JPH02116010A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH02116010A JPH02116010A JP26741988A JP26741988A JPH02116010A JP H02116010 A JPH02116010 A JP H02116010A JP 26741988 A JP26741988 A JP 26741988A JP 26741988 A JP26741988 A JP 26741988A JP H02116010 A JPH02116010 A JP H02116010A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録再生に適する強磁性金属薄膜を
磁気記録層とする磁気記録媒体に関する。
磁気記録層とする磁気記録媒体に関する。
従来の技術
従来より、広く磁気記録層として用いられてきているい
わゆる塗布型磁性層は、磁性を担う微粒子を酸化鉄から
純鉄に切り換えることで大幅な出力増を実現し、現在０
．７μｍ近い記録波長を実用化させている。しかし今後
−層短波長化が進む磁気記録に於て、必要なＣハが得に
くくなってきてお９、それに代って、Ｃｏ−ＣｒやＣｏ
−Ｎｉ、Ｃ。
わゆる塗布型磁性層は、磁性を担う微粒子を酸化鉄から
純鉄に切り換えることで大幅な出力増を実現し、現在０
．７μｍ近い記録波長を実用化させている。しかし今後
−層短波長化が進む磁気記録に於て、必要なＣハが得に
くくなってきてお９、それに代って、Ｃｏ−ＣｒやＣｏ
−Ｎｉ、Ｃ。
−Ｎｉ−０等の強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気
記録媒体の実用化が期待されているｌ：ＩＥＥＥＴＲＡ
ＮＳＡＣＴＩＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮＥＴＩＣ３Ｖｏｗ
。
記録媒体の実用化が期待されているｌ：ＩＥＥＥＴＲＡ
ＮＳＡＣＴＩＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮＥＴＩＣ３Ｖｏｗ
。
ＭＡＧ−２１、ｆ；、−３，Ｐ、Ｐ、１２１７〜１２２
０（１９８り参照〕。
０（１９８り参照〕。
かかる構成の磁気記録媒体の実用化には、特に合金系の
磁気ヘッドとの高速摺動に於ける耐久性の確保が不可欠
で、その点からの改善提案が数多くなされている〔例え
ば、特開昭５３−８８７０４号公報、同６９−１２１６
３１号公報、同５９−１７１０２６号公報、同６２−１
９７９１７号公報等参照〕。中でも磁気記録層に微細な
凹凸を形成する方法は、耐久性改善効果が大きく注目さ
れている［ＩＥＥＥ ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ ＧＪ
ＭＡＧＮＥＴ Ｉ Ｃ３Ｖｏ４ ＷＡＧ−２１、！−
５，Ｐ、Ｐ、１５２４〜１５２６（１９８５）参照〕。
磁気ヘッドとの高速摺動に於ける耐久性の確保が不可欠
で、その点からの改善提案が数多くなされている〔例え
ば、特開昭５３−８８７０４号公報、同６９−１２１６
３１号公報、同５９−１７１０２６号公報、同６２−１
９７９１７号公報等参照〕。中でも磁気記録層に微細な
凹凸を形成する方法は、耐久性改善効果が大きく注目さ
れている［ＩＥＥＥ ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ ＧＪ
ＭＡＧＮＥＴ Ｉ Ｃ３Ｖｏ４ ＷＡＧ−２１、！−
５，Ｐ、Ｐ、１５２４〜１５２６（１９８５）参照〕。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、微細な凹凸は、凹凸の大きさが小さくな
るにつれて、やはシ耐久性が低下し、・合金系磁気ヘッ
ドとの高速摺動下で、スチル耐久性の低下や、ドロップ
アウトの増加といった課題が生じていた。本発明は上記
した事情に鑑みなされたもので、合金系磁気ヘッドを用
い高密度記録を行い、十分良好なＣ／Ｎ、出力特性を安
定に得ることの出来る磁気記録媒体を提供するものであ
る。
るにつれて、やはシ耐久性が低下し、・合金系磁気ヘッ
ドとの高速摺動下で、スチル耐久性の低下や、ドロップ
アウトの増加といった課題が生じていた。本発明は上記
した事情に鑑みなされたもので、合金系磁気ヘッドを用
い高密度記録を行い、十分良好なＣ／Ｎ、出力特性を安
定に得ることの出来る磁気記録媒体を提供するものであ
る。
課題を解決するための手段
上記した課題を解決するため、本発明の磁気記録媒体は
、高分子フィルム上に積層した強磁性金属薄膜、保護膜
を配した多層構造で、薄膜の硬さが表層側より順次小さ
くなるよう構成したものである。
、高分子フィルム上に積層した強磁性金属薄膜、保護膜
を配した多層構造で、薄膜の硬さが表層側より順次小さ
くなるよう構成したものである。
作 用
本発明の磁気記録媒体は上記した構・成により高速での
応力変化に対し厚み方向への歪みの伝達がなめらかにな
シ、薄膜の局所的な破壊が防げるので、微細な凹凸の大
きさを小さくしてＣ／Ｎ を改良しても耐久性を維持で
きることになる。
応力変化に対し厚み方向への歪みの伝達がなめらかにな
シ、薄膜の局所的な破壊が防げるので、微細な凹凸の大
きさを小さくしてＣ／Ｎ を改良しても耐久性を維持で
きることになる。
実施例
以下、図面を参照しながら、本発明の実施例について説
明する。図は本発明の実施例の磁気記録媒体の拡大断面
図である。図で１はポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、
ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド、ポリイミド
等の高分子フィルムで、微粒子塗布層や、水溶性高分子
から成るみみず状の塗布層などをあらかじめ配したもの
を用いるのが好ましい。２は強磁性金属薄膜Ａで、３は
強磁性金属薄膜Ｂである。強磁性金属薄膜を積層構成に
する上で、層数については、特に限定されるものではな
いが、２層か３層が製造する上でも適当であるといえる
。２層の場合は夫々の薄膜Ａ、Ｂの硬さをＨＡ、ＨＢと
するとＨＢ＞ＨＡの関係を満足するよう構成する必要が
あり、３層の場合も同じ考え方で構成し、上に重ねる層
程硬い膜にする必要がある。
明する。図は本発明の実施例の磁気記録媒体の拡大断面
図である。図で１はポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、
ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド、ポリイミド
等の高分子フィルムで、微粒子塗布層や、水溶性高分子
から成るみみず状の塗布層などをあらかじめ配したもの
を用いるのが好ましい。２は強磁性金属薄膜Ａで、３は
強磁性金属薄膜Ｂである。強磁性金属薄膜を積層構成に
する上で、層数については、特に限定されるものではな
いが、２層か３層が製造する上でも適当であるといえる
。２層の場合は夫々の薄膜Ａ、Ｂの硬さをＨＡ、ＨＢと
するとＨＢ＞ＨＡの関係を満足するよう構成する必要が
あり、３層の場合も同じ考え方で構成し、上に重ねる層
程硬い膜にする必要がある。
強磁性金属薄膜はＣｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−０，Ｃｏ−Ｆｅ−
０゜Ｃｏ−Ｎｉ−０，Ｃｏ−Ｎ、Ｆｅ−Ｎ、等から適宜
選択し、硬さと、磁気特性を最適化して組み合わせれば
よい。４は保護膜でＢＮ膜、 ＴｉＣ膜、ダイアモンド
状硬質炭素膜２プラズマ重合膜にイオン注入したもの等
でその硬さＨＣはＨＣ＞ ＨＢの関係を満たす必要があ
る。６は潤滑層で脂肪酸、脂肪酸アミド。
０゜Ｃｏ−Ｎｉ−０，Ｃｏ−Ｎ、Ｆｅ−Ｎ、等から適宜
選択し、硬さと、磁気特性を最適化して組み合わせれば
よい。４は保護膜でＢＮ膜、 ＴｉＣ膜、ダイアモンド
状硬質炭素膜２プラズマ重合膜にイオン注入したもの等
でその硬さＨＣはＨＣ＞ ＨＢの関係を満たす必要があ
る。６は潤滑層で脂肪酸、脂肪酸アミド。
パーフルオロポリエーテル、高級アルコール等力ら成る
もので、テープとして必要ならバックコート層の配設も
自由である。尚硬さについては、例えばヌープ硬度で比
較した時、２０％以上の差好ましくは３０〜６０％の差
があるのが耐久性の確保にとって望ましい。
もので、テープとして必要ならバックコート層の配設も
自由である。尚硬さについては、例えばヌープ硬度で比
較した時、２０％以上の差好ましくは３０〜６０％の差
があるのが耐久性の確保にとって望ましい。
以下、更に具体的に実施例について比較例との対比で説
明する。厚み１０μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に直径１５０ＡのＡｌ２Ｏ３微粒子を１５ケ／
（μｍ）２配した基板Ａと、直径７゜人のＣτ２ｏ３微
粒子を２０り／（μｍ）２配した基板Ｂと、直径２５０
ＡのＳ１０゜微粒子を１５ケ／（μｍ）２配した基板Ｃ
を準備した。夫々の基板上に、強磁性金属薄膜を２層構
成で形成し、更に保護層を配し、潤滑層は全て、パーフ
ルオロアラキン酸を４０人真空蒸着し、８ミリ幅の磁気
テープに加工した。
明する。厚み１０μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に直径１５０ＡのＡｌ２Ｏ３微粒子を１５ケ／
（μｍ）２配した基板Ａと、直径７゜人のＣτ２ｏ３微
粒子を２０り／（μｍ）２配した基板Ｂと、直径２５０
ＡのＳ１０゜微粒子を１５ケ／（μｍ）２配した基板Ｃ
を準備した。夫々の基板上に、強磁性金属薄膜を２層構
成で形成し、更に保護層を配し、潤滑層は全て、パーフ
ルオロアラキン酸を４０人真空蒸着し、８ミリ幅の磁気
テープに加工した。
夫、々の磁気テープをスパッタ合金とフェライトの複合
ヘッドにより記碌再生を行い耐久性とＣ／Ｎを比較した
。強磁性金属薄膜の製法は電子ビーム蒸着法はＥＢ、ス
パッタリング法はＳＰ、プラズマＣＶ Ｄ 法１ｄ Ｐ
−ＣＶＤ 、 ７” ５ スＷ重合法ハＰ−Ｐｏｌｙ
ｍで表に示した。耐久性は、再生出力が初期に比して２
（ｄＢ）低下するまでのくシ返し回数と、ステル状態
で出力が２ （ｄＢ）低下するまでの時間で比較した。
ヘッドにより記碌再生を行い耐久性とＣ／Ｎを比較した
。強磁性金属薄膜の製法は電子ビーム蒸着法はＥＢ、ス
パッタリング法はＳＰ、プラズマＣＶ Ｄ 法１ｄ Ｐ
−ＣＶＤ 、 ７” ５ スＷ重合法ハＰ−Ｐｏｌｙ
ｍで表に示した。耐久性は、再生出力が初期に比して２
（ｄＢ）低下するまでのくシ返し回数と、ステル状態
で出力が２ （ｄＢ）低下するまでの時間で比較した。
テープの構成条件と結果を表にまとめて示した。
発明の効果
以上のように本発明によれば、合金系ヘッドによる高密
度記碌再生をＣ／Ｎ と耐久性がバランスよく改良さ
れた状態で行うこ・との出来る磁気記録媒体がえられる
といったすぐれた効果がある。
度記碌再生をＣ／Ｎ と耐久性がバランスよく改良さ
れた状態で行うこ・との出来る磁気記録媒体がえられる
といったすぐれた効果がある。
図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図である。
１・・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・強磁性
金属薄膜Ａ（硬さＨＡ）、３・・・・・・強磁性金属薄
膜Ｂ（硬さＨＢ）、４・・・・・・保護膜（硬さＨｃ）
。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名４−
−一遺ンが）フィルム Ｃ硬さ： Ｈｃ＞ ＨＦ２ ＞ ＃Ａ の閣係り
金属薄膜Ａ（硬さＨＡ）、３・・・・・・強磁性金属薄
膜Ｂ（硬さＨＢ）、４・・・・・・保護膜（硬さＨｃ）
。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名４−
−一遺ンが）フィルム Ｃ硬さ： Ｈｃ＞ ＨＦ２ ＞ ＃Ａ の閣係り
Claims (1)
- 高分子フィルム上に積層した強磁性金属薄膜、保護膜を
配した多層構造で薄膜の硬さが表層側より順次小さくな
るように構成したことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26741988A JPH02116010A (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26741988A JPH02116010A (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02116010A true JPH02116010A (ja) | 1990-04-27 |
Family
ID=17444588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26741988A Pending JPH02116010A (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02116010A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010140568A (ja) * | 2008-12-12 | 2010-06-24 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62120621A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS62291719A (ja) * | 1986-06-12 | 1987-12-18 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
-
1988
- 1988-10-24 JP JP26741988A patent/JPH02116010A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62120621A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS62291719A (ja) * | 1986-06-12 | 1987-12-18 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010140568A (ja) * | 2008-12-12 | 2010-06-24 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録装置 |
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