JPH0785447A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH0785447A JPH0785447A JP23197793A JP23197793A JPH0785447A JP H0785447 A JPH0785447 A JP H0785447A JP 23197793 A JP23197793 A JP 23197793A JP 23197793 A JP23197793 A JP 23197793A JP H0785447 A JPH0785447 A JP H0785447A
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- Japan
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- film
- magnetic
- recording medium
- stress
- metal
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ヘッドとの当たりが良好で、再生出力に
ムラが起きない磁気記録媒体を提供することである。 【構成】 支持体の一面に乾式メッキ手段で金属磁性膜
が設けられ、他面に乾式メッキ手段でバックコート膜が
設けられてなる磁気記録媒体であって、前記金属磁性膜
によって現れる応力の方向と前記バックコート膜によっ
て現れる応力の方向とが同じで、かつ、その値の絶対値
が異なるよう金属磁性膜とバックコート膜が構成され、
その応力差によってカール率が５〜１５％であるよう金
属磁性膜の中央部側が突出構成されてなる磁気記録媒
体。
ムラが起きない磁気記録媒体を提供することである。 【構成】 支持体の一面に乾式メッキ手段で金属磁性膜
が設けられ、他面に乾式メッキ手段でバックコート膜が
設けられてなる磁気記録媒体であって、前記金属磁性膜
によって現れる応力の方向と前記バックコート膜によっ
て現れる応力の方向とが同じで、かつ、その値の絶対値
が異なるよう金属磁性膜とバックコート膜が構成され、
その応力差によってカール率が５〜１５％であるよう金
属磁性膜の中央部側が突出構成されてなる磁気記録媒
体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特に金属薄膜型の磁気
記録媒体に関するものである。
記録媒体に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体には、非磁
性支持体であるフィルム上に磁性粉やバインダを溶剤中
に分散させた磁性塗料を塗布してなる塗布型のものと、
バインダを用いず、磁性金属粒子をフィルム上に堆積さ
せてなる金属薄膜型のものとがある。
性支持体であるフィルム上に磁性粉やバインダを溶剤中
に分散させた磁性塗料を塗布してなる塗布型のものと、
バインダを用いず、磁性金属粒子をフィルム上に堆積さ
せてなる金属薄膜型のものとがある。
【０００３】これらの中、金属薄膜型の磁気記録媒体
は、磁性層にバインダを含まないことから、磁性材料の
充填密度が高く、高密度記録に適したものであると言わ
れている。ところで、現在発売又は開発されている金属
薄膜型の磁気記録媒体は、図２に示される構成のものと
なっている。尚、図２中、６はポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）フィルム、７は、例えば真空蒸着法を用
いて構成された厚さが１５００ÅのＣｏ−Ｎｉ合金磁性
膜、８は潤滑剤の膜、９はバックコート層である。
は、磁性層にバインダを含まないことから、磁性材料の
充填密度が高く、高密度記録に適したものであると言わ
れている。ところで、現在発売又は開発されている金属
薄膜型の磁気記録媒体は、図２に示される構成のものと
なっている。尚、図２中、６はポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）フィルム、７は、例えば真空蒸着法を用
いて構成された厚さが１５００ÅのＣｏ−Ｎｉ合金磁性
膜、８は潤滑剤の膜、９はバックコート層である。
【０００４】ところで、このような構造の金属薄膜型磁
気記録媒体は、磁性膜が金属膜であることから、反った
形状に変形（カール）している。この為、磁気ヘッドと
の当たりが悪く、特に磁気ヘッドとの距離が位置によっ
て変動し、再生出力にムラが起きてしまう。
気記録媒体は、磁性膜が金属膜であることから、反った
形状に変形（カール）している。この為、磁気ヘッドと
の当たりが悪く、特に磁気ヘッドとの距離が位置によっ
て変動し、再生出力にムラが起きてしまう。
【０００５】
【発明の開示】本発明の目的は、磁気ヘッドとの当たり
が良好で、再生出力にムラが起きない磁気記録媒体を提
供することである。この本発明の目的は、支持体の一面
に乾式メッキ手段で金属磁性膜が設けられ、他面に乾式
メッキ手段でバックコート膜が設けられてなる磁気記録
媒体であって、前記金属磁性膜によって現れる応力の方
向と前記バックコート膜によって現れる応力の方向とが
同じで、かつ、その値の絶対値が異なるよう金属磁性膜
とバックコート膜が構成され、その応力差によってカー
ル率が５〜１５％であるよう金属磁性膜の中央部側が突
出構成されてなることを特徴とする磁気記録媒体によっ
て達成される。
が良好で、再生出力にムラが起きない磁気記録媒体を提
供することである。この本発明の目的は、支持体の一面
に乾式メッキ手段で金属磁性膜が設けられ、他面に乾式
メッキ手段でバックコート膜が設けられてなる磁気記録
媒体であって、前記金属磁性膜によって現れる応力の方
向と前記バックコート膜によって現れる応力の方向とが
同じで、かつ、その値の絶対値が異なるよう金属磁性膜
とバックコート膜が構成され、その応力差によってカー
ル率が５〜１５％であるよう金属磁性膜の中央部側が突
出構成されてなることを特徴とする磁気記録媒体によっ
て達成される。
【０００６】尚、この磁気記録媒体において、バックコ
ート膜は磁性膜であっても、非磁性膜であっても良い。
以下、本発明について詳述する。金属膜や非金属膜を蒸
着やスパッタリングといった薄膜形成手段で形成する
と、膜の堆積によって基板には反りが現れる。
ート膜は磁性膜であっても、非磁性膜であっても良い。
以下、本発明について詳述する。金属膜や非金属膜を蒸
着やスパッタリングといった薄膜形成手段で形成する
と、膜の堆積によって基板には反りが現れる。
【０００７】この反りの方向は、基板を内側にする方向
であったり、外側にする方向であったりし、金属膜の種
類や堆積時の条件によって決まる。例えば、Ｃｒ膜であ
っても、堆積時の雰囲気Ａｒ圧力が０．２Ｐａといった
場合には圧縮応力が現れるのに対して、堆積時の雰囲気
Ａｒ圧力が０．５Ｐａといった場合には引っ張り応力が
現れる。又、堆積させる金属の種類を選定することによ
って、圧縮応力が現れたり、引っ張り応力が現れたりす
る。
であったり、外側にする方向であったりし、金属膜の種
類や堆積時の条件によって決まる。例えば、Ｃｒ膜であ
っても、堆積時の雰囲気Ａｒ圧力が０．２Ｐａといった
場合には圧縮応力が現れるのに対して、堆積時の雰囲気
Ａｒ圧力が０．５Ｐａといった場合には引っ張り応力が
現れる。又、堆積させる金属の種類を選定することによ
って、圧縮応力が現れたり、引っ張り応力が現れたりす
る。
【０００８】従って、堆積させる膜を複数にし、これら
の間に現れる応力が互いに同方向であるように設計し、
そして基板の両側に膜を設けるようにすれば、基板に起
きるカールを自由にコントロール出来るようになる。と
ころで、カール率が０．４〜３．２％であるよう磁性層
側のテープ中央部が突出するよう構成させた塗布型の磁
気記録媒体が提案（特開平５−１９７９４７号）されて
いる。
の間に現れる応力が互いに同方向であるように設計し、
そして基板の両側に膜を設けるようにすれば、基板に起
きるカールを自由にコントロール出来るようになる。と
ころで、カール率が０．４〜３．２％であるよう磁性層
側のテープ中央部が突出するよう構成させた塗布型の磁
気記録媒体が提案（特開平５−１９７９４７号）されて
いる。
【０００９】しかしながら、磁性層もバックコート層も
蒸着手段によって構成した金属薄膜型の磁気記録媒体に
おいて、カール率が０．４〜３．２％であるよう磁性層
側のテープ中央部が突出するよう構成したものは、先の
提案で謳われているような特長が奏されるものではなか
った。この原因についての研究が鋭意押し進められて行
った結果、金属薄膜と塗膜との硬さといった物理的特性
が大幅に異なることから、カール率が０．４〜３．２％
のものでは特長が奏されないのであろうとの推察がなさ
れた。そして、さらなる研究が行われて行った結果、金
属薄膜型の磁気記録媒体にあっては、カール率が５〜１
５％のものでなければならないことが判明し、これに基
づいて本発明が達成されたのである。
蒸着手段によって構成した金属薄膜型の磁気記録媒体に
おいて、カール率が０．４〜３．２％であるよう磁性層
側のテープ中央部が突出するよう構成したものは、先の
提案で謳われているような特長が奏されるものではなか
った。この原因についての研究が鋭意押し進められて行
った結果、金属薄膜と塗膜との硬さといった物理的特性
が大幅に異なることから、カール率が０．４〜３．２％
のものでは特長が奏されないのであろうとの推察がなさ
れた。そして、さらなる研究が行われて行った結果、金
属薄膜型の磁気記録媒体にあっては、カール率が５〜１
５％のものでなければならないことが判明し、これに基
づいて本発明が達成されたのである。
【００１０】そして、上記のように構成させてなる金属
薄膜型の磁気記録媒体は磁気ヘッドとの当たりが良好と
なり、再生出力にムラが起きないものであった。本発明
の磁気記録媒体に用いられる非磁性の支持体としては、
例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリ
エステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、
ポリカーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の
樹脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といっ
た高分子材料などが用いられる。そして、支持体面上に
は、必要に応じて密着性を向上させる為のアンダーコー
ト層が設けられている。すなわち、表面の粗さを適度に
粗すことにより、例えば斜め蒸着法により構成される薄
膜の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面の表面
粗さを適度なものとして走行性を改善する為、例えばＳ
ｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５〜０．１
μｍの塗膜を設けることによってアンダーコート層が構
成されている。
薄膜型の磁気記録媒体は磁気ヘッドとの当たりが良好と
なり、再生出力にムラが起きないものであった。本発明
の磁気記録媒体に用いられる非磁性の支持体としては、
例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリ
エステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、
ポリカーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の
樹脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といっ
た高分子材料などが用いられる。そして、支持体面上に
は、必要に応じて密着性を向上させる為のアンダーコー
ト層が設けられている。すなわち、表面の粗さを適度に
粗すことにより、例えば斜め蒸着法により構成される薄
膜の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面の表面
粗さを適度なものとして走行性を改善する為、例えばＳ
ｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５〜０．１
μｍの塗膜を設けることによってアンダーコート層が構
成されている。
【００１１】非磁性の支持体面上に金属磁性膜が設けら
れる。金属磁性膜の材料としては、例えばＦｅ，Ｃｏ，
Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合
金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎ
ｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、あるいは
これらにＡｌ等の金属を含有させたもの等が用いられ
る。尚、金属磁性膜の厚さは、金属磁性膜の種類によっ
ても左右されるが、例えば８００〜５０００Å程度であ
ることが好ましい。
れる。金属磁性膜の材料としては、例えばＦｅ，Ｃｏ，
Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合
金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎ
ｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、あるいは
これらにＡｌ等の金属を含有させたもの等が用いられ
る。尚、金属磁性膜の厚さは、金属磁性膜の種類によっ
ても左右されるが、例えば８００〜５０００Å程度であ
ることが好ましい。
【００１２】非磁性の支持体の反対側の面上にバックコ
ート膜が設けられる。バックコート膜の材料としては、
前記金属磁性膜と同じものであっても良く、異なるもの
であっても良い。例えば、Ｃｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、Ｘは
Ｍｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは
二つ以上）系合金を用いることが出来る。尚、Ｃｕ−Ａ
ｌ−Ｘ系合金を用いる場合には、Ａｌ含有量は５〜１５
ｗｔ％であり、Ｘ含有量が５ｗｔ％以下であることが好
ましい。特に、好ましくはＣｕ含有量は８５〜９１ｗｔ
％、Ａｌ含有量は６〜１２ｗｔ％、Ｍｎ含有量が１〜２
ｗｔ％で、Ｆｅ含有量が１〜３ｗｔ％で、Ｎｉ含有量が
１〜５ｗｔ％であり、Ｍｎ，Ｆｅ，Ｎｉの総含有量が３
〜７ｗｔ％であることが好ましい。
ート膜が設けられる。バックコート膜の材料としては、
前記金属磁性膜と同じものであっても良く、異なるもの
であっても良い。例えば、Ｃｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、Ｘは
Ｍｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは
二つ以上）系合金を用いることが出来る。尚、Ｃｕ−Ａ
ｌ−Ｘ系合金を用いる場合には、Ａｌ含有量は５〜１５
ｗｔ％であり、Ｘ含有量が５ｗｔ％以下であることが好
ましい。特に、好ましくはＣｕ含有量は８５〜９１ｗｔ
％、Ａｌ含有量は６〜１２ｗｔ％、Ｍｎ含有量が１〜２
ｗｔ％で、Ｆｅ含有量が１〜３ｗｔ％で、Ｎｉ含有量が
１〜５ｗｔ％であり、Ｍｎ，Ｆｅ，Ｎｉの総含有量が３
〜７ｗｔ％であることが好ましい。
【００１３】上記金属磁性膜やバックコート膜は、蒸着
法、直流スパッタ法、交流スパッタ法、高周波スパッタ
法、直流マグネトロンスパッタ法、高周波マグネトロン
スパッタ法、イオンビームスパッタ法などの各種の乾式
メッキ手段を採用できる。尚、これらの膜の形成時に酸
化性ガスを供給し、表層部分を酸化させ、酸化膜による
保護膜が形成されるようにすることが好ましいものであ
る。
法、直流スパッタ法、交流スパッタ法、高周波スパッタ
法、直流マグネトロンスパッタ法、高周波マグネトロン
スパッタ法、イオンビームスパッタ法などの各種の乾式
メッキ手段を採用できる。尚、これらの膜の形成時に酸
化性ガスを供給し、表層部分を酸化させ、酸化膜による
保護膜が形成されるようにすることが好ましいものであ
る。
【００１４】支持体面に設けられる金属磁性膜とバック
コート膜との関係は、金属磁性膜によって現れる応力の
方向とバックコート膜によって現れる応力の方向とが同
じでなければならない。例えば、金属磁性膜によって現
れる応力が引っ張り応力タイプの場合には、バックコー
ト膜によって現れる応力も引っ張り応力タイプのものと
なるようバックコート膜の種類や形成条件を選定しなけ
ればならない。かつ、双方の膜が引っ張り応力タイプの
ものである場合には、バックコート膜によって現れる応
力の絶対値が金属磁性膜によって現れる応力よりも大き
くなるよう設計し、これによってカール率が５〜１５％
であるようにすることが大事である。又、金属磁性膜に
よって現れる応力が圧縮応力タイプの場合には、バック
コート膜によって現れる応力も圧縮応力タイプのものと
なるようバックコート膜の種類や形成条件を選定しなけ
ればならない。かつ、双方の膜が圧縮応力タイプのもの
である場合には、バックコート膜によって現れる応力の
絶対値が金属磁性膜によって現れる応力よりも小さくな
るよう設計し、これによってカール率が５〜１５％であ
るようにすることが大事である。
コート膜との関係は、金属磁性膜によって現れる応力の
方向とバックコート膜によって現れる応力の方向とが同
じでなければならない。例えば、金属磁性膜によって現
れる応力が引っ張り応力タイプの場合には、バックコー
ト膜によって現れる応力も引っ張り応力タイプのものと
なるようバックコート膜の種類や形成条件を選定しなけ
ればならない。かつ、双方の膜が引っ張り応力タイプの
ものである場合には、バックコート膜によって現れる応
力の絶対値が金属磁性膜によって現れる応力よりも大き
くなるよう設計し、これによってカール率が５〜１５％
であるようにすることが大事である。又、金属磁性膜に
よって現れる応力が圧縮応力タイプの場合には、バック
コート膜によって現れる応力も圧縮応力タイプのものと
なるようバックコート膜の種類や形成条件を選定しなけ
ればならない。かつ、双方の膜が圧縮応力タイプのもの
である場合には、バックコート膜によって現れる応力の
絶対値が金属磁性膜によって現れる応力よりも小さくな
るよう設計し、これによってカール率が５〜１５％であ
るようにすることが大事である。
【００１５】そして、磁性金属膜（保護膜が設けられて
いる場合には、保護膜）の表面に、潤滑剤が塗布され
る。用いられる潤滑剤としてはパーフロオロポリエーテ
ル、例えば-(C(R)F-CF2-O)p - （但し、ＲはＦ，Ｃ
Ｆ3 ，ＣＨ3 などの基）、特にHOOC-CF2(O-C2F4)p (OCF
2) q -OCF2-COOH ，F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2COOH とい
ったようなカルボキシル基変性パーフロオロポリエーテ
ル、HOCH2-CF2(O-C2F4) p (OCF2) q -OCF2-CH2OH，HO-
(C2H4-O) m -CH2-(O-C2F4) p (OCF2) q -OCH2-(OCH2C
H 2)n -OH ，F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2CH2OHといったよ
うなアルコール変性パーフロオロポリエーテル等が挙げ
られる。このような潤滑剤層の厚さは１０〜１００Åで
あることが好ましい。
いる場合には、保護膜）の表面に、潤滑剤が塗布され
る。用いられる潤滑剤としてはパーフロオロポリエーテ
ル、例えば-(C(R)F-CF2-O)p - （但し、ＲはＦ，Ｃ
Ｆ3 ，ＣＨ3 などの基）、特にHOOC-CF2(O-C2F4)p (OCF
2) q -OCF2-COOH ，F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2COOH とい
ったようなカルボキシル基変性パーフロオロポリエーテ
ル、HOCH2-CF2(O-C2F4) p (OCF2) q -OCF2-CH2OH，HO-
(C2H4-O) m -CH2-(O-C2F4) p (OCF2) q -OCH2-(OCH2C
H 2)n -OH ，F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2CH2OHといったよ
うなアルコール変性パーフロオロポリエーテル等が挙げ
られる。このような潤滑剤層の厚さは１０〜１００Åで
あることが好ましい。
【００１６】以下、具体的な実施例を挙げて本発明を説
明する。
明する。
【００１７】
〔実施例１〕図１は、本発明に係る磁気記録媒体の概略
断面図である。同図中、１は６μｍ厚さのＰＥＴフィル
ム、２は酸素ガスを導入しながら真空蒸着法によりＰＥ
Ｔフィルム１の一面上に設けられた１５００Å厚さのＣ
ｏ−Ｎｉ（８０ａｔ％−２０ａｔ％）膜（金属磁性
膜）、３は潤滑剤を所定の溶剤に溶かして金属磁性膜２
上に塗布して設けた潤滑膜、４は酸素ガスを導入しなが
ら真空蒸着法によりＰＥＴフィルム１の他面上に設けら
れた１７００Å厚さのＣｕ−Ａｌ−Ｎｉ（８５ａｔ％−
１０ａｔ％−５ａｔ％）膜（バックコート膜）である。
断面図である。同図中、１は６μｍ厚さのＰＥＴフィル
ム、２は酸素ガスを導入しながら真空蒸着法によりＰＥ
Ｔフィルム１の一面上に設けられた１５００Å厚さのＣ
ｏ−Ｎｉ（８０ａｔ％−２０ａｔ％）膜（金属磁性
膜）、３は潤滑剤を所定の溶剤に溶かして金属磁性膜２
上に塗布して設けた潤滑膜、４は酸素ガスを導入しなが
ら真空蒸着法によりＰＥＴフィルム１の他面上に設けら
れた１７００Å厚さのＣｕ−Ａｌ−Ｎｉ（８５ａｔ％−
１０ａｔ％−５ａｔ％）膜（バックコート膜）である。
【００１８】尚、ＰＥＴフィルム面上に設けられた１５
００Å厚さのＣｏ−Ｎｉ（８０ａｔ％−２０ａｔ％）膜
による応力（引っ張り応力）は９×１０9 ｄｙｎｅ／ｃ
ｍ2であり、ＰＥＴフィルム面上に設けられた１７００
Å厚さのＣｕ−Ａｌ−Ｎｉ（８５ａｔ％−１０ａｔ％−
５ａｔ％）膜による応力（引っ張り応力）は２８．４×
１０9 ｄｙｎｅ／ｃｍ2 であった。
００Å厚さのＣｏ−Ｎｉ（８０ａｔ％−２０ａｔ％）膜
による応力（引っ張り応力）は９×１０9 ｄｙｎｅ／ｃ
ｍ2であり、ＰＥＴフィルム面上に設けられた１７００
Å厚さのＣｕ−Ａｌ−Ｎｉ（８５ａｔ％−１０ａｔ％−
５ａｔ％）膜による応力（引っ張り応力）は２８．４×
１０9 ｄｙｎｅ／ｃｍ2 であった。
【００１９】すなわち、ＰＥＴフィルム１を真空蒸着装
置に配設し、装置内のルツボに入れられているＣｏ−Ｎ
ｉ合金を蒸発させ、この蒸発粒子をＰＥＴフィルム１の
一面上に堆積させたのである。又、Ｃｏ−Ｎｉ合金膜２
が設けられたＰＥＴフィルム１を真空蒸着装置に配設
し、装置内のルツボに入れられているＣｕ−Ａｌ−Ｎｉ
合金を蒸発させ、この蒸発粒子をＰＥＴフィルム１の他
面上に堆積させたのである。尚、Ｃｏ−Ｎｉ合金膜やＣ
ｕ−Ａｌ−Ｎｉ合金膜の形成時には、酸素ガスが導入さ
れている。
置に配設し、装置内のルツボに入れられているＣｏ−Ｎ
ｉ合金を蒸発させ、この蒸発粒子をＰＥＴフィルム１の
一面上に堆積させたのである。又、Ｃｏ−Ｎｉ合金膜２
が設けられたＰＥＴフィルム１を真空蒸着装置に配設
し、装置内のルツボに入れられているＣｕ−Ａｌ−Ｎｉ
合金を蒸発させ、この蒸発粒子をＰＥＴフィルム１の他
面上に堆積させたのである。尚、Ｃｏ−Ｎｉ合金膜やＣ
ｕ−Ａｌ−Ｎｉ合金膜の形成時には、酸素ガスが導入さ
れている。
【００２０】この後、ＰＥＴフィルムを真空蒸着装置か
ら取り出し、ダイ塗工法によりパーフロオロポリエーテ
ル（日本モンテジソン社のＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＯ
Ｌ）を乾燥後の厚さが３０Åとなるよう磁性金属膜２の
表面に塗布し、この後加熱乾燥させた。そして、このよ
うにして得られた原反から通常の工程を経て磁気テープ
を作製した。
ら取り出し、ダイ塗工法によりパーフロオロポリエーテ
ル（日本モンテジソン社のＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＯ
Ｌ）を乾燥後の厚さが３０Åとなるよう磁性金属膜２の
表面に塗布し、この後加熱乾燥させた。そして、このよ
うにして得られた原反から通常の工程を経て磁気テープ
を作製した。
【００２１】〔実施例２〕実施例１において、バックコ
ート膜（Ｃｕ−Ａｌ−Ｎｉ膜）４の厚さを２３００Åと
した他は同様に行い、磁気テープを作製した。 〔実施例３〕６μｍ厚さのＰＥＴフィルム１を真空蒸着
装置に配設し、装置内のルツボに入れられているＣｏ−
Ｃｒ（８５ａｔ％−１５ａｔ％）合金を蒸発させ、この
蒸発粒子をＰＥＴフィルム１の一面上に堆積（堆積時に
は、酸素イオンを電子銃で照射。堆積した金属磁性膜の
厚さは１８００Å）させた後、このＰＥＴフィルム１を
真空蒸着装置に配設し、装置内のルツボに入れられてい
るＳｉ（９９．９９％）を蒸発させ、この蒸発粒子をＰ
ＥＴフィルム１の他面上に堆積（堆積時には、酸素ガス
を照射。堆積したバックコート膜の厚さは１２００Å）
させた。
ート膜（Ｃｕ−Ａｌ−Ｎｉ膜）４の厚さを２３００Åと
した他は同様に行い、磁気テープを作製した。 〔実施例３〕６μｍ厚さのＰＥＴフィルム１を真空蒸着
装置に配設し、装置内のルツボに入れられているＣｏ−
Ｃｒ（８５ａｔ％−１５ａｔ％）合金を蒸発させ、この
蒸発粒子をＰＥＴフィルム１の一面上に堆積（堆積時に
は、酸素イオンを電子銃で照射。堆積した金属磁性膜の
厚さは１８００Å）させた後、このＰＥＴフィルム１を
真空蒸着装置に配設し、装置内のルツボに入れられてい
るＳｉ（９９．９９％）を蒸発させ、この蒸発粒子をＰ
ＥＴフィルム１の他面上に堆積（堆積時には、酸素ガス
を照射。堆積したバックコート膜の厚さは１２００Å）
させた。
【００２２】尚、ＰＥＴフィルム面上に設けられた１８
００Å厚さのＣｏ−Ｃｒ（８５ａｔ％−１５ａｔ％）膜
による応力（圧縮応力）は３．４×１０9 ｄｙｎｅ／ｃ
ｍ2であり、ＰＥＴフィルム面上に設けられた１２００
Å厚さのＳｉ膜による応力（圧縮応力）は１．８×１０
9 ｄｙｎｅ／ｃｍ2 であった。この後、ＰＥＴフィルム
を真空蒸着装置から取り出し、ダイ塗工法によりパーフ
ロオロポリエーテル（日本モンテジソン社のＦＯＭＢＬ
ＩＮ Ｚ ＤＯＬ）を乾燥後の厚さが３０Åとなるよう
磁性金属膜２の表面に塗布し、この後加熱乾燥させた。
００Å厚さのＣｏ−Ｃｒ（８５ａｔ％−１５ａｔ％）膜
による応力（圧縮応力）は３．４×１０9 ｄｙｎｅ／ｃ
ｍ2であり、ＰＥＴフィルム面上に設けられた１２００
Å厚さのＳｉ膜による応力（圧縮応力）は１．８×１０
9 ｄｙｎｅ／ｃｍ2 であった。この後、ＰＥＴフィルム
を真空蒸着装置から取り出し、ダイ塗工法によりパーフ
ロオロポリエーテル（日本モンテジソン社のＦＯＭＢＬ
ＩＮ Ｚ ＤＯＬ）を乾燥後の厚さが３０Åとなるよう
磁性金属膜２の表面に塗布し、この後加熱乾燥させた。
【００２３】そして、このようにして得られた原反から
通常の工程を経て磁気テープを作製した。 〔比較例１〕実施例１において、バックコート膜（Ｃｕ
−Ａｌ−Ｎｉ膜）４の厚さを７００Åとした他は同様に
行い、磁気テープを作製した。
通常の工程を経て磁気テープを作製した。 〔比較例１〕実施例１において、バックコート膜（Ｃｕ
−Ａｌ−Ｎｉ膜）４の厚さを７００Åとした他は同様に
行い、磁気テープを作製した。
【００２４】〔比較例２〕実施例１において、バックコ
ート膜（Ｃｕ−Ａｌ−Ｎｉ膜）４の厚さを１２５０Åと
した他は同様に行い、磁気テープを作製した。 〔比較例３〕実施例１において、バックコート膜（Ｃｕ
−Ａｌ−Ｎｉ膜）４の厚さを２５００Åとした他は同様
に行い、磁気テープを作製した。
ート膜（Ｃｕ−Ａｌ−Ｎｉ膜）４の厚さを１２５０Åと
した他は同様に行い、磁気テープを作製した。 〔比較例３〕実施例１において、バックコート膜（Ｃｕ
−Ａｌ−Ｎｉ膜）４の厚さを２５００Åとした他は同様
に行い、磁気テープを作製した。
【００２５】〔比較例４〕実施例１において、磁性膜
（Ｃｏ−Ｎｉ膜）２の厚さを２０００Åとした他は同様
に行い、磁気テープを作製した。 〔特性〕上記各例で得られた磁気テープを８ｍｍ幅にス
リットし、市販の８ｍｍＶＴＲを改造した装置に装着
し、出力エンベロープを測定し、その減衰率を求めたの
で、その結果を下記の表−１に示す。尚、各磁気テープ
のカール率（カールによる変形高さ（磁性膜の中央部が
凸になる場合を＋で表示）／横幅）並びに各膜の応力値
も併せて表示する。
（Ｃｏ−Ｎｉ膜）２の厚さを２０００Åとした他は同様
に行い、磁気テープを作製した。 〔特性〕上記各例で得られた磁気テープを８ｍｍ幅にス
リットし、市販の８ｍｍＶＴＲを改造した装置に装着
し、出力エンベロープを測定し、その減衰率を求めたの
で、その結果を下記の表−１に示す。尚、各磁気テープ
のカール率（カールによる変形高さ（磁性膜の中央部が
凸になる場合を＋で表示）／横幅）並びに各膜の応力値
も併せて表示する。
【００２６】 表−１ 金属磁性膜 バックコート膜 カール率 出力エンベロープ減衰率 応力dyny/cm2 応力dyny/cm2 （％） （％） 実施例１ 9.5×109 28.4×109 ８ １５ 実施例２ 9.5×109 14.8×109 １５ ２３ 実施例３ 3.4×109 1.8×109 ５ ２０ 比較例１ 9.5×109 3.8×109 −７ ３３ 比較例２ 9.5×109 12.1×109 ３ ２８ 比較例３ 9.5×109 62.5×109 ２１ ４２ 比較例４ 43.5×109 28.4×109 −３ ３０ ＊実施例１，２及び比較例１，２，３における膜の応力
は引っ張り応力 ＊実施例３及び比較例４における膜の応力は圧縮応力 すなわち、実施例のものでは出力エンベロープの崩れが
小さく、綺麗な形を示しており、出力ムラの小さいこと
が窺える。
は引っ張り応力 ＊実施例３及び比較例４における膜の応力は圧縮応力 すなわち、実施例のものでは出力エンベロープの崩れが
小さく、綺麗な形を示しており、出力ムラの小さいこと
が窺える。
【００２７】
【効果】本発明によれば、出力ムラの小さなものが得ら
れる。
れる。
【図１】本発明に係る磁気記録媒体の概略図
【図２】従来の磁気記録媒体の概略図
１ ＰＥＴフィルム ２ 金属磁性膜 ３ 潤滑膜 ４ バックコート膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 支持体の一面に乾式メッキ手段で金属磁
性膜が設けられ、他面に乾式メッキ手段でバックコート
膜が設けられてなる磁気記録媒体であって、前記金属磁
性膜によって現れる応力の方向と前記バックコート膜に
よって現れる応力の方向とが同じで、かつ、その値の絶
対値が異なるよう金属磁性膜とバックコート膜が構成さ
れ、その応力差によってカール率が５〜１５％であるよ
う金属磁性膜の中央部側が突出構成されてなることを特
徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23197793A JPH0785447A (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23197793A JPH0785447A (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0785447A true JPH0785447A (ja) | 1995-03-31 |
Family
ID=16932016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23197793A Pending JPH0785447A (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0785447A (ja) |
-
1993
- 1993-09-17 JP JP23197793A patent/JPH0785447A/ja active Pending
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