JPS6111929A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6111929A JPS6111929A JP59130127A JP13012784A JPS6111929A JP S6111929 A JPS6111929 A JP S6111929A JP 59130127 A JP59130127 A JP 59130127A JP 13012784 A JP13012784 A JP 13012784A JP S6111929 A JPS6111929 A JP S6111929A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- top coat
- magnetic
- recording medium
- coat layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ωσ1監光鰻
この発明は磁気記録媒体に関し、特に目づまり。
ドロップアウトの少ない、走行安定性及び耐久性等のす
ぐれた磁気記録媒体に・関するものである。
ぐれた磁気記録媒体に・関するものである。
口 びその
現在、磁気記録媒体は、オーディオ、ビデオ。
コンピューター、磁気ディスク等の分野で広範囲に使用
されるようになっており、それに伴い、磁気記録媒体に
記録する情報量も年々増加の一途をたどり、そのため磁
気記録媒体に対しては記録密度の向上が益々要求される
ようになってきている。
されるようになっており、それに伴い、磁気記録媒体に
記録する情報量も年々増加の一途をたどり、そのため磁
気記録媒体に対しては記録密度の向上が益々要求される
ようになってきている。
塗布型の磁気記録媒体より薄型化が容易で飽和磁化も大
きい非パイ・ンダー型磁気記録媒体、即ち強磁性薄膜か
らなる磁気記録媒体は、腐食、衝撃及び摩擦強度に問題
があり、磁気信号の記録、再生及び消去の過程で磁気ヘ
ッドとの高速相対運動により摩擦もしくは破壊が生ずる
ことがある。すなわち電気メッキ、無電解メッキ、スパ
ッタリング、真空蒸着、イオンブレーティング等の方法
による強磁性薄膜を設けた磁気記録媒体はバインダーを
含まないため、磁気ヘッドとの接触摺動時に摩擦のため
磁気記録層が削りとられるか、破壊され易いものであっ
た。
きい非パイ・ンダー型磁気記録媒体、即ち強磁性薄膜か
らなる磁気記録媒体は、腐食、衝撃及び摩擦強度に問題
があり、磁気信号の記録、再生及び消去の過程で磁気ヘ
ッドとの高速相対運動により摩擦もしくは破壊が生ずる
ことがある。すなわち電気メッキ、無電解メッキ、スパ
ッタリング、真空蒸着、イオンブレーティング等の方法
による強磁性薄膜を設けた磁気記録媒体はバインダーを
含まないため、磁気ヘッドとの接触摺動時に摩擦のため
磁気記録層が削りとられるか、破壊され易いものであっ
た。
又1強磁性薄膜からなる磁気記録媒体はその表面が腐食
し易いが、腐食が進行すると、ヘッドタッチ、耐摩耗性
等の実用特性が劣化し、電磁変換特性にも悪影響を及ぼ
す。
し易いが、腐食が進行すると、ヘッドタッチ、耐摩耗性
等の実用特性が劣化し、電磁変換特性にも悪影響を及ぼ
す。
そのため磁気金属薄膜表面上に潤滑剤を塗布する方法(
特公昭39−25245号公報)があるが、そのような
方法では磁気ヘッド等で潤滑剤が拭きとられる等して潤
滑作用が永続的でなく、勿論この方法では防錆効果、耐
久性等の効果は期待すべくもなかった。
特公昭39−25245号公報)があるが、そのような
方法では磁気ヘッド等で潤滑剤が拭きとられる等して潤
滑作用が永続的でなく、勿論この方法では防錆効果、耐
久性等の効果は期待すべくもなかった。
又、潤滑作用を継続的に磁気記録層上に供給する手段と
して磁気記録層の反対側の面に液状又は半固体状の潤滑
剤及び有機バインダーを主成分とする潤滑層(バックコ
ート層)を設ける方法(特公昭57−29769号公報
)も提案され、この方法では磁気記録層の裏面ににじみ
出た潤滑剤がロール状に巻かれた際磁気記録層に移り、
磁気記録層の表面に常に潤滑剤を供給でき、磁気記録層
の耐久性(スリキズやハガレの程度)や動摩擦係数の変
化において、すぐれた効果が奏せられるとするものであ
るが、この方法のように強磁性薄膜にトップコート層を
設けないでバンクコート層のみに潤滑剤を含有させたも
のでは磁気薄膜と磁気ヘッドとの摩擦レベルは依然とし
て高く、走行不良をもたらし、又耐腐食、防錆効果にお
いても采だ充分なものとは言えないものであった。
して磁気記録層の反対側の面に液状又は半固体状の潤滑
剤及び有機バインダーを主成分とする潤滑層(バックコ
ート層)を設ける方法(特公昭57−29769号公報
)も提案され、この方法では磁気記録層の裏面ににじみ
出た潤滑剤がロール状に巻かれた際磁気記録層に移り、
磁気記録層の表面に常に潤滑剤を供給でき、磁気記録層
の耐久性(スリキズやハガレの程度)や動摩擦係数の変
化において、すぐれた効果が奏せられるとするものであ
るが、この方法のように強磁性薄膜にトップコート層を
設けないでバンクコート層のみに潤滑剤を含有させたも
のでは磁気薄膜と磁気ヘッドとの摩擦レベルは依然とし
て高く、走行不良をもたらし、又耐腐食、防錆効果にお
いても采だ充分なものとは言えないものであった。
又、塗布型の磁気記録層においても、トップコート層を
設けて磁性層の保護を図っているが、従来のトップコー
ト層は容易にはがれやすいという欠点を有していた。
設けて磁性層の保護を図っているが、従来のトップコー
ト層は容易にはがれやすいという欠点を有していた。
ハエ る二めの
本発明者等はそれらの欠点を改善すべく、鋭意研究の結
果、非磁性基材上に磁気記録層を設け、た磁気記録媒体
において、磁気記録層表面上に特定成分のトップコート
層を設けることにより、前記欠点とされていた走行性、
耐久性等の改善されたすぐれた磁気記録媒体が得られる
ことを見出し先に提案しているが(特願昭59−152
58号、特願昭59−15259号)、本発明者等が更
に研究を進めた結果、上記従来のトップコート層には微
粒子顔料が入っていないのでトップコート自体がヘッド
に対してクリーニング効果を持っていないため上記のは
がれやすい欠点を有する事を見出し、そしてトップコー
ト層の表面に微粒子顔料を含有し、該トップコート層の
表面粗度がR20=400八未満であるときに、上記の
欠点が改善され、目づまり、レベルダウン、ドロップア
ウトが少なく安定した。すぐれた磁気記録媒体が得られ
る事を見出し、本発明に到達したものである。
果、非磁性基材上に磁気記録層を設け、た磁気記録媒体
において、磁気記録層表面上に特定成分のトップコート
層を設けることにより、前記欠点とされていた走行性、
耐久性等の改善されたすぐれた磁気記録媒体が得られる
ことを見出し先に提案しているが(特願昭59−152
58号、特願昭59−15259号)、本発明者等が更
に研究を進めた結果、上記従来のトップコート層には微
粒子顔料が入っていないのでトップコート自体がヘッド
に対してクリーニング効果を持っていないため上記のは
がれやすい欠点を有する事を見出し、そしてトップコー
ト層の表面に微粒子顔料を含有し、該トップコート層の
表面粗度がR20=400八未満であるときに、上記の
欠点が改善され、目づまり、レベルダウン、ドロップア
ウトが少なく安定した。すぐれた磁気記録媒体が得られ
る事を見出し、本発明に到達したものである。
即ち、本発明は非磁性基材上に磁気記録層を設けた磁気
記録媒体にiいて、該磁気記録層上のトップコート層の
表面に微粒子顔料を含有′し、該トップコート層の表面
粗度がR20=400A未満であるこ゛とを特徴とする
磁気記録媒体に関するものである6 一気記録層上にトップコート層が設けられると、塗布型
の磁性層にあっては、摩擦動電が改善でき、粉落ちや耐
久性が向上し、又強磁性薄膜上にトップコート層が設け
られると、防錆性、耐腐食性、耐久性、走行安定性の優
れた磁気記録媒体が得られるが、トップコート層のある
磁気記録媒体は繰返し使用されるうちに、ヘッドにトッ
プコート層の削れ物が付着し、堆積する。そのため、目
づまり、レベルダウン、ドロップアウトが起こりやすく
なる。その傾向は微粒子顔料を含有しないものにおいて
著しい。微粒子顔料を含有する事により、該微粒子顔料
が研磨剤の作用を為し、ヘッド付着物を゛削り落とし、
ヘッドへのクリーニング効果が出るため、目づまり、レ
ベルダウンがなくなり、ドロップアウトが低減できるの
である。
記録媒体にiいて、該磁気記録層上のトップコート層の
表面に微粒子顔料を含有′し、該トップコート層の表面
粗度がR20=400A未満であるこ゛とを特徴とする
磁気記録媒体に関するものである6 一気記録層上にトップコート層が設けられると、塗布型
の磁性層にあっては、摩擦動電が改善でき、粉落ちや耐
久性が向上し、又強磁性薄膜上にトップコート層が設け
られると、防錆性、耐腐食性、耐久性、走行安定性の優
れた磁気記録媒体が得られるが、トップコート層のある
磁気記録媒体は繰返し使用されるうちに、ヘッドにトッ
プコート層の削れ物が付着し、堆積する。そのため、目
づまり、レベルダウン、ドロップアウトが起こりやすく
なる。その傾向は微粒子顔料を含有しないものにおいて
著しい。微粒子顔料を含有する事により、該微粒子顔料
が研磨剤の作用を為し、ヘッド付着物を゛削り落とし、
ヘッドへのクリーニング効果が出るため、目づまり、レ
ベルダウンがなくなり、ドロップアウトが低減できるの
である。
そして、その際、トップコート層の表面粗度(TAYL
OR−HOBSON社製タリス社製プリステップ法にお
けるRn+ax値、カットオフ0゜17mm、針圧2m
g、針0.IX2.5とを用いた。以下同じ)がR20
= 400八未満、好ましくは20乃至400Aが良い
事がわかった。2〇八以下ではヘッドとの接触が良すぎ
てヘッドへのクリーニング効果がなくなり、摩擦が高く
なる。
OR−HOBSON社製タリス社製プリステップ法にお
けるRn+ax値、カットオフ0゜17mm、針圧2m
g、針0.IX2.5とを用いた。以下同じ)がR20
= 400八未満、好ましくは20乃至400Aが良い
事がわかった。2〇八以下ではヘッドとの接触が良すぎ
てヘッドへのクリーニング効果がなくなり、摩擦が高く
なる。
400A以上になると表面が荒れ、削れやすくなり、ド
ロップアウトが出やすくなる。さらに好ましい範囲は2
00A未満である。
ロップアウトが出やすくなる。さらに好ましい範囲は2
00A未満である。
表面粗度を20乃至400A未満とするには次のような
方法を採用することができる。
方法を採用することができる。
1、トップコートを塗布し、乾燥炉を通し、電子。
線又は紫外線硬化させる。
2、トップコートを塗布し、乾燥炉を通さず、電子線又
は紫外線硬化させる。
は紫外線硬化させる。
3、トップコートの塗布時、加熱させながら、粘度の高
いまま塗布する。
いまま塗布する。
4、上記1.2の過程において、乾燥炉を通しく又は通
さず)、未硬化のままカレン、ダーをかけ、その後、電
゛子線又は紫外線硬化させる。
さず)、未硬化のままカレン、ダーをかけ、その後、電
゛子線又は紫外線硬化させる。
5、上記4の過程で乾燥炉を通しく又は通さず)、その
後わずかに低線量(0,01〜2Mrad)の条件で半
硬化し、その後カレンダーをかけ、その後、電子線又は
紫外線硬化させる。
後わずかに低線量(0,01〜2Mrad)の条件で半
硬化し、その後カレンダーをかけ、その後、電子線又は
紫外線硬化させる。
6、上記1〜5の工程において最終段階にカレンダ一工
程を加えてもよい。
程を加えてもよい。
又、トップコート層にさらに酸化防止剤及びモノマー、
オリゴマー、ポリマーのうちの少なくとも1種を含有さ
せると、該酸化防止剤がトップコート層の磁性層に対す
る吸着性を向上させるため、トップコートのはがれ及び
削れが少なくなり、又モノマー、オリゴマー、ポリマー
のうちの少なくとも1種により、酸化防止剤による磁性
層に対する接着力が均一なものとなり、微少な不均一な
むらがなくなり、高温走行での安定性が良くなった。
オリゴマー、ポリマーのうちの少なくとも1種を含有さ
せると、該酸化防止剤がトップコート層の磁性層に対す
る吸着性を向上させるため、トップコートのはがれ及び
削れが少なくなり、又モノマー、オリゴマー、ポリマー
のうちの少なくとも1種により、酸化防止剤による磁性
層に対する接着力が均一なものとなり、微少な不均一な
むらがなくなり、高温走行での安定性が良くなった。
そして、温、湿度、特に高温、多湿下で走行性が安定と
なり、ヘッド付着、トップコート削れが少なくなり、摩
擦の変化も安定するのである。
なり、ヘッド付着、トップコート削れが少なくなり、摩
擦の変化も安定するのである。
微粒子顔料トシテは、Z r O2、Cr 203 。
A1203 、Y203 、CeO2、Fe304 。
Fe2 o3 、ZrS f04.Sb20y、SnO
2、TiO2等があげられる。
2、TiO2等があげられる。
これら微粒子顔料の粒径は200A未満、更に好ましく
は150A以下のものである。微粒子顔料の粒径が20
〇八以”上になるとスペーシングロスが大となり、出力
変動も大となり、また微粒子顔料のトップコート層中で
の不均一性も目立ち出し、画像むら及び歪を生じ1画像
への影響がある。
は150A以下のものである。微粒子顔料の粒径が20
〇八以”上になるとスペーシングロスが大となり、出力
変動も大となり、また微粒子顔料のトップコート層中で
の不均一性も目立ち出し、画像むら及び歪を生じ1画像
への影響がある。
これら微粒子顔料は、例えば5i02の場合。
■無水硅酸の超微粒子コロイド溶液(スノーテックス、
水系、メタノールシリカゾル、1産化学)■精製四塩化
ケイ素の燃焼によって製造される超“微粒子状無水シリ
カ(標準品100A)(アエロジル、日本アエロジル株
式会社)などが挙げられる。
水系、メタノールシリカゾル、1産化学)■精製四塩化
ケイ素の燃焼によって製造される超“微粒子状無水シリ
カ(標準品100A)(アエロジル、日本アエロジル株
式会社)などが挙げられる。
又、前記■の超微粒子コロイド溶液及び■と同様の気相
法で製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに
酸化チタン及び前述微粒子顔料が使用され得る。
法で製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに
酸化チタン及び前述微粒子顔料が使用され得る。
本発明のトップコート層には前述の酸化防止剤。
モノマー、オリゴマー、ポリマー等の有機バインダー(
有機バインダーは含有しなくてもよい)の外に潤滑剤等
のこの種トップコート層に添加される添加剤を含むこと
ができる。
有機バインダーは含有しなくてもよい)の外に潤滑剤等
のこの種トップコート層に添加される添加剤を含むこと
ができる。
又、トップコート層にはドロップアウト対策としてカー
ボンブラックを含有させることができる。
ボンブラックを含有させることができる。
カーボンブラックの粒径は200A未満のものが好まし
い。
い。
本発明のトップコート層に使用するカーボンブラックは
ファーネス、チャンネル、アセチレン、サーマル、ラン
プ等、いずれの方法で製造されたものでもよいが、アセ
チレンブラック、ファーネスブラック、チャンネルブラ
ック、ローラーおよびディスクブラックおよびドイツナ
フタリンブラックが好ましい。本発明で使用するカーボ
ンブラックの粒子径は電子顕微鏡撮影法により測定して
、200A未満のものが好ましい。
ファーネス、チャンネル、アセチレン、サーマル、ラン
プ等、いずれの方法で製造されたものでもよいが、アセ
チレンブラック、ファーネスブラック、チャンネルブラ
ック、ローラーおよびディスクブラックおよびドイツナ
フタリンブラックが好ましい。本発明で使用するカーボ
ンブラックの粒子径は電子顕微鏡撮影法により測定して
、200A未満のものが好ましい。
本発明のトップコート層に用い得る酸化防止剤は金属の
酸化を防止するものであれば、いずれのものでも良いが
1次のような通常の酸化防止剤が用いられる。これらは
1)フェノール系酸化防止剤、2)アミン系酸化防止剤
、3)リン系酸化防止剤、4)硫黄系酸化防止剤、5)
有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤、6)キノ
ン系酸化防止剤、7)無機酸、無機塩系酸化防止剤のよ
うに構造的に大別される。
酸化を防止するものであれば、いずれのものでも良いが
1次のような通常の酸化防止剤が用いられる。これらは
1)フェノール系酸化防止剤、2)アミン系酸化防止剤
、3)リン系酸化防止剤、4)硫黄系酸化防止剤、5)
有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤、6)キノ
ン系酸化防止剤、7)無機酸、無機塩系酸化防止剤のよ
うに構造的に大別される。
上記各種酸化防止剤の具体例を挙げると、1)フェノー
ル系酸化防止剤としては、2,6−ジー第三ブチル−p
−クレゾール、2,6−ジー第三ブチル−フェノール、
2,4−ジ−メチル−16−第三ブチル−フェノール、
ブチルヒドロキシアニソール、2,2′−メチレンビス
(4−メチル−6−第三ブチルフェノール) 、 4.
4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−第三ブチルフ
ェノール)、4.4’−チオビス(3−メチル−6−第
三ブチルフェノール)、テトラキス〔メチレン−3(3
,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
ピオネートコメタン、1..1゜3−トリス(2−メチ
ル−4−ヒドロキシ−5−第三ブチルフェニル)ブタン
、ジブチルヒドロキシトルエン、没食子酸プロピル、グ
アヤク脂、ノルジヒドログアヤレチン酸等がある。放射
線硬化型としてはモノグリコールサリチレート、2,5
−ジ第三ブチ′ルハイドロキノン、2,4.−ジヒドロ
キシベンゾフェノン、2,4.5−トリヒドロキシブチ
ロフェノン、ハイドロキノン等のメタクリレート、アク
リレートタイプが挙げられる。
ル系酸化防止剤としては、2,6−ジー第三ブチル−p
−クレゾール、2,6−ジー第三ブチル−フェノール、
2,4−ジ−メチル−16−第三ブチル−フェノール、
ブチルヒドロキシアニソール、2,2′−メチレンビス
(4−メチル−6−第三ブチルフェノール) 、 4.
4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−第三ブチルフ
ェノール)、4.4’−チオビス(3−メチル−6−第
三ブチルフェノール)、テトラキス〔メチレン−3(3
,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
ピオネートコメタン、1..1゜3−トリス(2−メチ
ル−4−ヒドロキシ−5−第三ブチルフェニル)ブタン
、ジブチルヒドロキシトルエン、没食子酸プロピル、グ
アヤク脂、ノルジヒドログアヤレチン酸等がある。放射
線硬化型としてはモノグリコールサリチレート、2,5
−ジ第三ブチ′ルハイドロキノン、2,4.−ジヒドロ
キシベンゾフェノン、2,4.5−トリヒドロキシブチ
ロフェノン、ハイドロキノン等のメタクリレート、アク
リレートタイプが挙げられる。
2)アミン系酸化防止剤としては、フェニル−β−ナフ
チルア、ミン、払−ナフチルアミン、N、N’−ジー第
ニブチルーP−フェニレンジアミン、フェノチアジン、
N、N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミンの他、
アルカノールアミン、リン脂質等が挙げられる。アミン
系でもジメチルアミノエチルメタクリレート、アクリレ
ート等の放射線硬化可能のものが放射線硬化型として挙
げられる。
チルア、ミン、払−ナフチルアミン、N、N’−ジー第
ニブチルーP−フェニレンジアミン、フェノチアジン、
N、N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミンの他、
アルカノールアミン、リン脂質等が挙げられる。アミン
系でもジメチルアミノエチルメタクリレート、アクリレ
ート等の放射線硬化可能のものが放射線硬化型として挙
げられる。
3)リン系酸化防止剤としては放射線硬化型或い゛ は
放射線硬化型でないものが用いられ、リン酸エステル部
分のRとしてはアルキル基、アルキ・ルフェ二ル基、そ
の低酸化エチレン、酸化プロピレンを含有し、そのRと
してCが1〜26が好ましく、更に好ましいのは1〜2
2である。リン酸エステルとしてはモノ、ジ、トリのも
のが含まれ、モノあるいはジの成分が多いものであって
もよく、トリタイプのものはカットされていてもよい。
放射線硬化型でないものが用いられ、リン酸エステル部
分のRとしてはアルキル基、アルキ・ルフェ二ル基、そ
の低酸化エチレン、酸化プロピレンを含有し、そのRと
してCが1〜26が好ましく、更に好ましいのは1〜2
2である。リン酸エステルとしてはモノ、ジ、トリのも
のが含まれ、モノあるいはジの成分が多いものであって
もよく、トリタイプのものはカットされていてもよい。
またリン酸エステルはNH4タイプのもの及びメタクリ
レートタイプ、アクリレートタイプのものも含まれる。
レートタイプ、アクリレートタイプのものも含まれる。
具体的にはトリフェニルホスファイト、トリオクタデシ
ルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリ
ルトリチオホスファイト等の亜リン酸エステルや、ヘキ
サメチルホスホリックトリアミド、ブチルホスフェート
、セチルホスフェート、ブトキシエチルホスフェート、
2−エチルへキシルホスフェート、β−クロロエチルホ
スフェート、ブトキシエチルホスフェートジエチルアミ
ン塩、ジ(2−エチルヘキシル)ホスフェート、エチレ
ングリコールアシッドホスフェート、(2−ヒドロキシ
エチル)メタクリレート・ホスフェート、ブチルヒドロ
キシメタクリレート・ホスブエート、カプリルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、ミリスチルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、ステアリルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、セチルヒドロキシメ
タクリレート・ホスフェート、ブチルフェニルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、アミルフェニルヒド
ロキシメタクリ・レート・ホスフェート、ノニルフェニ
ルヒドロキシメタクリレート・ホスフェート、及びこれ
らのアクリレートタイプ、フェニルホスフェート、その
他のアルコール、及びノニルフェニル等のフェニルホス
フェート、バナジウム系酸性リン酸エステル等のリン酸
エステルが挙げられる。
ルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリ
ルトリチオホスファイト等の亜リン酸エステルや、ヘキ
サメチルホスホリックトリアミド、ブチルホスフェート
、セチルホスフェート、ブトキシエチルホスフェート、
2−エチルへキシルホスフェート、β−クロロエチルホ
スフェート、ブトキシエチルホスフェートジエチルアミ
ン塩、ジ(2−エチルヘキシル)ホスフェート、エチレ
ングリコールアシッドホスフェート、(2−ヒドロキシ
エチル)メタクリレート・ホスフェート、ブチルヒドロ
キシメタクリレート・ホスブエート、カプリルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、ミリスチルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、ステアリルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、セチルヒドロキシメ
タクリレート・ホスフェート、ブチルフェニルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、アミルフェニルヒド
ロキシメタクリ・レート・ホスフェート、ノニルフェニ
ルヒドロキシメタクリレート・ホスフェート、及びこれ
らのアクリレートタイプ、フェニルホスフェート、その
他のアルコール、及びノニルフェニル等のフェニルホス
フェート、バナジウム系酸性リン酸エステル等のリン酸
エステルが挙げられる。
4)硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリルチオジプロ
ピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ラウ
リルステアリルチオジプロピオネート、シミリスチルチ
オジプロピオネート、ジステアリルβ、β′−チオジブ
チレート、2−メルカプトベンゾイミダゾール、ジ)ウ
リルサルファイドの他、4.4’−チオ−ビス(3−メ
チルー6−第三ブチノσ−フェノール)、2.2’−チ
オ−ビス(4−メチル−6−第三ブチルフェノール)等
のメタクリレート、アクリレート等の放射線硬化型が挙
げられる。またこれらは酸化子チレン、酸化プロピレン
を含有していてもよい。
ピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ラウ
リルステアリルチオジプロピオネート、シミリスチルチ
オジプロピオネート、ジステアリルβ、β′−チオジブ
チレート、2−メルカプトベンゾイミダゾール、ジ)ウ
リルサルファイドの他、4.4’−チオ−ビス(3−メ
チルー6−第三ブチノσ−フェノール)、2.2’−チ
オ−ビス(4−メチル−6−第三ブチルフェノール)等
のメタクリレート、アクリレート等の放射線硬化型が挙
げられる。またこれらは酸化子チレン、酸化プロピレン
を含有していてもよい。
5)有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤として
はソルビトール、グリセリン、プロピレングリコール、
アジピン酸、クエン酸、アスコルビン酸等が挙げられ、
これらの放射線硬化型であってもよい。
はソルビトール、グリセリン、プロピレングリコール、
アジピン酸、クエン酸、アスコルビン酸等が挙げられ、
これらの放射線硬化型であってもよい。
6)キノン系酸化防止剤としてはヒドロキノン、トコフ
ェロール等があり、これらの中で放射線硬化型であって
もよい。
ェロール等があり、これらの中で放射線硬化型であって
もよい。
7)無機酸、無機塩系酸化防止剤としてはリン酸がその
代表例として挙げられる。
代表例として挙げられる。
上記酸化防止剤の中でも、強磁性薄膜への裏型転写を抑
え得るという点から、分子中にアクリル系二重結合を有
する放射線硬化型のもの、例えばモノグリコールサリチ
レートメタクリレート(′アクリレート)、4−第三ブ
チルカテコールメタクリレート(アクリレート)、ジメ
チルアミノエチルメタクリレート(アクリレート)、エ
チルヒドロキシメタクリレート(アクリレート)ホスフ
ェート、セチルヒドロキシホスフェートメタクリレート
(アクリレート)、ステアリルメタクリレート(アクリ
レート)ホスフェート、及び上記のもののフェニルタイ
プのもの、2,2′チオ−ビス(4−メチル−6−第三
ブチル−フェノール)メタクリレート(アクリレート)
等が好ましい。リン酸エステルの製法としては公知の方
法で行なわれるが、特公開57−44223号公報記載
の方法も挙げられる。放射線硬化型酸化防止剤では強磁
性薄膜へのオンライン硬化ができるため熱硬化時の巻き
しまりによる裏型転写による表面性の劣化がなく、その
ため出力の低下がない。そしてドロップアウトの防止、
ロール状に巻かれたときの内外径の個所による出力差の
減少といった特性上の効果の他、オンライン上での製造
が可能といった処理上の効果をもあげ得るものである。
え得るという点から、分子中にアクリル系二重結合を有
する放射線硬化型のもの、例えばモノグリコールサリチ
レートメタクリレート(′アクリレート)、4−第三ブ
チルカテコールメタクリレート(アクリレート)、ジメ
チルアミノエチルメタクリレート(アクリレート)、エ
チルヒドロキシメタクリレート(アクリレート)ホスフ
ェート、セチルヒドロキシホスフェートメタクリレート
(アクリレート)、ステアリルメタクリレート(アクリ
レート)ホスフェート、及び上記のもののフェニルタイ
プのもの、2,2′チオ−ビス(4−メチル−6−第三
ブチル−フェノール)メタクリレート(アクリレート)
等が好ましい。リン酸エステルの製法としては公知の方
法で行なわれるが、特公開57−44223号公報記載
の方法も挙げられる。放射線硬化型酸化防止剤では強磁
性薄膜へのオンライン硬化ができるため熱硬化時の巻き
しまりによる裏型転写による表面性の劣化がなく、その
ため出力の低下がない。そしてドロップアウトの防止、
ロール状に巻かれたときの内外径の個所による出力差の
減少といった特性上の効果の他、オンライン上での製造
が可能といった処理上の効果をもあげ得るものである。
潤滑剤としては従来この種磁気記録媒体に用いられる潤
滑剤としてシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂肪
酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性剤
等を用いることができるが。
滑剤としてシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂肪
酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性剤
等を用いることができるが。
脂肪酸および/又は脂肪酸エステルを用いるのが好まし
い。
い。
脂肪酸としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、
ステアロール酸等の炭素数12以上の脂肪酸(RCOO
H,Rは炭素数11以上のアルキル基)であり、脂肪酸
エステルとしては、炭素数12〜16個の一塩基性脂肪
酸と炭素数3〜12個の一価のアルコールからなる脂肪
酸エステル類、炭素数17個以上の一塩基性脂肪酸と該
脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が21〜23個より成
る一価のアルコールとから成る脂肪酸エステル等が使用
され、又前記脂肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金
属からなる金属石鹸。
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、
ステアロール酸等の炭素数12以上の脂肪酸(RCOO
H,Rは炭素数11以上のアルキル基)であり、脂肪酸
エステルとしては、炭素数12〜16個の一塩基性脂肪
酸と炭素数3〜12個の一価のアルコールからなる脂肪
酸エステル類、炭素数17個以上の一塩基性脂肪酸と該
脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が21〜23個より成
る一価のアルコールとから成る脂肪酸エステル等が使用
され、又前記脂肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金
属からなる金属石鹸。
レシチン等が使用される。
シリコーンとしては脂肪酸変性よりなるもの。
一部フッ素変性されているものが使用される。アルコー
ルとしては高級アルコールよりなるもの、フッ素として
は電解置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーショ
ン等によって得られるものが使用される。
ルとしては高級アルコールよりなるもの、フッ素として
は電解置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーショ
ン等によって得られるものが使用される。
am剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。これらは強磁性薄膜への裏型転写を抑えるため、
ドロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外
径の個所による出力差の減少の他、オンライン上での製
造が可能である等の利点を持つ。
ある。これらは強磁性薄膜への裏型転写を抑えるため、
ドロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外
径の個所による出力差の減少の他、オンライン上での製
造が可能である等の利点を持つ。
放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤をCH2=CH−CH’2 GOOR1 C’H2=CHC0NHCH20COR。
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤をCH2=CH−CH’2 GOOR1 C’H2=CHC0NHCH20COR。
CH20COCH” CH2、RCOOCH= CH2
、RC○OC82CH= C月2等で、ここでRは直鎖
又は分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数
は7以上、好ましく゛は12以上23以下であり、これ
らは弗素置換体とすることもできる。弗素置換体として
は CnF2n’rl−1CnF2n+I(CH2)m
(但し、m=1〜5)、 R CnF2n+l S 02.N CH2CH2−1Cn
F2ntlCH2CH2NHCH2CH2−1CnFz
n−10−■−COOCH2CH2−等がある。
、RC○OC82CH= C月2等で、ここでRは直鎖
又は分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数
は7以上、好ましく゛は12以上23以下であり、これ
らは弗素置換体とすることもできる。弗素置換体として
は CnF2n’rl−1CnF2n+I(CH2)m
(但し、m=1〜5)、 R CnF2n+l S 02.N CH2CH2−1Cn
F2ntlCH2CH2NHCH2CH2−1CnFz
n−10−■−COOCH2CH2−等がある。
これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート(アクリレート)、ステア
リルアルコールのメタクリレニド(アクリレート)、グ
リセリンのメタクリレート(アクリレートリ、グリコー
ルのメタクリレート(アクリレート)、シリコーンのメ
タクリレート(アクリレート)等が挙げられる。
ステアリン酸メタクリレート(アクリレート)、ステア
リルアルコールのメタクリレニド(アクリレート)、グ
リセリンのメタクリレート(アクリレートリ、グリコー
ルのメタクリレート(アクリレート)、シリコーンのメ
タクリレート(アクリレート)等が挙げられる。
本発明トップコート層で用いるポリマーとしては、従来
、磁気記録媒体用に利用されている熱可塑性、熱硬化性
又は反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、得ら
れる塗膜強度等の点から硬化型、特に放射線硬化型の樹
脂が好ましい。
、磁気記録媒体用に利用されている熱可塑性、熱硬化性
又は反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、得ら
れる塗膜強度等の点から硬化型、特に放射線硬化型の樹
脂が好ましい。
熱可塑性樹脂としては軟化温度が15にl”c以下、平
均分子量が10,000〜200,000、重合度が約
200〜2,000程度のもので、例え゛ば塩化ビニ−
ルー耐酸ビニール共重合体(カルボン酸導入のものも含
む)、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重
合体(カルボン酸導入のものも含む)、塩化ビニール−
塩化ビニリデン共重合体、塩化デニール−アクリロニト
リル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合
体、アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリ
ル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル
酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エ
ステル−スチレン共重合体。
均分子量が10,000〜200,000、重合度が約
200〜2,000程度のもので、例え゛ば塩化ビニ−
ルー耐酸ビニール共重合体(カルボン酸導入のものも含
む)、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重
合体(カルボン酸導入のものも含む)、塩化ビニール−
塩化ビニリデン共重合体、塩化デニール−アクリロニト
リル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合
体、アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリ
ル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル
酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エ
ステル−スチレン共重合体。
ウレタンエラスI−マー、°ナイロンーシリコン茶樹1
、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニ
ル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタ
ジェン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、
ポリビニールブチラール、セルロース誘導体(セルロー
スアセテート、セルロースダイアセテート、セルロース
トリアセテート、セルロ〜−スブロピオネート、ニトロ
セルロース等)、スチレン−ブタジェン共重合体、ポリ
エステル樹脂、クロロビニルエーテル−アクリル酸エス
テル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑
性樹脂及びこれらの混合物が使用される。
、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニ
ル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタ
ジェン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、
ポリビニールブチラール、セルロース誘導体(セルロー
スアセテート、セルロースダイアセテート、セルロース
トリアセテート、セルロ〜−スブロピオネート、ニトロ
セルロース等)、スチレン−ブタジェン共重合体、ポリ
エステル樹脂、クロロビニルエーテル−アクリル酸エス
テル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑
性樹脂及びこれらの混合物が使用される。
熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は200..000以下の分子量であり、塗布、乾燥後
に加熱することトこより、縮合、付加等の反応により分
子量は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで
、樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないもの
が好ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン
樹脂。
は200..000以下の分子量であり、塗布、乾燥後
に加熱することトこより、縮合、付加等の反応により分
子量は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで
、樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないもの
が好ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン
樹脂。
アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン
樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアルデヒ
ド樹脂、低分子量グリコール/高分子量ジオール/トリ
フェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミ
ン樹脂、及びこれらの混合物である。
エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン
樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアルデヒ
ド樹脂、低分子量グリコール/高分子量ジオール/トリ
フェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミ
ン樹脂、及びこれらの混合物である。
而して好ましいものは、繊維素樹脂(硝化綿等)、塩化
ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレ
タンの組合せからなる熱硬化性樹脂(硬化剤使用)、或
いは塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体(カルボン酸導入のものも含む)、又はアクリル変性
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
カルボン酸導入のものも含む)及びウレタンアクリレー
トからなる放射線硬化系樹脂からなるものであり、放射
線硬化系樹脂については前記の好ましい組合せの外に、
ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合
乾燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入し
た樹脂等を用いることができる。その他、使用可能なバ
インダー成分としては、単量体としてアクリル酸、メタ
クリル酸、アクリルアミド等がある。二重結合のあるバ
インダーとしては、種々のポリエステル、ポリオール、
ポリウレタン等をアクリル二重結合を有する化合物で変
性することもできる。更に必要に応じて多価アルコール
と多価カルボン酸を配合することによって種々の分子量
のものもできる。放射線感応樹脂として上記のものはそ
の一部であり、これらは混合して用いることもできる。
ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレ
タンの組合せからなる熱硬化性樹脂(硬化剤使用)、或
いは塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体(カルボン酸導入のものも含む)、又はアクリル変性
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
カルボン酸導入のものも含む)及びウレタンアクリレー
トからなる放射線硬化系樹脂からなるものであり、放射
線硬化系樹脂については前記の好ましい組合せの外に、
ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合
乾燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入し
た樹脂等を用いることができる。その他、使用可能なバ
インダー成分としては、単量体としてアクリル酸、メタ
クリル酸、アクリルアミド等がある。二重結合のあるバ
インダーとしては、種々のポリエステル、ポリオール、
ポリウレタン等をアクリル二重結合を有する化合物で変
性することもできる。更に必要に応じて多価アルコール
と多価カルボン酸を配合することによって種々の分子量
のものもできる。放射線感応樹脂として上記のものはそ
の一部であり、これらは混合して用いることもできる。
、
本発明トップコート層で用いられる放射線硬化型モノマ
ー、放射線硬化型オリ′ゴマ−及び放射線硬化型ポリマ
ーとしては、イオン化エネルギーに感応し、ラジカル重
合性を示す不飽和二重結合を有すアクリル酸、メタクリ
ル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリ
ル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二
重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合
等の、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を
分子中に含有または導入したモノマー、オリゴマー及び
ポリマー等を挙げることができる。
ー、放射線硬化型オリ′ゴマ−及び放射線硬化型ポリマ
ーとしては、イオン化エネルギーに感応し、ラジカル重
合性を示す不飽和二重結合を有すアクリル酸、メタクリ
ル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリ
ル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二
重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合
等の、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を
分子中に含有または導入したモノマー、オリゴマー及び
ポリマー等を挙げることができる。
放射線硬化型モノマーとしては分子量2,000未満の
化合物が、オリゴマーとしては分子量2゜000乃至1
万のものが用いられる。これらはスチレン、エチルアク
リレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート。
化合物が、オリゴマーとしては分子量2゜000乃至1
万のものが用いられる。これらはスチレン、エチルアク
リレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート。
ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキ
サングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサングリ
コールジアクリレート等も挙げらjするが、特に好まし
いものとして、N−ビニルピロリドン、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート(メタクリレート)、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート(メタクリレート)、
トリメチロールプロパントリアクリレート(メタクリレ
ート)、トリメチロールプロパンジアクリレート(メタ
クリレート)、多官能オリゴエステルアクリ°レート(
アロニックスM−710”01M−5400,5500
,5700等、東亜合成)、ウレタンエラストマーにツ
ボラン4040)のアクリル変性体、あるいはこれらの
ものにC0OH等の官能基が導入されたもの、フェノー
ルエチレンオキシド付加物のアクリレート(メタクリレ
ート)、下記一般式で示されるペンタエリスリトール縮
合環にアクリル基(メタクリ基)又はε−カプロラクト
ン゛式中、m=1、a =2、b=4の化合物(以下、
特殊ペンタエリスリトール縮合物Aという)、m=1.
a=3、b=3の化合物(以下、特殊ペンタエリスリト
ール縮合物Bという)、m=1、a=6.b=oの化合
物(以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物、Cという
)、m = 2 、 a = 6 、 b = Oの
化合物(以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物りとい
う)、及び下記一般式で示される特殊アクリレート類等
が挙げられる。
サングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサングリ
コールジアクリレート等も挙げらjするが、特に好まし
いものとして、N−ビニルピロリドン、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート(メタクリレート)、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート(メタクリレート)、
トリメチロールプロパントリアクリレート(メタクリレ
ート)、トリメチロールプロパンジアクリレート(メタ
クリレート)、多官能オリゴエステルアクリ°レート(
アロニックスM−710”01M−5400,5500
,5700等、東亜合成)、ウレタンエラストマーにツ
ボラン4040)のアクリル変性体、あるいはこれらの
ものにC0OH等の官能基が導入されたもの、フェノー
ルエチレンオキシド付加物のアクリレート(メタクリレ
ート)、下記一般式で示されるペンタエリスリトール縮
合環にアクリル基(メタクリ基)又はε−カプロラクト
ン゛式中、m=1、a =2、b=4の化合物(以下、
特殊ペンタエリスリトール縮合物Aという)、m=1.
a=3、b=3の化合物(以下、特殊ペンタエリスリト
ール縮合物Bという)、m=1、a=6.b=oの化合
物(以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物、Cという
)、m = 2 、 a = 6 、 b = Oの
化合物(以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物りとい
う)、及び下記一般式で示される特殊アクリレート類等
が挙げられる。
(’ ) CCH2= CHCOOCH) 3− cc
u2on(特殊アクリレートA) (2) (CO3−CHCOOCH) 、 −CCH2
CH3(特殊アクリレートB) (3) (C% =CHC0−+oc H)n −0C
HJ) 3 CCHJ CH3(n峙3) (
特殊アクリレートC)(特殊アクリレートD) (特殊アクリレートE) (特殊アクリレートF) (特殊アクリレートG) (8)CH2=CHCOO−(CH,CH,0)4−C
OCH=CH2(特殊アクリレートH) (特殊アクリレートI) (特殊アクリレートJ) Aニアクリル酸、X:多価アルコール、Y:多塩基酸、
(特殊アクリレートK)又、放射線硬化型オリゴマ
ーとしては、下記一般式で示される多官能オリゴエステ
ルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性
体あるいはこれらのものにC0OH等の官能基が導入さ
れたもの、等が挙げられる。
u2on(特殊アクリレートA) (2) (CO3−CHCOOCH) 、 −CCH2
CH3(特殊アクリレートB) (3) (C% =CHC0−+oc H)n −0C
HJ) 3 CCHJ CH3(n峙3) (
特殊アクリレートC)(特殊アクリレートD) (特殊アクリレートE) (特殊アクリレートF) (特殊アクリレートG) (8)CH2=CHCOO−(CH,CH,0)4−C
OCH=CH2(特殊アクリレートH) (特殊アクリレートI) (特殊アクリレートJ) Aニアクリル酸、X:多価アルコール、Y:多塩基酸、
(特殊アクリレートK)又、放射線硬化型オリゴマ
ーとしては、下記一般式で示される多官能オリゴエステ
ルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性
体あるいはこれらのものにC0OH等の官能基が導入さ
れたもの、等が挙げられる。
これらのモノマー、オリゴマー、ポリマーの少なくとも
1種の有機バインダーを用いることにより、トップコー
ト層が補強され、塗膜の破断強度が上がり、塗膜の強化
が為され、トップコート削れが少なく、かつ高温多湿下
での走行性が安定となる。そこでドロップアウトの少な
い、ヘッド付着、トップコート削れが少なく、摩擦の変
化も安定した磁気記録媒体が得られる。又、放射線硬化
型バインダーを用いると、トップコート層の製造上、連
続処理が可能であり、オ゛ンラインで処理できるので、
省エネルギー、コストの低減に役立つ。
1種の有機バインダーを用いることにより、トップコー
ト層が補強され、塗膜の破断強度が上がり、塗膜の強化
が為され、トップコート削れが少なく、かつ高温多湿下
での走行性が安定となる。そこでドロップアウトの少な
い、ヘッド付着、トップコート削れが少なく、摩擦の変
化も安定した磁気記録媒体が得られる。又、放射線硬化
型バインダーを用いると、トップコート層の製造上、連
続処理が可能であり、オ゛ンラインで処理できるので、
省エネルギー、コストの低減に役立つ。
トップコート層中に、上記微粒子顔料は15゜000〜
1,000,000個/ 100’fi−2含有され、
好ましくは20,000〜800,0.00個/100
P2である。酸化防止剤はトップコー゛ト膜厚450A
迄電特許容範囲であるため、5〜450Aになる程度酸
化防止剤を塗布する。酸化防止剤が存在すると、磁気記
録層への接着性が強゛まり、削れ、目づまり、レベルダ
ウン、ドロップアウトが抑えられ、特に強磁性薄膜の場
合、錆止め効果が強まり、腐食が起こり難く、膜のダメ
ージが少なく、電磁変換特性において好ましくなる。
1,000,000個/ 100’fi−2含有され、
好ましくは20,000〜800,0.00個/100
P2である。酸化防止剤はトップコー゛ト膜厚450A
迄電特許容範囲であるため、5〜450Aになる程度酸
化防止剤を塗布する。酸化防止剤が存在すると、磁気記
録層への接着性が強゛まり、削れ、目づまり、レベルダ
ウン、ドロップアウトが抑えられ、特に強磁性薄膜の場
合、錆止め効果が強まり、腐食が起こり難く、膜のダメ
ージが少なく、電磁変換特性において好ましくなる。
上記モノマー、オリゴマー、ポリマーの有機バインダー
:酸化防止剤=o:io’o〜90:10、好ましくは
O:100〜70:30 (重量)、潤滑剤は有機バイ
ンダー十酸化防止剤100重量部に対し0.5〜300
重量部である。
:酸化防止剤=o:io’o〜90:10、好ましくは
O:100〜70:30 (重量)、潤滑剤は有機バイ
ンダー十酸化防止剤100重量部に対し0.5〜300
重量部である。
本発明において有機バインダーが存在すると、酸化防止
剤の磁性層への均一な吸着力が得られ、削れ、目づまり
、レベルダウン、ドロップアウトが生じ難くなる。
剤の磁性層への均一な吸着力が得られ、削れ、目づまり
、レベルダウン、ドロップアウトが生じ難くなる。
又トップコート層に更に入れることのできるカーボンブ
ラックの配合割合はカーボン/微粒子顔料工1/9〜8
/2.好ましくは1/9〜515である6 トップコート層の厚みとしては5〜800Aが好ましい
。あまり厚すぎると電磁の低下を生じたり、ケズレを生
じる。又、あまり薄すぎると目づまりが発生する。強磁
性薄膜の場合は450八以下が好ましい。トップコート
なしの強磁性薄膜の表面粗度は100A以下が好ましい
ため、この上にトップコート層を形成する場合、あまり
厚すぎるとケズレを生じることが判った。あまり少なす
ぎるとトップコート層の吸着が弱すぎ、目づまりを発生
することが予想される。このようなことは本発明ではじ
めて判明したものである。特に好ましい範囲としては5
〜450八であり、中でも10〜300Aが更に好まし
い。
ラックの配合割合はカーボン/微粒子顔料工1/9〜8
/2.好ましくは1/9〜515である6 トップコート層の厚みとしては5〜800Aが好ましい
。あまり厚すぎると電磁の低下を生じたり、ケズレを生
じる。又、あまり薄すぎると目づまりが発生する。強磁
性薄膜の場合は450八以下が好ましい。トップコート
なしの強磁性薄膜の表面粗度は100A以下が好ましい
ため、この上にトップコート層を形成する場合、あまり
厚すぎるとケズレを生じることが判った。あまり少なす
ぎるとトップコート層の吸着が弱すぎ、目づまりを発生
することが予想される。このようなことは本発明ではじ
めて判明したものである。特に好ましい範囲としては5
〜450八であり、中でも10〜300Aが更に好まし
い。
一方、本発明の磁性層は、強磁性微粒子およびバインダ
ーを含む塗膜からなる塗布型および強磁性金属薄膜より
なる金属薄膜型のいずれも適用でき、強磁性物質として
は? −Fe203、Fe3O4、CQドープシーF
e203 、Coドープ7F 82 o3−Fe304
固溶体、CO系化合物被覆型?’Fe2O3、CO系系
化合物被覆型−Fe304 (?r F e2 o3
との中間酸化状態も含む、ここでいうCo系化合物とは
、酸化コバルト、水酸化コバルト、コバルトフェライト
、コバルトイオン吸着物等、コバルトの磁気異方性を保
磁力向上に活用する場合を示す)、あるいは鉄、コバル
ト、ニッケルその他の強磁性金属あるいはFe−Co、
Fe−Ni、Go−Ni、Fe−Rh、Fe−Cu、F
e−Au%Co−Cu%C。
ーを含む塗膜からなる塗布型および強磁性金属薄膜より
なる金属薄膜型のいずれも適用でき、強磁性物質として
は? −Fe203、Fe3O4、CQドープシーF
e203 、Coドープ7F 82 o3−Fe304
固溶体、CO系化合物被覆型?’Fe2O3、CO系系
化合物被覆型−Fe304 (?r F e2 o3
との中間酸化状態も含む、ここでいうCo系化合物とは
、酸化コバルト、水酸化コバルト、コバルトフェライト
、コバルトイオン吸着物等、コバルトの磁気異方性を保
磁力向上に活用する場合を示す)、あるいは鉄、コバル
ト、ニッケルその他の強磁性金属あるいはFe−Co、
Fe−Ni、Go−Ni、Fe−Rh、Fe−Cu、F
e−Au%Co−Cu%C。
−Au、Co−Y、Co−La、Co−Pr、Co−G
d、Go−3m、Go−Pt、Nj −Cu。
d、Go−3m、Go−Pt、Nj −Cu。
Fe−Go−Nd、Mn−B i% Mn−8b、M
n−A1.Fe−Co−Cr% Go−Ni−Crのよ
うな磁性合金、更にBaフェライト、Srフェライトの
ようなフェライト系磁性体を挙げることができる。
n−A1.Fe−Co−Cr% Go−Ni−Crのよ
うな磁性合金、更にBaフェライト、Srフェライトの
ようなフェライト系磁性体を挙げることができる。
従来、強磁性粉末としては例えば?−Fe203、CO
含有?−F e203 、F e304 、 G。
含有?−F e203 、F e304 、 G。
含有Fe304 、CrO2等がよく使用されていたが
、これら強磁性粉末の保磁力および最大残留磁束密度等
の磁気特性は高感度高密度記録用としては不十分であり
、約1とm以下の記録波長の短い信号や、トラック巾の
狭い磁気記録にはあまり適していない。
、これら強磁性粉末の保磁力および最大残留磁束密度等
の磁気特性は高感度高密度記録用としては不十分であり
、約1とm以下の記録波長の短い信号や、トラック巾の
狭い磁気記録にはあまり適していない。
磁気記録媒体に対する要求が厳しくなるにっ九で、高密
度記録に適する特性を備えた強磁性粉末が開発され、ま
た提案されている。このような磁性粉末はFe、Co、
Fa−Go、Fa−Go−Ni、Co−Ni等の金属ま
、たは合金、これらとA1.Cr、Si等との合金など
がある。かかる合金粉末を用いた磁気記録層は高密度記
録の目的には高い保磁力と高い残留磁束密度とを有する
必要があり、上記磁性粉末がこれらの基準に合致するよ
うに種々の製造方法或いは合金組成を選択するのが好ま
しい。
度記録に適する特性を備えた強磁性粉末が開発され、ま
た提案されている。このような磁性粉末はFe、Co、
Fa−Go、Fa−Go−Ni、Co−Ni等の金属ま
、たは合金、これらとA1.Cr、Si等との合金など
がある。かかる合金粉末を用いた磁気記録層は高密度記
録の目的には高い保磁力と高い残留磁束密度とを有する
必要があり、上記磁性粉末がこれらの基準に合致するよ
うに種々の製造方法或いは合金組成を選択するのが好ま
しい。
合金磁性粉末については、本発明者等が種々の合金粉末
を用いて磁気記録媒体を製作したところ、BET法によ
る比表面積が48m2/g以上で、磁性層の保磁力が1
0000e以上で、しかも磁性層の表面粗度〔後述のタ
リステップによる測定においてカットオフ0.47mm
でR20(20回平均値)のこと−以下同じ〕が0.0
8−以下のときに、ノイズレベルが充分に低く、高密度
、短波長の記録に適する磁気記録媒体が得ら九ることを
見出しているが、このような磁性層と本発明のトップコ
ート層とを組合せた場合には、シンチング現象(急速停
止時の巻きゆるみ)、ドロップアウト、摩擦の減少とい
う効果が生じ、更に磁気テープのベースであるポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ
イミド、ポリアミド等のプラスチックフィルムが約11
pm程度以下という薄いものが用いられる傾向から、
テープを巻装したときの巻締りが益々大きくなり、バッ
クコートがある場合にはバックコート面の粗さが磁性面
へ転写して出力低下の原因となってくるが、上記磁気記
録層及びトップコート層の組合せでは、このような問題
点も改善され好ましい。なお、強磁性物質として強磁性
金属を主成分とするものは、塗膜の電気抵抗が高くドロ
ップアウトを発生し易いので帯電対策が必要であるが、
本発明のトップコート層との組合せにより、そのような
問題も解決され得、極めて好都合である。このような磁
性粉を使用する方が好ましい。
を用いて磁気記録媒体を製作したところ、BET法によ
る比表面積が48m2/g以上で、磁性層の保磁力が1
0000e以上で、しかも磁性層の表面粗度〔後述のタ
リステップによる測定においてカットオフ0.47mm
でR20(20回平均値)のこと−以下同じ〕が0.0
8−以下のときに、ノイズレベルが充分に低く、高密度
、短波長の記録に適する磁気記録媒体が得ら九ることを
見出しているが、このような磁性層と本発明のトップコ
ート層とを組合せた場合には、シンチング現象(急速停
止時の巻きゆるみ)、ドロップアウト、摩擦の減少とい
う効果が生じ、更に磁気テープのベースであるポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ
イミド、ポリアミド等のプラスチックフィルムが約11
pm程度以下という薄いものが用いられる傾向から、
テープを巻装したときの巻締りが益々大きくなり、バッ
クコートがある場合にはバックコート面の粗さが磁性面
へ転写して出力低下の原因となってくるが、上記磁気記
録層及びトップコート層の組合せでは、このような問題
点も改善され好ましい。なお、強磁性物質として強磁性
金属を主成分とするものは、塗膜の電気抵抗が高くドロ
ップアウトを発生し易いので帯電対策が必要であるが、
本発明のトップコート層との組合せにより、そのような
問題も解決され得、極めて好都合である。このような磁
性粉を使用する方が好ましい。
上記磁気記録層における保磁力の好ましい範囲は100
0〜20000eであり、これ以上の範囲では記録時に
磁気ヘッドが飽和し、また消磁が困難になる。磁性粉の
比表面積は大きい程S/N比を改善する傾向があるが、
あまり比表面積が大きいと磁性粉へのバインダー中への
分散が悪くなリ、また効果が飽和する傾向を有すること
が分った。一方、磁気記録層における表面粗度は記録感
度に影響を与゛え、その表面、粗度が小さいと短波長の
記録感度が上昇する。上記の特性を満足させ得る強磁性
合金としてはC01Fe−Go、Fe−Go−Ni、G
o−Niなど、またこれにCr。
0〜20000eであり、これ以上の範囲では記録時に
磁気ヘッドが飽和し、また消磁が困難になる。磁性粉の
比表面積は大きい程S/N比を改善する傾向があるが、
あまり比表面積が大きいと磁性粉へのバインダー中への
分散が悪くなリ、また効果が飽和する傾向を有すること
が分った。一方、磁気記録層における表面粗度は記録感
度に影響を与゛え、その表面、粗度が小さいと短波長の
記録感度が上昇する。上記の特性を満足させ得る強磁性
合金としてはC01Fe−Go、Fe−Go−Ni、G
o−Niなど、またこれにCr。
A1.Si等を添加した微粉末が用いられる。これらは
金属塩をBH4等の還元剤で湿時還元した微粉末、酸化
鉄表面をSt化合物で被覆した後、H2ガス中で乾式還
元した微粉末、或いは合金を低圧アルゴン中で蒸発させ
た微粉末などで、軸比1:5〜1:10を有し、残留磁
束密度Br=2000〜3000ガウスのもので、且つ
上記保磁力及び比表面積の条件を満たすものである。
金属塩をBH4等の還元剤で湿時還元した微粉末、酸化
鉄表面をSt化合物で被覆した後、H2ガス中で乾式還
元した微粉末、或いは合金を低圧アルゴン中で蒸発させ
た微粉末などで、軸比1:5〜1:10を有し、残留磁
束密度Br=2000〜3000ガウスのもので、且つ
上記保磁力及び比表面積の条件を満たすものである。
合金磁性粉は各種バインダーを用いて磁性塗料とするこ
とができるが、一般には熱硬化性樹脂系バインダー及び
放射線硬化系バインダーが好適であり、その他添加剤と
して分散剤、潤滑剤、帯電防止剤を常法に従って用いる
ことができる。BET比表面積が48m2/g以上の磁
性粉を用いる面活性剤や有機チタンカップリング剤、シ
ランカップリング剤などを用いると良い。バインダーと
しては塩化ビニルφ酢酸ビニル・ビニルアルコール共重
合体、ポリウレタンプレポリマー及びポリイソシアネー
トより成るバインダー、或いはこれに更にニトロセルロ
ースを加えたバインダー、その他公知の熱硬化性バイン
ダー、或いはイオン化エネルギーに感応するアクリル系
二重結合やマレイン系二重結合などを樹脂の基として含
有する放射線硬化型バインダーなどが使用できる。
とができるが、一般には熱硬化性樹脂系バインダー及び
放射線硬化系バインダーが好適であり、その他添加剤と
して分散剤、潤滑剤、帯電防止剤を常法に従って用いる
ことができる。BET比表面積が48m2/g以上の磁
性粉を用いる面活性剤や有機チタンカップリング剤、シ
ランカップリング剤などを用いると良い。バインダーと
しては塩化ビニルφ酢酸ビニル・ビニルアルコール共重
合体、ポリウレタンプレポリマー及びポリイソシアネー
トより成るバインダー、或いはこれに更にニトロセルロ
ースを加えたバインダー、その他公知の熱硬化性バイン
ダー、或いはイオン化エネルギーに感応するアクリル系
二重結合やマレイン系二重結合などを樹脂の基として含
有する放射線硬化型バインダーなどが使用できる。
通常の方法に従って、合金磁性粉末をバインダー及び所
定の溶剤並びに各種添加剤と混合して磁性塗料とし、こ
れをポリエステルベース等の基体に塗布し、熱硬化また
は放射線硬化して磁性膜を形成し、そしてさらにカレン
ダー加工を行なう。
定の溶剤並びに各種添加剤と混合して磁性塗料とし、こ
れをポリエステルベース等の基体に塗布し、熱硬化また
は放射線硬化して磁性膜を形成し、そしてさらにカレン
ダー加工を行なう。
なお放射線硬化型のバインダーを用いる場合には、製造
上、連続硬化が可能であり、上記の裏型転写がないので
ドロップアウトが防止でき、さ、らに好ましい。その上
、放射線硬化はオンライン上で処理できるので省エネル
ギ一対策、製造時の人員の減少にも役立ち、コストの低
減につながる。
上、連続硬化が可能であり、上記の裏型転写がないので
ドロップアウトが防止でき、さ、らに好ましい。その上
、放射線硬化はオンライン上で処理できるので省エネル
ギ一対策、製造時の人員の減少にも役立ち、コストの低
減につながる。
特性面では熱硬化時の巻きしまりによるドロップアウト
の外に、ロール状に巻かれたときの内外径の個所の圧力
のちがいにより磁気テープの長さ方向の距離による出力
差が生じることもなくなる。
の外に、ロール状に巻かれたときの内外径の個所の圧力
のちがいにより磁気テープの長さ方向の距離による出力
差が生じることもなくなる。
ベース厚がLIPm以下と薄くなり、また金属磁性粉の
硬度がγ−Fe2O3などの磁性酸化物よりも小さいた
めに磁性層の表面硬度が小さく巻きしまりの影響を受は
易くなるが、放射線硬化型のバックコート層ではこの影
響を取除くことができ、内外径での出力差やドロップア
ウトの差を除くことができるため特に好ましい。
硬度がγ−Fe2O3などの磁性酸化物よりも小さいた
めに磁性層の表面硬度が小さく巻きしまりの影響を受は
易くなるが、放射線硬化型のバックコート層ではこの影
響を取除くことができ、内外径での出力差やドロップア
ウトの差を除くことができるため特に好ましい。
本発明の強磁性薄膜に用いられる強磁性金属あるいは強
磁性合金としては、鉄、コバルト、ニラ。
磁性合金としては、鉄、コバルト、ニラ。
ケルその他の強磁性金属あるいはF e −Co、Fe
−N15Co−Ni、Fa−Rh、Fe−Cu。
−N15Co−Ni、Fa−Rh、Fe−Cu。
Fe−Au、Co−Cu、Co−Au、Go−Y、Go
−La、Co−Pr、Go−Gd、Co−8m、Co−
Pt、Ni −Cu%Fe−Co−Nd。
−La、Co−Pr、Go−Gd、Co−8m、Co−
Pt、Ni −Cu%Fe−Co−Nd。
Mn−B i、Mn−8b、Mn−A1. Fe−C
o−Cr、Go”−N 1−Crのような磁性合金を挙
げることができる。
o−Cr、Go”−N 1−Crのような磁性合金を挙
げることができる。
強磁性薄膜は非磁性基材、即ちポリエステルフィルム、
ポリアミドフィルム等のプラスチックフィルム、アルミ
板、ステンレス板等の金属板、ガラス板のような無機質
の板等の公知の基材の上に直接あるいは非磁性薄膜層を
介して、上記金属又は合金を真空蒸着、スパッタリング
、イオンブレーティング、メッキその他の方法で形成さ
れ得る。
ポリアミドフィルム等のプラスチックフィルム、アルミ
板、ステンレス板等の金属板、ガラス板のような無機質
の板等の公知の基材の上に直接あるいは非磁性薄膜層を
介して、上記金属又は合金を真空蒸着、スパッタリング
、イオンブレーティング、メッキその他の方法で形成さ
れ得る。
本発明の強磁性薄膜は前記どのような方法によって製造
されたものでも勿論用いることができるが、前記特公昭
57−29769号公報実施例5に記載のような真空度
5.0X10=Torrの真空中で、その幅方向が蒸発
源に対して50’傾斜して蒸着するもの(1)よりも、
現在一般に行なわれているところの、蒸着方向が長手方
向に傾斜(90°〜30°)61幅方向には傾斜してい
ないもので、雰囲気として、02又は02とArを導入
しながら、〜I X 10=To r rで蒸着したも
の(2)が好ましく用いられる。
されたものでも勿論用いることができるが、前記特公昭
57−29769号公報実施例5に記載のような真空度
5.0X10=Torrの真空中で、その幅方向が蒸発
源に対して50’傾斜して蒸着するもの(1)よりも、
現在一般に行なわれているところの、蒸着方向が長手方
向に傾斜(90°〜30°)61幅方向には傾斜してい
ないもので、雰囲気として、02又は02とArを導入
しながら、〜I X 10=To r rで蒸着したも
の(2)が好ましく用いられる。
前記の(1)の方法で製造された蒸着膜は全面金属状態
(空気中に取り出した後に自然酸化された表面を除けば
)であるのに対して、(2)の方法の微量の酸素ガスの
存在する真空中で金属又は合金を蒸着するものでは磁性
金属は酸素を含有し、その酸素は金属と固溶せず、酸化
物の状態で存在する。そしてここの酸化物の存在が磁気
記録媒体にとっては好ましく、特にベースとの界面及び
ベースと反対側の表面に酸化物が多く存在する場合、に
、本発明において良好な特性が得られることが判明した
。
(空気中に取り出した後に自然酸化された表面を除けば
)であるのに対して、(2)の方法の微量の酸素ガスの
存在する真空中で金属又は合金を蒸着するものでは磁性
金属は酸素を含有し、その酸素は金属と固溶せず、酸化
物の状態で存在する。そしてここの酸化物の存在が磁気
記録媒体にとっては好ましく、特にベースとの界面及び
ベースと反対側の表面に酸化物が多く存在する場合、に
、本発明において良好な特性が得られることが判明した
。
又、強磁性金属薄膜への酸素導入法としては前記の酸素
の存在下での蒸着のほかに、酸素の存在しない真空莢着
での蒸着膜を、例えば90℃、2′0%RH等の雰囲気
中で強制酸化し、そのベースと反対側の表面を酸化物の
みとすることもできる。
の存在下での蒸着のほかに、酸素の存在しない真空莢着
での蒸着膜を、例えば90℃、2′0%RH等の雰囲気
中で強制酸化し、そのベースと反対側の表面を酸化物の
みとすることもできる。
酸素を含有する強磁性薄膜の酸素の含有量は(0/磁性
金属)xiooで3〜60%である。
金属)xiooで3〜60%である。
磁気記録層表面に微粒子顔料、モノマー、オリゴマー、
ポリマーの少なくとも1種、酸化防止剤。
ポリマーの少なくとも1種、酸化防止剤。
潤滑剤等を含むトップコート層を設ける方法としては、
前記添加剤を溶剤で希釈して磁性層表面上に薄く塗布し
たり、該添加剤を大気量、不活性ガス中、あるいは真空
中で気化せしめてその蒸気を磁性層表面に当てるなどの
手段があり、これらを適用することができる。
前記添加剤を溶剤で希釈して磁性層表面上に薄く塗布し
たり、該添加剤を大気量、不活性ガス中、あるいは真空
中で気化せしめてその蒸気を磁性層表面に当てるなどの
手段があり、これらを適用することができる。
また本発明の磁性層及びトップコート層に放射線硬化型
添加剤を用いる場合、その架橋に使用する活性エネルギ
ー線としては、放射線加速器を線源とした電子線、Co
60を線源とした1−線、5r90を線源としたβ−線
、X線発生器を線源としたX線あるいは紫外線等が使用
される。
添加剤を用いる場合、その架橋に使用する活性エネルギ
ー線としては、放射線加速器を線源とした電子線、Co
60を線源とした1−線、5r90を線源としたβ−線
、X線発生器を線源としたX線あるいは紫外線等が使用
される。
特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。
本発明においてバックコート層は必要ないが、バックコ
ート層があれば走行性が更に安定し、好ましい。バック
コート層は通常用いられる無機顔料、潤滑剤、有機バイ
ンダー等を含むものである。
ート層があれば走行性が更に安定し、好ましい。バック
コート層は通常用いられる無機顔料、潤滑剤、有機バイ
ンダー等を含むものである。
L臣す11ガ殖釆−
以上記載のとおり、本発明にあっては磁気記録層上の微
粒子顔料を含有したトップコート層の表面粗度がR20
m 400八未満とすることにより、トップコート層を
設けることにより奏せられる防錆性、耐腐食性、耐久性
、走行安定性がすぐれていることに加えて、摩擦が低く
、削れの少ないという効果が奏せられる。そして酸化防
止剤により磁性層に対する吸着力を増し、さらに前記モ
ノマー、オリゴマー、ポリマーにより該吸着力を均一と
なし、微少なむらから生ずる削れも少く1強固なトップ
コート層が形成され、膜のダメージがなく、・高温多湿
下での走行性が安定となり、トップコート削れが少なく
、摩擦の変化も安定する等のすぐ゛れた効果が奏せられ
るものである。
粒子顔料を含有したトップコート層の表面粗度がR20
m 400八未満とすることにより、トップコート層を
設けることにより奏せられる防錆性、耐腐食性、耐久性
、走行安定性がすぐれていることに加えて、摩擦が低く
、削れの少ないという効果が奏せられる。そして酸化防
止剤により磁性層に対する吸着力を増し、さらに前記モ
ノマー、オリゴマー、ポリマーにより該吸着力を均一と
なし、微少なむらから生ずる削れも少く1強固なトップ
コート層が形成され、膜のダメージがなく、・高温多湿
下での走行性が安定となり、トップコート削れが少なく
、摩擦の変化も安定する等のすぐ゛れた効果が奏せられ
るものである。
Ωmへ程肛分互
本発明の磁気記録媒体は、オーディオテープ、ビデオテ
ープ、コンピューター用テープ、エンドレステープ、磁
気ディスク、磁気カメラ等とじて利用でき、中でもドロ
ップアウトが最も重要な特性の1つであるビデオテープ
、コンピューター用テープ、ビデオフロッピーとして用
いることができ非常に有用である。
ープ、コンピューター用テープ、エンドレステープ、磁
気ディスク、磁気カメラ等とじて利用でき、中でもドロ
ップアウトが最も重要な特性の1つであるビデオテープ
、コンピューター用テープ、ビデオフロッピーとして用
いることができ非常に有用である。
近年、特に技術進歩が著しく、シかも市場性の拡大して
いるビデオカセットテープ、ビデオテープ接触転写プリ
ント用マスターテープ、市場の拡大が予想される8ミリ
ビデオカセツトテープ、ビデオフロッピー等には本発明
の、微粒子顔料を含有するトップコート層の表面粗度を
R20= 400A未満とし、更にそれに酸化防止剤、
潤滑剤、有機バインダーを含有するトップコートを設け
た磁気記録層を用いることにより、極めて良好な電磁変
換特性と物性信頼性を有する高性能テープを得ることが
でき、本発明の磁気記録層上は有用性の大きいすぐれた
ものであるということができる。
いるビデオカセットテープ、ビデオテープ接触転写プリ
ント用マスターテープ、市場の拡大が予想される8ミリ
ビデオカセツトテープ、ビデオフロッピー等には本発明
の、微粒子顔料を含有するトップコート層の表面粗度を
R20= 400A未満とし、更にそれに酸化防止剤、
潤滑剤、有機バインダーを含有するトップコートを設け
た磁気記録層を用いることにより、極めて良好な電磁変
換特性と物性信頼性を有する高性能テープを得ることが
でき、本発明の磁気記録層上は有用性の大きいすぐれた
ものであるということができる。
(八 日の ・
以下に本発明の実施例を示す。なお、本発明がこの実施
例に限定されるものでないことは理解されるべきである
。
例に限定されるものでないことは理解されるべきである
。
実施例
(1)璽並崖豊崖戒
1 ヒ型 重量部コバルト被覆
針状ン−Fe203 120部(長軸0.4P、単軸
0.05P、 He 6000 e )カーボンブラッ
ク 5部(帯電防止用三菱カーボ
ンブラックM A −600)払−A1203粉末(0
,5,−粉状) 2部分散剤(大豆油精製レシチ
ン) 3部溶剤(MEK/トルエン5015
0) 100部上記組成物をボールミル中にて3
時間混合し、針状磁性酸化鉄を分散剤により良く湿潤さ
せる。
針状ン−Fe203 120部(長軸0.4P、単軸
0.05P、 He 6000 e )カーボンブラッ
ク 5部(帯電防止用三菱カーボ
ンブラックM A −600)払−A1203粉末(0
,5,−粉状) 2部分散剤(大豆油精製レシチ
ン) 3部溶剤(MEK/トルエン5015
0) 100部上記組成物をボールミル中にて3
時間混合し、針状磁性酸化鉄を分散剤により良く湿潤さ
せる。
次に
アクリル二重結合導入飽和ポリエステル樹脂10部(固
型分換算) アクリル二重結合導入塩酢ビ共重合体 10部(固型分換算) アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー io部(固型分換算)溶剤(MEK/
トルx、ン50150) 200部潤滑剤(高級脂
肪酸変性シリコンオイル)3部のバインダーの混合物を
良く混合溶解させる。これを先の磁性粉処理を行なった
ボールミル中に投入し再び42時間混合分散させる。
型分換算) アクリル二重結合導入塩酢ビ共重合体 10部(固型分換算) アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー io部(固型分換算)溶剤(MEK/
トルx、ン50150) 200部潤滑剤(高級脂
肪酸変性シリコンオイル)3部のバインダーの混合物を
良く混合溶解させる。これを先の磁性粉処理を行なった
ボールミル中に投入し再び42時間混合分散させる。
この様にして得られた磁性塗料を15)−のポリエステ
ルフィルム上に塗布し、永久磁石(16゜Oガウス)上
で配向させ、赤外線ランプ又は熱風により溶剤を乾燥さ
せた5後1表面平滑化処理後、ESI社製エレク゛トロ
カーテンタイプ電子線加速装置を使用して、加速電圧1
50KeV、電極電流20mA、全照射量5Mr a
dの条件下でN2雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を
硬化させた。
ルフィルム上に塗布し、永久磁石(16゜Oガウス)上
で配向させ、赤外線ランプ又は熱風により溶剤を乾燥さ
せた5後1表面平滑化処理後、ESI社製エレク゛トロ
カーテンタイプ電子線加速装置を使用して、加速電圧1
50KeV、電極電流20mA、全照射量5Mr a
dの条件下でN2雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を
硬化させた。
員ユ夏主 重量部Fe−
Go−Ni合金粉末 io。
Go−Ni合金粉末 io。
(Hc=12000a、長軸0.4.wm、短軸0゜0
5、−m、BET比表面積52m2/g)塩化ビニル・
酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体(米国UCC社
製VAGH) 15ポリビニルブチラール樹
脂 1゜アクリル二重結合導入ウレタン
エ゛0メチルエチルケトン/トルエン(5
0150) 250をポリエステルフィルムに3.
5Fの厚さに塗布し、電子線硬化とカレンダー加工を行
った。
5、−m、BET比表面積52m2/g)塩化ビニル・
酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体(米国UCC社
製VAGH) 15ポリビニルブチラール樹
脂 1゜アクリル二重結合導入ウレタン
エ゛0メチルエチルケトン/トルエン(5
0150) 250をポリエステルフィルムに3.
5Fの厚さに塗布し、電子線硬化とカレンダー加工を行
った。
3 、 1
厚さ12.xmのポリエステルフィルムを円筒状冷却キ
ャンの局面に沿わせて移動させ、02+Ar(容積比1
:1)・を毎分800ccの速さで流し真空度を1,0
XIO””Torrとしたチャンバー内で、Co80、
N i 20よりなる合金を溶融し、入射角90°〜3
0°の部分のみ斜め蒸着し膜厚0.15PmのGo−N
i−0薄膜を形成した。酸素はベースとの界面およびベ
ースと反対側の表面に多く偏在していた。またベースと
反対側の表面はほぼ酸化物のみで覆われていた。He=
10000e、膜中の平均酸素量はCOとNi’に対す
る原子比(0/CoN i ) X 100で40%で
あった。
ャンの局面に沿わせて移動させ、02+Ar(容積比1
:1)・を毎分800ccの速さで流し真空度を1,0
XIO””Torrとしたチャンバー内で、Co80、
N i 20よりなる合金を溶融し、入射角90°〜3
0°の部分のみ斜め蒸着し膜厚0.15PmのGo−N
i−0薄膜を形成した。酸素はベースとの界面およびベ
ースと反対側の表面に多く偏在していた。またベースと
反対側の表面はほぼ酸化物のみで覆われていた。He=
10000e、膜中の平均酸素量はCOとNi’に対す
る原子比(0/CoN i ) X 100で40%で
あった。
厚さ・12Pmのポリエステルフィルムを円筒状冷却キ
ャンの局面に沿わせて移動させ、真空度を5.0XIO
””Torrとしたチャンバー内で、強Ju1薄1」−
の場合と同様に蒸着した。膜厚は0. 。
ャンの局面に沿わせて移動させ、真空度を5.0XIO
””Torrとしたチャンバー内で、強Ju1薄1」−
の場合と同様に蒸着した。膜厚は0. 。
15Pmで実質的にGo−Niより成る。
このテープを90℃、20%RH雰囲気中で強制酸化し
、そのベースと反対側の表面を酸化物のみとした。Hc
=9000e。膜中の平均酸素量はCoとNiに対する
原子比で45%であった。
、そのベースと反対側の表面を酸化物のみとした。Hc
=9000e。膜中の平均酸素量はCoとNiに対する
原子比で45%であった。
酸素による酸化工程を省略した以外はMJL!jJ!L
紅と同様に厚さ12 % mのポリエステルフィルムを
円筒状冷却キャンの周面に沿わせて移動させ、真空度を
5.0X10−’Torrとしたチャンバー内で、
1の場合と同様に蒸着した。膜厚は0.15P
mで実質的にGo−Niよりなるものであった。Hc=
9500e。
紅と同様に厚さ12 % mのポリエステルフィルムを
円筒状冷却キャンの周面に沿わせて移動させ、真空度を
5.0X10−’Torrとしたチャンバー内で、
1の場合と同様に蒸着した。膜厚は0.15P
mで実質的にGo−Niよりなるものであった。Hc=
9500e。
(2)トップコート層の形成
Oトップツー8組成
ト・プコート 1 重量部ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート 0.5にコロイダル5
i02 粒径150A 0.001フッ素変性ス
テアリン酸シリコーン 0.4NMEK
100ト・プコート組 2
重量部ステアリル(2)ヒドロキシ
アクリレートホスフェート(モノ、ジの混合物)
1■の製法のコロイダルTiO210
0A 0.04ステアリン酸アクリレート
0.5ミリスチルミリスチレート 0
. 1MEK/トルエン(1/1) 10
0トツプコート 3 ヒドロキシエチルメタクリレートホスフェートlCr2
03(■の製法、180A) 0.001ミリス
チン酸 0・2トルエン
100トツプコート 4
重量部ジメチルアミノエチルメ
タクリレート 1.5コロイダJL/ S i O2
(Oト同様の製法)100A 0.01フ工ノキシ変性
体1分子量30,000 0.2アクリル変性ポ
リウレタン工ラストマー分子量4.Goo 0
.1 多官能アクリレート、分子量500 0.1ステ
アリン酸アクリレート IMEK/
トルエン(1/1) 100ト・・プ
コート 5 重量部モノグリコー
ルサリチレートアクリレート265S i 02 (■
の気相法) 100A 0.002ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート(分子量352)
0.6N−ビニルピロリドン(分子量111)
0.3MEK/ トルエン(1/1)
1001 ° 1−トップコート 1 ジメチルアミノエチルメタクリレートとフッ素変性ステ
アリン酸シリコーンを0.5に: 0.4にとしてラッ
カー濃度を調整し、600Aのトップコート膜厚とした
。そして表面粗度を塗布方法で調整し、10〜600A
迄のものを作成した。
ルアミノエチルメタクリレート 0.5にコロイダル5
i02 粒径150A 0.001フッ素変性ス
テアリン酸シリコーン 0.4NMEK
100ト・プコート組 2
重量部ステアリル(2)ヒドロキシ
アクリレートホスフェート(モノ、ジの混合物)
1■の製法のコロイダルTiO210
0A 0.04ステアリン酸アクリレート
0.5ミリスチルミリスチレート 0
. 1MEK/トルエン(1/1) 10
0トツプコート 3 ヒドロキシエチルメタクリレートホスフェートlCr2
03(■の製法、180A) 0.001ミリス
チン酸 0・2トルエン
100トツプコート 4
重量部ジメチルアミノエチルメ
タクリレート 1.5コロイダJL/ S i O2
(Oト同様の製法)100A 0.01フ工ノキシ変性
体1分子量30,000 0.2アクリル変性ポ
リウレタン工ラストマー分子量4.Goo 0
.1 多官能アクリレート、分子量500 0.1ステ
アリン酸アクリレート IMEK/
トルエン(1/1) 100ト・・プ
コート 5 重量部モノグリコー
ルサリチレートアクリレート265S i 02 (■
の気相法) 100A 0.002ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート(分子量352)
0.6N−ビニルピロリドン(分子量111)
0.3MEK/ トルエン(1/1)
1001 ° 1−トップコート 1 ジメチルアミノエチルメタクリレートとフッ素変性ステ
アリン酸シリコーンを0.5に: 0.4にとしてラッ
カー濃度を調整し、600Aのトップコート膜厚とした
。そして表面粗度を塗布方法で調整し、10〜600A
迄のものを作成した。
各表面粗度と特性との関係を第1表に示す。なお、顔料
なしの比較例(比1)についても併せて第1表に示す。
なしの比較例(比1)についても併せて第1表に示す。
第1表から次のことが言える。
1.5i02入りのトップコートは5i02がトップコ
ート層中に20万個/ 100’/−2含有されており
、ヘッド付着、目づまり、出力変動、トップコート削れ
11面荒れ、ドロップアウト、−擦が良好である。
ート層中に20万個/ 100’/−2含有されており
、ヘッド付着、目づまり、出力変動、トップコート削れ
11面荒れ、ドロップアウト、−擦が良好である。
2、R20=20A以下だと表面粗度が良好のため摩擦
が高くなり、ヘッドへのクリーニング効果が充分となら
ず、へ′ツド付着、目づまり、出力変動。
が高くなり、ヘッドへのクリーニング効果が充分となら
ず、へ′ツド付着、目づまり、出力変動。
トップコート削れ、面荒れ、ドロップアウトが増加する
。
。
3、R20=400A以上となると1表面粗度が悪くな
るため、トップコート削れを生じ、ヘッド付着、目づま
り、出力変動、ドロップアウトが大となる。
るため、トップコート削れを生じ、ヘッド付着、目づま
り、出力変動、ドロップアウトが大となる。
また、ヘッド付着、トップコート削れが大のため50回
後の摩擦が大となる。
後の摩擦が大となる。
4、このようにR20=20〜400A未満で良好なも
のとなり、さらに好ましいものは第1表より20〜20
0Aのものである。
のとなり、さらに好ましいものは第1表より20〜20
0Aのものである。
磁性層2.3について°も実施例1と同様の結果が得ら
れた。なお、磁性層2.3については電磁変換特性から
トップコート膜厚450A以下のものの方が好ましい。
れた。なお、磁性層2.3については電磁変換特性から
トップコート膜厚450A以下のものの方が好ましい。
また表面粗度も200A以下のものの方が好ましいこと
がわかった。
がわかった。
なお、磁性層1については7 F e 203タイプの
磁性粉のため、電磁変換特性からトップコート膜厚80
〇八以下が好ましく、さらに好ましいのは450A以下
で”あった。
磁性粉のため、電磁変換特性からトップコート膜厚80
〇八以下が好ましく、さらに好ましいのは450A以下
で”あった。
2 2−トップコート 2
上記組合せの実施例2と微粒子顔料なしの比較例2のも
のの特性を第2表に示す。
のの特性を第2表に示す。
第2表
第2表から微粒子顔料入りのものは各特性で良くなって
いること、微粒子顔料なしのものはヘッドへのクリーニ
ング作用がないため各特性で悪くなっており、50回後
の摩擦も悪いことがわかる。
いること、微粒子顔料なしのものはヘッドへのクリーニ
ング作用がないため各特性で悪くなっており、50回後
の摩擦も悪いことがわかる。
去1■[し−1−」−
第3表に各種磁性層とトップ層の組合せのものの特性を
示す。比較例3は実施例3のトップコート組成3におけ
る微粒子顔料を除いたもの(トップコート3′)である
。
示す。比較例3は実施例3のトップコート組成3におけ
る微粒子顔料を除いたもの(トップコート3′)である
。
第3表
第3表のとおり、本発明のものが良いことがわかる。バ
インダー入りのもの(実施例4.5)は40℃、80%
の高温走行で特にすぐれていることがわかる。
インダー入りのもの(実施例4.5)は40℃、80%
の高温走行で特にすぐれていることがわかる。
なお、本発明で用いるオリゴマー、ポリマーの分子量は
次のような測定方法による数平均分子量によっている。
次のような測定方法による数平均分子量によっている。
*GPCによる平均分子量測定
GPC(Gel Permeation Chro
matography)とは試料中の分子を移動°相中
のその大きさに基いて分離する方法で。
matography)とは試料中の分子を移動°相中
のその大きさに基いて分離する方法で。
分子ふるいの役をする多孔質ゲルをカラムに充填し液体
りdマドグラフィーを行なう方法である。
りdマドグラフィーを行なう方法である。
平均分子量を算出するには標準試料として分子量既知の
ポリスチレンを使いその溶出時間から検量線を作成する
。これよりポリスチレン換算の平均分子量を計算する。
ポリスチレンを使いその溶出時間から検量線を作成する
。これよりポリスチレン換算の平均分子量を計算する。
与えられた高分子量物質中に分子量Miである分子がN
i個あったとすると 数平均分子量M n = ΣN1M1 で表わせる
。
i個あったとすると 数平均分子量M n = ΣN1M1 で表わせる
。
ΣNi
又、上記特性の測定方法は以下のようである。
1、表面粗度
タリステップ(TAYLOR−HOBSON社製)を用
いて得たチャートから20点平均法で求めた。カットオ
フ0.17rnm、針圧0.IX2゜5Pを用いた。
いて得たチャートから20点平均法で求めた。カットオ
フ0.17rnm、針圧0.IX2゜5Pを用いた。
2、目づまり
VH8を改造し、目づまりの出やすい条件に設定し、各
温度、湿度で測定した。
温度、湿度で測定した。
3、ドロップアウト
VH8を改造し、ドロップアウトの出やすい条件に設定
し、各温度、湿度で5MHzの単一信号を記録し、再生
した場合の信号が、平均再生レベルより18dB以上低
下する時間が15.−秒以上のであるものの個数を、サ
ンプル10個について1分間当りで数え、その平均をと
る。
し、各温度、湿度で5MHzの単一信号を記録し、再生
した場合の信号が、平均再生レベルより18dB以上低
下する時間が15.−秒以上のであるものの個数を、サ
ンプル10個について1分間当りで数え、その平均をと
る。
4、出力変動
2のドロップアウト測定時に出力変動も合わせ。
て測定した。
5、ヘッド付着、トップコートケズレ
VH8を改造し、上記状態のデツキを各温度、湿度で一
定回数走行させ、ヘッド付着及びトップコートケズレを
顕微鏡写真で観察した。
定回数走行させ、ヘッド付着及びトップコートケズレを
顕微鏡写真で観察した。
6、平均粒径、個数
a、走査型電顕、加速電圧0.5K 〜20KeV、倍
率1万〜10万倍、によるトップシート層に含まれてい
る微粒子顔料の平均粒子径を推定し、100P2の視野
で10点を数える。この場合、粒子が凝集している場合
があるので、バラツキが大の場合は一次粒子径をかぞえ
る。
率1万〜10万倍、によるトップシート層に含まれてい
る微粒子顔料の平均粒子径を推定し、100P2の視野
で10点を数える。この場合、粒子が凝集している場合
があるので、バラツキが大の場合は一次粒子径をかぞえ
る。
55個数
100P2の視野で10点を数え、1. OO、u 2
当りになおす。
当りになおす。
Claims (7)
- (1)非磁性基材上に磁気記録層を設けた磁気記録媒体
において、該磁気記録層上のトップコート層の表面に微
粒子顔料を含有し、該トップコート層の表面粗度がR2
0=400Å未満であることを特徴とする磁気記録媒体
。 - (2)トップコート層が酸化防止剤を含有する特許請求
の範囲第1項記載の磁気記録媒体。 - (3)酸化防止剤が放射線硬化型である特許請求の範囲
第2項記載の磁気記録媒体。 - (4)トップコート層がモノマー、オリゴマー、ポリマ
ーのうちの少なくとも1種を含有する特許請求の範囲第
1項、第2項又は第3項記載の磁気記録媒体。 - (5)トップコート層が潤滑剤を含有する特許請求の範
囲第1項、第2項、第3項又は第4項記載の磁気記録媒
体。 - (6)磁気記録層が強磁性合金粉末を樹脂バインダー中
に分散したものからなる、特許請求の範囲第1項、第2
項、第3項、第4項又は第5項記載の磁気記録媒体。 - (7)磁気記録層が強磁性薄膜からなる、特許請求の範
囲第1項、第2項、第3項、第4項又は第5項記載の磁
気記録媒体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59130127A JPH0610866B2 (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 磁気記録媒体 |
US06/746,639 US4666754A (en) | 1984-06-26 | 1985-06-20 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59130127A JPH0610866B2 (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6111929A true JPS6111929A (ja) | 1986-01-20 |
JPH0610866B2 JPH0610866B2 (ja) | 1994-02-09 |
Family
ID=15026592
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59130127A Expired - Lifetime JPH0610866B2 (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4666754A (ja) |
JP (1) | JPH0610866B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61240430A (ja) * | 1985-04-18 | 1986-10-25 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
US4772522A (en) * | 1986-07-21 | 1988-09-20 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
DE3731066A1 (de) * | 1987-09-16 | 1989-04-06 | Basf Ag | Magnetische aufzeichnungstraeger |
US5219651A (en) * | 1988-05-17 | 1993-06-15 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording apparatus comprising a magnetic recording medium and a magnetic head each coated with a coating of a binder and a specified fluorolubricant |
KR900002242A (ko) * | 1988-07-14 | 1990-02-28 | 나가이 아쯔시 | 자기디스크 카트리지 |
US5316844A (en) * | 1990-04-16 | 1994-05-31 | Hoya Electronics Corporation | Magnetic recording medium comprising an aluminum alloy substrate, now magnetic underlayers, magnetic layer, protective layer, particulate containing protective layer and lubricant layer |
US5252392A (en) * | 1991-07-05 | 1993-10-12 | Konica Corporation | Magnetic recording medium comprising multiple magnetic layers with specified composition and properties |
US5997937A (en) * | 1996-05-06 | 1999-12-07 | Kraft Foods, Inc. | Quick-setting gel mix |
US6635512B1 (en) * | 1999-11-04 | 2003-10-21 | Rohm Co., Ltd. | Method of producing a semiconductor device by dividing a semiconductor wafer into separate pieces of semiconductor chips |
JP2005158186A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
US9953665B1 (en) * | 2013-12-11 | 2018-04-24 | Kansai University | Systems and methods for applying electric fields during ultraviolet exposure of lubricant layers for hard disk media |
Citations (2)
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---|---|---|---|---|
JPS4926563A (ja) * | 1972-07-05 | 1974-03-09 | ||
JPS5584045A (en) * | 1978-12-19 | 1980-06-24 | Nec Corp | Magnetic memory substance and its manufacture |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5843817B2 (ja) * | 1976-02-24 | 1983-09-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録体 |
JPS57158037A (en) * | 1981-03-24 | 1982-09-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium and its manufacture |
JPS57150136A (en) * | 1981-03-09 | 1982-09-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium and its manufacture |
JPS57208637A (en) * | 1981-06-19 | 1982-12-21 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
DE3278980D1 (en) * | 1982-04-30 | 1988-10-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
US4526833A (en) * | 1983-10-03 | 1985-07-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording medium having a perfluoropolyether polymer protective coating |
-
1984
- 1984-06-26 JP JP59130127A patent/JPH0610866B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-06-20 US US06/746,639 patent/US4666754A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4926563A (ja) * | 1972-07-05 | 1974-03-09 | ||
JPS5584045A (en) * | 1978-12-19 | 1980-06-24 | Nec Corp | Magnetic memory substance and its manufacture |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0610866B2 (ja) | 1994-02-09 |
US4666754A (en) | 1987-05-19 |
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