JP2005158186A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】高記録密度特性に優れ、かつ、耐久性においても信頼性の高い磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁性層３が設けられた側の最上層に、樹脂を含有する非磁性層４を設ける。非磁性層４の厚さ寸法は、１ｎｍ〜５０ｎｍの範囲、表面粗さ（Ｐ−Ｖ）が２ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の範囲とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、高記録密度特性に優れた塗布型の磁気記録媒体と、その製造方法に関する。

磁気記録媒体は、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピュータテープ、磁気ディスク、磁気カードなど種々の用途があるが、特にデータバックアップ用テープの分野では、バックアップの対象となるハードディスクの大容量化にともない、１巻当たり２００ＧＢ以上の記録容量を持つ磁気テープが商品化されている。また、今後１ＴＢを超える大容量バックアップテープが提案されており、その高記録密度化は不可欠である。

このような高記録密度化に対応した磁気テープを製造するにあたっては、磁性粉末（以下、磁性粒子とも言う）の微粒子化（以下、微粉末化とも言う）とそれらの塗膜中への高密度充填化、塗膜の平滑化、磁性層の薄層化に関する高度な技術が用いられている。

磁性粉末の改良に関しては、主として、短波長記録に対応するために、微粒子化とともに、磁気特性の改善が図られており、平均粒子径が１００ｎｍ以下の針状の金属磁性粉末が提案されている。また、短波長記録時の減磁による出力低下を防止するために、年々、高保磁力化が図られている。

保磁力に関しては、磁気ヘッドの技術革新により、さらに高保磁力を有する磁気テープに対しても記録は可能な状況にある。特に長手記録方式においては、磁気ヘッドで記録消去が可能な限り、記録および再生減磁による出力低下を防止するため、保磁力はできる限り高くすることが好ましい。従って、磁気テープの記録密度を向上させるための現実的な方法で効果的な方法は、磁気テープを高保磁力化することといえる。

一方、磁気記録媒体の製造技術の改良に関しては、近年の高記録密度化に伴い、記録波長が短波長化されているため、磁性層の厚さが厚いと、従来それほど問題とならなかった記録再生時の自己減磁損失や磁性層の厚さに起因する厚み損失の影響が大きくなってきた。そのため、磁性層の厚さを低減することが必要となってきている。

しかし、磁性層の厚さを低減すると、非磁性支持体の表面粗さが磁性層表面に影響を及ぼし、磁性層の表面性を劣化させやすいという問題が生じる。また、磁性層単層のみを薄層化する場合には、磁性塗料の固形分濃度を低下するか、塗布量を低減する方法が考えられるが、これらの手法によっては、塗布時の欠陥や磁性粉末の充填性が向上せず、また塗膜強度を弱めるという問題が生じる。このため、媒体製造技術の改良により磁性層を薄層化する場合、非磁性支持体と磁性層との間に非磁性下塗層（以下、下塗層とも言う）を設け、該非磁性下塗層が湿潤状態にあるうちに上層磁性層を塗布する、いわゆる同時重層塗布方式が提案されている（例えば特許文献１）。

記録波長の短波長化と磁性層の薄層化に伴い、磁性層からの漏れ磁束は極めて微弱化しつつあり、これらの磁気記録媒体を使用するシステムにおいては、高感度な磁気抵抗効果型ヘッド（以下ＭＲ型ヘッドと記す（ＧＭＲ型も含む））を再生ヘッドに用いたものが主流になりつつある。ＭＲ型ヘッドは、誘導コイルを持たないために機器ノイズが小さく、磁気記録媒体のノイズを小さくすることで優れたＣ／Ｎを得ることが可能になる。

ところが、このＭＲヘッドは磁気誘導型ではあまり問題にならなかった磁性層表面の微小な凹凸でも、再生出力に大きく影響するため、従来以上に磁性層表面の粗さを制御する必要がある。また、磁性層の耐久性向上のために磁性層に非磁性粉末を含ませることが行われている（例えば、特許文献１、特許文献２など）が、磁性層の厚さが次第に小さくなるにつれて、該非磁性粉末が磁性粉末の配向性を乱したり、磁性層の表面平滑性を低下させたりする傾向が大きくなり記録密度を大きくするための障害となってきた。

以上のような記録密度向上の試みは、主に線記録密度（テープの長手方向の記録密度）の向上に貢献するものであるが、記録媒体の記録密度を大きくするためには、トラックピッチを狭幅化して記録媒体の幅方向の記録密度を大きくすることも重要である。トラックピッチが狭くなると、再生ヘッドがデータトラックを正確にトレースできるように記録媒体上にサーボトラックを設けるシステムが登場している。サーボトラックを設けることにより、再生ヘッドを正確にデータトラック上に移動させることが可能になるが、サーボトラックとデータトラック間の寸法が温度、湿度の変化により変動すると正確な移動が行えなくなりトラックずれ（オフトラック）が生じて、再生出力レベルが低下しエラーが大きくなる。このために、サーボシステムを用いる記録媒体においては幅方向の寸法安定が重要である。幅方向の寸法安定性の高い記録媒体やそれを得るための方法が検討されている（例えば、特許文献３、特許文献４、特許文献５など）。さらに、磁性層の耐久性の向上や、装飾のために磁性層の上に塗布型の保護層を設けることも試みられている（例えば、特許文献６、特許文献７、特許文献８など）。

特開平５−１９７９４６号公報（第２−４頁） 特開平１１−２３８２２６号公報（第２−３頁） 特開平１１−２５０４４９号公報（第２−４頁） 特開平１０−２３１３７１号公報（第２−４頁） 特開２００２−３２９３１２号公報（第２−４頁） 特開平５−２６６４６１号公報（第２−３頁） 特開平８−１３８２４２号公報（第２−３頁） 特開平７−３２０２５３号公報（第２−４頁）

しかし、特許文献１、特許文献２に開示されている磁気記録媒体では、磁性層に非磁性粉末が含まれているために、記録波長が小さくなったり、磁性層厚さが小さくなると十分な電磁変換特性を得ることは困難となる。特許文献３では、幅方向の温度膨張係数が0.００１５％／℃以下で、湿度膨張係数が0.００１５％／％ＲＨ以下の磁気テープが開示されているが、このような幅方向の寸法安定性の磁気テープを得るためには磁気テープのどの構成要素をどう選択すればよいかの具体的記述がない。特許文献４、特許文献５では幅方向の寸法安定性の高い磁気記録媒体を得るための支持体が開示されているものの、特許文献４では幅方向の寸法安定性が十分ではなく、特許文献５では支持体上に金属蒸着膜を設けるため生産性が悪く、コストも高くなる問題点があった。特許文献６では、磁性層が強磁性金属あるいはその合金の連続薄膜によって構成されている磁気記録媒体において、磁性層の上に設けられるサッカボール状の三次元炭素分子Ｃ６０（フラーレン）を含む潤滑層（保護層）を設けることが開示されているが、保護層中に平均粒子径が大きな（数μｍ）粒子を含むため、磁性層と磁気ヘッドとの間に大きなスペーシングを生じ短波長記録においては、十分な電磁変換特性を得ることは困難であった。特許文献７では、硬質の基材上の磁性層の直上に非磁性塗布層形成用塗料を塗布し、乾燥して塗布層を形成する磁気記録媒体が開示されているが、主に磁気カードに関するもので、該磁性層の厚さが１０μｍ、該非磁性塗布層の厚さは１μｍ以上であるため、本発明の対象とする、可撓性支持体上に磁性層を設けた高密度記録媒体としては電磁変換特性が不十分である。

とくに特許文献８には、磁性層は磁性粉末およびバインダー樹脂を有し、この磁性層表面に潤滑剤を含有する樹脂層を設けることが開示されているが、樹脂層を設ける目的が、磁性層中の磁性塗料中のバインダー樹脂の低分子量成分が表面に移動し、張り付きあるいはドロップアウトを防ぐためであるので、本発明のように、非磁性層表面を平滑化して、スペーシングを小さくして、短波長記録特性の向上を図り、同時に耐久性を付与するものとは異なるため、短波長特性が不十分である。また、樹脂層は架橋硬化されておらず、耐久性が不十分である。また、開示されている樹脂層を設ける方法は、磁性層を形成、乾燥した後に樹脂層を設ける方法であって、本発明者らの検討によると、このような方法では、樹脂層は磁性塗膜中に含侵してしまい磁性塗膜上の独立した塗膜を形成しにくく、充分な耐久性を発揮しない。このように、磁気記録媒体の高記録密度化を達成するためには、先に述べた、従来技術では不十分であった。

本発明は、上記課題を達成するためになされたものであり、例えばテープ１巻当たり１ＴＢ以上の記録容量に対応しうる高記録密度特性に優れ、かつ、耐久性においても信頼性の高い磁気テープを提供することを目的とする。

本発明は、図１および図２に示すごとく、可撓性非磁性支持体２の少なくとも一方の面に、磁性粉末を含む磁性層３を有する磁気記録媒体１である。そして、前記磁性層３が設けられた側の最上層が、樹脂を含有する、厚さ寸法が１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下、表面粗さ（Ｐ−Ｖ）が２ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の非磁性層４であることを特徴とする。

前記非磁性層４に含まれる樹脂は、放射性硬化樹脂を含むものとすることができる。また、前記非磁性層４に含まれる樹脂は、有機−無機複合樹脂を含むものとすることができる。

前記磁性層３と前記非磁性可撓性支持体２との間には、非磁性粉末を含む非磁性下塗層５を設けることができる。この場合には、前記磁性層３の厚さ寸法は0.０１〜0.２μｍが好ましい。また、非磁性層５の厚さ寸法は0.２〜1.５μｍの範囲に設定することが好ましい。

前記磁性層３に含まれる磁性粉末の平均粒子径は５〜１００ｎｍが好ましい。また前記磁性層３の保磁力は１００〜３２０ｋＡ／ｍであることが好ましい。

また、本発明は、可撓性非磁性支持体２の少なくとも一方の面に、磁性粉末を含む磁性層３を有する磁気記録媒体１を製造する方法において、前記磁性層３が設けられた側の最上層に、非磁性塗料を塗布してなる非磁性層４を形成する工程を含むものである。そして、この非磁性層４が、樹脂を含有するものであって、その厚さ寸法が１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であることを特徴とする。

前記非磁性層４、前記磁性層３は、少なくとも一つ以上のスライド式コータを用いることにより形成することができる。

非磁性層４の表面粗さ（Ｐ−Ｖ）を２ｎｍ以上、２０ｎｍ以下にする手段としては、（１）磁性層３がフィラーを含まない構成とする、（２）磁性層３の磁性粉末として微粒子（特に、５〜３０ｎｍの略球状磁性粉末）を使用する、（３）磁性層３のフィラーとして、磁性粉末と略同形状のフィラーを使用する（略同サイズ以下のフィラーが好ましい）、（４）磁性層３上に、樹脂層の非磁性層４をウエット・オン・ウエットで形成（図１の場合は、下塗層５、磁性層３、非磁性層４をウエット・オン・ウエットで形成）することで、乾燥速度を遅くする、（５）磁性層３と可撓性非磁性支持体２との間に非磁性下塗層５を形成する、（６）磁性層３と可撓性非磁性支持体２との間に、板状の非磁性粉末を含有する非磁性下塗層５を形成する、などの手段が有効である。

なお、上記（１）の「磁性層３がフィラーを含まない」とは、実質的にフィラーを含まないもので、配向を乱さない程度の僅かな量（全粉体重量の１重量％以下）のフィラーを含んでもよい。

上記（１）〜（６）の手段または（１）〜（６）の手段の組合せにより、非磁性層４の表面粗さ（Ｐ−Ｖ）が制御でき、耐久性向上効果、短波長記録特性の向上効果が得られるが、以下に、非磁性層４の表面粗さ（Ｐ−Ｖ）を２ｎｍ以上、２０ｎｍ以下にする手段として、主に上記（１）の「磁性層３がフィラーを含まない構成」とした場合を例にとって本発明の効果について説明する。

本発明に係る磁気記録媒体においては、図１および図２に示すごとく、磁性層３が設けられた側の最上層を樹脂を含有する非磁性層４としたので、磁性層３の耐久性の向上を図り、以て磁気記録媒体１の信頼性の向上に寄与できる。また、従来形態において、磁性層の耐久性や走行性を向上させることを目的として該磁性層内に配合されていた研磨剤粉末やカーボンブラックなどの各種フィラーを廃することで、磁性層３内における磁性粉末の充填率の向上を図ることができ、従って磁性層３の単位体積当たりの磁化量の向上を図り、高記録密度特性に優れた磁気記録媒体１を得ることができる。また、これらフィラーは磁性層内での磁性粉末の配向を乱すものであるが、本発明のようにフィラーを廃することで磁気特性の向上を図り、短波長記録特性の向上に寄与できる。さらに、フィラーを添加すると磁性層の表面が粗くなるため、従来の磁性層が最上層に位置する形態においては該磁性層と磁気ヘッドとのスペーシングが大きくならざるをえなかったが、本発明のごとく、磁性層３の表面を薄い非磁性層４で覆ってあると、該スペーシングを小さくできるので、この点でも短波長記録特性の向上を図ることが可能となる。

非磁性層４の厚さ寸法は、１ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあることが好ましく、５〜３０ｎｍがより好ましい。これは、非磁性層４の厚さ寸法が１ｎｍ未満であると、耐久性向上の効果が良好に得られず、５０ｎｍを超えると、耐久性向上の効果が飽和するほか、磁気ヘッドと磁性層３とのスペーシングが大きくなりすぎて、短波長記録特性の低下が大きくなることに拠る（図３参照）。

非磁性層４の表面粗さ（Ｐ−Ｖ）は、２ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にあることが好ましく、３〜１５ｎｍがより好ましく、５〜１２ｎｍが最も好ましい。これは、非磁性層４の表面粗さ（Ｐ−Ｖ）が２ｎｍ未満であると、耐久性向上の効果が良好に得られず、２０ｎｍを超えると、耐久性向上の効果が飽和するほか、磁気ヘッドと磁性層３とのスペーシングが大きくなりすぎて、短波長記録特性の低下が大きくなることに拠る（図８参照）。

非磁性層４に含まれる樹脂を、放射性硬化樹脂を含むものとしてあると、上記のような薄層の非磁性層４を生産効率よく形成できる利点がある。さらに、非磁性層４に含まれる樹脂は、分子中にシロキサン変位部位を有する有機−無機複合樹脂を含むものであることが好ましく、これは該樹脂が耐擦傷性に優れることによる（図４参照）。

図１に示すように、磁性層３と可撓性非磁性支持体２との間に、非磁性粉末を含む非磁性下塗層５を設けてあると、磁性層３の厚さむらを抑えて、厚み寸法精度よく磁性層３を形成することが可能となる。さらに、非磁性層４から磁性層３に潤滑剤成分が供給されるので、磁性層３の耐久性向上に寄与できる。

この場合には、磁性層３の厚さ寸法は0.０１〜0.２μｍ（１０〜２００ｎｍ）の範囲にあることが好ましく、0.０１〜0.１μｍ（１０〜１００ｎｍ）の範囲がより好ましい。0.０１μｍ（１０ｎｍ）未満では、得られる出力が小さくなり、また均一な磁性層３を塗布形成することが困難となる。0.２μｍ（２００ｎｍ）を超えると短波長信号の記録再生時の自己減磁損失や厚み損失が大きくなる傾向がある（図５参照）。

非磁性下塗層５の厚さ寸法は0.２〜1.５μｍの範囲に設定することが好ましい。0.２μｍ未満では、先の磁性層３の厚さむらの低減効果と、耐久性向上効果が良好に得られない。1.５μｍを超えると、磁気記録媒体１の全厚が大きくなりすぎて、例えば本発明に係る磁気記録媒体を磁気テープに適用した場合において、テープ１巻当たりの容量が小さくなってしまう不利がある（図６参照）。

図１の磁性層３に含まれる磁性粉末の平均粒子径は５〜１００ｎｍであることが好ましい。平均粒子径が５ｎｍ未満では、粒子の表面エネルギーが大きくなって分散が困難になる。平均粒子径が１００ｎｍを超えると、ノイズが大きくなる不利が生じる（図７参照）。磁性層３の保磁力は、１００〜３２０ｋＡ／ｍの範囲にあることが好ましい。保磁力が１００ｋＡ／ｍ未満では、記録波長を短くすると、反磁界減磁で出力低下が起こる。保持力が３２０ｋＡ／ｍを超えると、磁気ヘッドによる記録が困難となる。

図１および図２に示すように、可撓性非磁性支持体２の磁性層３が設けられた側の反対側に、非磁性粉末を含むバック層６を設けてあると、走行性の向上を図ることができる。

通常、磁性層には、該磁性層の耐久性や走行性を向上させるための研磨剤粉末やカーボンブラックが添加される。これらの研磨剤粉末やカーボンブラックは、その効果を発揮するために、磁性粉末の短軸径よりも粒子径の大きなものが使用されることが多く、このため磁性層の表面が粗くなることが避けられず、該磁性層が最上層である形態では、磁気ヘッドとのスペーシングが大きくなってしまい、短波長記録特性の低下を招く不利があった。また、これら研磨剤粉末やカーボンブラックは、その存在が磁性層内での磁性粉の配向を乱すために、磁気特性が低下することが避けられず、この点でも短波長記録特性の低下を招く不利がある。さらに、これらの粉末は、非磁性粉末であるために、磁性層の単位体積当たりの磁化量を低下させるため、再生出力を低下させる。以上より、磁性層に含まれるこれらの非磁性粉末を可能な限り少なくして、別の手段で耐久性や走行性を向上させることが、例えばテープ１巻当たり１ＴＢ以上の記録容量に対応しうる高密度記録媒体を開発するための一つの課題であった。

そこで本発明者らは、図１および図２に示すごとく、可撓性非磁性支持体２の少なくとも一方の面に、磁性粉末を含む磁性層３を有する磁気記録媒体１において、磁気記録媒体１の磁性層３が設けられた側の最上層に、樹脂を主成分とする非磁性層４を設けることにより上記課題を解決できることを見出して本発明を完成するに至った。このように磁気記録媒体１の最上層を樹脂を含有する非磁性層４としてあると、磁性層３の耐久性の向上を図り、以て磁気記録媒体１の信頼性の向上に寄与できる。また、従来の最上層が磁性層である形態では不可避であった、磁気ヘッドとのスペーシングが大きくなることに起因する、短波長記録特性の低下をよく防ぐこともできる。さらに、フィラー等の非磁性粉末を磁性層３に含ませずともよくなり、該磁性層３における磁性粉末の充填率の向上を図ることができるので、磁性層３の単位体積当たりの磁化量の向上を図ることができ、従って、高記録密度特性に優れた磁気記録媒体１を得ることができる。

先に述べたように、非磁性層４の厚さ寸法は、１ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。これは、非磁性層４の厚さ寸法が１ｎｍ以下であると、耐久性向上の効果が良好に得られず、５０ｎｍ以上であると、耐久性向上の効果が飽和するほか、磁気ヘッドと磁性層３とのスペーシングが大きくなりすぎて、短波長記録特性の低下が大きくなることに拠る。

ここで言う非磁性層４の厚さ寸法とは、具体的には以下のようにして得たものである。まず、試料の磁気記録媒体１を樹脂埋めし、それを集束イオンビーム加工装置で切り出し、その断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で１００００倍にて、１０視野の写真撮影を行い、最上層の非磁性層４の表面、最上層の非磁性層４−磁性層３界面の境界を縁取りする。次に、写真一視野当り、任意の５個所（計５０個所）を、それぞれ縁取りした線間の距離を非磁性層４の厚さとして計測し、それらを平均して非磁性層４の厚さ寸法とした。

非磁性層４の中心線平均表面粗さＲａは、0.２〜2.０ｎｍが好ましく、0.３〜1.５ｎｍがより好ましく、0.５〜1.３ｎｍがさらに好ましい。また、非磁性層４のピークバレー値Ｐ−Ｖは、２〜２０ｎｍが好ましく、３〜１５ｎｍがより好ましく、５〜１２ｎｍが最も好ましい。Ｒａが0.２〜2.０ｎｍ、Ｐ−Ｖが２〜２０ｎｍの範囲がより好ましいのは、これらの下限値未満では磁気テープの走行が不安定になり、上限値を越えると、スペーシングロスにより、短波長記録の解像度が悪くなったり出力が低下したりして、エラーレートが高くなるためである。

最表面の表面粗さはＡＦＭ（ＤｉｇｉｔａｌＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製 Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３０００）を用いて行った。測定条件はタッピングモードで行い、測定視野は５μｍ×５μｍ角で１０箇所の測定を行った。なお、測定データから最大値と最小値とを除いたものを算術平均し測定値とした。

非磁性層４に用いられる樹脂は耐擦傷性に優れたものが好ましく、この条件を満たす従来公知の各種樹脂を用いることができる。

また、５０ｎｍ以下の薄層の塗膜（非磁性層４）を安定して得るためには、前記樹脂の分子量（重量平均分子量）は１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、２０００以下が最も好ましい。該低分子量の樹脂を硬質の塗膜とするために、硬化剤を併用することが好ましい。前記樹脂を放射線硬化性として、電子線、紫外線等の放射線で硬化することが好ましい。分子中にシロキサン変性部位を有する有機−無機複合樹脂が、耐擦傷性が大きく好ましい。ここで言うシロキサン変性部位とは、−（ＳｉＲ₁ Ｒ₂ −Ｏ）_n −Ｒ₃ の一般式で表される化合物を言い、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ は水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基などの置換基である。

このような樹脂としては、セルロース系樹脂、エーテル系樹脂、フェノール系樹脂、カーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂が用いられるが、耐擦傷性を向上させるために、芳香族環を導入したり、これらの樹脂に対応する硬化剤（イソシアネート類、アミン類等）を併用することが好ましい。また、これらの樹脂をアクリル変性することで、放射線感応性二重結合を有する放射性硬化樹脂とすることができる。放射性硬化樹脂の詳細については後述する。有機−無機複合樹脂としては、シロキサン変性ポリウレタン樹脂、シロキサン変性エポキシ樹脂、シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂、シロキサン変性ポリイミド樹脂等がある。有機−無機複合樹脂中のシリカ含有量は、樹脂固形分に対して２〜５０重量％が好ましい。

このように非磁性層４を設けることで、磁気記録媒体１の耐久性が向上するのみならず、磁気記録媒体の幅方向の湿度寸法安定性が向上する。一般に、磁気記録媒体１の磁性層３、後述する下塗層５の幅方向の湿度膨張係数は、可撓性非磁性支持体２のそれよりも大きい。これは、磁性層３、下塗層５に用いられるバインダ樹脂の湿度膨張係数が非磁性支持体のそれよりも大きいためである。また、磁性層３、下塗層５はミクロに見ると１０〜３０体積％の空孔を有しており、水蒸気が入り込み易いため、湿度の変化に対して影響が大きい。これに対して、本発明のように最上層に緻密な樹脂層（非磁性層４）を設けることにより、湿度変化の影響を抑えて、湿度寸法安定性の向上を図ることができる。

非磁性層４には、上記樹脂が主成分として用いられるが、必要に応じて、非磁性粉末を含ませることができる。しかし、その場合でも、本発明の主旨から非磁性層４の厚さより十分小さい（平均粒子径が層厚さの１／２以下）粉末を使用することが好ましい。ここで用いられる非磁性粉末は、モース硬度４以上の比較的硬い粉末が好ましく、シリカ、アルミナなどの無機酸化物粉末やフラーレン、カーボンナノチューブなどの硬質炭素粉末などを用いることができる。

非磁性層４は、連続層であることが好ましいが、層厚さが薄い場合には磁性層３の上全面に非磁性層４が形成されず、磁性層３上に非磁性層４が「海・島」状に存在する、つまり磁性層３上に非磁性層４が部分的に存在する形態であってもよい。すなわち、磁性層３の耐久性向上の効果が認められる限り、そのような「海・島」形状であってもかまわず、本発明における「非磁性層４」とはかかる形態も含む概念である。

本発明に係る磁気記録媒体１は、図２に示すごとく、非磁性支持体２上に、磁性層３と非磁性層４とが順次積層された形態のほか、図１に示すごとく、非磁性支持体２上に非磁性下塗層５、磁性層３、非磁性層４とが順次積層された複層形態を採ることができる。これらの各層３・４・５を形成する方法は、グラビアコータ、ナイフコータ、エクストルージョン型コータ、スライド式コータ、カーテン式コータ、スプレー式コータ、キスコータ等の従来公知の塗布方式の中から適宜選択することができる。前記のコータを単独または組み合わせて、同時または逐次に各層３・４・５を形成することができる。各層３・４・５の形成は、下の層が湿潤時または乾燥後、さらにはカレンダによる平滑化処理後に行うことができる。

次に、本発明の磁気記録媒体１の構成要素についてさらに詳述する。
〈可撓性非磁性支持体：２〉
可撓性非磁性支持体（以下、非磁性支持体と記す）２の厚さ寸法は、用途によって異なるが、通常、1.５〜１００μｍ、とくにテープ状で用いる場合には1.５〜１1.０μｍの範囲、より好ましくは2.０〜7.０μｍである。この範囲の厚さの非磁性支持体２が使用されるのは、1.５μｍ未満では製膜が難しく、またテープ強度が小さくなり、１1.０μｍを越えるとテープ全厚が厚くなり、テープ１巻当りの記録容量が小さくなるためである。なお、磁気記録媒体１をディスク状とする場合には、非磁性支持体２の好適な厚み寸法の範囲は、２０〜８０μｍである。

非磁性支持体２の長手方向のヤング率は5.８ＧＰａ（５９０kg／mm² ）以上が好ましく、7.１ＧＰａ（７２０kg／mm² ）以上がより好ましい。非磁性支持体２の長手方向のヤング率が5.８ＧＰａ（５９０kg／mm² ）以上がよいのは、長手方向のヤング率5.８ＧＰａ（５９０kg／mm² ）未満では、テープ走行が不安定になるためである。また、ヘリキャルスキャンタイプでは、長手方向のヤング率（ＭＤ）／幅方向のヤング率（ＴＤ）は、0.６０〜0.８０の特異的範囲が好ましく、0.６５〜0.７５の範囲がより好ましい。長手方向のヤング率／幅方向のヤング率が、0.６０〜0.８０の特異的範囲がよいのは、0.６０未満または0.８０を越えると、メカニズムは現在のところ不明であるが、磁気ヘッドのトラックの入り側から出側間の出力のばらつき（フラットネス）が大きくなるためである。このばらつきは長手方向のヤング率／幅方向のヤング率が0.７０付近で最小になる。さらに、リニアレコーディングタイプでは、長手方向のヤング率／幅方向のヤング率は、理由は明らかではないが、0.７０〜1.３０が好ましい。

非磁性支持体２の幅方向の温度膨張係数は、（−１０〜１０）×１０^-6、湿度膨張係数は、０〜１０×１０^-6が好ましい。この範囲が好ましいのは、この範囲をはずれると温度・湿度の変化によりオフトラックが生じエラーレートが大きくなるからである。

このような特性を満足する非磁性支持体２の具体例としては、二軸延伸のポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、芳香族ポリアミドフィルム、芳香族ポリイミドフィルムなどを挙げることができる。

〈下塗層：５〉
磁気記録媒体１の短波長記録特性の向上のため、磁性層３の厚さを0.２μｍ以下にする場合には、図１に示すように非磁性の下塗層５を、磁性層３と非磁性支持体２との間に設けることが好ましい。

かかる下塗層５の厚さは0.２μｍ以上、1.５μｍ以下が好ましく、1.０μｍ以下がより好ましく、0.８μｍ以下がさらにより好ましい。この範囲が好ましいのは、0.２μｍ未満では、磁性層３の厚さむら低減効果、耐久性向上効果が小さいためである。1.５μｍを越えると磁気テープの全厚が厚くなり過ぎてテープ１巻当りの記録容量が小さくなる。

下塗層５に使用する非磁性粉末としては、酸化チタン、酸化鉄、酸化アルミニウム等があるが、酸化鉄単独または酸化鉄と酸化アルミニウムの混合系が好ましく使用される。非磁性粉末の粒子形状は球状、板状、針状、紡錘状のいずれでもよいが、針状、紡錘状の場合は、通常、長軸長２０〜２００ｎｍ、短軸長５〜２００ｎｍのものが好ましい。非磁性粉末を主に、必要に応じて粒子径0.０１〜0.１μｍのカーボンブラック、粒子径0.０５〜0.５μｍの酸化アルミニウムを補助的に含有させることが多い。下塗層５を平滑に、かつ厚みムラを少なく塗布するためには、上記、非磁性粒子およびカーボンブラックは特に粒度分布がシャープなものを用いることが好ましい。

下塗層５には、平均粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍの非磁性板状粉末を添加することが好ましい。非磁性板状粉末の成分は、セリウムなどの希土類元素、ジルコニウム、珪素、チタン、マンガン、鉄等の元素の酸化物または複合酸化物が用いられる。導電性改良の目的で、平均粒子径１０〜１００ｎｍのグラファイトのような板状炭素性粉末や平均粒子径１０〜１００ｎｍの板状ＩＴＯ（インジウム、スズ複合酸化物）粉末などを添加してもよい。前記の非磁性板状粉末を添加することで、膜厚の均一性、表面平滑性、剛性、寸法安定性が改善される。なお、下塗層５に使用するバインダ樹脂は、磁性層３と同様のものを用いることができる。

〈潤滑剤〉
下塗層５には、磁性層３と下塗層５に含まれる全粉体に対して0.５〜5.０重量％の高級脂肪酸を含有させ、さらに0.２〜3.０重量％の高級脂肪酸のエステルを含有させることが、磁性層３を介して非磁性層４に潤滑剤が移入して、ヘッドとの摩擦係数が小さくなるため好ましい。この範囲の高級脂肪酸添加が好ましいのは、0.５重量％未満では、非磁性層４への潤滑剤の移入量が少ないため、摩擦係数低減効果が小さく、5.０重量％を越えると下塗層が可塑化してしまい強靭性が失われるおそれがあるからである。また、この範囲の高級脂肪酸のエステル添加が好ましいのは、0.２重量％未満では、摩擦係数低減効果が小さく、3.０重量％を越えると磁性層３を介して非磁性層４に潤滑剤の移入量が多すぎるため、テープとヘッドが貼り付く等の副作用を生じるおそれがあるためである。高級脂肪酸としては、炭素数１０以上の脂肪酸を用いるのが好ましく、高級脂肪酸エステルは前記高級脂肪酸のエステルを用いるのが好ましい。炭素数１０以上の脂肪酸としては、直鎖、分岐、シス・トランスなどの異性体のいずれでもよいが、潤滑性能にすぐれる直鎖型が好ましい。このような脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸などが挙げられる。これらの中でも、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸などが好ましい。磁性層３における脂肪酸の添加量としては、下塗層５と磁性層３の間で脂肪酸が転移するので、特に限定されるものではなく、磁性層３と下塗層５を合わせた脂肪酸の添加量を上記の量とすればよい。下塗層５に脂肪酸を添加すれば、必ずしも磁性層３に脂肪酸を添加しなくてもよい。

磁性層３には、磁性粉末に対して0.５〜3.０重量％の脂肪酸アミドを含有させ、0.２〜3.０重量％の高級脂肪酸のエステルを含有させると、非磁性層４に潤滑剤が移入して、テープ走行時の摩擦係数が小さくなるため好ましい。この範囲の脂肪酸アミドが好ましいのは、0.５重量％未満では非磁性層４への潤滑剤の移入量が少なく、ヘッド／非磁性層界面での直接接触が起こりやすく焼付き防止効果が小さく、3.０重量％を越えると非磁性層４に潤滑剤がブリードアウトしてしまいドロップアウトなどの欠陥が発生するおそれがあるからである。脂肪酸アミドとしてはパルミチン酸、ステアリン酸等の炭素数が１０以上の脂肪酸アミドが使用可能である。また、上記範囲の高級脂肪酸のエステル添加が好ましいのは、0.２重量％未満では非磁性層４への潤滑剤の移入量が少なく、摩擦係数低減効果が小さく、3.０重量％を越えると非磁性層４への潤滑剤の移入量が多すぎて、ヘッドに貼り付く等の副作用を生じるおそれがあるためである。なお、磁性層３の潤滑剤と下塗層５の潤滑剤の相互移動を排除するものではない。

また、非磁性層４には、磁性層３や下塗層５から潤滑剤が移入するので、通常、潤滑剤は添加しないが、必要に応じて磁性層３や下塗層５に用いる潤滑剤を、非磁性層４に含ませてもよい。

本発明をディスク状の媒体に適用する場合には、潤滑剤の総量として磁性層３の強磁性粉末または下塗層５の非磁性粉末に対し、0.１重量％〜５０重量％、好ましくは２重量％〜２５重量％の範囲で上記潤滑剤が用いられる。

〈分散剤〉
下塗層５や磁性層３、非磁性層４に含まれる非磁性粉末やカーボンブラック、磁性粉末は、分散剤としては、例えば、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸等の炭素数１２〜１８個の脂肪酸（ＲＣＯＯＨ、Ｒは炭素数１１〜１７個のアルキル基、又はアルケニル基）、前記脂肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金属からなる金属石けん、前記の脂肪酸エステルのフッ素を含有した化合物、前記脂肪酸のアミド、ポリアルキレンオキサイドアルキルリン酸エステル、レシチン、トリアルキルポリオレフィンオキシ第四級アンモニウム塩（アルキルは炭素数１〜５個、オレフィンは、エチレン、プロピレンなど）、硫酸塩、及び銅フタロシアニン等のような従来公知の分散剤で表面処理したり、分散剤とともに塗料製造工程を行ってもよい。これらは、単独でも組み合わせて使用しても良い。分散剤は、いずれの層においても結合剤１００重量部に対して通常、0.５〜２０重量部の範囲で添加される。

〈磁性層：３〉
磁性層３の厚さは、0.０１μｍ以上、3.５μｍ以下が好ましい。この範囲が好ましいのは、0.０１μｍ未満では得られる出力が小さいのと、均一な磁性層を塗布するのが困難であり、3.５μｍを超えるとテープの全厚が大きくなりすぎてテープ１巻当たりの容量が小さくなるからである。

短波長記録特性をさらに向上させるためには、図１に示すごとく、磁性層３と非磁性支持体２との間に下塗層５を設けたうえで、磁性層３の厚さ寸法を0.０１〜0.２μｍの範囲に設定することが好ましい。磁性層３の厚さ寸法は、0.０１〜0.１μｍがより好ましく、0.０１〜0.０６μｍが最も好ましい。

磁気記録媒体１の容量を大きくするために、非磁性支持体２の両面に磁性層３を設けた構成としてもよい。

磁性層３の保磁力は、１００〜３２０ｋＡ／ｍが好ましく、１５０〜３２０ｋＡ／ｍがより好ましく、２００〜３２０ｋＡ／ｍがさらに好ましい。この範囲が好ましいのは、１００ｋＡ／ｍ未満では記録波長を短くすると反磁界減磁で出力低下が起こり、３２０ｋＡ／ｍを越えると磁気ヘッドによる記録が困難になるためである。

磁性層３（下塗層５の場合も同様）に用いるバインダ樹脂としては、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体樹脂、ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂の中から選ばれる少なくとも１種と、ポリウレタン樹脂とを組み合わせたものなどが挙げられる。中でも、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体樹脂とポリウレタン樹脂を併用するのが好ましい。ポリウレタン樹脂には、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリエステルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン樹脂などがある。

官能基として−ＣＯＯＨ、−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃ Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₃ 、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ ［これらの式中、Ｍは水素原子、アルカリ金属塩基又はアミン塩を示す］、−ＯＨ、−ＮＲ' Ｒ''、−Ｎ⁺ Ｒ''' Ｒ''''Ｒ''''' ［これらの式中、Ｒ' 、Ｒ''、Ｒ''' 、Ｒ''''、Ｒ''''' は水素または炭化水素基を示す］、エポキシ基を有する高分子からなるウレタン樹脂等のバインダ樹脂が使用される。このようなバインダ樹脂を使用するのは、上述のように磁性粉末などの分散性が向上するためである。２種以上の樹脂を併用する場合には、官能基の極性を一致させるのが好ましく、中でも−ＳＯ₃ Ｍ基同士の組み合わせが好ましい。

これらのバインダ樹脂は、磁性粉１００重量部に対して、７〜５０重量部、好ましくは１０〜３５重量部の範囲で用いられる。特に、バインダ樹脂として、塩化ビニル系樹脂５〜３０重量部と、ポリウレタン樹脂２〜２０重量部とを、複合して用いるのが最も好ましい。

これらのバインダ樹脂とともに、バインダ樹脂中に含まれる官能基などと結合させて架橋する熱硬化性の架橋剤を併用するのが好ましい。この架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどや、これらのイソシアネート類とトリメチロールプロパンなどの水酸基を複数個有するものとの反応生成物、上記イソシアネート類の縮合生成物などの各種のポリイソシアネートが好ましい。これらの架橋剤は、バインダ樹脂１００重量部に対して、通常１〜３０重量部の割合で用いられる。より好ましくは５〜２０重量部である。しかし、下塗層５の上にウエット・オン・ウエットで磁性層３が塗布される場合には、下塗塗料からある程度のポリイソシアネートが拡散供給されるので、ポリイソシアネートを併用しなくても磁性層３はある程度架橋される。

上記のような、熱硬化性のバインダ樹脂の一部または全部を、放射性硬化樹脂にすることが好ましい。放射性硬化樹脂としては、上記熱硬化性樹脂をアクリル変性し放射線感応性二重結合を持たせたものや、アクリルモノマー、アクリルオリゴマーが用いられる。

磁気テープの各塗膜（磁性層３、下塗層５、後述のバックコート層）を硬化させるためにバインダ樹脂として用いられる放射性硬化樹脂としては、従来公知のものが用いられる。これらの公知例から放射性硬化樹脂を使用したバインダ樹脂の構成としては以下のように分類することができる。
（１）熱可塑性樹脂＋放射性硬化樹脂（モノマー）
（２）熱可塑性樹脂＋放射性硬化樹脂（ポリマーまたはオリゴマー）
（３）熱可塑性樹脂＋放射性硬化樹脂（モノマー）＋放射性硬化樹脂（ポリマーまたはオリゴマー）
（４）放射性硬化樹脂（モノマー）
（５）放射性硬化樹脂（ポリマーまたはオリゴマー）
（６）放射性硬化樹脂（モノマー）＋放射性硬化樹脂（ポリマーまたはオリゴマー）

これらの、各々の使い方についてはそれぞれ特徴があり磁気テープの要求仕様に応じて、使い分けるのが好ましい。例えば、上記（１）〜（３）の使い方は、磁性粉、非磁性粉などに対して、分散性の大変優れた樹脂が数多く提供されている熱可塑性樹脂が使用できるので、記録再生特性の優れた磁性層３を設計しやすい。しかし、放射線硬化処理を行うと放射性硬化樹脂の分子間には架橋ネットワークが形成されそのネットワークで塗膜を硬化させることはできるが、熱可塑性樹脂と放射性硬化樹脂の分子間には架橋ネットワークが形成されないので、塗膜の樹脂全体が架橋ネットワークで結合しているとはいえず、耐久性の優れた塗膜を設計するためには、バインダ樹脂、潤滑剤、非磁性粉の選択に関して工夫が必要である。

上記（４）〜（６）の使い方は、バインダ樹脂としてすべて放射性硬化樹脂を使用するもので、すべての樹脂分子間に架橋ネットワークが形成されるので、耐久性の優れた塗膜を設計しやすい。しかし、磁性粉、非磁性粉などに対して、分散性の優れた放射性硬化樹脂は、まだ、十分に提供されているとは言えず、優れた記録再生特性の磁性層を設計するためには、磁性粉の表面処理、分散方法等に工夫が必要となる。

放射性硬化樹脂としては、通常、一分子中に放射線感応性二重結合が２個以上あるアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類が用いられ、二重結合１個当りの重量平均分子量が５０〜４０００の放射性硬化樹脂が好ましい。このような放射性硬化樹脂としては、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、ノボラックジアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグルコールジアクリレートなどの二官能アクリレートおよび上記アクリレートと同様の二官能メタクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化グリセリルトリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレートなどの三官能アクリレートおよび上記アクリレートと同様の三官能メタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどの四官能以上のアクリレートおよび上記アクリレートと同様の四官能以上のメタクリレートなどのモノマーアクリレート（メタクリレート）やエーテル、エステル、カーボネート、エポキシ、塩化ビニル、ウレタンなどの骨格を有するオリゴマーやポリマーを上記モノマーで変性し、放射線感応性二重結合を含有させたものが用いられる。放射線感応性二重結合を含有させたポリマーとしては、放射線硬化性塩化ビニル系共重合体（東洋紡績社製：ＴＢ０２４６）（重合度＝３００、極性基：−ＯＳＯ₃ Ｋ＝1.5 個／分子）、放射線硬化性ポリウレタン樹脂（東洋紡績社製：ＴＢ０２４２）（Ｍｎ＝２５０００、極性基：リン化合物＝１個／１分子）などの具体例がある。

図１の磁性層３中に含ませる磁性粉の平均粒子径は、５〜１００ｎｍの範囲にあるのが好ましく、５〜６０ｎｍの範囲がより好ましい。この範囲が好ましいのは、平均粒子径が５ｎｍ未満では、粒子の表面エネルギーが大きくなって分散が困難になり、平均粒子径が１００ｎｍを越えるとノイズが大きくなるためである。磁性粉としては、強磁性鉄系金属磁性粉や窒化鉄磁性粉，板状の六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉等が好ましい。

強磁性鉄系金属磁性粉には、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｏなどの遷移金属を合金として含ませてもよい。その中でも、Ｃｏ、Ｎｉが好ましく、とくにＣｏは飽和磁化を最も向上できるので、好ましい。上記の遷移金属元素の量としては、鉄に対して、５〜５０原子％とするのが好ましく、１０〜３０原子％とするのがより好ましい。また、イットリウム、セリウム、イツテルビウム、セシウム、プラセオジウム、サマリウム、ランタン、ユーロピウム、ネオジム、テルビウムなどから選ばれる少なくとも１種の希土類元素を含ませても良い（焼結防止剤）。その中でも、セリウム、ネオジムとサマリウム、テルビウム、イットリウムを用いたときに、高い保磁力が得られ好ましい。希土類元素の量は鉄に対して0.２〜２０原子％、好ましくは0.３〜１５原子％、より好ましくは0.５〜１２原子％である。

コア部分に窒化鉄相を含有する公知の窒化鉄磁性粉を用いることができる（参考 特許：ＷО０３０７９３３３号公報）。窒化鉄磁性粉の粒子径は５〜３０ｎｍが好ましく、１０〜２０ｎｍの範囲がより好ましい。この磁性粉末のコア部分は、主にＦｅ₁₆Ｎ₂ 相またはＦｅ₁₆Ｎ₂ 相とα−Ｆｅ相とからなり、窒素の含有量は、鉄に対して1.０〜２０原子％であることが好ましい。また、鉄の一部（４０原子％以下）を他の遷移金属元素で置換してもよいが、コバルトを多量に添加すると、窒化反応に長時間を要するので通常１０原子％以下であることが好ましい。鉄に対して0.０５〜２０原子％、好ましくは0.２〜２０原子％の希土類元素および／またはＡｌ、Ｓｉ元素で磁性粉末の外層部分を被覆すると、保磁力が２００ｋＡ／ｍ（２５１２Оｅ）以上と高くなり、ＢＥＴ比表面積が４０ｍ² ／ｇ〜１００ｍ² ／ｇの化学的に安定な微粒子磁性粉末が得られる。また、希土類元素で磁性粉末を被覆することと、酸化安定化処理を行うことで、磁性粉末の飽和磁化を、８０〜１６０Ａｍ² ／kg、（８０〜１６０ｅｍｕ／ｇ）に制御することができ、塗料分散性・酸化安定性に優れた窒化鉄磁性粉末が得られる。窒化鉄磁性粉末は、粒子径が５０ｎｍ以下、軸比１〜２の球状ないし楕円状の超微粒子であっても、２００ｋＡ／ｍ（２５１２Оｅ）以上の高い保磁力が得られるので特に好ましい。また、磁性粉末は針状形状であってもよく、その場合には、長軸長で規定される粒子径サイズは、３０〜１００ｎｍが好ましく、３０〜６０ｎｍの範囲がより好ましい。

強磁性鉄系金属磁性粉および窒化鉄磁性粉の保磁力は、１００〜３２０ｋＡ／ｍが好ましく、飽和磁化量は、８０〜２００Ａｍ² ／kg（８０〜２００ｅｍｕ／ｇ）が好ましく、１００〜１８０Ａｍ² ／kg（１００〜１８０ｅｍｕ／ｇ）がより好ましい。

強磁性鉄系金属磁性粉および窒化鉄磁性粉の平均粒子径としては、５〜１００ｎｍが好ましく、５〜６０ｎｍがより好ましい。この範囲が好ましいのは、平均粒子径が５ｎｍ未満となると、保磁力が低下したり、粒子の表面エネルギーが増大するため塗料中での分散が困難になったり、平均粒子径が１００ｎｍより大きいと、粒子の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなるためである。また、この強磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、３５ｍ² ／ｇ以上が好ましく、４０ｍ² ／ｇ以上がより好ましく、５０ｍ² ／ｇ以上が最も好ましい。通常１００ｍ² ／ｇ以下である。

また、前記強磁性鉄系金属磁性粉、窒化鉄磁性粉をＡｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ｙ、Ｚｒまたは、これらの酸化物で表面処理して使用してもかまわない。

六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／ｍが好ましく、飽和磁化量は、４０〜７０Ａｍ² ／kg（４０〜７０ｅｍｕ／ｇ）が好ましい。また，粒径（板面方向の大きさ）は１０〜５０ｎｍが好ましく、１０〜３０ｎｍがより好ましく、１０〜２０ｎｍがさらに好ましい。粒径が１０ｎｍ未満となると、粒子の表面エネルギーが増大するため塗料中への分散が困難になり、５０ｎｍを越えると、粒子の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなる。また、板状比（板径／板厚）は２〜１０が好ましく、２〜５がより好ましく、２〜４がさらに好ましい。また、六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉のＢＥＴ比表面積は、１〜１００ｍ² ／ｇが好ましく用いられる。

なお、これらの強磁性粉末の磁気特性は、いずれも試料振動形磁束計で外部磁場１２７3.３ｋＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）での測定値をいうものである。

また、各種粉末の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）にて撮影した写真から各粒子の最大径（針状粉では長軸径、板状粉では板径）を実測し、１００個の数平均値により求めたものである。

本発明の磁気記録媒体１においては、磁性層３には非磁性粉末を含ませないことが好ましいが、必要に応じて、磁性粉末の配向を乱さない程度（全粉体重量の１重量％以下）の範囲で、従来公知の研磨剤やカーボンブラックなどのフィラーを添加することができる。特に、非磁性層表面に少し頭を出す程度の大きさのフィラーを少量添加すると、磁性粉末の配向性が乱れず、最上層非磁性層の表面粗さ（Ｐ−Ｖ、Ｒａ）も粗くならないので短波長記録特性がよく、かつ磁気記録媒体の耐久性向上効果が大きい。なお、上述のように磁性粉末と略同形状・略同サイズ以下のフィラーを使用しても磁性粉末の配向性が乱れず、最上層非磁性層の表面粗さ（Ｐ−Ｖ、Ｒａ）も粗くならないので、全粉体重量の１〜１０重量％の範囲で添加してもよい。研磨剤としては、α−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモース硬度６以上のものが単独または組み合わせで使用される。研磨剤の粒子サイズとしては、通常、数平均粒子径で１０ｎｍ〜２００ｎｍとすることが好ましい。

カーボンブラックとしては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラックなどを使用できる。なお、数平均粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍのものが好ましい。この範囲が好ましいのは、数平均粒子径が１０ｎｍ以下になるとカーボンブラックの分散が難しく、１００ｎｍ以上では多量のカーボンブラックを添加することが必要になり、何れの場合も表面が粗くなり、出力低下の原因になるためである。また、必要に応じて、異なる数平均粒子径のカーボンブラックを２種類以上用いてもかまわない。

〈バック層：６〉
図１および図２に示すごとく、本発明の磁気テープを構成する非磁性支持体２の他方の面（磁性層３が形成されている面とは反対側の面）には、走行性の向上等を目的としてバック層６を設けることができる。バック層６は、通常、非磁性粉末とバインダ樹脂とを含む、バックコート層として構成されるが、前述した目的を達成できるものであれば、他の構成のものでもよい。バック層６の厚さは0.２〜0.８μｍが好ましい。この範囲が良いのは、0.２μｍ未満では、走行性向上効果が不充分で、0.８μｍを越えるとテープ全厚が厚くなり、１巻当たりの記録容量が小さくなるためである。カーボンブラックとしては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等を使用できる。通常、小粒子径カーボンブラックと大粒子径カーボンブラックを使用する。小粒子径カーボンブラックには、数平均粒子径が５ｎｍ〜２００ｎｍのものが使用されるが、数平均粒子径１０ｎｍ〜１００ｎｍのものがより好ましい。この範囲がより好ましいのは、数平均粒子径が１０ｎｍ以下になるとカーボンブラックの分散が難しく、数平均粒子径が１００ｎｍ以上では多量のカーボンブラックを添加することが必要になり、何れの場合も表面が粗くなり、磁性層への裏移り（エンボス）原因になるためである。大粒子径カーボンブラックとして、小粒子径カーボンブラックの５〜１５重量％、数平均粒子径２００〜４００ｎｍの大粒子径カーボンブラックを使用すると、表面も粗くならず、走行性向上効果も大きくなる。小粒子径カーボンブラックと大粒子径カーボンブラック合計の添加量は無機粉体重量を基準にして６０〜１００重量％が好ましく、７０〜１００重量％がより好ましい。中心線平均表面粗さＲａは３〜８ｎｍが好ましく、４〜７ｎｍがより好ましい。バック層６に磁性があると磁気記録層、すなわち磁性層３の磁気信号が乱れる場合があるので、通常、バック層６は非磁性である。

また、バック層６には、強度、温度・湿度寸法安定性向上等を目的に、数平均粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍの非磁性板状粉末を添加することができる。非磁性板状粉末の成分は、酸化アルミニウムに限らず、セリウムなどの希土類元素、ジルコニウム、珪素、チタン、マンガン、鉄等の元素の酸化物または複合酸化物が用いられる。導電性改良の目的で、平均粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍの板状炭素性粉末や数平均粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍの板状ＩＴＯ粉末などを添加してもよい。また、必要に応じて、数平均粒子径が0.１μｍ〜0.６μｍの粒状酸化鉄粉末を添加してもよい。添加量はバック層６中の全無機粉体の重量を基準にして２〜４０重量％が好ましく、５〜３０重量％がより好ましい。また、平均粒子径が0.１μｍ〜0.６μｍのアルミナを添加すると、耐久性がさらに向上するので好ましい。

バック層６には、バインダ樹脂として、前述した磁性層３や下塗層５に用いる樹脂と同じものを使用できるが、これらの中でも摩擦係数を低減し走行性を向上させるため、セルロース系樹脂とポリウレタン系樹脂とを複合して併用することが好ましい。バインダ樹脂の含有量は、通常、前記カーボンブラックと前記無機非磁性粉末との合計量１００重量部に対して４０〜１５０重量部、好ましくは５０〜１２０重量部、より好ましくは６０〜１１０重量部、さらに好ましくは７０〜１１０重量部である。前記範囲が好ましいのは、５０重量部未満では、バック層６の強度が不十分であり、１２０重量部を越えると摩擦係数が高くなりやすいためである。セルロース系樹脂を３０〜７０重量部、ポリウレタン系樹脂を２０〜５０重量部使用することが好ましい。また、さらにバインダ樹脂を硬化するために、ポリイソシアネート化合物などの架橋剤を用いることが好ましい。

バック層６には、前述した磁性層３や下塗層５に用いる架橋剤と同様の架橋剤を使用する。架橋剤の量は、バインダ樹脂１００重量部に対して、通常、１０〜５０重量部の割合で用いられ、好ましくは１０〜３５重量部、より好ましくは１０〜３０重量部である。前記範囲が好ましいのは、１０重量部未満ではバック層６の塗膜強度が弱くなりやすく、３５重量部を越えるとＳＵＳに対する動摩擦係数が大きくなるためである。

バック層６には、塗膜を架橋硬化させるために、磁性層３や下塗層５と同様の放射性硬化樹脂を架橋剤として使用することができる。組み合わせる放射性硬化樹脂としては、特に硬化性に優れた樹脂が好ましく、二重結合１個当りの重量平均分子量が５０〜３００の放射性硬化樹脂が好ましい。前記、二重結合１個当りの重量平均分子量が５０〜３００の放射性硬化樹脂はモノマータイプがより好ましい。放射性硬化樹脂の量は、バインダ樹脂１００重量部に対して、通常、５〜３０重量部の割合で用いられ、好ましくは７〜２５重量部、より好ましくは１０〜２０重量部である。前記範囲が好ましいのは、７重量部未満ではバック層６の塗膜強度が弱くなりやすく、２５重量部を越えるとＳＵＳに対する動摩擦係数が大きくなるためである。

２種以上の放射性硬化樹脂を組み合わせてバインダ樹脂とすることができる。この場合、ポリマータイプとモノマータイプを組み合わせることが好ましい。ポリマータイプは重量平均分子量が１万〜１０万、モノマータイプは重量平均分子量が１００〜２０００のものが好ましい。前記、モノマータイプの放射性硬化樹脂は、二重結合１個当りの重量平均分子量が５０〜３００の範囲であることがより好ましい。

本発明では、磁性層３上に樹脂を主成分とする非磁性層４を設けるために、磁性層３、下塗層５から供給される潤滑剤成分が磁性層３側の表面に供給されにくい場合がある。その場合には、バック層６に潤滑剤を含ませ、バック層６から磁性層３に潤滑剤を供給するのが好ましい。潤滑剤の種類は、磁性層３、下塗層５に用いるものと同様のものが用いられる。添加量はバック層６中の全非磁性粉末に対して0.５〜3.０重量％の脂肪酸アミド、0.２〜3.０重量％の高級脂肪酸エステル、0.５〜5.０重量％の高級脂肪酸を含有させることが好ましい。

〈有機溶剤〉
磁性塗料、下塗塗料、バック塗料、非磁性層に使用する有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル系溶剤等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で又は混合して使用され、さらにトルエンなどと混合して使用される。

以下に実施例によって本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例、比較例の部は重量部を示す。また、実施例および比較例の平均粒子径は、数平均粒子径を示す。

（実施例１）
《下塗塗料成分》
（１）
・非磁性板状酸化鉄粉末（平均粒子径：５０ｎｍ） ７６部
・カーボンブラック（平均粒子径：２５ｎｍ） ２４部
・ステアリン酸 2.０部
・塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 8.８部
（含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：0.７×１０^-4当量／ｇ）
・ポリエステルポリウレタン樹脂 4.４部
（Ｔｇ：４０℃、含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：１×１０^-4当量／ｇ）
・シクロヘキサノン ２５部
・メチルエチルケトン ４０部
・トルエン １０部
（２）
・ステアリン酸ブチル １部
・シクロヘキサノン ７０部
・メチルエチルケトン ５０部
・トルエン ２０部
（３）
・ポリイソシアネート 1.４部
・シクロヘキサノン １０部
・メチルエチルケトン １５部
・トルエン １０部

《磁性塗料成分》
（１）混練工程
磁性粉末は、下記のように合成した窒化鉄磁性粉末を使用した。
４1.９モルの硫酸鉄（II）七水塩と９7.４モルの硝酸鉄（III)九水塩を１５０kgの水に溶解した。次に、３７６モルの水酸化ナトリウムを１５０kgの水に溶解した。この２種類の鉄塩の水溶液に水酸化ナトリウムの水溶液を添加し、２０分間攪拌し、マグネタイト粒子を生成させた。このマグネタイト粒子をオートクレーブに入れ、２００℃で４時間加熱し、水熱処理後水洗した。得られたマグネタイト粒子は、粒子サイズが２５ｎｍの球状ないし楕円形であった。

このマグネタイト粒子１kgを５０Ｌの水に、超音波分散機を用いて３０分間分散させた。この分散液に２５０ｇの硝酸イットリウムを加えて溶解し、３０分間攪拌した。これとは別に、８０ｇの水酸化ナトリウムを１０Ｌの水に溶解した。この水酸化ナトリウム水溶液を上記の分散液に約３０分間かけて滴下し、滴下終了後、更に１時間攪拌した。この処理により、マグネタイト粒子表面にイットリウムの水酸化物を被着析出させた。これを水洗し、ろ過後、９０℃で乾燥して、マグネタイト粒子の表面にイットリウムの水酸化物を被着形成した粉末を得た。

このようにマグネタイト粒子の表面にイットリウムの水酸化物を被着形成した粉末を水蒸気流中４５０℃で２時間加熱還元して、イットリウム−鉄系磁性粉末を得た。次に、水素ガスを流した状態で、約１時間かけて１５０℃まで降温した。１５０℃に到達した状態で、ガスをアンモニアガスに切り替え、温度を１５０℃に保った状態で、３０時間窒化処理を行った。その後、アンモニアガスを流した状態で、１５０℃から９０℃まで降温し、９０℃でアンモニアガスから酸素と窒素の混合ガスに切り替え、２時間安定化処理を行った。次いで、混合ガスを流した状態で、９０℃から４０℃まで降温し、４０℃で約１０時間保持したのち、空気中に取り出した。

このようにして得られたイットリウム−窒化鉄系磁性粉末は、そのイットリウムと窒素の含有量を蛍光Ｘ線により測定したところ、それぞれ5.３原子％と１0.８原子％であった。また、Ｘ線回折パターンによりＦｅ₁₆Ｎ₂ 相を示すプロファイルを得た。このプロファイルによりＦｅ₁₆Ｎ₂ に基づく回折ピークと、α−Ｆｅに基づく回折ピークが観察され、このイットリウム−窒化鉄系磁性粉末がＦｅ₁₆Ｎ₂ 相とα−Ｆｅ相との混合相から成り立っていることがわかった。

さらに、高分解能分析透過電子顕微鏡で粒子形状を観察したところ、ほぼ球状の粒子で平均粒子サイズが２０ｎｍであることがわかった。また、ＢＥＴ法により求めた比表面積は、５3.２ｍ² ／ｇであった。また、この磁性粉末について、１，２７０ｋＡ／ｍ（１６ｋОｅ）の磁界を印加して測定した飽和磁化は１３5.２Ａｍ² ／kg（１３5.２ｅｍｕ／ｇ）、保磁力は２２6.９ｋＡ／ｍ（２，８５０Оｅ）であった。さらに、この磁性粉末を６０℃、９０％ＲＨ下で１週間保存したのちに、上記同様に飽和磁化を測定した結果、１１8.２Ａｍ² ／kg（１１8.２ｅｍｕ／ｇ）となり、保存前後の飽和磁化の維持率が８7.４％であった。

・磁性粉末 （Ｙ−Ｆｅ−Ｎ） １００部
（σｓ：１３5.２Ａｍ² ／kg（１３5.２ｅｍｕ／ｇ）、
Ｈｃ：２２6.９ｋＡ／ｍ（２，８５０Ｏｅ）、
平均粒子径：２０ｎｍ、軸比：1.１）
・塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 １３部
（含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：0.７×１０^-4当量／ｇ）
・ポリエステルポリウレタン樹脂（ＰＵ） 4.５部
（含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：1.０×１０^-4当量／ｇ）
・メチルアシッドホスフェート（ＭＡＰ） ２部
・テトラヒドロフラン（ＴＨＦ） ２０部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ） ９部
（２）希釈工程
・パルミチン酸アミド（ＰＡ） 1.５部
・ステアリン酸ｎ−ブチル（ＳＢ） １部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ） ３５０部
（３）配合工程
・ポリイソシアネート 1.５部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ） ２９部

《非磁性塗料成分》
・有機−無機複合樹脂（シロキサン変性エポキシ樹脂）（固形分） ４０部
（エポキシ当量：１４００ｇ／ｅｑ、シリカ含有量３６ｗｔ％）
・メチルエチルケトン ６０部
・ポリアミノアミド（アミン価４００） １０部

上記の下塗塗料成分において（１）を回分式ニーダで混練したのち、（２）を加えて攪拌の後サンドミルで滞留時間を６０分として分散処理を行い、これに（３）を加え攪拌・濾過した後、下塗塗料（下塗層５用の塗料）とした。

これとは別に、上記の磁性塗料の成分において（１）混練工程成分を予め高速混合しておき、その混合粉末を連続式２軸混練機で混練し、さらに（２）希釈工程成分を加え連続式２軸混練機で少なくとも２段階以上に分けて希釈を行い、サンドミルで滞留時間を４５分として分散し、これに（３）配合工程成分を加え攪拌・ろ過後、磁性塗料（磁性層３用の塗料）とした。さらに、上記の非磁性塗料成分を攪拌混合し非磁性塗料（非磁性層４用の塗料）とした。

上記の下塗塗料を、芳香族ポリアミドフィルム（厚さ3.９μｍ、ＭＤ＝１１ＧＰａ、ＭＤ／ＴＤ＝0.７、商品名：ミクトロン、東レ社製）からなる非磁性支持体２（ベースフィルム）上に、乾燥、カレンダ後の厚さが0.４μｍとなるように塗布して、非磁性支持体２上に下塗層５を形成した。この下塗層５上に、さらに上記の磁性塗料を磁場配向処理、乾燥、カレンダ処理後の層厚さが４０ｎｍとなるようにエクストルージョン型コータにてウエット・オン・ウエットで塗布して、磁性層３を形成した。さらに、この磁性層３上に、乾燥、カレンダ後の厚さが８ｎｍとなるようにスライドコータにて非磁性塗料を塗布し、非磁性層４を形成した。最後に磁場配向処理後、ドライヤおよび遠赤外線を用いて乾燥した。

《バック層用塗料成分》
・カーボンブラック（平均粒子径：２５ｎｍ） ８０部
・カーボンブラック（平均粒子径：３５０ｎｍ） １０部
・非磁性板状酸化鉄粉末（平均粒子径：５０ｎｍ） １０部
・ニトロセルロース ４５部
・ポリウレタン樹脂（−ＳＯ₃ Ｎａ基含有） ３０部
・ステアリン酸 １部
・ステアリン酸ブチル ２部
・シクロヘキサノン ２６０部
・トルエン ２６０部
・メチルエチルケトン ５２５部

上記のようなバック層用塗料成分をサンドミルで滞留時間４５分として分散した後、ポリイソシアネート１５部を加えてバックコート層用塗料を調整しろ過後、上記で作製した磁気シートの磁性層３の反対面にかかる非磁性支持体２上に、乾燥、カレンダ後の厚みが0.５μｍとなるように塗布し、乾燥させた。

このようにして得られた磁気シートを金属ロールからなる７段カレンダで、温度１００℃、線圧１９６ｋＮ／ｍの条件で鏡面化処理し、磁気シートをコアに巻いた状態で７０℃にて７２時間エージングしたのち、１／２インチ幅に裁断した。

スリットマシン（磁気テープ原反を所定幅の磁気テープに裁断する装置）は、構成している各種要素を下記のように改良したものを用いた。巻き出し原反からスリット刃物群に至るウェブ経路中にテンションカットローラを設け、このテンションカットローラをサクションタイプとし、吸引部は多孔質金属を埋め込んだメッシュサクションとした。刃物駆動部に動力を伝達する機構を持たないモータ直結のダイレクトドライブとした。

裁断後のテープを２００ｍ／分で走行させながら磁性層表面に対しラッピングテープ研磨、ブレード研磨そして表面拭き取りの後処理を行い、磁気テープを作製した。この時、ラッピングテープにはＫ１００００、ブレードには超硬刃、表面拭き取りには東レ社製トレシー（商品名）を用い、走行テンション0.２９４Ｎで処理を行った。上記のようにして得られた磁気テープを、カートリッジに組み込み、コンピュータ用テープを作製した。

（実施例２）
磁性粉末を、窒化鉄磁性粉末（Ｙ−Ｆｅ−Ｎ）（σｓ：１３5.２Ａｍ² ／kg（１３5.２ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：２２6.９ｋＡ／ｍ（２８５０Оｅ）、平均粒子径：２０ｎｍ、軸比：1.１）から、磁性粉末（Ｃо−Ｆｅ−Ａｌ−Ｙ）（Ｃо／Ｆｅ：２４ａｔ％、Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃо）：4.７ｗｔ％、Ｙ／（Ｆｅ＋Ｃо）：7.９ａｔ％、σｓ：１１９Ａｍ² ／kg（１１９ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１８1.４ｋＡ／ｍ（２２８０Оｅ）、平均粒径：６０ｎｍ、軸比：５）に変更し、磁性層の厚さ寸法を0.０４μｍ（４０ｎｍ）から0.０６μｍ（６０ｎｍ）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして実施例２のコンピュータ用テープを作製した。

（実施例３）
実施例２の下塗塗料成分中のポリシソシアネート1.４部を、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート1.４部に、磁性塗料成分中のポリシソシアネート1.５部を、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート1.５部に、バックコート層用塗料成分中のポリシソシアネート１５部を、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１５部に変更した。また、非磁性塗料成分を下記のように変更した。
《非磁性塗料成分》
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ４０部
・メチルエチルケトン ６０部

また、最終的な、下塗層の厚さを0.４μｍから1.２μｍに、磁性層の厚さを0.０４μｍから0.０６μｍに、非磁性層の厚さを８ｎｍから２２ｎｍに変更し、これらを３箇所の塗料吐出部を有するエクストルージョン型コータにて塗布した。塗布・乾燥後の磁気シートを窒素ガス雰囲気中で、加速電圧５０ｋＶ、照射量４Ｍrad の電子線を磁性層側およびバックコート層側からそれぞれ照射し、その後、カレンダ処理をした。磁気シートをコアに巻いた状態での７０℃にて７２時間エージングをしなかった。以上のような変更点以外は、実施例２と同様にして実施例３のコンピュータ用テープを作製した。

（実施例４）
磁性層の厚さを、６０ｎｍから１００ｎｍに変更した以外は、実施例３と同様にして実施例４のコンピュータ用テープを作製した。

（実施例５）
非磁性層の厚さを、２２ｎｍから４５ｎｍに変更した以外は、実施例３と同様にして実施例５のコンピュータ用テープを作製した。

（実施例６）
磁性粉末を、磁性粉末（Ｃо−Ｆｅ−Ａｌ−Ｙ）（Ｃо／Ｆｅ：２４ａｔ％、Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃо）：4.７ｗｔ％、Ｙ／（Ｆｅ＋Ｃо）：7.９ａｔ％、σｓ：１１９Ａｍ² ／kg（１１９ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１８1.４ｋＡ／ｍ（２２８０Оｅ）、平均粒径：６０ｎｍ、軸比：５）から、磁性粉末（Ｃｏ−Ｆｅ−Ａｌ−Ｙ）（Ｃо／Ｆｅ：３０ａｔ％、Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃо）：4.７ｗｔ％、Ｙ／（Ｆｅ＋Ｃо）：4.８ａｔ％、σｓ：１３７Ａｍ² ／kg（１３７ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１８8.６ｋＡ／ｍ（２３７０Оｅ）、平均粒径：１００ｎｍ、軸比：６）に変更したこと以外は、実施例４と同様にして実施例６のコンピュータ用テープを作製した。

（実施例７）
非磁性塗料成分、磁性塗料の混練工程成分を下記のように変更し、最終的な下塗層の厚さを0.４μｍから1.２μｍ、磁性層の厚さを４０ｎｍから６０ｎｍ、非磁性層の厚さを８ｎｍから２５ｎｍに変更し、これらを３箇所の塗料吐出部を有するエクストルージョン型コータにて塗布した以外は、実施例１と同様にして、実施例７のコンピュータ用テープを作製した。

《非磁性塗料成分》
・フェノール樹脂（重量平均分子量 ８０００） ４０部
・メチルエチルケトン ６０部
・ポリイソシアネート １０部
《磁性塗料成分》
（１）混練工程
・磁性粉末 （Ｃо−Ｆｅ−Ａｌ−Ｙ） １００部
（Ｃо／Ｆｅ：２４ａｔ％、
Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃо）：4.７ｗｔ％、
Ｙ／（Ｆｅ＋Ｃо）：7.９ａｔ％、
σｓ：１１９Ａｍ² ／kg（１１９ｅｍｕ／ｇ）、
Ｈｃ：１８1.４ｋＡ／ｍ（２２８０Ｏｅ）、
平均粒子径：６０ｎｍ、軸比：５）
・塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 １４部
（含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：0.７×１０^-4当量／ｇ）
・ポリエステルポリウレタン樹脂（ＰＵ） ５部
（含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：1.０×１０^-4当量／ｇ）
・カーボンブラック（平均粒子径：７５ｎｍ） １部
・メチルアシッドホスフェート（ＭＡＰ） ２部
・テトラヒドロフラン（ＴＨＦ） ２０部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ） ９部

（実施例８）
非磁性成分を下記のように変更し、サンドミルで滞留時間４５分として分散、ろ過後、非磁性塗料とした以外は、実施例３と同様にして実施例８のコンピュータ用テープを作製した。
《非磁性塗料成分》
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ４０部
・シリカエアロゲル（一次粒子径５ｎｍ以下） ４部
・メチルエチルケトン ６０部

（実施例９）
非磁性塗料成分中のシリカエアロゲル（一次粒子径５ｎｍ以下）４部を、フラーレン（一次粒子径１ｎｍ以下）４部に変更した以外は、実施例８と同様にして実施例９のコンピュータ用テープを作製した。

（実施例１０）
磁性層の厚さを６０ｎｍから２２０ｎｍに変更したこと以外は、実施例３と同様にして実施例１０のコンピュータ用テープを作製した。

（実施例１１）
磁性粉末を、磁性粉末（Ｃо−Ｆｅ−Ａｌ−Ｙ）（Ｃо／Ｆｅ：２４ａｔ％、Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃо）：4.７ｗｔ％、Ｙ／（Ｆｅ＋Ｃо）：7.９ａｔ％、σｓ：１１９Ａｍ² ／kg（１１９ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１８1.４ｋＡ／ｍ（２２８０Оｅ）、平均粒径：６０ｎｍ、軸比：５）からＣо−Ｆｅ−Ａｌ−Ｙ（Ｃо／Ｆｅ：３０ａｔ％、Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃо）：4.７ｗｔ％、Ｙ／（Ｆｅ＋Ｃо）：4.８ａｔ％、σｓ：１３７Ａｍ² ／kg（１３７ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１８8.６ｋＡ／ｍ（２３７０Ｏｅ）、平均粒子径：１００ｎｍ、軸比比：６）に変更したこと以外は、実施例３と同様にして実施例１１のコンピュータ用テープを作製した。

（実施例１２）
磁性粉末を、磁性粉末（Ｃо−Ｆｅ−Ａｌ−Ｙ）（Ｃо／Ｆｅ：２４ａｔ％、Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃо）：4.７ｗｔ％、Ｙ／（Ｆｅ＋Ｃо）：7.９ａｔ％、σｓ：１１９Ａｍ² ／kg（１１９ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１８1.４ｋＡ／ｍ（２２８０Оｅ）、平均粒径：６０ｎｍ、軸比：５）からＣо−Ｆｅ−Ａｌ−Ｙ（Ｃо／Ｆｅ：２０ａｔ％、Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃо）：4.７ｗｔ％、Ｙ／（Ｆｅ＋Ｃо）：2.３ａｔ％、σｓ：１４０Ａｍ² ／kg（１４０ｅｍｕ／ｇ）、Ｈｃ：１５1.６ｋＡ／ｍ（１９０５Ｏｅ）、平均粒子径：１１０ｎｍ、軸比比：６）に変更したこと以外は、実施例３と同様にして実施例１２のコンピュータ用テープを作製した。

（実施例１３）
下塗層の厚さを、1.２μｍから0.１μｍに変更した以外は、実施例３と同様にして実施例１３のコンピュータ用テープを作製した。

（実施例１４）
下塗層の厚さを、1.２μｍから1.５μｍに変更した以外は、実施例３と同様にして実施例１４のコンピュータ用テープを作製した。

（実施例１５）
バック層を設けなかったこと以外は、実施例３と同様にして実施例１５のコンピュータ用テープを作製した。

（比較例１）
非磁性層を設けず、磁性塗料の混練工程成分を下記のように変更したこと、下塗層厚さを0.４μｍから1.２μｍに変更した以外は実施例２と同様にして、比較例１のコンピュータ用テープを作製した。

《磁性塗料成分》
（１）混練工程
・磁性粉末 （Ｃｏ−Ｆｅ−Ａｌ−Ｙ） １００部
（Ｃｏ／Ｆｅ：３０ａｔ％、
Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）：4.７ｗｔ％
Ｙ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）：4.８ａｔ％
σｓ：１３７Ａｍ² ／kg（１３７ｅｍｕ／ｇ）、
Ｈｃ：１８8.６ｋＡ／ｍ（２３７０Ｏｅ）、
平均粒子径：１００ｎｍ、軸比：６）
・塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 １３部
（含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：0.７×１０^-4当量／ｇ）
・ポリエステルポリウレタン樹脂（ＰＵ） 4.５部
（含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：1.０×１０^-4当量／ｇ）
・アルミナ粉末（平均粒子径：８０ｎｍ） ８部
・メチルアシッドホスフェート（ＭＡＰ） ２部
・テトラヒドロフラン（ＴＨＦ） ２０部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ） ９部

（比較例２）
非磁性層を設けなかった以外は、実施例１１と同様にして比較例２のコンピュータ用テープを作製した。

（比較例３）
非磁性層の厚さを、２２ｎｍから５５ｎｍに変更した以外は、実施例６と同様にして比較例３のコンピュータ用テープを作製した。

（比較例４）
下塗層を設けず、磁性塗料の混練工程成分を下記のように変更したこと、磁性層の厚さを２７００ｎｍに変更したこと以外は比較例１と同様にして、比較例４のコンピュータ用テープを作製した。

《磁性塗料成分》
（１）混練工程
・磁性粉末 （Ｎｉ−Ｆｅ−Ａｌ） １００部
（Ｎｉ／Ｆｅ：0.５ｗｔ％、
Ａｌ／Ｆｅ：4.３ｗｔ％、
σｓ：１２５Ａｍ² ／kg（１２５ｅｍｕ／ｇ）、
Ｈｃ：１２7.３ｋＡ／ｍ（１６００Ｏｅ）、
平均粒子径：２８０ｎｍ、軸比：１７）
・塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 １４部
（含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：0.７×１０^-4当量／ｇ）
・ポリエステルポリウレタン樹脂（ＰＵ） ５部
（含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：1.０×１０^-4当量／ｇ）
・アルミナ粉末（平均粒子径：８０ｎｍ） ８部
・カーボンブラック（平均粒子径：７５ｎｍ） ８部
・メチルアシッドホスフェート（ＭＡＰ） ２部
・テトラヒドロフラン（ＴＨＦ） ２０部
・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（ＭＥＫ／Ａ） ９部

（比較例５）
磁性層中のアルミナ粉末（平均粒子径：８０ｎｍ）８部、カーボンブラック（平均粒子径：７５ｎｍ）８部を使用しなかったこと以外は、比較例４と同様にして比較例５のコンピュータ用テープを作製した。

（比較例６）
５５ｎｍの非磁性層を設けたこと以外は、比較例５と同様にして、比較例６のコンピュータ用テープを作製した。

（比較例７）
塗布、乾燥、鏡面化処理後の磁性層の上に、日本ポリウレタン社製ポリウレタン樹脂（Ｎ−２０３４）および潤滑剤としてステアリン酸の重量比１０：１の混合物を、濃度が５ｗｔ％になるようにトルエン・メチルエチルケトン（４：１）混合溶媒に溶解させたものをトップコートした以外は比較例１と同様にして、比較例７のコンピュータ用テープを作製した。

（比較例８）
塗布、乾燥、鏡面化処理後の磁性層の上に、日本ポリウレタン社製ポリウレタン樹脂（Ｎ−２０３４）および潤滑剤としてステアリン酸の重量比１０：１の混合物を、濃度が５ｗｔ％になるようにトルエン・メチルエチルケトン（４：１）混合溶媒に溶解させたものをトップコートした以外は比較例４と同様にして、比較例８のコンピュータ用テープを作製した。

評価の方法は、以下のように行った。
〈Ｃ／Ｎ測定〉
テープの電磁変換特性測定には、ドラムテスターを用いた。ドラムテスターには電磁誘導型ヘッド（トラック幅２５μｍ、ギャップ0.２μｍ）とＭＲヘッド（トラック幅８μｍ）を装着し、誘導型ヘッドで記録を行い、ＭＲヘッドで再生を行った。これら電磁誘導型ヘッドとＭＲヘッドは回転ドラムに対して異なる場所に設置されており、両ヘッドを上下方向に操作することで、トラッキングを合わせることができるようにした。磁気テープはカートリッジに巻き込んだ状態から適切な量を引き出して廃棄し、更に６０cmを切り出し、更に４mm幅に加工して回転ドラムの外周に巻き付けた。

出力及びノイズは、ファンクションジェネレータにより矩形波を記録電流発生器に入力制御し、波長0.２μｍの信号を書き込み、ＭＲヘッドの出力をプリアンプで増幅後、スペクトラムアナライザーに読み込んだ。0.２μｍのキャリア値を媒体出力Ｃとした。また0.２μｍの矩形波を書き込んだときに、記録波長0.２μｍ以上に相当するスペクトルの成分から、出力及びシステムノイズを差し引いた値の積分値をノイズ値Ｎとして用いた。更に両者の比をとってＣ／Ｎとし、Ｃ、Ｃ／Ｎともに比較例１のコンピュータ用テープの値との相対値を求めた。但し、比較例４〜６、および比較例８のテープについては、上記測定の記録波長を1.０μｍとして行い、Ｃ、Ｃ／Ｎを求め、比較例４のコンピュータ用テープの値を基準として相対値を求めた。

〈Ｈｃ測定〉
磁気特性は試料振動型磁束計（ＶＳＭ、東英工業社製）で、最高磁場0.８ＭＡ／ｍ（１０ｋＯｅ）の条件下で測定した。ヒステリシスループを書かせた上で、これからＭｒｔ、Ｈｃ、ＳＦＤ等の特性値を求めた。

〈スチル耐久性〉
スチル耐久性は同様にドラムテスターを用いて評価した。上記のようにテープを装着し同様の書き込み方法で0.９μｍのキャリア信号を書き込み、両ヘッドを当てたまま出力を測定し続ける。その後初期の出力値から９５％にまで落ち込んだ時間をもって、スチル寿命と定義した。

〈非磁性層の表面粗さ測定〉
最表面の表面粗さはＡＦＭ（ＤｉｇｉｔａｌＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製 Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３０００）を用いて行った。測定条件はタッピングモードで行い、視野は５μｍ×５μｍ角で１０箇所の測定を行い、平均線中心粗さＲａ、ピークバレー値Ｐ−Ｖなどの特性値を求めた。なお、測定データから最大値と最小値とを除いたものを算術平均し測定値とした。

以上の実施例に係るコンピュータ用テープに対する特性試験結果を表１に、比較例に係るコンピュータ用テープに対する特性試験結果を表２に示す。

実施例１〜１５と比較例２、５のスチル耐久性の試験結果より、実施例のように最上層に樹脂を含む本発明の非磁性層を設けてあると、磁気記録媒体の耐久性能を良好に担保できることがわかる。また、実施例１〜１５に係るスチルの測定値は、比較例１および４の磁性層にフィラーを含ませた形態に比べても遜色なく、この点でも、最上層に非磁性層を設けることが、磁気記録媒体の耐久性向上に極めて有意義であることがわかる。加えて、実施例６と比較例３のＣ／Ｎ値の比較より、最上層の非磁性層の厚さ寸法が５０ｎｍを超えると、他のパラメータ値（磁性層の厚み寸法など）が同一であってもＣ／Ｎ値が著しく低下する傾向がみられ、短波長記録特性が不良となることが確認できた。

次に、図３ないし図８を用いて、本発明の各種数値の臨界的意義等を明らかにする。まず図３に、非磁性層の厚さ寸法と、磁気テープのスチル耐久性およびＣ／Ｎとの関係を示す。そこでは、実施例２のコンピュータ用テープを基本形態として、非磁性層の厚さ寸法のみを０〜６０ｎｍの範囲で変化させた。

図３のスチル耐久性の曲線から明らかなように、非磁性層厚さが１ｎｍ以上（特に、５ｎｍ以上）であると、スチル耐久性が向上するが、スチル耐久性効果は非磁性層厚さが５０ｎｍ以上になると飽和することがわかる。なお、非磁性層厚さが８ｎｍ以上について実験を行ったが、非磁性層厚さが、１ｎｍ以上（特に、５ｎｍ以上）にすると、スチル耐久性が向上することは明らかである。

また、図３のＣ／Ｎを示す曲線から明らかなように、非磁性層がない場合にはスチル耐久性が極めて悪いためＣ／Ｎの評価はできなかったが、非磁性層厚さを５ｎｍ以上にすると、Ｃ／Ｎ測定が可能になる。Ｃ／Ｎは非磁性層厚さが厚くなると共に小さくなる傾向にある。以上のスチル耐久性およびＣ／Ｎの評価結果から、非磁性層厚さが、１ｎｍ以上５０ｎｍ以下（特に、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下）にすると、スチル耐久性およびＣ／Ｎの高い磁気テープが得られることが確認できた。

図４に、非磁性層に使用する樹脂と、磁気テープのスチル耐久性およびＣ／Ｎとの関係を示す。そこでは、非磁性層の厚み寸法等の各種パラメータ値は固定としたうえで、非磁性層に含まれる樹脂のみを変化させた。具体的には、非磁性層の厚み寸法は２２ｎｍ、磁性層の厚み寸法は６０ｎｍ、磁性粉サイズは６０ｎｍ（保磁力１８1.４ｋＡ／ｍ）、磁性層にはフィラーを含ませず、下塗層の厚み寸法は1.２μｍ、バック層の厚み寸法は0.５μｍとしたうえで、非磁性層に含まれる樹脂のみを図４に示すように変化させた。

図４より、何れの樹脂を使用してもＣ／Ｎの値は略一定であることがわかる。但し、スチル耐久性の値は、ＥＢ樹脂（すなわち放射性硬化樹脂）、および有機−無機複合樹脂が熱硬化性樹脂に比べて良好であることが確認できた。

図５は、磁性層厚さと、磁気テープのスチル耐久性およびＣ／Ｎとの関係を示したものである。そこでは、非磁性層厚み寸法等の各種パラメータ値は固定としたうえで、磁性層の厚み寸法のみを変化させた。具体的には、非磁性層（ＥＢ樹脂含有）の厚み寸法は２２ｎｍ、磁性粉サイズは６０ｎｍ（保磁力１８1.４ｋＡ／ｍ）、磁性層にはフィラーを含ませず、下塗層の厚み寸法は1.２μｍ、バック層の厚み寸法は0.５μｍとしたうえで、磁性層の厚み寸法のみを４０〜２５０ｎｍの範囲で変化させた。

図５より、スチル耐久性は実験の範囲内（磁性層厚さ４０〜２５０ｎｍ）で略一定の値を示すが、Ｃ／Ｎは磁性層の厚さが薄いほど高くなる傾向にあり、２００ｎｍを超えると、急激にＣ／Ｎ特性は劣化することがわかる。以上より、スチル耐久性、Ｃ／Ｎの高い磁気テープを得るためには、磁性層の厚さを２００ｎｍ以下とすることが好適であり、上述の傾向からして、磁性層の厚み寸法は、１０〜２００ｎｍ（0.０１〜0.２μｍ）にすることが好ましいことがわかる。

図６に、下塗層の厚さ寸法と、磁気テープのスチル耐久性およびＣ／Ｎとの関係を示す。そこでは、非磁性層厚み寸法等の各種パラメータ値は固定としたうえで、下塗層の厚み寸法のみを変化させた。具体的には、非磁性層（ＥＢ樹脂含有）の厚み寸法は２２ｎｍ、磁性層の厚み寸法は６０ｎｍ、磁性粉サイズは６０ｎｍ（保磁力１８1.４ｋＡ／ｍ）、磁性層にはフィラーを含ませず、バック層の厚み寸法は0.５μｍとしたうえで、下塗層の厚み寸法のみを0.１〜1.６μｍの範囲で変化させた。

図６から明らかなように、スチル耐久性は下塗層の厚さによらず高い値を示す。また、Ｃ／Ｎは、下塗層の厚さが0.１μｍでは約３ｄＢと比較的小さいが、0.２μｍ以上になると高くなり、下塗層厚さが0.４μｍ以上で略一定になることがわかる。このように下塗層厚さが0.１μｍであると、Ｃ／Ｎが低くなるのは、最上層の表面粗さがやや大きいためである。この場合でも、比較例１の従来の磁気テープに比べてＣ／Ｎが高い。以上より、スチル耐久性、Ｃ／Ｎの高い磁気テープを得るためには、下塗層の厚さ寸法を0.２μｍ以上とすることが好適であることがわかる。また、下塗層の厚さ寸法が1.５μｍを越えると磁気テープの全厚が厚くなり過ぎてテープ１巻当りの記録容量が小さくなることを勘案すると、本発明における下塗相の厚さ寸法の好適な数値範囲は、0.２〜1.５μｍにあると考える。

図７に、磁性粉末の平均粒子径と、磁気テープのスチル耐久性およびＣ／Ｎとの関係を示す。そこでは、非磁性層厚み寸法等の各種パラメータ値は固定としたうえで、磁性粉の平均粒子径のみを変化させた。具体的には、非磁性層（ＥＢ樹脂含有）の厚み寸法は２２ｎｍ、磁性層の厚み寸法は６０ｎｍ、磁性層にはフィラーを含ませず、下塗層の厚み寸法は1.２μｍ、バック層の厚み寸法は0.５μｍとしたうえで、磁性粉の平均粒子径のみを２０〜１１０ｎｍの範囲で変化させた。なお、磁性粉サイズが２０ｎｍのものは球状形状で、他は針状形状であり、針状形状における平均粒子径は、その長軸長で規定した。

図７から明らかなように、スチル耐久性は、磁性粉サイズが４５ｎｍの針状形状の磁性粉を使用した場合に若干小さい値を示すことと、磁性粉サイズが２０ｎｍの球状形状の磁性粉を使用した場合に若干高い値を示すことを除き、磁性粉サイズによらず良好な値を示すことがわかる。また、Ｃ／Ｎは、磁性粉サイズが小さくなるほど高くなる傾向にあり、とくに１００ｎｍを超えると低い値となることがわかる。以上の傾向より、磁性粉末の平均粒子径は１００ｎｍ以下であることが好ましいことがわかる。加えて、平均粒子径が５ｎｍ未満では、粒子の表面エネルギーが大きくなって分散が困難になることを勘案すると、本発明における磁性粉末の平均粒子径の好適な数値範囲は、５〜１００ｎｍにあると考える。

図８に、非磁性層の表面粗さ（Ｐ−Ｖ値）と、磁気テープのスチル耐久性およびＣ／Ｎとの関係を示す。そこでは、非磁性層厚み寸法等の各種パラメータ値は固定としたうえで、非磁性層の表面粗さのみを変化させた。具体的には、非磁性層（有機−無機複合樹脂含有）の厚み寸法は８ｎｍ、磁性層の厚み寸法は４０ｎｍ、磁性層にはフィラーを含ませず、下塗層の厚み寸法は1.２μｍ、バック層の厚み寸法は0.５μｍ、磁性粉サイズが２０ｎｍのものは球状形状としたうえで、下塗層の非磁性板状酸化鉄粉末（平均粒子径：５０ｎｍ）７６部の代わりに、（非磁性板状酸化鉄粉末＋アルミナ粉末）の合計量が７６部一定として、アルミナ粉末（平均粒子径：２５０ｎｍ）の添加量を変化させて、下塗層を形成することにより、非磁性層の表面粗さを変化させた。

図８から明らかなように、非磁性層の表面粗さ（Ｐ−Ｖ値）が小さくなると、Ｃ／Ｎが良好になる傾向が見られ、実験した範囲内では、Ｐ−Ｖ値が５ｎｍのものが最も高いＣ／Ｎが得られた。Ｐ−Ｖ値が２０ｎｍを越えるとＣ／Ｎは大きく下がった。一方、スチル耐久性は、非磁性層の表面粗さ（Ｐ−Ｖ値）が小さくなると、徐々に低下する傾向が見られる。Ｐ−Ｖ値が５ｎｍまで実験を行ったが、Ｐ−Ｖが２ｎｍ以下では走行が不安定になることを勘案すると、非磁性層の表面粗さ（Ｐ−Ｖ値）の好ましい範囲は、Ｐ−Ｖ値で、２〜２０ｎｍの範囲であると考えられる。

上記実施例では、磁気記録媒体としてコンピュータ用テープを示したが、本発明はテープ形態の磁気記録媒体に限られず、ディスク形の磁気記録媒体であってもよい。

本発明に係る磁気記録媒体の縦断側面図 本発明の別実施形態に係る磁気記録媒体の縦断側面図 非磁性層の厚さ寸法と、磁気テープのスチル耐久性およびＣ／Ｎとの関係を示す図 非磁性層に使用する樹脂と、磁気テープのスチル耐久性およびＣ／Ｎとの関係を示す図 磁性層厚さと、磁気テープのスチル耐久性およびＣ／Ｎとの関係を示す図 下塗層の厚さ寸法と、磁気テープのスチル耐久性およびＣ／Ｎとの関係を示す図 磁性粉末の平均粒子径と、磁気テープのスチル耐久性およびＣ／Ｎとの関係を示す図 非磁性層の表面粗さ（Ｐ−Ｖ値）と、磁気テープのスチル耐久性およびＣ／Ｎとの関係を示す図

符号の説明

１ 磁気記録媒体
２ 可撓性非磁性支持体
３ 磁性層
４ 非磁性層
５ 下塗層
６ バック層

Claims (5)

1. 可撓性非磁性支持体の少なくとも一方の面に、磁性粉末を含む磁性層を有する磁気記録媒体において、
   前記磁性層が設けられた側の最上層が、樹脂を含有する、厚さ寸法が１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下、表面粗さ（Ｐ−Ｖ）が２ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の非磁性層であることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 前記非磁性層に含まれる樹脂が、放射性硬化樹脂を含むものである請求項１記載の磁気記録媒体。
3. 前記非磁性層に含まれる樹脂が、有機−無機複合樹脂を含むものである請求項１または２記載の磁気記録媒体。
4. 可撓性非磁性支持体の少なくとも一方の面に、磁性粉末を含む磁性層を有する磁気記録媒体を製造する方法であって、
   前記磁性層が設けられた側の最上層に、非磁性塗料を塗布してなる非磁性層を形成する工程を含み、
   前記非磁性層が、樹脂を含有するものであって、その厚さ寸法が１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
5. 前記非磁性層、前記磁性層を、少なくとも一つ以上のスライド式コータを用いることにより形成する請求項４記載の磁気記録媒体の製造方法。

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