロール圧着
によるカレンダ処理した後、前記基板の他に金属強磁性
薄膜を蒸着することを特徴とする。
前記基板とは、磁性面側が非磁性膜と軟磁性膜との多層
構成であるもの、強磁性薄膜同志の多層構成であるもの
を含み、また、磁性面側の表面に有機、無機の薄膜保護
層を梠成要件としたものも含まれるのは勿論である。
構成であるもの、強磁性薄膜同志の多層構成であるもの
を含み、また、磁性面側の表面に有機、無機の薄膜保護
層を梠成要件としたものも含まれるのは勿論である。
又、バック層の材料構成については、炭素粉末以外につ
いては従来の磁性塗料の調合過程でなされた配慮は最低
限なされるもの゛であるし、更に、磁性面が錆ることと
、対象となる記録波長が短いことから、スペーシング損
失につながる表面性の劣化、磁性面への転写付着、接着
現象についても閾値値は、従来と異なり、極めて微小量
になることなどが考慮されて設計されなければならない
。
いては従来の磁性塗料の調合過程でなされた配慮は最低
限なされるもの゛であるし、更に、磁性面が錆ることと
、対象となる記録波長が短いことから、スペーシング損
失につながる表面性の劣化、磁性面への転写付着、接着
現象についても閾値値は、従来と異なり、極めて微小量
になることなどが考慮されて設計されなければならない
。
しかし本発明の製法及び本発明の磁気記録媒体によると
、ロット同、ロフト内での幅、長手位置での品質の安定
性は、高い水準で確保されることは後述する実施例によ
り明らかである。
、ロット同、ロフト内での幅、長手位置での品質の安定
性は、高い水準で確保されることは後述する実施例によ
り明らかである。
本発明で用いられる基板とは、具体的にはポリエチレン
テレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエチレ
ンナフタレート等の高分子基板。
テレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエチレ
ンナフタレート等の高分子基板。
又は、それらの一方には両方の面にあらかじめ塗布した
基板等であり、厚みは４μｍから２０μｍの範囲が多く
用いられる。表面粗さは、磁性面を形成する側は２０Ａ
〜８００人、裏面側は１００Ａ〜１０００人の範囲が良
く用いられる。
基板等であり、厚みは４μｍから２０μｍの範囲が多く
用いられる。表面粗さは、磁性面を形成する側は２０Ａ
〜８００人、裏面側は１００Ａ〜１０００人の範囲が良
く用いられる。
強磁性金属薄膜として用いることのでき・るものは、具
体的にはＣｏ−０ｐ Ｎｉ −Ｏｍ Ｃｏ−Ｆｅ −Ｏ
ｓ Ｃｏ −Ｃｒ −０ｐＣｏ −Ｎｉ −Ｃｒ−０系
の面内磁化膜、Ｃｏ−Ｃｒ、ｃｏ−ｖ？ Ｃ。
体的にはＣｏ−０ｐ Ｎｉ −Ｏｍ Ｃｏ−Ｆｅ −Ｏ
ｓ Ｃｏ −Ｃｒ −０ｐＣｏ −Ｎｉ −Ｃｒ−０系
の面内磁化膜、Ｃｏ−Ｃｒ、ｃｏ−ｖ？ Ｃ。
−Ｎｉ 、−Ｃｒｅ Ｃｏ−Ｎｉ −Ｖ＊ Ｃｏ−Ｍｏ
等の垂直磁化膜等であるが、それらの材料構成は本発明
の直接的な制約はない。
等の垂直磁化膜等であるが、それらの材料構成は本発明
の直接的な制約はない。
炭素粉末としては、具体的にはカーボンブラックや微粒
子グラファイトが用いられ、バック層の炭素粉末以外の
成分は、具体的には高級脂肪酸およびそのアルコールエ
ステル、多価アルコールエステル等の高級脂肪酸エステ
ル、高級脂肪酸金属塩、高級脂肪酸族アルコール、高級
脂肪酸アルド等の揚水性を改良する材料、二硫化モリブ
デン。
子グラファイトが用いられ、バック層の炭素粉末以外の
成分は、具体的には高級脂肪酸およびそのアルコールエ
ステル、多価アルコールエステル等の高級脂肪酸エステ
ル、高級脂肪酸金属塩、高級脂肪酸族アルコール、高級
脂肪酸アルド等の揚水性を改良する材料、二硫化モリブ
デン。
フッ化カーボン等の固体潤滑剤、炭酸カルシウム。
炭酸バリウム等の非磁性微粒子、ニトロセルロース等の
樹脂を加えて耐久性、耐熱性向上を図る等は適宜工夫で
きるもので、用いられる結合剤についても、塩化ビニル
系共重合体、塩化ビニリデン系共重合体、繊維素系樹脂
、ブチラール系樹脂。
樹脂を加えて耐久性、耐熱性向上を図る等は適宜工夫で
きるもので、用いられる結合剤についても、塩化ビニル
系共重合体、塩化ビニリデン系共重合体、繊維素系樹脂
、ブチラール系樹脂。
ポリウレタン系樹脂などの中から選択することができる
。また、溶剤、希釈剤についても、自由に選別できる。
。また、溶剤、希釈剤についても、自由に選別できる。
尚、本発明の製法は、バック層、塗布、乾燥。
ロール圧着によるカレンダ処理、磁性層形成の順序が重
要であり、他の工程が必要に応じて加わっても、前記し
た工程の順序が変ることはないものである。
要であり、他の工程が必要に応じて加わっても、前記し
た工程の順序が変ることはないものである。
又、磁気テープ、磁気ディスクを得るに必要な他の後工
程についても特に制限はない。
程についても特に制限はない。
塗布法についてはリバースロール法、グラビア法、プレ
ート法など公知の方法、乾燥後のカレンダ処理は圧着し
た複数本の加熱ロール間に、処理対象の広幅の基体を通
すことによって行われる処理で、走行性能を改良した状
態で、磁気記録媒体のＣ／Ｎを改良する作用をするもの
である。尚、この作用を保持するためにも、強磁性面側
の表面電気抵抗が極めて小さいため、裏面のカーボ炭素
粉末を抜くと、走行時の摩擦帯電がカレンダ処理するこ
とで更に大きくなる不都合があるので、炭素粉末の添加
は不可欠である。
ート法など公知の方法、乾燥後のカレンダ処理は圧着し
た複数本の加熱ロール間に、処理対象の広幅の基体を通
すことによって行われる処理で、走行性能を改良した状
態で、磁気記録媒体のＣ／Ｎを改良する作用をするもの
である。尚、この作用を保持するためにも、強磁性面側
の表面電気抵抗が極めて小さいため、裏面のカーボ炭素
粉末を抜くと、走行時の摩擦帯電がカレンダ処理するこ
とで更に大きくなる不都合があるので、炭素粉末の添加
は不可欠である。
なお、炭素粉末としてカーボンブラックを用いた場合に
は、微粒子グラファイトを用いた場合に比べて少ない重
量で低い抵抗が得られるため実用−ヒ有利である。カー
ボンブラック粉末は使用される樹脂により多少異るが、
樹脂１に対し重量で０．２〜１．０好ましくは０．４〜
０．８ぐらいで有効に作用する。
は、微粒子グラファイトを用いた場合に比べて少ない重
量で低い抵抗が得られるため実用−ヒ有利である。カー
ボンブラック粉末は使用される樹脂により多少異るが、
樹脂１に対し重量で０．２〜１．０好ましくは０．４〜
０．８ぐらいで有効に作用する。
磁性層の形成は、巻取り蒸着機を用いて電子ビーム蒸着
、電界蒸着、イオンブレーティング、スパッタリング等
の蒸着法により行えるものである。
、電界蒸着、イオンブレーティング、スパッタリング等
の蒸着法により行えるものである。
実施例の説明
以下、実施例によって本発明を具体的に説明する。なお
、本発明の製造方法により得た本発明の磁気記録媒体を
比較例と特性比軸して説明するが、この例に限定される
ものではないのは勿論である。
、本発明の製造方法により得た本発明の磁気記録媒体を
比較例と特性比軸して説明するが、この例に限定される
ものではないのは勿論である。
実施例
エスレツクＢＬ−８（漬水化学■製ポリビニルブチラー
ル〕１００部、カーボンブラック８０部、ステアリン酸
８部、メチルイソブチルケトン１５００部。
ル〕１００部、カーボンブラック８０部、ステアリン酸
８部、メチルイソブチルケトン１５００部。
トルエン１６００部からなる塗料成分とボールミル中で
５０時間混合分散させ、バック層用塗料を調整した。こ
の塗料をバーコータで１０．６μｍのポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に約１μｍ塗布して乾燥した。
５０時間混合分散させ、バック層用塗料を調整した。こ
の塗料をバーコータで１０．６μｍのポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に約１μｍ塗布して乾燥した。
この５０ｃＩ！１幅の基板を、温度８０°Ｃ，ロール圧
７０ψ′ｄのロール間に１５ｍ／ｍｉｎの速度で８回通
してカレンダ処理を行った。
７０ψ′ｄのロール間に１５ｍ／ｍｉｎの速度で８回通
してカレンダ処理を行った。
この後、直径５０個のクーリングキャンの周側面に沿わ
せて移動させながら、入射角献以上でＣ０８０５％Ｎｉ
２Ｏ％の合金を電子ビーム蒸着した。蒸着時は酸素を最
大分圧とし、約２ Ｘ １０−ｆＴｏｒｒで０．１５μ
＃ｌのＣｏ−Ｎｉ−０系蒸着膜を得た。この原反より８
ｆｆ幅の磁気テープを得て、相対速度４部廓で、４．５
Ｍ）ｌｘの信号と４Ｍ）−ＩｔのノイズでテープＣ／Ｎ
を調べて比較した。比較例は、カレンダ処理しないもの
を、他は同条件で製造したものを用いた。本発明による
ものとこの〔比較例−１〕のバック層の平均表面粗さは
それぞれ４００人と２１００人であった。
せて移動させながら、入射角献以上でＣ０８０５％Ｎｉ
２Ｏ％の合金を電子ビーム蒸着した。蒸着時は酸素を最
大分圧とし、約２ Ｘ １０−ｆＴｏｒｒで０．１５μ
＃ｌのＣｏ−Ｎｉ−０系蒸着膜を得た。この原反より８
ｆｆ幅の磁気テープを得て、相対速度４部廓で、４．５
Ｍ）ｌｘの信号と４Ｍ）−ＩｔのノイズでテープＣ／Ｎ
を調べて比較した。比較例は、カレンダ処理しないもの
を、他は同条件で製造したものを用いた。本発明による
ものとこの〔比較例−１〕のバック層の平均表面粗さは
それぞれ４００人と２１００人であった。
実施例
エスレツクＢＬ−１（漬水化学■製ポリビニルブチラー
ル〕２００部、カーボンブラック１００部、二硫化モリ
ブデン１００部、ニトロセルロースＲ５Ｉ／２〔ダイセ
ル化学工業哨→製〕５０部、ペンタエリススリトールテ
トラステアレート８部、メチルエチルケトン１８００部
、トルエン１８００部、から成る塗料成分をボールミル
中で４０時間混合分散さゼ、バック層用塗料を調整した
。この塗料を、コロナ処理したポリアミド基板（８μｍ
厚）上に約２．０μｍバーコータで塗布して乾燥した。
ル〕２００部、カーボンブラック１００部、二硫化モリ
ブデン１００部、ニトロセルロースＲ５Ｉ／２〔ダイセ
ル化学工業哨→製〕５０部、ペンタエリススリトールテ
トラステアレート８部、メチルエチルケトン１８００部
、トルエン１８００部、から成る塗料成分をボールミル
中で４０時間混合分散さゼ、バック層用塗料を調整した
。この塗料を、コロナ処理したポリアミド基板（８μｍ
厚）上に約２．０μｍバーコータで塗布して乾燥した。
この状態の基板（５０１幅）を、温度８５℃、ロール圧
８０１ｇ／ｃＡ のロール間に１００ｍ／ｍｉｎ の
速度で２回通してカレンダ処理を行った。
８０１ｇ／ｃＡ のロール間に１００ｍ／ｍｉｎ の
速度で２回通してカレンダ処理を行った。
この後、バック層と反対側の面に、入射角が０゜〜１０
°の範囲で、Ｃｏ１００％、Ｃｒ１００％の二源蒸着法
によりＣｏ８０％Ｃｒ２Ｏ％からなる０、２ｐｍの垂直
磁化膜を形成し、１部４インチに裁断し、磁気テープを
得た。
°の範囲で、Ｃｏ１００％、Ｃｒ１００％の二源蒸着法
によりＣｏ８０％Ｃｒ２Ｏ％からなる０、２ｐｍの垂直
磁化膜を形成し、１部４インチに裁断し、磁気テープを
得た。
比較例は、〔実験例−１〕と同様にカレンダ処理なしの
媒体である。本発明のものとこの〔比較例−２〕の平均
表面粗さはそれぞれ８５０人と１２００人であった。
媒体である。本発明のものとこの〔比較例−２〕の平均
表面粗さはそれぞれ８５０人と１２００人であった。
実施例
ＶＡＧＨ（米国Ｕ、 Ｃ，Ｃ社製、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−ビニルアルコール共重合体） １２−１ 、ｓ−
７ｙ＄ボール１４８丁〔日本ゼオン社製、アクリロニド
ルーブタジェン共重合体〕８部、カーボンブラック１０
部、シクロへキサノン５０部、メチルイソブチルケトン
５０部から成る塗料成分をボールミル中で８０時間混合
分散させ、バック層用塗料を調整した。
ニル−ビニルアルコール共重合体） １２−１ 、ｓ−
７ｙ＄ボール１４８丁〔日本ゼオン社製、アクリロニド
ルーブタジェン共重合体〕８部、カーボンブラック１０
部、シクロへキサノン５０部、メチルイソブチルケトン
５０部から成る塗料成分をボールミル中で８０時間混合
分散させ、バック層用塗料を調整した。
この塗料をバーコータで、８．５μｍの二軸強化延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルムの一方の面に約１．
２μｍ塗布して乾燥した。
リエチレンテレフタレートフィルムの一方の面に約１．
２μｍ塗布して乾燥した。
この５０部Ｍ幅の基板を温度８０°Ｃ，ロール圧８５ｋ
ｇ／ｃｄのロール間に２０ｍ／ｍｉｎで４回通してカレ
ンダ処理を行った。
ｇ／ｃｄのロール間に２０ｍ／ｍｉｎで４回通してカレ
ンダ処理を行った。
この後、直径１ｍのクーリングキャンの周側面に沿わせ
て、前記基板を移動させながら最大介在２ Ｘ １０−
５Ｔｏｒｒの酸素中で、入射角４Ｃ以上でＣ０７８％。
て、前記基板を移動させながら最大介在２ Ｘ １０−
５Ｔｏｒｒの酸素中で、入射角４Ｃ以上でＣ０７８％。
Ｎｉ２２％の合金を電子ビーム蒸着して、０．１８μｍ
（７）Ｃ。
（７）Ｃ。
−Ｎｉ−０力）らなる面内磁化膜を得て、８部幅に裁断
し、特性を測った。比較例として、カレンダ処理なしの
ものを調べた。本発明のものをこの〔比較例−８〕の平
均表面粗さはそれぞれ４５０人と１８００人であ実施例 熱可塑性ポリウレタン樹脂ｉｏｏ部、カーボンブラック
〔旭カーボン＄５５）７０部、エポキシ樹脂７０部、レ
シチン８．５部、酢酸エチルｚｏｏ部、トルエン２００
部、シクロヘキサノン１００部から成る塗料成分をボー
ルミル中で８０時間混合分散さげベースに炭酸カルシウ
ム（平均粒径０．７μｍ）を１０部加え、更に２０時間
混合分散させてバック層用の塗料を調整した。この塗料
をグラビアコータで、１１．５μｍのポリエチレンテレ
フタレートフィルムの一方の面に約２μｍ塗布し、乾燥
させた。
し、特性を測った。比較例として、カレンダ処理なしの
ものを調べた。本発明のものをこの〔比較例−８〕の平
均表面粗さはそれぞれ４５０人と１８００人であ実施例 熱可塑性ポリウレタン樹脂ｉｏｏ部、カーボンブラック
〔旭カーボン＄５５）７０部、エポキシ樹脂７０部、レ
シチン８．５部、酢酸エチルｚｏｏ部、トルエン２００
部、シクロヘキサノン１００部から成る塗料成分をボー
ルミル中で８０時間混合分散さげベースに炭酸カルシウ
ム（平均粒径０．７μｍ）を１０部加え、更に２０時間
混合分散させてバック層用の塗料を調整した。この塗料
をグラビアコータで、１１．５μｍのポリエチレンテレ
フタレートフィルムの一方の面に約２μｍ塗布し、乾燥
させた。
この後、バック層の鏡面化のために温度８０°Ｃ。
ロール圧８０ｋｇ／ｄ のロール間に１０ｍ／ｍｉｎの
速度で２回通してカレンダ処理を行った。
速度で２回通してカレンダ処理を行った。
コ０）後、直径５０ＣＩＲのクーリングキャンに沿って
前記基板に移動させ、バック層と反対側の面にＣ。
前記基板に移動させ、バック層と反対側の面にＣ。
８６％Ｍｏ １４９６からなるターゲットを用いて高周
波マグネトロンスパッタにより、ＣｏＭｏ 合金薄膜を
０．１μｍ形成した。スパッタリング時の真空度はＴｏ
ｏＴｏｒｒで最大分圧はアルゴンである。
波マグネトロンスパッタにより、ＣｏＭｏ 合金薄膜を
０．１μｍ形成した。スパッタリング時の真空度はＴｏ
ｏＴｏｒｒで最大分圧はアルゴンである。
これをｇｆｆ幅のテープにして、バック層形成後カレン
ダ処理しないものと特性比較した。本発明のものとこの
〔比較例−４〕の平均表面粗さはそれぞれ２２０人と２
００ＯＡであった。
ダ処理しないものと特性比較した。本発明のものとこの
〔比較例−４〕の平均表面粗さはそれぞれ２２０人と２
００ＯＡであった。
〔実験例−１〕から〔実験例−４〕までのテープを夫々
ｔｏｏｍ、 （比較例−１〕から〔比較例−４〕までも
１００ｍづつ、リールに巻いて、５０°Ｃ８５％ＲＨに
１ケ月保存し、前後のＣ／Ｎを第１表に示す。
ｔｏｏｍ、 （比較例−１〕から〔比較例−４〕までも
１００ｍづつ、リールに巻いて、５０°Ｃ８５％ＲＨに
１ケ月保存し、前後のＣ／Ｎを第１表に示す。
ＯｄＢは、夫々の比較例のテープのＣ／Ｎの初期の値を
採用した。
採用した。
〈第 １ 表〉
又、走行性能の目安となる動摩擦係数は、市販のＶＨｓ
デツキと同等の走行系を有するテスト機で１００往復走
行後の２５°Ｃ６０％ＲＨでの値は、第２表のようであ
った。
デツキと同等の走行系を有するテスト機で１００往復走
行後の２５°Ｃ６０％ＲＨでの値は、第２表のようであ
った。
く第２表〉
発明の効果
本発明の金属薄膜型磁気記録媒体によると、走行性能と
優れたいのバランスした磁気記録媒体が得られるため、
超小型Ｖ ’ｆ Ｒの実現や、高密度情報記録システム
の実現が図れる。まｔこ本発明の製造方法によると、前
記したシステムに大量に用いられる磁気記録媒体を再現
良く、火星に生産することが可能になるものである。
優れたいのバランスした磁気記録媒体が得られるため、
超小型Ｖ ’ｆ Ｒの実現や、高密度情報記録システム
の実現が図れる。まｔこ本発明の製造方法によると、前
記したシステムに大量に用いられる磁気記録媒体を再現
良く、火星に生産することが可能になるものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基板の一方の面側に金属強磁性薄膜層を設け、前記
基板の他方の面側には結合剤中に炭素粉末が分散され平
均表面粗さが１００人〜１０００人のバック層を設けた
金属薄膜型磁気記録媒体。 ２、基板の一方の面側に結合剤中に分散された炭素粉末
を含む層を塗布形成した後、これを乾燥処理し、ロール
圧着にょるカレンダ処理した後、前記基板の他方の面に
金属薄膜強磁性層を蒸着する金属薄膜型磁気記録媒体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58103426A JPS59229737A (ja) | 1983-06-09 | 1983-06-09 | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58103426A JPS59229737A (ja) | 1983-06-09 | 1983-06-09 | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59229737A true JPS59229737A (ja) | 1984-12-24 |
| JPH054725B2 JPH054725B2 (ja) | 1993-01-20 |
Family
ID=14353706
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58103426A Granted JPS59229737A (ja) | 1983-06-09 | 1983-06-09 | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59229737A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5698719A (en) * | 1980-01-10 | 1981-08-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS57212620A (en) * | 1981-06-24 | 1982-12-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
-
1983
- 1983-06-09 JP JP58103426A patent/JPS59229737A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5698719A (en) * | 1980-01-10 | 1981-08-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS57212620A (en) * | 1981-06-24 | 1982-12-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH054725B2 (ja) | 1993-01-20 |
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