JPH01112528A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH01112528A JPH01112528A JP26903887A JP26903887A JPH01112528A JP H01112528 A JPH01112528 A JP H01112528A JP 26903887 A JP26903887 A JP 26903887A JP 26903887 A JP26903887 A JP 26903887A JP H01112528 A JPH01112528 A JP H01112528A
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 96
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 47
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims abstract description 40
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims abstract description 39
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 26
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 claims description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 14
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 13
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 7
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 6
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 15
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 15
- PUAQLLVFLMYYJJ-UHFFFAOYSA-N 2-aminopropiophenone Chemical compound CC(N)C(=O)C1=CC=CC=C1 PUAQLLVFLMYYJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 99
- 239000010408 film Substances 0.000 description 34
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 20
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 8
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 4
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 4
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- -1 fatty acid ester Chemical class 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は磁気記録媒体に関し、さらに詳しくは、走行
性、耐久性および耐食性に優れた磁気記録媒体に関する
。
性、耐久性および耐食性に優れた磁気記録媒体に関する
。
〔従来の技術]
一般に、磁性粉末を結合剤成分とともに基体フィルム上
に結着させるか、或いは強磁性金属またはそれらの合金
などを真空蒸着等によって基体フィルム上に被着してつ
くられる磁気記録媒体は、記録再生時に磁気ヘッド等と
激しく摺接するため磁性層が摩耗され易(、特に真空蒸
着等によって形成される強磁性金属薄膜型磁気記録媒体
および金属磁性粉末を結合剤成分とともに結着してつく
られる磁気記録媒体は、高密度記録特性に優れる反面、
磁気ヘッドとの摩擦係数が大きくて摩耗や損傷を受は易
く、また空気中で除々に酸化を受けて最大磁束密度など
の磁気特性が劣化するなどの難点がある。
に結着させるか、或いは強磁性金属またはそれらの合金
などを真空蒸着等によって基体フィルム上に被着してつ
くられる磁気記録媒体は、記録再生時に磁気ヘッド等と
激しく摺接するため磁性層が摩耗され易(、特に真空蒸
着等によって形成される強磁性金属薄膜型磁気記録媒体
および金属磁性粉末を結合剤成分とともに結着してつく
られる磁気記録媒体は、高密度記録特性に優れる反面、
磁気ヘッドとの摩擦係数が大きくて摩耗や損傷を受は易
く、また空気中で除々に酸化を受けて最大磁束密度など
の磁気特性が劣化するなどの難点がある。
また、−iに、磁気テープ等の磁気記録媒体においては
、平滑性の良好な基体を使用し、磁性層表面も平滑であ
るため、走行時に磁気テープがガイドロール等に密着し
やす(、特に、近年、記録密度の向上を目的として極め
て平滑性の良好な基体を用いているため、基体の摩擦係
数が大きくて走行が不安定になり易い。
、平滑性の良好な基体を使用し、磁性層表面も平滑であ
るため、走行時に磁気テープがガイドロール等に密着し
やす(、特に、近年、記録密度の向上を目的として極め
て平滑性の良好な基体を用いているため、基体の摩擦係
数が大きくて走行が不安定になり易い。
このため、たとえば、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シ
リコンオンイル、フッ素オイルなどの潤滑剤からなる保
護層あるいはバックコートIIを、磁性層表面あるいは
基体裏面に設けて走行性および耐久性、さらに耐食性を
改善することが行われている。(特開昭60−1090
28号、特開昭59−172157号、特開昭60−9
3638号) 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、これらの高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリ
コンオンイル、フッ素オイルなどの潤滑剤を保護層ある
いはバックコート層に使用することによって、走行性、
耐久性および耐食性が改善されるものの、未だ充分に満
足できるものは得られていない。
リコンオンイル、フッ素オイルなどの潤滑剤からなる保
護層あるいはバックコートIIを、磁性層表面あるいは
基体裏面に設けて走行性および耐久性、さらに耐食性を
改善することが行われている。(特開昭60−1090
28号、特開昭59−172157号、特開昭60−9
3638号) 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、これらの高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリ
コンオンイル、フッ素オイルなどの潤滑剤を保護層ある
いはバックコート層に使用することによって、走行性、
耐久性および耐食性が改善されるものの、未だ充分に満
足できるものは得られていない。
この発明はかかる現状に鑑み、種々検討を行った結果な
されたもので、式 %式% までの整数、mは1から20までの整数、yは5から1
00までの整数である。) で表され、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基か
ら選ばれる少なくとも一種のイオン性の極性基をもつフ
ッ素化ポリエーテルと、アルキルピリジニウム塩、アル
キルイソキノリニウム塩、ジアルキルモルホリニウム塩
、第4アンモニウム塩から選ばれるカウンターイオンを
もつ原子団との反応生成物を、表面に磁性層を有する磁
気記録媒体の表面あるいは裏面、もしくは表裏両面に、
含ませることによって、磁気ヘッドあるいはガイドピン
などに対する摩擦係数を低下させ、走行性、耐久性およ
び耐食性を充分に向上させたものである。また、さらに
、式 %式% (但し、mは1から40までの整数、Sは1から50ま
での整数、y、dは1から50までの整数である。) で表されるフッ素系固形潤滑剤を、少なくとも1種以上
前記のイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテルと
カウンターイオンをもつ原子団との反応生成物と併用す
ることによって、走行性、耐久性および耐食性をさらに
一段と向上させたものである。
されたもので、式 %式% までの整数、mは1から20までの整数、yは5から1
00までの整数である。) で表され、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基か
ら選ばれる少なくとも一種のイオン性の極性基をもつフ
ッ素化ポリエーテルと、アルキルピリジニウム塩、アル
キルイソキノリニウム塩、ジアルキルモルホリニウム塩
、第4アンモニウム塩から選ばれるカウンターイオンを
もつ原子団との反応生成物を、表面に磁性層を有する磁
気記録媒体の表面あるいは裏面、もしくは表裏両面に、
含ませることによって、磁気ヘッドあるいはガイドピン
などに対する摩擦係数を低下させ、走行性、耐久性およ
び耐食性を充分に向上させたものである。また、さらに
、式 %式% (但し、mは1から40までの整数、Sは1から50ま
での整数、y、dは1から50までの整数である。) で表されるフッ素系固形潤滑剤を、少なくとも1種以上
前記のイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテルと
カウンターイオンをもつ原子団との反応生成物と併用す
ることによって、走行性、耐久性および耐食性をさらに
一段と向上させたものである。
この発明で使用される前記のイオン性の極性基をもつフ
ッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原子団と
の反応生成物は、フッ素化ポリエーテル分子の末端にア
ルキルピリジニウム塩、アルキルイソキノリニウム塩、
ジアルキルモルホリニウム塩、第4アンモニウム塩から
選ばれる少なくとも一種を結合して、耐食性に悪影響を
及ぼす有機酸をマスキングしているため、耐食性が充分
に向上され、またこれらフッ素化ポリエーテル分子の末
端に結合するアルキルピリジニウム塩、アルキルイソキ
ノリニウム塩、ジアルキルモルホリニウム塩、第4アン
モニウム塩を適当に選ぶことによって、親水性の磁性層
や基体および親油性の基体等との親和性が充分に向上さ
れる。しかして、この種の反応生成物を用いて磁性層上
に保護層を形成すると、これらのアルキルピリジニウム
塩、アルキルイソキノリニウム塩、ジアルキルモルホリ
ニウム塩、第4アンモニウム塩が磁性層表面に配向され
て強固に吸着される。また、フッ素化ポリエーテル部分
は磁性層側と反対の表面に配向されて保護層が形成され
るため、このフッ素化ポリエーテル部分の優れた潤滑機
能および撥水撥油機能が保護層表面で充分に発揮される
。従って、この種の反応生成物を用いると、磁性層の表
面に強固に被着されて潤滑性および耐食性に優れた保護
層が形成され、磁気ヘッドとの摺接によって保護層が剥
離することもなく、走行性、耐久性および耐食性が充分
に向上される。
ッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原子団と
の反応生成物は、フッ素化ポリエーテル分子の末端にア
ルキルピリジニウム塩、アルキルイソキノリニウム塩、
ジアルキルモルホリニウム塩、第4アンモニウム塩から
選ばれる少なくとも一種を結合して、耐食性に悪影響を
及ぼす有機酸をマスキングしているため、耐食性が充分
に向上され、またこれらフッ素化ポリエーテル分子の末
端に結合するアルキルピリジニウム塩、アルキルイソキ
ノリニウム塩、ジアルキルモルホリニウム塩、第4アン
モニウム塩を適当に選ぶことによって、親水性の磁性層
や基体および親油性の基体等との親和性が充分に向上さ
れる。しかして、この種の反応生成物を用いて磁性層上
に保護層を形成すると、これらのアルキルピリジニウム
塩、アルキルイソキノリニウム塩、ジアルキルモルホリ
ニウム塩、第4アンモニウム塩が磁性層表面に配向され
て強固に吸着される。また、フッ素化ポリエーテル部分
は磁性層側と反対の表面に配向されて保護層が形成され
るため、このフッ素化ポリエーテル部分の優れた潤滑機
能および撥水撥油機能が保護層表面で充分に発揮される
。従って、この種の反応生成物を用いると、磁性層の表
面に強固に被着されて潤滑性および耐食性に優れた保護
層が形成され、磁気ヘッドとの摺接によって保護層が剥
離することもなく、走行性、耐久性および耐食性が充分
に向上される。
また、この種の反応生成物を用いて表面に磁性層を形成
した基体の裏面に直接バックコート層を形成するか、あ
るいはすでに基体の裏面に形成されたバックコート層上
にさらにこの種の反応生成物を用いてバックコート層を
形成すると、バックコート層の塗膜剥離が防止され、さ
らにブロッキングが抑制されて、走行性、耐久性および
耐食性が充分に向上される。
した基体の裏面に直接バックコート層を形成するか、あ
るいはすでに基体の裏面に形成されたバックコート層上
にさらにこの種の反応生成物を用いてバックコート層を
形成すると、バックコート層の塗膜剥離が防止され、さ
らにブロッキングが抑制されて、走行性、耐久性および
耐食性が充分に向上される。
さらに、基体の表面に形成した磁性層上に、金属酸化物
膜、無機酸化物膜、無機窒化物膜、有機高分子化合物膜
から選ばれる少な(とも1種の保護膜層を形成し、この
保護膜層上にさらにこの種の反応生成物を用いて保護層
を形成すると、これらの保護膜層と反応生成物との接着
性が向上し、耐摩耗性が向上されて、走行性、耐久性お
よび耐食性が充分に向上される。
膜、無機酸化物膜、無機窒化物膜、有機高分子化合物膜
から選ばれる少な(とも1種の保護膜層を形成し、この
保護膜層上にさらにこの種の反応生成物を用いて保護層
を形成すると、これらの保護膜層と反応生成物との接着
性が向上し、耐摩耗性が向上されて、走行性、耐久性お
よび耐食性が充分に向上される。
このようなイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテ
ルとカウンターイオンをもつ原子団との反応生成物とし
ては、たとえば、式 %式%:) で表されるものが好適なものとして、単独であるいは2
種以上併用して使用される。これらの式におけるyは2
から50までの整数、mは2から50までの整数、nは
2から80までの整数であることが好ましく、yが50
より大きくなると粘度が高(なって摩擦係数が増大し、
mが50より大きくなるとCI!、原子のため摩擦係数
が大きくなる。またnが80より大きくなると粘度が高
くなり摩擦係数が増大する。
ルとカウンターイオンをもつ原子団との反応生成物とし
ては、たとえば、式 %式%:) で表されるものが好適なものとして、単独であるいは2
種以上併用して使用される。これらの式におけるyは2
から50までの整数、mは2から50までの整数、nは
2から80までの整数であることが好ましく、yが50
より大きくなると粘度が高(なって摩擦係数が増大し、
mが50より大きくなるとCI!、原子のため摩擦係数
が大きくなる。またnが80より大きくなると粘度が高
くなり摩擦係数が増大する。
また、前記の式で示されるフッ素系固形潤滑剤は、固形
で優れた潤滑機能および撥水撥油機能を有し、前記の反
応生成物と相溶性がよい。従って、このフッ素系固形潤
滑剤を前記の反応生成物と併用すると、固液2相の潤滑
効果が充分に発揮され、摩擦係数が充分に低減されて、
走行性、耐久性および耐食性がさらに一段と向上される
。
で優れた潤滑機能および撥水撥油機能を有し、前記の反
応生成物と相溶性がよい。従って、このフッ素系固形潤
滑剤を前記の反応生成物と併用すると、固液2相の潤滑
効果が充分に発揮され、摩擦係数が充分に低減されて、
走行性、耐久性および耐食性がさらに一段と向上される
。
このようなフッ素系固形潤滑剤としては、前記の式で表
されるものが、好適なものとして単独であるいは2種以
上前記の反応生成物と併用して使用される。これらの式
におけるmは1から40の整数、Sは1から50までの
整数、y、dは1から50までの整数であることが好ま
しく、mが40より大きくなると溶剤への溶解性が低下
し、S、 )l、 dが50より大きくなると摩擦
係数が増加する。
されるものが、好適なものとして単独であるいは2種以
上前記の反応生成物と併用して使用される。これらの式
におけるmは1から40の整数、Sは1から50までの
整数、y、dは1から50までの整数であることが好ま
しく、mが40より大きくなると溶剤への溶解性が低下
し、S、 )l、 dが50より大きくなると摩擦
係数が増加する。
このようなフッ素系固形潤滑剤を、前記のイオン性の極
性基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンを
もつ原子団との反応生成物と併用する場合、両者の配合
割合は、フッ素系固形潤滑剤対反応生成物の重量比にし
て、0.01対1〜1対0、Olの範囲内にするのが好
ましい。
性基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンを
もつ原子団との反応生成物と併用する場合、両者の配合
割合は、フッ素系固形潤滑剤対反応生成物の重量比にし
て、0.01対1〜1対0、Olの範囲内にするのが好
ましい。
こめようなイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテ
ルとカウンターイオンをもつ原子団との反応生成物は、
フレオンなどの適当な溶剤に溶解し、溶解によって得ら
れた溶液中に、基体上に形成された磁性層、基体裏面、
基体の裏面に形成されたバックコート層、基体上の磁性
層上にさらに形成された金属酸化物膜、無機酸化物膜、
無機窒化物膜、有機高分子化合物膜などの保護膜層など
を浸漬するか、あるいは上記溶液を前記の磁性層、基体
裏面、バックコート層、金属酸化物膜、無機酸化物膜、
無機窒化物膜、有機高分子化合物膜などの保護膜層など
の表面に塗布もしくは噴霧するなどの方法で前記の磁性
層、基体裏面、バックコート層、金属酸化物膜、無機酸
化物膜、無機窒化物膜、有機高分子化合物膜などの保護
膜層上に被着される。塗布された場合の塗布厚は乾燥厚
で10〜200人の範囲内であることが好ましく、これ
より薄くては所期の効果が得られず、厚すぎると出力低
下やドロップアウトの原因になる。さらにイオン性の極
性基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンを
もつ原子団との反応生成物とフッ素系固形潤滑剤を併用
する場合は、これら両者をフレオンなどの適当な溶剤に
溶解し、前記と同様にして磁性層、基体裏面、バックコ
ート層、金属酸化物膜、無機酸化物膜、無機窒化物膜、
有機高分子化合物膜などの保護膜層上に被着される。塗
布された場合の塗布厚は両者合計して乾燥厚で10〜2
00人の範囲内であることが好ましく、これより薄くて
は所期の効果が得られず、厚すぎると出力低下やドロッ
プアウトの原因になる。
ルとカウンターイオンをもつ原子団との反応生成物は、
フレオンなどの適当な溶剤に溶解し、溶解によって得ら
れた溶液中に、基体上に形成された磁性層、基体裏面、
基体の裏面に形成されたバックコート層、基体上の磁性
層上にさらに形成された金属酸化物膜、無機酸化物膜、
無機窒化物膜、有機高分子化合物膜などの保護膜層など
を浸漬するか、あるいは上記溶液を前記の磁性層、基体
裏面、バックコート層、金属酸化物膜、無機酸化物膜、
無機窒化物膜、有機高分子化合物膜などの保護膜層など
の表面に塗布もしくは噴霧するなどの方法で前記の磁性
層、基体裏面、バックコート層、金属酸化物膜、無機酸
化物膜、無機窒化物膜、有機高分子化合物膜などの保護
膜層上に被着される。塗布された場合の塗布厚は乾燥厚
で10〜200人の範囲内であることが好ましく、これ
より薄くては所期の効果が得られず、厚すぎると出力低
下やドロップアウトの原因になる。さらにイオン性の極
性基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンを
もつ原子団との反応生成物とフッ素系固形潤滑剤を併用
する場合は、これら両者をフレオンなどの適当な溶剤に
溶解し、前記と同様にして磁性層、基体裏面、バックコ
ート層、金属酸化物膜、無機酸化物膜、無機窒化物膜、
有機高分子化合物膜などの保護膜層上に被着される。塗
布された場合の塗布厚は両者合計して乾燥厚で10〜2
00人の範囲内であることが好ましく、これより薄くて
は所期の効果が得られず、厚すぎると出力低下やドロッ
プアウトの原因になる。
基体上に形成される磁性層は、7−Fe、O,粉末、F
e、O,粉末、Co含有1−Fe、O,粉末、CO含有
Fe:+04粉末、Cry、粉末、Fe粉末、co粉末
、Fe−Ni粉末などの磁性粉末を結合剤樹脂および有
機溶剤等とともに混合分散して磁性塗料を調製し、この
磁性塗料を基体上に塗布、乾燥するか、あるいは、Co
、Ni5Fe、Co−Ni、Co−Cr、Co−P、C
o−Ni −Pなどの強磁性材を真空蒸着、イオンブレ
ーティング、スパッタリング、メツキ等の手段によって
基体上に被着するなどの方法で形成される。
e、O,粉末、Co含有1−Fe、O,粉末、CO含有
Fe:+04粉末、Cry、粉末、Fe粉末、co粉末
、Fe−Ni粉末などの磁性粉末を結合剤樹脂および有
機溶剤等とともに混合分散して磁性塗料を調製し、この
磁性塗料を基体上に塗布、乾燥するか、あるいは、Co
、Ni5Fe、Co−Ni、Co−Cr、Co−P、C
o−Ni −Pなどの強磁性材を真空蒸着、イオンブレ
ーティング、スパッタリング、メツキ等の手段によって
基体上に被着するなどの方法で形成される。
また、基体の裏面に形成されるバックコート層は、ベン
ガラ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、カーボンブラッ
クなどの充填剤を、結合剤樹脂および有機溶剤等ととも
に混合分散してバックコート層用塗料を調製し、このバ
ックコート層用塗料を表面に磁性層を形成した基体の裏
面に塗布、乾燥して形成される。
ガラ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、カーボンブラッ
クなどの充填剤を、結合剤樹脂および有機溶剤等ととも
に混合分散してバックコート層用塗料を調製し、このバ
ックコート層用塗料を表面に磁性層を形成した基体の裏
面に塗布、乾燥して形成される。
さらに、磁性層上に形成される金属酸化物膜からなる保
護膜層は、A!、Ti、Cr5Fe、Mn、Ni5Nb
、Ta等を酸素雰囲気下でスパッタリングするかあるい
は真空蒸着して形成され、無機酸化物膜からなる保護膜
層は、Si、Ge等を酸素雰囲気下でスパッタリングす
るかあるいは真空蒸着して形成される。さらに無機窒化
物膜からなる保護膜層は、AI!、、Ti、Cr、Fe
、Mn、Ni、Nb、Ta等をNH3、N、雰囲気下で
スパッタリング、真空蒸着、イオンブレーティングする
などして形成され、有機高分子化合物膜などの保護膜層
は、例えば、エチレン、テトラメチルシラン、ヘキサメ
チルジシラザン、CtF<等の有機化合物のモノマーガ
スをプラズマ重合するなどして形成される。
護膜層は、A!、Ti、Cr5Fe、Mn、Ni5Nb
、Ta等を酸素雰囲気下でスパッタリングするかあるい
は真空蒸着して形成され、無機酸化物膜からなる保護膜
層は、Si、Ge等を酸素雰囲気下でスパッタリングす
るかあるいは真空蒸着して形成される。さらに無機窒化
物膜からなる保護膜層は、AI!、、Ti、Cr、Fe
、Mn、Ni、Nb、Ta等をNH3、N、雰囲気下で
スパッタリング、真空蒸着、イオンブレーティングする
などして形成され、有機高分子化合物膜などの保護膜層
は、例えば、エチレン、テトラメチルシラン、ヘキサメ
チルジシラザン、CtF<等の有機化合物のモノマーガ
スをプラズマ重合するなどして形成される。
磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルムなどの合
成樹脂フィルムを基体とする磁気テープ、円盤やドラム
を基体とする磁気ディスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッ
ドと摺接する構造の種々の形態を包含する。
成樹脂フィルムを基体とする磁気テープ、円盤やドラム
を基体とする磁気ディスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッ
ドと摺接する構造の種々の形態を包含する。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例1
厚さ12μmのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に
装填し、5X10−’トールの真空下でコバルトを加熱
蒸発させてポリエステルフィルム上に厚さ0.2μmの
コバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成した。
装填し、5X10−’トールの真空下でコバルトを加熱
蒸発させてポリエステルフィルム上に厚さ0.2μmの
コバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成した。
次に、表面に強磁性金属薄膜層を形成したポリエステル
フィルムの裏面に、下記のバックコート層用塗料を塗布
、乾燥して厚さ1.0μmのバックコート層を形成した
。
フィルムの裏面に、下記のバックコート層用塗料を塗布
、乾燥して厚さ1.0μmのバックコート層を形成した
。
バックコート層用塗料
カーボンブラック 270重量部α−F
e、O,粉末 30〃ポリウレタン樹脂
70〃硝化綿
工00〃三官能性低分子量イソシアネ−30〃 ト化合物 シクロヘキサノン 750〃トルエン
750〃次いで、下記の第1表で
示されるイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテル
とカウンターイオンをもつ原子団との反応生成物の0.
5重量%フレオン溶液を、強磁性金属薄膜層およびバッ
クコート層上に、いずれも乾燥厚が80人となるように
塗布、乾燥して、イオン性の極性基をもつフッ素化ポリ
エーテルとカウンターイオンをもつ原子団との反応生成
物からなる保護層およびバックコート層を、磁性層およ
び先に形成した下層のバックコート層上に形成し、所定
の巾に裁断して磁気テープをつくった。
e、O,粉末 30〃ポリウレタン樹脂
70〃硝化綿
工00〃三官能性低分子量イソシアネ−30〃 ト化合物 シクロヘキサノン 750〃トルエン
750〃次いで、下記の第1表で
示されるイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテル
とカウンターイオンをもつ原子団との反応生成物の0.
5重量%フレオン溶液を、強磁性金属薄膜層およびバッ
クコート層上に、いずれも乾燥厚が80人となるように
塗布、乾燥して、イオン性の極性基をもつフッ素化ポリ
エーテルとカウンターイオンをもつ原子団との反応生成
物からなる保護層およびバックコート層を、磁性層およ
び先に形成した下層のバックコート層上に形成し、所定
の巾に裁断して磁気テープをつくった。
実施例2
Fe磁性粉末 80重量部塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−ビニ 16〃ルアルコ一ル共重合体 ポリウレタン樹脂 4 〃三官能性低
分子量イソシアネー 2 〃ト化合物 メチルイソブチルケトン 61〃トルエン
61〃この組成物をボールミル中
で72時間混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料を厚さ12μmのポリエステルフィルム上に乾燥厚が
6μmとなるように塗布、乾燥して磁性層を形成した。
ル−酢酸ビニル−ビニ 16〃ルアルコ一ル共重合体 ポリウレタン樹脂 4 〃三官能性低
分子量イソシアネー 2 〃ト化合物 メチルイソブチルケトン 61〃トルエン
61〃この組成物をボールミル中
で72時間混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料を厚さ12μmのポリエステルフィルム上に乾燥厚が
6μmとなるように塗布、乾燥して磁性層を形成した。
次いで、この磁性層を形成したポリエステルフィルムの
裏面に実施例1と同様にしてバックコート層を形成し、
さらにこれらの磁性層およびバックコート層上に、実施
例1で使用したイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエ
ーテルとカウンターイオンをもつ原子団との反応生成物
に代えて、下記の第1表で示されるイオン性の極性基を
もつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原
子団との反応生成物の0.5重量%フレオン溶液を使用
した以外は、実施例1と同様にしていずれも乾燥厚が8
0人のイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテルと
カウンターイオンをもつ原子団との反応生成物からなる
保護層および上履のバックコート層を形成し、所定の巾
に裁断して磁気テープをつくった。
裏面に実施例1と同様にしてバックコート層を形成し、
さらにこれらの磁性層およびバックコート層上に、実施
例1で使用したイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエ
ーテルとカウンターイオンをもつ原子団との反応生成物
に代えて、下記の第1表で示されるイオン性の極性基を
もつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原
子団との反応生成物の0.5重量%フレオン溶液を使用
した以外は、実施例1と同様にしていずれも乾燥厚が8
0人のイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテルと
カウンターイオンをもつ原子団との反応生成物からなる
保護層および上履のバックコート層を形成し、所定の巾
に裁断して磁気テープをつくった。
実施例3
実施例2における保護層および上層のバックコート層の
形成において、実施例2で使用したイオン性の極゛性基
をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ
原子団との反応生成物に代えて、下記の第1表で示され
るイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテルとカウ
ンターイオンをもつ原子団との反応生成物の0.5重量
%フレオン溶液を使用した以外は、実施例2と同様にし
ていずれも乾燥厚が80人のイオン性の極性基をもつフ
ッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原子団と
の反応生成物からなる保護層および上層のバックコート
層を形成し、所定の巾に裁断して磁気テープをつくった
。
形成において、実施例2で使用したイオン性の極゛性基
をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ
原子団との反応生成物に代えて、下記の第1表で示され
るイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテルとカウ
ンターイオンをもつ原子団との反応生成物の0.5重量
%フレオン溶液を使用した以外は、実施例2と同様にし
ていずれも乾燥厚が80人のイオン性の極性基をもつフ
ッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原子団と
の反応生成物からなる保護層および上層のバックコート
層を形成し、所定の巾に裁断して磁気テープをつくった
。
実施例4
実施例1と同様にして強磁性金属薄膜層を形成し、次い
で、この強磁性金属薄膜層を形成したポリエステルフィ
ルムを処理槽に装填し、ガス導入管からテトラメチルシ
ランのモノマーガスを10105eの流量で導入し、ガ
ス圧0.03 トール、高周波電力密度I W / c
iで20秒間プラズマ重合を行い、厚さ100人のプラ
ズマ重合保護膜層を形成した。
で、この強磁性金属薄膜層を形成したポリエステルフィ
ルムを処理槽に装填し、ガス導入管からテトラメチルシ
ランのモノマーガスを10105eの流量で導入し、ガ
ス圧0.03 トール、高周波電力密度I W / c
iで20秒間プラズマ重合を行い、厚さ100人のプラ
ズマ重合保護膜層を形成した。
次いで、この磁性層を形成したポリエステルフィルムの
裏面に実施例1と同様にしてバックコート層を形成し、
さらにこれらの磁性層およびバックコート層上に、実施
例1で使用したイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエ
ーテルとカウンターイオンをもつ原子団との反応生成物
に代えて、下記の第1表で示されるイオン性の極性基を
もつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原
子団との反応生成物の0.5重量%フレオン溶液を使用
した以外は、実施例1と同様にしていずれも乾燥厚が8
0人のイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテルと
カウンターイオンをもつ原子団との反応生成物からなる
保護層および上層のバ・ンクコート層を形成し、所定の
巾に裁断して磁気テープをつくった。
裏面に実施例1と同様にしてバックコート層を形成し、
さらにこれらの磁性層およびバックコート層上に、実施
例1で使用したイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエ
ーテルとカウンターイオンをもつ原子団との反応生成物
に代えて、下記の第1表で示されるイオン性の極性基を
もつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原
子団との反応生成物の0.5重量%フレオン溶液を使用
した以外は、実施例1と同様にしていずれも乾燥厚が8
0人のイオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテルと
カウンターイオンをもつ原子団との反応生成物からなる
保護層および上層のバ・ンクコート層を形成し、所定の
巾に裁断して磁気テープをつくった。
実施例5
実施例4における保護層および上層のバックコート層の
形成において、実施例4で使用したイオン性の極性基を
もつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原
子団との反応生成物に代えて、下記の第1表で示される
イオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテルとカウン
ターイオンをもつ原子団との反応生成物の0.5重量%
フレオシ溶液を使用した以外は、実施例4と同様にして
いずれも乾燥厚が80人のイオン性の極性基をもつフッ
素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原子団との
反応生成物からなる保護層および上層のバックコート層
を形成し、所定の巾に裁断して磁気テープをつくった。
形成において、実施例4で使用したイオン性の極性基を
もつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原
子団との反応生成物に代えて、下記の第1表で示される
イオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテルとカウン
ターイオンをもつ原子団との反応生成物の0.5重量%
フレオシ溶液を使用した以外は、実施例4と同様にして
いずれも乾燥厚が80人のイオン性の極性基をもつフッ
素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原子団との
反応生成物からなる保護層および上層のバックコート層
を形成し、所定の巾に裁断して磁気テープをつくった。
実施例6
実施例1における保護層及びバックコート層の形成にお
いて、イオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテルと
カウンターイオンをもつ原子団との反応生成物の0.5
重量%フレオン溶液にさらにフッ素系固形潤滑剤CF3
CCFZ)90Hの0.5重量%フレオン溶液を容積比
l:lで加えて混合し、この混合溶液を磁性層および下
層のバックコート層上に、いずれも乾燥厚が80人とな
るように塗布、乾燥して、イオン性の極性基をもつフッ
素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原子団との
反応生成物とフッ素系固形潤滑剤とからなる保護層およ
びバックコート層を、磁性層および先に形成した下層の
バックコート層上に形成した以外は、実施例1と同様に
して磁気テープをつくった。
いて、イオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテルと
カウンターイオンをもつ原子団との反応生成物の0.5
重量%フレオン溶液にさらにフッ素系固形潤滑剤CF3
CCFZ)90Hの0.5重量%フレオン溶液を容積比
l:lで加えて混合し、この混合溶液を磁性層および下
層のバックコート層上に、いずれも乾燥厚が80人とな
るように塗布、乾燥して、イオン性の極性基をもつフッ
素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原子団との
反応生成物とフッ素系固形潤滑剤とからなる保護層およ
びバックコート層を、磁性層および先に形成した下層の
バックコート層上に形成した以外は、実施例1と同様に
して磁気テープをつくった。
実施例7
実施例1において、バックコート層上のイオン性の極性
基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをも
つ原子団との反応生成物からなる上層のバックコート層
の形成を省いた以外は、実施例1と同様にして磁気テー
プをつくった。
基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをも
つ原子団との反応生成物からなる上層のバックコート層
の形成を省いた以外は、実施例1と同様にして磁気テー
プをつくった。
実施例8
実施例2において、バックコート層上のイオン性の極性
基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをも
つ原子団との反応生成物からなる上層のバックコート層
の形成を省いた以外は、実施例2と同様にして磁気テー
プをつくった。
基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをも
つ原子団との反応生成物からなる上層のバックコート層
の形成を省いた以外は、実施例2と同様にして磁気テー
プをつくった。
実施例9
実施例3において、バックコート層上のイオン性の極性
基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをも
つ原子団との反応生成物からなる上層のバックコート層
の形成を省いた以外は、実施例3と同様にして磁気テー
プをつくった。
基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをも
つ原子団との反応生成物からなる上層のバックコート層
の形成を省いた以外は、実施例3と同様にして磁気テー
プをつくった。
実施例10
実施例4において、バックコート層上のイオン性の極性
基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをも
つ原子団との反応生成物からなる上層のバックコート層
の形成を省いた以外は、実施例4と同様にして磁気テー
プをつくった。
基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをも
つ原子団との反応生成物からなる上層のバックコート層
の形成を省いた以外は、実施例4と同様にして磁気テー
プをつくった。
実施例11
実施例5において、バックコート層上のイオン性の極性
基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをも
つ原子団との反応生成物からなる上層のバックコート層
の形成を省いた以外は、実施例5と同様にして磁気テー
プをつくった。
基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをも
つ原子団との反応生成物からなる上層のバックコート層
の形成を省いた以外は、実施例5と同様にして磁気テー
プをつくった。
実施例12
実施例6において、バックコート層上のイオン性の極性
基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをも
つ原子団との反応生成物とフッ素系固形潤滑剤からなる
上層のバックコート層の形成を省いた以外は、実施例6
と同様にして磁気テープをつくった。
基をもつフッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをも
つ原子団との反応生成物とフッ素系固形潤滑剤からなる
上層のバックコート層の形成を省いた以外は、実施例6
と同様にして磁気テープをつくった。
比較例1
実施例1における、保護層および上層のバックコート層
の形成において、イオン性の極性基をもつフッ素化ポリ
エーテルとカウンターイオンをもつ原子団との反応生成
物の0.5重量%フレオン溶液に代えて、下記の第1表
で示されるパーフルオロポリエーテルの0.5重量%フ
レオン溶液を使用した以外は、実施例1と同様にして厚
さ80人の保護層および上層のバックコート層を形成し
、磁気テープをつくった。
の形成において、イオン性の極性基をもつフッ素化ポリ
エーテルとカウンターイオンをもつ原子団との反応生成
物の0.5重量%フレオン溶液に代えて、下記の第1表
で示されるパーフルオロポリエーテルの0.5重量%フ
レオン溶液を使用した以外は、実施例1と同様にして厚
さ80人の保護層および上層のバックコート層を形成し
、磁気テープをつくった。
比較例2
実施例2における、保護層および上層のバックコート層
の形成において、イオン性の極性基をもつフッ素化ポリ
エーテルとカウンターイオンをもつ原子団との反応生成
物の0.5重世%フレオン溶液に代えて、下記の第1表
で示されるパーフルオロポリエーテルの0.5重量%フ
レオン溶液を使用した以外は、実施例2と同様にして厚
さ80人の保mNおよび上層のバックコート層を形成し
、磁気テープをつくった。
の形成において、イオン性の極性基をもつフッ素化ポリ
エーテルとカウンターイオンをもつ原子団との反応生成
物の0.5重世%フレオン溶液に代えて、下記の第1表
で示されるパーフルオロポリエーテルの0.5重量%フ
レオン溶液を使用した以外は、実施例2と同様にして厚
さ80人の保mNおよび上層のバックコート層を形成し
、磁気テープをつくった。
比較例3
比較例1において、バックコート層上のパーフルオロポ
リエーテルからなる上層のバックコート層の形成を省い
た以外は、比較例1と同様にして磁気テープをつ(った
。
リエーテルからなる上層のバックコート層の形成を省い
た以外は、比較例1と同様にして磁気テープをつ(った
。
比較例4
比較例2において、バックコート層上のパーフルオロポ
リエーテルからなる上層のバックコート層の形成を省い
た以外は、比較例2と同様にして磁気テープをつくった
。
リエーテルからなる上層のバックコート層の形成を省い
た以外は、比較例2と同様にして磁気テープをつくった
。
各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
摩擦係数を測定し、耐食性及び耐久性を試験した。摩擦
係数は、磁性層側を表面粗度0.2S、外径4mの円筒
状のピンに巻き角150度で巻きつけ、荷重21g、速
度1.4cm/secで走行させて同じところを繰り返
し摺動させ、摩擦係数を測定した。また耐食性試験は、
得られた磁気テープを60″C190%RHの条件下に
7日間放置し、放置後の最大磁束密度を測定して行った
。なお、測定値は放置前の磁気テープの最大磁束密度を
100%とし、これと比較した値で表した。また耐久性
試験は、得られた磁気テープをビデオデツキに装填して
、5°C150%RHの条件下でビデオ信号を記録再生
し、出力が3dB低下するまでの時間、即ちスチルライ
フを測定して行った。
摩擦係数を測定し、耐食性及び耐久性を試験した。摩擦
係数は、磁性層側を表面粗度0.2S、外径4mの円筒
状のピンに巻き角150度で巻きつけ、荷重21g、速
度1.4cm/secで走行させて同じところを繰り返
し摺動させ、摩擦係数を測定した。また耐食性試験は、
得られた磁気テープを60″C190%RHの条件下に
7日間放置し、放置後の最大磁束密度を測定して行った
。なお、測定値は放置前の磁気テープの最大磁束密度を
100%とし、これと比較した値で表した。また耐久性
試験は、得られた磁気テープをビデオデツキに装填して
、5°C150%RHの条件下でビデオ信号を記録再生
し、出力が3dB低下するまでの時間、即ちスチルライ
フを測定して行った。
下記第2表はその結果である。
第2表
〔発明の効果〕
上記第1表から明らかなように、この発明で得られた磁
気テープ(実施例1〜12)は、いずれも従来の磁気テ
ープ(比較例1〜4)に比し、摩擦係数が小さくて、最
大磁束密度の劣化が小さく、またスチルライフが長く、
このことからこの発明によって得られる磁気記録媒体は
、走行性、耐久性および耐食性に優れていることがわか
る。
気テープ(実施例1〜12)は、いずれも従来の磁気テ
ープ(比較例1〜4)に比し、摩擦係数が小さくて、最
大磁束密度の劣化が小さく、またスチルライフが長く、
このことからこの発明によって得られる磁気記録媒体は
、走行性、耐久性および耐食性に優れていることがわか
る。
特許出願人 日立マクセル株式会社
代 理 人 高 岡 −春ズ:j:、)、ム、゛
シー −゛−1
シー −゛−1
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基体表面に磁性層を有する磁気記録媒体の表面また
は裏面もしくは表裏両面に、イオン性の極性基をもつフ
ッ素化ポリエーテルとカウンターイオンをもつ原子団と
の反応生成物を含ませたことを特徴とする磁気記録媒体
。 2、フッ素化ポリエーテルが、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、XはF、HまたはCl、nは1から10までの
整数、mは1から20までの整数、yは5から100ま
での整数である。) で表されるフッ素化ポリエーテルで、このフッ素化ポリ
エーテルがもつイオン性の極性基が、カルボキシル基、
スルホン酸基、リン酸基から選ばれる少なくとも一種で
あり、カウンターイオンをもつ原子団が、アルキルピリ
ジニウム塩、アルキルイソキノリニウム塩、ジアルキル
モルホリニウム塩、第4アンモニウム塩から選ばれる一
種である特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体。 3、磁気記録媒体の表面または裏面もしくは表裏両面に
、さらに、式 C_mF_2_m_+_1COOH C_mF_2_m_+_1(CH_2CH_2O)_y
COOH C_mF_2_m_+_1(CH_2)_dOH C_mF_2_m_+_1(CH_2)_dCOOH C_mF_2_m_+_1(CH_2)_sOCCH_
3 C_mF_2_m_+_1SO2N(CH_2)_7C
_2H_4OPO(OH)_2 (但し、mは1から40までの整数、sは1から50ま
での整数、y、dは1から50までの整数である。) で表されるフッ素系固形潤滑剤から選ばれる少なくとも
1種以上のフッ素系固形潤滑剤を含有させた特許請求の
範囲第1項および第2項記載の磁気記録媒体。 4、イオン性の極性基をもつフッ素化ポリエーテルとカ
ウンターイオンをもつ原子団との反応生成物と、フッ素
系固形潤滑剤との配合割合を、反応生成物対フッ素系固
形潤滑剤の重量比にして1対0.01から0.01対1
の範囲内にした特許請求の範囲第3項記載の磁気記録媒
体。 5、磁気記録媒体が、基体表面に磁性層を設け、さらに
その上に、金属酸化物膜、無機酸化物膜、無機窒化物膜
、有機高分子化合物膜から選ばれる少なくとも1種の保
護膜層を設けた磁気記録媒体である特許請求の範囲第1
項ないし第4項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26903887A JPH01112528A (ja) | 1987-10-24 | 1987-10-24 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26903887A JPH01112528A (ja) | 1987-10-24 | 1987-10-24 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01112528A true JPH01112528A (ja) | 1989-05-01 |
Family
ID=17466809
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26903887A Pending JPH01112528A (ja) | 1987-10-24 | 1987-10-24 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01112528A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1993010526A1 (en) * | 1991-11-18 | 1993-05-27 | Sony Corporation | Magnetic recording medium and production method thereof |
-
1987
- 1987-10-24 JP JP26903887A patent/JPH01112528A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1993010526A1 (en) * | 1991-11-18 | 1993-05-27 | Sony Corporation | Magnetic recording medium and production method thereof |
US5571595A (en) * | 1991-11-18 | 1996-11-05 | Sony Corporation | Magnetic recording medium and method for production thereof |
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