JPH07331438A - 金属膜体の製造装置 - Google Patents
金属膜体の製造装置Info
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- JPH07331438A JPH07331438A JP12595394A JP12595394A JPH07331438A JP H07331438 A JPH07331438 A JP H07331438A JP 12595394 A JP12595394 A JP 12595394A JP 12595394 A JP12595394 A JP 12595394A JP H07331438 A JPH07331438 A JP H07331438A
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁性膜やバックコート膜が均一に形成され、
かつ、いずれもが乾式メッキ手段によって設けられ、し
かもその製造能率が高い技術を提供することである。 【構成】 支持体の表裏両面に乾式メッキ手段で金属膜
が設けられてなる金属膜体の製造装置であって、支持体
の走行手段と、ドラムと、このドラムの軸芯に直交し、
かつ、支持体の表面がドラムに当接するよう支持体をド
ラムに添接させる第１の添接手段と、前記ドラムに添接
して走行する支持体の裏面に第１の金属膜を設ける乾式
メッキ手段と、前記第１の添接手段による支持体添接面
とは逆の裏面を前記ドラムに添接させる為に支持体の表
裏を反転させる反転手段と、この反転手段で表裏反転さ
せられた支持体が前記ドラムの軸芯に直交し、かつ、支
持体の裏面がドラムに当接するよう支持体をドラムに添
接させる第２の添接手段と、前記ドラムに添接して走行
する支持体の表面に第２の金属膜を設ける乾式メッキ手
段とを具備する金属膜体の製造装置。
かつ、いずれもが乾式メッキ手段によって設けられ、し
かもその製造能率が高い技術を提供することである。 【構成】 支持体の表裏両面に乾式メッキ手段で金属膜
が設けられてなる金属膜体の製造装置であって、支持体
の走行手段と、ドラムと、このドラムの軸芯に直交し、
かつ、支持体の表面がドラムに当接するよう支持体をド
ラムに添接させる第１の添接手段と、前記ドラムに添接
して走行する支持体の裏面に第１の金属膜を設ける乾式
メッキ手段と、前記第１の添接手段による支持体添接面
とは逆の裏面を前記ドラムに添接させる為に支持体の表
裏を反転させる反転手段と、この反転手段で表裏反転さ
せられた支持体が前記ドラムの軸芯に直交し、かつ、支
持体の裏面がドラムに当接するよう支持体をドラムに添
接させる第２の添接手段と、前記ドラムに添接して走行
する支持体の表面に第２の金属膜を設ける乾式メッキ手
段とを具備する金属膜体の製造装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば金属薄膜型の磁
気記録媒体の製造装置に関するものである。
気記録媒体の製造装置に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体には、非磁
性支持体であるフィルム上に磁性粉やバインダを溶剤中
に分散させた磁性塗料を塗布してなる塗布型のものと、
バインダを用いず、磁性金属粒子をフィルム上に堆積さ
せてなる金属薄膜型のものとがある。
性支持体であるフィルム上に磁性粉やバインダを溶剤中
に分散させた磁性塗料を塗布してなる塗布型のものと、
バインダを用いず、磁性金属粒子をフィルム上に堆積さ
せてなる金属薄膜型のものとがある。
【０００３】これらの中、金属薄膜型の磁気記録媒体
は、磁性層にバインダを含まないことから、磁性材料の
充填密度が高く、高密度記録に適したものであると言わ
れている。ところで、現在発売又は開発されている金属
薄膜型の磁気記録媒体は、図４に示される構成である。
尚、図４中、３０はポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルム、３１はＣｏ−Ｎｉ合金などの磁性膜、３
２は潤滑剤の膜、３３はバックコート層である。
は、磁性層にバインダを含まないことから、磁性材料の
充填密度が高く、高密度記録に適したものであると言わ
れている。ところで、現在発売又は開発されている金属
薄膜型の磁気記録媒体は、図４に示される構成である。
尚、図４中、３０はポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルム、３１はＣｏ−Ｎｉ合金などの磁性膜、３
２は潤滑剤の膜、３３はバックコート層である。
【０００４】このような構造の磁気記録媒体は、例えば
真空蒸着装置によって磁性膜３１を成膜した後、真空蒸
着装置から取り出し、磁性膜３１の上に潤滑剤を塗布し
て潤滑膜３２を形成し、又、ＰＥＴフィルム３０の裏面
にバックコート用の塗料を塗布してバックコート層３３
を形成しているのが通常である。しかしながら、このよ
うな製造方法は、磁性膜３１の形成が蒸着手段といった
方法であるのに対して、バックコート層３３の形成が塗
布手段といった方法であり、各々の手段が違い過ぎるこ
とから、製造がそれだけ煩瑣なものとなっている。
真空蒸着装置によって磁性膜３１を成膜した後、真空蒸
着装置から取り出し、磁性膜３１の上に潤滑剤を塗布し
て潤滑膜３２を形成し、又、ＰＥＴフィルム３０の裏面
にバックコート用の塗料を塗布してバックコート層３３
を形成しているのが通常である。しかしながら、このよ
うな製造方法は、磁性膜３１の形成が蒸着手段といった
方法であるのに対して、バックコート層３３の形成が塗
布手段といった方法であり、各々の手段が違い過ぎるこ
とから、製造がそれだけ煩瑣なものとなっている。
【０００５】
【発明の開示】上記のような問題点に対する検討が鋭意
押し進められて行った結果、バックコート層の形成も磁
性膜の形成と同様な手段、すなわち蒸着手段のような乾
式メッキ手段を採用すれば良いであろうとの啓示を得る
に至った。そこで、早速、二つの真空蒸着装置を用い、
第１の真空蒸着装置Ａで磁性膜の形成を行い、第２の真
空蒸着装置Ｂでバックコート膜の形成を行うことを試み
た。尚、このような技術思想の実施に際して、第１の真
空蒸着装置Ａと第２の真空蒸着装置Ｂとの間に関連がな
く、互いに独立したものであれば、製造能率が悪い。
押し進められて行った結果、バックコート層の形成も磁
性膜の形成と同様な手段、すなわち蒸着手段のような乾
式メッキ手段を採用すれば良いであろうとの啓示を得る
に至った。そこで、早速、二つの真空蒸着装置を用い、
第１の真空蒸着装置Ａで磁性膜の形成を行い、第２の真
空蒸着装置Ｂでバックコート膜の形成を行うことを試み
た。尚、このような技術思想の実施に際して、第１の真
空蒸着装置Ａと第２の真空蒸着装置Ｂとの間に関連がな
く、互いに独立したものであれば、製造能率が悪い。
【０００６】このようなことから更なる検討が押し進め
られて行った結果、磁性膜形成用の冷却キャンロールと
バックコート膜形成用の冷却キャンロールとを一つの冷
却キャンロールで構成すれば、上記の欠陥が改善される
であろうとの知見が得られるに至った。このような知見
に基づいて本発明が達成されたものであり、本発明の目
的は、磁性膜やバックコート膜が均一に形成され、か
つ、いずれもが乾式メッキ手段によって設けられ、しか
もその製造能率が高い技術を提供することである。
られて行った結果、磁性膜形成用の冷却キャンロールと
バックコート膜形成用の冷却キャンロールとを一つの冷
却キャンロールで構成すれば、上記の欠陥が改善される
であろうとの知見が得られるに至った。このような知見
に基づいて本発明が達成されたものであり、本発明の目
的は、磁性膜やバックコート膜が均一に形成され、か
つ、いずれもが乾式メッキ手段によって設けられ、しか
もその製造能率が高い技術を提供することである。
【０００７】この本発明の目的は、支持体の表裏両面に
乾式メッキ手段で金属膜が設けられてなる金属膜体の製
造装置であって、支持体の走行手段と、ドラムと、この
ドラムの軸芯に直交し、かつ、支持体の表面がドラムに
当接するよう支持体をドラムに添接させる第１の添接手
段と、前記ドラムに添接して走行する支持体の裏面に第
１の金属膜を設ける乾式メッキ手段と、前記第１の添接
手段による支持体添接面とは逆の裏面を前記ドラムに添
接させる為に支持体の表裏を反転させる反転手段と、こ
の反転手段で表裏反転させられた支持体が前記ドラムの
軸芯に直交し、かつ、支持体の裏面がドラムに当接する
よう支持体をドラムに添接させる第２の添接手段と、前
記ドラムに添接して走行する支持体の表面に第２の金属
膜を設ける乾式メッキ手段とを具備することを特徴とす
る金属膜体の製造装置によって達成される。
乾式メッキ手段で金属膜が設けられてなる金属膜体の製
造装置であって、支持体の走行手段と、ドラムと、この
ドラムの軸芯に直交し、かつ、支持体の表面がドラムに
当接するよう支持体をドラムに添接させる第１の添接手
段と、前記ドラムに添接して走行する支持体の裏面に第
１の金属膜を設ける乾式メッキ手段と、前記第１の添接
手段による支持体添接面とは逆の裏面を前記ドラムに添
接させる為に支持体の表裏を反転させる反転手段と、こ
の反転手段で表裏反転させられた支持体が前記ドラムの
軸芯に直交し、かつ、支持体の裏面がドラムに当接する
よう支持体をドラムに添接させる第２の添接手段と、前
記ドラムに添接して走行する支持体の表面に第２の金属
膜を設ける乾式メッキ手段とを具備することを特徴とす
る金属膜体の製造装置によって達成される。
【０００８】尚、少なくとも一方の金属膜の上に潤滑膜
を設ける潤滑膜形成手段が更に設けられていることが好
ましい。又、第１の金属膜を設ける乾式メッキ手段と第
２の金属膜を設ける乾式メッキ手段との間に隔離手段が
構成されてなることが好ましい。本発明が磁気記録媒体
に適用される場合には、支持体（好ましくは非磁性の支
持体）としては、例えばポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、ポリプロピレ
ン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系の樹脂、塩化
ビニル系の樹脂といった高分子材料などが用いられる。
そして、支持体面上には、必要に応じて密着性を向上さ
せる為のアンダーコート層が設けられている。すなわ
ち、表面の粗さを適度に粗すことにより、例えば斜め蒸
着法により構成される薄膜の密着性を向上させ、さらに
磁気記録媒体表面の表面粗さを適度なものとして走行性
を改善する為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚
さが０．００５〜０．１μｍの塗膜を設けることによっ
てアンダーコート層が構成されている。
を設ける潤滑膜形成手段が更に設けられていることが好
ましい。又、第１の金属膜を設ける乾式メッキ手段と第
２の金属膜を設ける乾式メッキ手段との間に隔離手段が
構成されてなることが好ましい。本発明が磁気記録媒体
に適用される場合には、支持体（好ましくは非磁性の支
持体）としては、例えばポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、ポリプロピレ
ン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系の樹脂、塩化
ビニル系の樹脂といった高分子材料などが用いられる。
そして、支持体面上には、必要に応じて密着性を向上さ
せる為のアンダーコート層が設けられている。すなわ
ち、表面の粗さを適度に粗すことにより、例えば斜め蒸
着法により構成される薄膜の密着性を向上させ、さらに
磁気記録媒体表面の表面粗さを適度なものとして走行性
を改善する為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚
さが０．００５〜０．１μｍの塗膜を設けることによっ
てアンダーコート層が構成されている。
【０００９】上記のような支持体の一面（表面）に金属
磁性膜が設けられる。金属磁性膜の材料としては、例え
ばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、
Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合
金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合
金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたもの等
が用いられる。尚、金属磁性膜の厚さは、例えば１００
０〜２０００Å程度であることが好ましい。
磁性膜が設けられる。金属磁性膜の材料としては、例え
ばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、
Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合
金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合
金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたもの等
が用いられる。尚、金属磁性膜の厚さは、例えば１００
０〜２０００Å程度であることが好ましい。
【００１０】支持体の反対側の面（裏面）にバックコー
ト膜が設けられる。バックコート膜の材料としては、例
えばＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群
の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金やＡ
ｌ−Ｓｉ系合金を用いることが出来る。尚、Ｃｕ−Ａｌ
−Ｘ系合金を用いる場合には、Ａｌ含有量は５〜３０ａ
ｔ％であり、Ｘ含有量が５ａｔ％以下であることが好ま
しい。特に、好ましくはＣｕ含有量は７０〜９０ａｔ
％、Ａｌ含有量は８〜２５ａｔ％、Ｍｎ含有量が０．５
〜４ａｔ％で、Ｆｅ含有量が０．４〜５ａｔ％で、Ｎｉ
含有量が０．４〜４ａｔ％であり、Ｍｎ，Ｆｅ，Ｎｉの
総含有量が１〜６ａｔ％であることが好ましい。Ａｌ−
Ｓｉ系合金を用いる場合には、Ａｌ含有量は１５〜７０
ａｔ％、Ｓｉ含有量は１５〜７０ａｔ％であることが好
ましい。
ト膜が設けられる。バックコート膜の材料としては、例
えばＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群
の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金やＡ
ｌ−Ｓｉ系合金を用いることが出来る。尚、Ｃｕ−Ａｌ
−Ｘ系合金を用いる場合には、Ａｌ含有量は５〜３０ａ
ｔ％であり、Ｘ含有量が５ａｔ％以下であることが好ま
しい。特に、好ましくはＣｕ含有量は７０〜９０ａｔ
％、Ａｌ含有量は８〜２５ａｔ％、Ｍｎ含有量が０．５
〜４ａｔ％で、Ｆｅ含有量が０．４〜５ａｔ％で、Ｎｉ
含有量が０．４〜４ａｔ％であり、Ｍｎ，Ｆｅ，Ｎｉの
総含有量が１〜６ａｔ％であることが好ましい。Ａｌ−
Ｓｉ系合金を用いる場合には、Ａｌ含有量は１５〜７０
ａｔ％、Ｓｉ含有量は１５〜７０ａｔ％であることが好
ましい。
【００１１】上記金属磁性膜やバックコート膜は、蒸着
法、直流スパッタ法、交流スパッタ法、高周波スパッタ
法、直流マグネトロンスパッタ法、高周波マグネトロン
スパッタ法、イオンビームスパッタ法などの各種の乾式
メッキ手段を採用できる。尚、これらの膜の形成時に酸
化性ガスを供給し、表層部分を酸化させ、酸化膜による
保護膜が形成されるようにすることが好ましいものであ
る。
法、直流スパッタ法、交流スパッタ法、高周波スパッタ
法、直流マグネトロンスパッタ法、高周波マグネトロン
スパッタ法、イオンビームスパッタ法などの各種の乾式
メッキ手段を採用できる。尚、これらの膜の形成時に酸
化性ガスを供給し、表層部分を酸化させ、酸化膜による
保護膜が形成されるようにすることが好ましいものであ
る。
【００１２】支持体面に設けられる金属磁性膜とバック
コート膜との関係は、金属磁性膜によって現れる応力の
方向とバックコート膜によって現れる応力の方向とが同
じであることが好ましい。例えば、金属磁性膜によって
現れる応力が引っ張り応力タイプの場合には、バックコ
ート膜によって現れる応力も引っ張り応力タイプのもの
となるようバックコート膜の種類や形成条件を選定する
ことが好ましい。かつ、双方の膜が引っ張り応力タイプ
のものである場合には、バックコート膜によって現れる
応力の絶対値が金属磁性膜によって現れる応力よりも大
きくなるよう設計し、これによってカール率が０〜１５
％、特に５〜１５％であるようにすることが一層好まし
い。又、金属磁性膜によって現れる応力が圧縮応力タイ
プの場合には、バックコート膜によって現れる応力も圧
縮応力タイプのものとなるようバックコート膜の種類や
形成条件を選定することが好ましい。かつ、双方の膜が
圧縮応力タイプのものである場合には、バックコート膜
によって現れる応力の絶対値が金属磁性膜によって現れ
る応力よりも小さくなるよう設計し、これによってカー
ル率が０〜１５％、特に５〜１５％であるようにするこ
とが一層好ましい。
コート膜との関係は、金属磁性膜によって現れる応力の
方向とバックコート膜によって現れる応力の方向とが同
じであることが好ましい。例えば、金属磁性膜によって
現れる応力が引っ張り応力タイプの場合には、バックコ
ート膜によって現れる応力も引っ張り応力タイプのもの
となるようバックコート膜の種類や形成条件を選定する
ことが好ましい。かつ、双方の膜が引っ張り応力タイプ
のものである場合には、バックコート膜によって現れる
応力の絶対値が金属磁性膜によって現れる応力よりも大
きくなるよう設計し、これによってカール率が０〜１５
％、特に５〜１５％であるようにすることが一層好まし
い。又、金属磁性膜によって現れる応力が圧縮応力タイ
プの場合には、バックコート膜によって現れる応力も圧
縮応力タイプのものとなるようバックコート膜の種類や
形成条件を選定することが好ましい。かつ、双方の膜が
圧縮応力タイプのものである場合には、バックコート膜
によって現れる応力の絶対値が金属磁性膜によって現れ
る応力よりも小さくなるよう設計し、これによってカー
ル率が０〜１５％、特に５〜１５％であるようにするこ
とが一層好ましい。
【００１３】磁性金属膜（保護膜が設けられている場合
には、保護膜）の表面には、潤滑剤の膜が設けられる。
用いられる潤滑剤としてはパーフロオロポリエーテル、
例えば-(C(R)F-CF2-O)p - （但し、ＲはＦ，ＣＦ3 ，Ｃ
Ｈ3 などの基）、特にHOOC-CF2(O-C2F4)p (OCF2) q -OC
F2-COOH ，F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2COOH といったよう
なカルボキシル基変性パーフロオロポリエーテル、HOCH
2-CF2(O-C2F4) p (OCF 2) q -OCF2-CH2OH，HO-(C2H4-O)
m -CH2-(O-C2F4) p (OCF2) q -OCH2-(OCH2CH2) n -OH ，
F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2CH2OHといったようなアルコー
ル変性パーフロオロポリエーテル等が挙げられる。尚、
この潤滑剤の膜は、真空中で設けられるよう構成してい
ることが好ましい。
には、保護膜）の表面には、潤滑剤の膜が設けられる。
用いられる潤滑剤としてはパーフロオロポリエーテル、
例えば-(C(R)F-CF2-O)p - （但し、ＲはＦ，ＣＦ3 ，Ｃ
Ｈ3 などの基）、特にHOOC-CF2(O-C2F4)p (OCF2) q -OC
F2-COOH ，F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2COOH といったよう
なカルボキシル基変性パーフロオロポリエーテル、HOCH
2-CF2(O-C2F4) p (OCF 2) q -OCF2-CH2OH，HO-(C2H4-O)
m -CH2-(O-C2F4) p (OCF2) q -OCH2-(OCH2CH2) n -OH ，
F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2CH2OHといったようなアルコー
ル変性パーフロオロポリエーテル等が挙げられる。尚、
この潤滑剤の膜は、真空中で設けられるよう構成してい
ることが好ましい。
【００１４】以下、具体的な実施例を挙げて本発明を説
明する。
明する。
【００１５】
【実施例】図１〜図３は本発明の一実施例を示すもの
で、図１は本発明になる磁気記録媒体の製造装置の概略
側面図、図２は要部（ドラム（冷却キャンロール）部
分）の概略正面図、図３は得られた磁気記録媒体の概略
断面図である。各図中、１はＰＥＴフィルムといった非
磁性の支持体、２は支持体１の裏面に設けられたバック
コート膜、３は支持体１の表面に設けられた磁性膜、４
は磁性膜３の表面に設けられた潤滑剤の膜（潤滑膜）で
ある。
で、図１は本発明になる磁気記録媒体の製造装置の概略
側面図、図２は要部（ドラム（冷却キャンロール）部
分）の概略正面図、図３は得られた磁気記録媒体の概略
断面図である。各図中、１はＰＥＴフィルムといった非
磁性の支持体、２は支持体１の裏面に設けられたバック
コート膜、３は支持体１の表面に設けられた磁性膜、４
は磁性膜３の表面に設けられた潤滑剤の膜（潤滑膜）で
ある。
【００１６】１０はバックコート膜２および磁性膜３形
成用の真空槽であり、この真空槽１０は遮蔽板１１ａに
よって区分けされている。すなわち、バックコート膜２
形成の蒸発粒子が磁性膜３形成空間３ｓ側に飛散して行
かないよう、逆に、磁性膜３形成の蒸発粒子がバックコ
ート膜２形成空間２ｓ側に飛散して行かないように遮蔽
板１１ａによって互いの空間が隔離されている。尚、１
１ｂ，１１ｃも遮蔽板である。
成用の真空槽であり、この真空槽１０は遮蔽板１１ａに
よって区分けされている。すなわち、バックコート膜２
形成の蒸発粒子が磁性膜３形成空間３ｓ側に飛散して行
かないよう、逆に、磁性膜３形成の蒸発粒子がバックコ
ート膜２形成空間２ｓ側に飛散して行かないように遮蔽
板１１ａによって互いの空間が隔離されている。尚、１
１ｂ，１１ｃも遮蔽板である。
【００１７】１２は真空槽１０内に配設された冷却キャ
ンロールである。１３はバックコート膜２形成に際して
の支持体１の走行経路に沿って設けられたガイドロー
ラ、１４は磁性膜３形成に際しての支持体１の走行経路
に沿って設けられたガイドローラ、１５はバックコート
膜２形成に際しての支持体１の走行経路と磁性膜３形成
に際しての支持体１の走行経路との間に設けられたガイ
ドローラである。すなわち、ガイドローラ１３によって
支持体１は冷却キャンロール１２の軸芯に直交するよう
冷却キャンロール１２に添接されており、又、ガイドロ
ーラ１４によって支持体１は冷却キャンロール１２の軸
芯に直交するよう冷却キャンロール１２に添接されてい
る。すなわち、支持体１の冷却キャンロール１２に対す
る添接具合は冷却キャンロール１２の軸芯に直交するよ
うになっているから、支持体１の走行性が良い。そし
て、バックコート膜２形成空間２ｓ側にあっては支持体
１の表面側が冷却キャンロール１２に当接し、磁性膜３
形成空間３ｓ側にあっては支持体１の裏面側が冷却キャ
ンロール１２に当接するようにする為、すなわち支持体
１の走行経路の途中において表裏を反転させるようにガ
イドローラ１５が設けられているのである。つまり、供
給側ロール１６ａから巻取側ロール１６ｂに走行して行
く支持体１は、一群のガイドローラ１５によって構成さ
れた反転機構により、その走行経路の途中において表裏
が反転するようになっているのである。
ンロールである。１３はバックコート膜２形成に際して
の支持体１の走行経路に沿って設けられたガイドロー
ラ、１４は磁性膜３形成に際しての支持体１の走行経路
に沿って設けられたガイドローラ、１５はバックコート
膜２形成に際しての支持体１の走行経路と磁性膜３形成
に際しての支持体１の走行経路との間に設けられたガイ
ドローラである。すなわち、ガイドローラ１３によって
支持体１は冷却キャンロール１２の軸芯に直交するよう
冷却キャンロール１２に添接されており、又、ガイドロ
ーラ１４によって支持体１は冷却キャンロール１２の軸
芯に直交するよう冷却キャンロール１２に添接されてい
る。すなわち、支持体１の冷却キャンロール１２に対す
る添接具合は冷却キャンロール１２の軸芯に直交するよ
うになっているから、支持体１の走行性が良い。そし
て、バックコート膜２形成空間２ｓ側にあっては支持体
１の表面側が冷却キャンロール１２に当接し、磁性膜３
形成空間３ｓ側にあっては支持体１の裏面側が冷却キャ
ンロール１２に当接するようにする為、すなわち支持体
１の走行経路の途中において表裏を反転させるようにガ
イドローラ１５が設けられているのである。つまり、供
給側ロール１６ａから巻取側ロール１６ｂに走行して行
く支持体１は、一群のガイドローラ１５によって構成さ
れた反転機構により、その走行経路の途中において表裏
が反転するようになっているのである。
【００１８】１７ａは第１のルツボ、１７ｂは第２のル
ツボであり、第１のルツボ１７ａにはバックコート膜構
成用のＣｕ−Ａｌ−Ｎｉ（８５ａｔ％−１０ａｔ％−５
ａｔ％）合金１８ａが充填されており、第２のルツボ１
７ｂには磁性膜構成用のＣｏ−Ｎｉ（８０ａｔ％−２０
ａｔ％）合金１８ｂが充填されている。そして、電子銃
１９によってルツボ内の金属が蒸発させられるように構
成されている。尚、電子銃などは各々のルツボに対して
専用に設けられていても良いが、首振りさせれば一つの
ものでも対応出来る。
ツボであり、第１のルツボ１７ａにはバックコート膜構
成用のＣｕ−Ａｌ−Ｎｉ（８５ａｔ％−１０ａｔ％−５
ａｔ％）合金１８ａが充填されており、第２のルツボ１
７ｂには磁性膜構成用のＣｏ−Ｎｉ（８０ａｔ％−２０
ａｔ％）合金１８ｂが充填されている。そして、電子銃
１９によってルツボ内の金属が蒸発させられるように構
成されている。尚、電子銃などは各々のルツボに対して
専用に設けられていても良いが、首振りさせれば一つの
ものでも対応出来る。
【００１９】上記のように構成させた装置において、支
持体１を供給側ロール１６ａから巻取側ロール１６ｂに
走行させる。そして、先ず、真空槽１０内を１０-4〜１
０-6Ｔｏｒｒ程度、例えば２×１０-5Ｔｏｒｒの真空度
に排気した後、電子ビーム加熱により第１のルツボ１７
ａ内のバックコート膜構成用のＣｕ−Ａｌ−Ｎｉ合金１
８ａを蒸発させ、冷却キャンロール１２に巻き付けられ
るように添接されている支持体１の裏面にＣｕ−Ａｌ−
Ｎｉ合金１８ａを１７００Å厚さ蒸着させてバックコー
ト膜２を形成する。
持体１を供給側ロール１６ａから巻取側ロール１６ｂに
走行させる。そして、先ず、真空槽１０内を１０-4〜１
０-6Ｔｏｒｒ程度、例えば２×１０-5Ｔｏｒｒの真空度
に排気した後、電子ビーム加熱により第１のルツボ１７
ａ内のバックコート膜構成用のＣｕ−Ａｌ−Ｎｉ合金１
８ａを蒸発させ、冷却キャンロール１２に巻き付けられ
るように添接されている支持体１の裏面にＣｕ−Ａｌ−
Ｎｉ合金１８ａを１７００Å厚さ蒸着させてバックコー
ト膜２を形成する。
【００２０】バックコート膜２が形成された支持体１
は、ガイドローラ１３を経てガイドローラ１４に至る走
行途中に設けられた一群のガイドローラ１５により表裏
が反転させられる。この為、磁性膜３形成空間３ｓ側に
おいては、支持体１のバックコート膜２の側が冷却キャ
ンロール１２に巻き付けられるようになる。そして、電
子ビーム加熱により第２のルツボ１７ｂ内のＣｏ−Ｎｉ
合金１８ｂが蒸発させられているので、支持体１の表面
にＣｏ−Ｎｉ合金１８ｂが１５００Å厚さ蒸着させられ
て磁性膜３が形成される。
は、ガイドローラ１３を経てガイドローラ１４に至る走
行途中に設けられた一群のガイドローラ１５により表裏
が反転させられる。この為、磁性膜３形成空間３ｓ側に
おいては、支持体１のバックコート膜２の側が冷却キャ
ンロール１２に巻き付けられるようになる。そして、電
子ビーム加熱により第２のルツボ１７ｂ内のＣｏ−Ｎｉ
合金１８ｂが蒸発させられているので、支持体１の表面
にＣｏ−Ｎｉ合金１８ｂが１５００Å厚さ蒸着させられ
て磁性膜３が形成される。
【００２１】尚、これらバックコート膜２及び磁性膜３
の形成に際しては、ノズル口から５０℃程度に加熱され
た酸素ガスが蒸着部分（金属薄膜）に約８０ｃｃ／ｍｉ
ｎ程度の割合で吹き付けられ、金属薄膜の表層部分が強
制酸化させられる。尚、金属が堆積して薄膜が形成され
た瞬間から直後の間である位置において酸素ガスが吹き
付けられるよう、かつ、その吹付角度（衝突角度）が９
０°であるようノズルのノズル口はセッティングされて
いる。
の形成に際しては、ノズル口から５０℃程度に加熱され
た酸素ガスが蒸着部分（金属薄膜）に約８０ｃｃ／ｍｉ
ｎ程度の割合で吹き付けられ、金属薄膜の表層部分が強
制酸化させられる。尚、金属が堆積して薄膜が形成され
た瞬間から直後の間である位置において酸素ガスが吹き
付けられるよう、かつ、その吹付角度（衝突角度）が９
０°であるようノズルのノズル口はセッティングされて
いる。
【００２２】この後、支持体１は１〜１０-4Ｔｏｒｒ程
度、例えば５×１０-2Ｔｏｒｒの真空度に排気されてい
る真空槽に導かれて来る。そして、この真空槽内に設け
られた加熱キャンロールに添接される。この加熱キャン
ロールにはターボ分子ポンプが対向して設けられてい
て、潤滑剤の蒸気が支持体１の磁性膜３表面（酸化膜の
表面）に乾燥後の厚さが２０Å程度となるよう吹き付け
られる。
度、例えば５×１０-2Ｔｏｒｒの真空度に排気されてい
る真空槽に導かれて来る。そして、この真空槽内に設け
られた加熱キャンロールに添接される。この加熱キャン
ロールにはターボ分子ポンプが対向して設けられてい
て、潤滑剤の蒸気が支持体１の磁性膜３表面（酸化膜の
表面）に乾燥後の厚さが２０Å程度となるよう吹き付け
られる。
【００２３】そして、上記一連の作業が終わると巻取側
ロールを取り出し、巻取側ロールに巻かれている原反を
所定の幅にスリットし、磁気テープなどにする。上記の
ような磁気記録媒体の製造技術によれば、バックコート
膜や磁性膜いずれもが、例えば蒸着手段といった乾式メ
ッキ手段で形成されるから、製造はそれだけ簡単なもの
となる。
ロールを取り出し、巻取側ロールに巻かれている原反を
所定の幅にスリットし、磁気テープなどにする。上記の
ような磁気記録媒体の製造技術によれば、バックコート
膜や磁性膜いずれもが、例えば蒸着手段といった乾式メ
ッキ手段で形成されるから、製造はそれだけ簡単なもの
となる。
【００２４】かつ、バックコート膜や磁性膜の形成に際
して、支持体が添接される冷却キャンロール１２は一つ
であるから、バックコート膜や磁性膜の形成に際しての
走行ずれは起きず、これらの膜が均一に形されるように
なる。従って、出力ムラが少ない高性能な磁気記録媒体
が得られる。しかも、支持体が添接される冷却キャンロ
ール１２は一つであるから、駆動系の構成、つまりは装
置の構成も簡単なものとなる。
して、支持体が添接される冷却キャンロール１２は一つ
であるから、バックコート膜や磁性膜の形成に際しての
走行ずれは起きず、これらの膜が均一に形されるように
なる。従って、出力ムラが少ない高性能な磁気記録媒体
が得られる。しかも、支持体が添接される冷却キャンロ
ール１２は一つであるから、駆動系の構成、つまりは装
置の構成も簡単なものとなる。
【００２５】更には、冷却キャンロール１２に対して支
持体１を冷却キャンロール１２の軸芯に直交するよう添
接させているから、支持体１の走行性が良く、バックコ
ート膜２や磁性膜３が良好に形成される。
持体１を冷却キャンロール１２の軸芯に直交するよう添
接させているから、支持体１の走行性が良く、バックコ
ート膜２や磁性膜３が良好に形成される。
【００２６】
【効果】本発明によれば、出力ムラが少ない高性能な磁
気記録媒体が効率良く得られる。しかも、このような高
性能な磁気記録媒体を得る製造技術は簡単であり、か
つ、装置自体も簡単なものである。
気記録媒体が効率良く得られる。しかも、このような高
性能な磁気記録媒体を得る製造技術は簡単であり、か
つ、装置自体も簡単なものである。
【図１】磁気記録媒体製造装置の概略側面図
【図２】磁気記録媒体製造装置の要部の概略正面図
【図３】本発明の磁気記録媒体製造装置により得られた
磁気記録媒体の概略断面図
磁気記録媒体の概略断面図
【図４】従来の金属薄膜型の磁気記録媒体の概略断面図
１ 支持体 ２ バックコート膜 ３ 磁性膜 ４ 潤滑膜 １０ 真空槽 １１ａ 遮蔽板（隔離手段） １２ 冷却キャンロール（ドラム） １３ ガイドローラ（第１の添接手段） １４ ガイドローラ（第２の添接手段） １５ ガイドローラ（反転手段） １６ａ 供給側ロール（走行手段） １６ｂ 巻取側ロール（走行手段） １７ａ 第１のルツボ（乾式メッキ手段） １７ｂ 第２のルツボ（乾式メッキ手段） １９ 電子銃（乾式メッキ手段）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 若林 繁美 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内 (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 支持体の表裏両面に乾式メッキ手段で金
属膜が設けられてなる金属膜体の製造装置であって、支
持体の走行手段と、ドラムと、このドラムの軸芯に直交
し、かつ、支持体の表面がドラムに当接するよう支持体
をドラムに添接させる第１の添接手段と、前記ドラムに
添接して走行する支持体の裏面に第１の金属膜を設ける
乾式メッキ手段と、前記第１の添接手段による支持体添
接面とは逆の裏面を前記ドラムに添接させる為に支持体
の表裏を反転させる反転手段と、この反転手段で表裏反
転させられた支持体が前記ドラムの軸芯に直交し、か
つ、支持体の裏面がドラムに当接するよう支持体をドラ
ムに添接させる第２の添接手段と、前記ドラムに添接し
て走行する支持体の表面に第２の金属膜を設ける乾式メ
ッキ手段とを具備することを特徴とする金属膜体の製造
装置。 - 【請求項２】 少なくとも一方の金属膜の上に潤滑膜を
設ける潤滑膜形成手段を具備することを特徴とする請求
項１の金属膜体の製造装置。 - 【請求項３】 第１の金属膜を設ける乾式メッキ手段と
第２の金属膜を設ける乾式メッキ手段との間に隔離手段
が構成されてなることを特徴とする請求項１の金属膜体
の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12595394A JPH07331438A (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | 金属膜体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12595394A JPH07331438A (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | 金属膜体の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07331438A true JPH07331438A (ja) | 1995-12-19 |
Family
ID=14923065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12595394A Pending JPH07331438A (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | 金属膜体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07331438A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012219321A (ja) * | 2011-04-07 | 2012-11-12 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置 |
| JP2017125222A (ja) * | 2016-01-12 | 2017-07-20 | 住友金属鉱山株式会社 | 両面成膜体製造方法及びその装置 |
-
1994
- 1994-06-08 JP JP12595394A patent/JPH07331438A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012219321A (ja) * | 2011-04-07 | 2012-11-12 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置 |
| JP2017125222A (ja) * | 2016-01-12 | 2017-07-20 | 住友金属鉱山株式会社 | 両面成膜体製造方法及びその装置 |
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