JPH0628714A - 光情報記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
光情報記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH0628714A JPH0628714A JP4182372A JP18237292A JPH0628714A JP H0628714 A JPH0628714 A JP H0628714A JP 4182372 A JP4182372 A JP 4182372A JP 18237292 A JP18237292 A JP 18237292A JP H0628714 A JPH0628714 A JP H0628714A
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- JP
- Japan
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- film
- protective film
- recording medium
- information recording
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 保護膜材料を工夫することで、光情報記録媒
体の帯電防止性能、耐擦傷性、それに記録膜又は反射膜
の耐食性を向上する。 【構成】 基板上に積層された１層又は多層の薄膜７の
外面を、ポリアニリンに酸をドーピングしてなる電気伝
導性材料からなる保護膜９にて覆った。保護膜９は、酸
をドーピングしたポリアニリンをＮ−メチルピロリドン
又はＮ−メチルピロリドン混合溶媒に溶解させた液状体
を作製し、これを適宜の方法で基板１上に成膜された薄
膜７の外面にスピンコートあるいはディッピング等する
ことによって、形成できる。
体の帯電防止性能、耐擦傷性、それに記録膜又は反射膜
の耐食性を向上する。 【構成】 基板上に積層された１層又は多層の薄膜７の
外面を、ポリアニリンに酸をドーピングしてなる電気伝
導性材料からなる保護膜９にて覆った。保護膜９は、酸
をドーピングしたポリアニリンをＮ−メチルピロリドン
又はＮ−メチルピロリドン混合溶媒に溶解させた液状体
を作製し、これを適宜の方法で基板１上に成膜された薄
膜７の外面にスピンコートあるいはディッピング等する
ことによって、形成できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光情報記録媒体に係
り、特に、記録膜等を機械的衝撃や化学的影響などから
保護する保護膜の材料と形成方法に関する。
り、特に、記録膜等を機械的衝撃や化学的影響などから
保護する保護膜の材料と形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、単板構造の光情報記録媒体に
おいては、基板上に設けられた記録膜や反射膜等の薄膜
を機械的衝撃や化学的影響などから保護するための保護
膜が設けられている。保護膜材料としては、有機高分子
材料と無機誘電体材料とがあるが、無機誘電体材料は、
成膜中にピンホール等の欠陥が生じやすく、また使用中
にクラック等を生じやすいという欠点があるために、有
機高分子材料が多用されている。保護膜用の有機高分子
材料としては、成膜を比較的容易に行なえる等の理由か
ら、紫外線硬化性樹脂や室温硬化樹脂が通常用いられて
いる。
おいては、基板上に設けられた記録膜や反射膜等の薄膜
を機械的衝撃や化学的影響などから保護するための保護
膜が設けられている。保護膜材料としては、有機高分子
材料と無機誘電体材料とがあるが、無機誘電体材料は、
成膜中にピンホール等の欠陥が生じやすく、また使用中
にクラック等を生じやすいという欠点があるために、有
機高分子材料が多用されている。保護膜用の有機高分子
材料としては、成膜を比較的容易に行なえる等の理由か
ら、紫外線硬化性樹脂や室温硬化樹脂が通常用いられて
いる。
【０００３】ところで、単板構造の光磁気ディスクを介
して、その基板側に光学ヘッドを、保護膜側に磁気ヘッ
ドを配置し、光学ヘッドより所定強度のレーザビームを
照射して光磁気記録膜をキュリー温度又は補償温度近傍
まで昇温しつつ、該昇温部に前記磁気ヘッドより磁界を
印加して情報を磁気光学的に記録する光磁気記録再生シ
ステムが従来より知られている。この種のシステムにお
ける磁気ヘッドの支持方式には、情報の記録、再生、消
去時に、磁気ヘッドを保護膜に摺動させる方式と、磁気
ヘッドを保護膜面からわずかに浮上させる方式とがある
が、浮上方式を採用した場合にも、少なくとも光磁気デ
ィスクの起動時及び停止時には磁気ヘッドが保護膜上を
摺動するので、摩擦による光磁気ディスクの帯電及び保
護膜の損傷が問題になる。
して、その基板側に光学ヘッドを、保護膜側に磁気ヘッ
ドを配置し、光学ヘッドより所定強度のレーザビームを
照射して光磁気記録膜をキュリー温度又は補償温度近傍
まで昇温しつつ、該昇温部に前記磁気ヘッドより磁界を
印加して情報を磁気光学的に記録する光磁気記録再生シ
ステムが従来より知られている。この種のシステムにお
ける磁気ヘッドの支持方式には、情報の記録、再生、消
去時に、磁気ヘッドを保護膜に摺動させる方式と、磁気
ヘッドを保護膜面からわずかに浮上させる方式とがある
が、浮上方式を採用した場合にも、少なくとも光磁気デ
ィスクの起動時及び停止時には磁気ヘッドが保護膜上を
摺動するので、摩擦による光磁気ディスクの帯電及び保
護膜の損傷が問題になる。
【０００４】かかる不都合を解決するため、従来より、
保護膜上に滑性剤及び帯電防止剤を塗布したり、あるい
は保護膜中に滑性剤及び帯電防止剤を混入する等の対策
がとられている。
保護膜上に滑性剤及び帯電防止剤を塗布したり、あるい
は保護膜中に滑性剤及び帯電防止剤を混入する等の対策
がとられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、保護膜上に
滑性剤及び帯電防止剤を塗布する方法は、磁気ヘッドと
の摩擦によって滑性剤及び帯電防止剤が脱落されるため
に、帯電防止効果及び保護効果が長続きしないという問
題がある。また、保護膜中に滑性剤及び帯電防止剤を混
入する方法は、保護膜が吸湿しやすくなって記録膜又は
反射膜の耐食性が害されるという問題がある。したがっ
て、磁気ヘッドを用いた光磁気記録再生システムの実用
性を高めるためには、叙上の諸問題を生じることなく、
摩擦による光磁気ディスクの帯電及び保護膜の損傷を防
止可能な保護膜材料の開発が不可欠である。本発明はか
かる課題を解決するためになされたものであって、その
目的は、帯電防止性及び耐擦傷性に優れた光情報記録媒
体を提供すること、及びそのような光情報記録媒体を効
率的に作製する方法を提供することにある。
滑性剤及び帯電防止剤を塗布する方法は、磁気ヘッドと
の摩擦によって滑性剤及び帯電防止剤が脱落されるため
に、帯電防止効果及び保護効果が長続きしないという問
題がある。また、保護膜中に滑性剤及び帯電防止剤を混
入する方法は、保護膜が吸湿しやすくなって記録膜又は
反射膜の耐食性が害されるという問題がある。したがっ
て、磁気ヘッドを用いた光磁気記録再生システムの実用
性を高めるためには、叙上の諸問題を生じることなく、
摩擦による光磁気ディスクの帯電及び保護膜の損傷を防
止可能な保護膜材料の開発が不可欠である。本発明はか
かる課題を解決するためになされたものであって、その
目的は、帯電防止性及び耐擦傷性に優れた光情報記録媒
体を提供すること、及びそのような光情報記録媒体を効
率的に作製する方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するため、基板上に少なくとも記録膜又は反射膜を
含む１層又は多層の薄膜を設け、この薄膜の外面を保護
膜にて覆ってなる光情報記録媒体において、前記保護膜
を、ポリアニリンに酸をドーピングしてなる電気伝導性
材料にて形成した。前記ポリアニリンとしては、スピン
コート法による成膜を容易にするため、数平均分子量が
５００００以下のものが特に好ましい。
達成するため、基板上に少なくとも記録膜又は反射膜を
含む１層又は多層の薄膜を設け、この薄膜の外面を保護
膜にて覆ってなる光情報記録媒体において、前記保護膜
を、ポリアニリンに酸をドーピングしてなる電気伝導性
材料にて形成した。前記ポリアニリンとしては、スピン
コート法による成膜を容易にするため、数平均分子量が
５００００以下のものが特に好ましい。
【０００７】また、前記構造の光情報記録媒体の製造方
法として、記録膜等の薄膜を適宜の方法で成膜した後、
この薄膜の外面に、酸をドーピングしたポリアニリンを
Ｎ−メチルピロリドン又はＮ−メチルピロリドン混合溶
媒に溶解させた液状体をスピンコート法し、しかる後
に、前記溶媒を揮発させてポリアニリンの皮膜を形成す
るといった方法を採用した。
法として、記録膜等の薄膜を適宜の方法で成膜した後、
この薄膜の外面に、酸をドーピングしたポリアニリンを
Ｎ−メチルピロリドン又はＮ−メチルピロリドン混合溶
媒に溶解させた液状体をスピンコート法し、しかる後
に、前記溶媒を揮発させてポリアニリンの皮膜を形成す
るといった方法を採用した。
【０００８】
【作用】ポリアニリンに酸をドーピングしてなる電気伝
導性材料にて形成された保護膜は、表面抵抗値が１０3
〜１０8Ωと小さく、良好な帯電防止性能を示す。ま
た、硬度が高く、良好な耐擦傷性を示す。また、保護膜
が剥離されないかぎりこれらの効果が永続するので、実
用性に優れる。さらには、保護膜中に粉体あるいは粒体
等を混入する構成ではないので、不透水性が劣化せず、
記録膜等の防食効果が高い。したがって、記録膜等の防
食効果を犠牲にすることがなく、帯電防止効果及び耐擦
傷性が永続する光情報記録媒体を提供できる。
導性材料にて形成された保護膜は、表面抵抗値が１０3
〜１０8Ωと小さく、良好な帯電防止性能を示す。ま
た、硬度が高く、良好な耐擦傷性を示す。また、保護膜
が剥離されないかぎりこれらの効果が永続するので、実
用性に優れる。さらには、保護膜中に粉体あるいは粒体
等を混入する構成ではないので、不透水性が劣化せず、
記録膜等の防食効果が高い。したがって、記録膜等の防
食効果を犠牲にすることがなく、帯電防止効果及び耐擦
傷性が永続する光情報記録媒体を提供できる。
【０００９】一方、前記の保護膜形成方法によれば、ス
ピンコート法によって保護膜を形成できるので、従来に
比べて光情報記録媒体の製造工程が複雑化することもな
い。
ピンコート法によって保護膜を形成できるので、従来に
比べて光情報記録媒体の製造工程が複雑化することもな
い。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１及び図２に基
づいて説明する。図１は実施例に係る光磁気ディスクの
要部断面図、図２は単板構造の光磁気ディスクの断面図
である。
づいて説明する。図１は実施例に係る光磁気ディスクの
要部断面図、図２は単板構造の光磁気ディスクの断面図
である。
【００１１】図１及び図２に示すように、本例の光磁気
ディスクは、透明基板１のプリフォーマットパターン形
成面２に、第１エンハンス３と、光磁気記録膜４と、第
２エンハンス５と、反射膜６とからなる多層の薄膜７を
この順に積層し、この多層の薄膜７を第１保護膜８にて
覆い、さらにこの第１保護膜８の外面を第２保護膜９に
て覆った構造になっている。
ディスクは、透明基板１のプリフォーマットパターン形
成面２に、第１エンハンス３と、光磁気記録膜４と、第
２エンハンス５と、反射膜６とからなる多層の薄膜７を
この順に積層し、この多層の薄膜７を第１保護膜８にて
覆い、さらにこの第１保護膜８の外面を第２保護膜９に
て覆った構造になっている。
【００１２】透明基板１の材質や製造方法、それにフォ
ーマットパターン２の配列等については、公知に属する
技術であり、かつ本発明の要旨でもないので、説明を省
略する。これらについては、光磁気ディスクの種類に応
じて、公知に属する適宜の技術を応用して作製できる。
ーマットパターン２の配列等については、公知に属する
技術であり、かつ本発明の要旨でもないので、説明を省
略する。これらについては、光磁気ディスクの種類に応
じて、公知に属する適宜の技術を応用して作製できる。
【００１３】第１エンハンス３は、透明基板１と光磁気
記録膜４との間で再生用光ビームを多重干渉させ、見掛
け上のカー回転角を大きくするために設けられるもので
あって、透明基板１よりも屈折率が大きな透明体、例え
ば無機誘電体などをもって形成される。
記録膜４との間で再生用光ビームを多重干渉させ、見掛
け上のカー回転角を大きくするために設けられるもので
あって、透明基板１よりも屈折率が大きな透明体、例え
ば無機誘電体などをもって形成される。
【００１４】光磁気記録膜４は、公知に属する任意のカ
ー効果あるいはファラデー効果を有する材料をもって形
成できるが、カー回転角及びファラデー回転角が大きい
ことなどから、希土類−遷移金属系の非晶質垂直磁化膜
が特に好適である。
ー効果あるいはファラデー効果を有する材料をもって形
成できるが、カー回転角及びファラデー回転角が大きい
ことなどから、希土類−遷移金属系の非晶質垂直磁化膜
が特に好適である。
【００１５】第２エンハンス５は、光磁気記録膜４と反
射膜６との間で再生用光ビームを多重干渉させ、見掛け
上のカー回転角を大きくするために設けられるものであ
って、前記第１エンハンス３と同様の透明体をもって形
成される。
射膜６との間で再生用光ビームを多重干渉させ、見掛け
上のカー回転角を大きくするために設けられるものであ
って、前記第１エンハンス３と同様の透明体をもって形
成される。
【００１６】反射膜６は、薄膜７の反射率を高め、光磁
気ディスクからの再生信号出力を高めるためのものであ
って、例えばアルミニウムや金、あるいはこれらの各金
属材料を主成分とする合金などをもって形成される。
気ディスクからの再生信号出力を高めるためのものであ
って、例えばアルミニウムや金、あるいはこれらの各金
属材料を主成分とする合金などをもって形成される。
【００１７】第１保護膜８は、紫外線硬化性樹脂や室温
硬化樹脂などの有機高分子材料や、窒化珪素、酸化珪
素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウムなどの無機誘
電体材料をもって形成される。これらの各膜３，４，
５，６，８は、スパッタリング法などの真空成膜法によ
って連続的に形成される。
硬化樹脂などの有機高分子材料や、窒化珪素、酸化珪
素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウムなどの無機誘
電体材料をもって形成される。これらの各膜３，４，
５，６，８は、スパッタリング法などの真空成膜法によ
って連続的に形成される。
【００１８】第２保護膜９は、ポリアニリンに陽子（プ
ロトン）供与体としての酸をドーピングしてなる電気伝
導性材料をもって形成される。具体的には、酸をドーピ
ングしたポリアニリンをＮ−メチルピロリドン又はＮ−
メチルピロリドン混合溶媒に溶解させ、この液状体を前
記の各膜３，４，５，６，８を覆うようにスピンコート
又はディッピングし、しかる後に、前記溶媒を揮発させ
ることによって形成できる。前記ポリアニリンとして
は、スピンコートあるいはディッピングによる成膜を容
易にするため、数平均分子量が５００００以下のものが
特に好ましい。
ロトン）供与体としての酸をドーピングしてなる電気伝
導性材料をもって形成される。具体的には、酸をドーピ
ングしたポリアニリンをＮ−メチルピロリドン又はＮ−
メチルピロリドン混合溶媒に溶解させ、この液状体を前
記の各膜３，４，５，６，８を覆うようにスピンコート
又はディッピングし、しかる後に、前記溶媒を揮発させ
ることによって形成できる。前記ポリアニリンとして
は、スピンコートあるいはディッピングによる成膜を容
易にするため、数平均分子量が５００００以下のものが
特に好ましい。
【００１９】以下に、より具体的な実施の一例を示し、
本発明の効果を明らかにする。ポリカーボネート基板の
プリフォーマットパターン形成面に、ＳｉＮ第１エンハ
ンス膜と、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ系非晶質垂直磁化膜からな
る光磁気記録膜と、ＳｉＮ第２エンハンス膜と、アルミ
ニウム反射膜とをこの順にスパッタリング成膜した後、
これらの各膜を覆うように、紫外線硬化性樹脂保護膜を
スピンコートした。ついで、数平均分子量が２６０００
のポリアニリンに硫酸をドーピングし、ＮＨ原子量と水
素イオンとの比が３：１に調整された物質をＮ−メチル
−２−ピロリドンに溶解し、１０重量％の溶液を得た。
この溶液を前記紫外線硬化性樹脂保護膜上にスピンコー
トし、乾燥後膜厚が２μｍの皮膜を得た。
本発明の効果を明らかにする。ポリカーボネート基板の
プリフォーマットパターン形成面に、ＳｉＮ第１エンハ
ンス膜と、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ系非晶質垂直磁化膜からな
る光磁気記録膜と、ＳｉＮ第２エンハンス膜と、アルミ
ニウム反射膜とをこの順にスパッタリング成膜した後、
これらの各膜を覆うように、紫外線硬化性樹脂保護膜を
スピンコートした。ついで、数平均分子量が２６０００
のポリアニリンに硫酸をドーピングし、ＮＨ原子量と水
素イオンとの比が３：１に調整された物質をＮ−メチル
−２−ピロリドンに溶解し、１０重量％の溶液を得た。
この溶液を前記紫外線硬化性樹脂保護膜上にスピンコー
トし、乾燥後膜厚が２μｍの皮膜を得た。
【００２０】この光磁気ディスクを気温が８０℃で相対
湿度が９０％の環境に２０００時間放置し、その後に再
生ＣＮ値を測定して初期値（加速環境試験実施前の再生
ＣＮ値）と比較したところ、再生ＣＮ値の劣化は約２％
に止まっており、実用上充分な耐環境性を具備している
ことが判った。
湿度が９０％の環境に２０００時間放置し、その後に再
生ＣＮ値を測定して初期値（加速環境試験実施前の再生
ＣＮ値）と比較したところ、再生ＣＮ値の劣化は約２％
に止まっており、実用上充分な耐環境性を具備している
ことが判った。
【００２１】また、前記の光磁気ディスクをドライブ装
置に装着し、１つのトラックに磁気ヘッドを摺動させて
連続運転し、運転時間と再生ＣＮ値との関係を測定した
ところ、２０００時間経過時の再生ＣＮ値の劣化は約１
０％に止まっており、実用上充分な耐擦傷性を具備して
いることが判った。
置に装着し、１つのトラックに磁気ヘッドを摺動させて
連続運転し、運転時間と再生ＣＮ値との関係を測定した
ところ、２０００時間経過時の再生ＣＮ値の劣化は約１
０％に止まっており、実用上充分な耐擦傷性を具備して
いることが判った。
【００２２】なお、本発明の要旨は、前記実施例に限定
されるものではない。以下に、本発明の他に実施例を列
挙する。 前記実施例においては、光磁気ディスクを例にとって
説明したが、追記形あるいは再生専用形など、他種の光
磁気記録媒体にも応用できる。 前記実施例においては、紫外線硬化性樹脂などからな
る第１保護膜８の上に酸をドーピングしたポリアニリン
からなる第２保護膜９を積層したが、第１保護膜８を省
略することもできる。この場合には、第２保護膜９の膜
厚を厚くすることがより好ましい。 前記実施例においては、光磁気ディスクに、第１エン
ハンス膜３と、光磁気記録膜４と、第２エンハンス膜５
と、反射膜６とを備えたが、光磁気記録膜４を除く他の
膜については、必要に応じて適宜取捨できる。
されるものではない。以下に、本発明の他に実施例を列
挙する。 前記実施例においては、光磁気ディスクを例にとって
説明したが、追記形あるいは再生専用形など、他種の光
磁気記録媒体にも応用できる。 前記実施例においては、紫外線硬化性樹脂などからな
る第１保護膜８の上に酸をドーピングしたポリアニリン
からなる第２保護膜９を積層したが、第１保護膜８を省
略することもできる。この場合には、第２保護膜９の膜
厚を厚くすることがより好ましい。 前記実施例においては、光磁気ディスクに、第１エン
ハンス膜３と、光磁気記録膜４と、第２エンハンス膜５
と、反射膜６とを備えたが、光磁気記録膜４を除く他の
膜については、必要に応じて適宜取捨できる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
ポリアニリンに酸をドーピングしてなる電気伝導性材料
を用いて保護膜を形成したので、良好な帯電防止性能と
耐擦傷性、それに記録膜又は反射膜の耐食性が得られ
る。
ポリアニリンに酸をドーピングしてなる電気伝導性材料
を用いて保護膜を形成したので、良好な帯電防止性能と
耐擦傷性、それに記録膜又は反射膜の耐食性が得られ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例に係る光磁気ディスクの要部拡大断面図
である。
である。
【図２】単板構造の光磁気ディスクの断面図である。
【符号の説明】 １ 透明基板 ４ 光磁気記録膜 ９ 第２の保護膜（ポリアニリン膜）
Claims (3)
- 【請求項１】 基板上に少なくとも記録膜又は反射膜を
含む１層又は多層の薄膜を設け、この薄膜の外面を保護
膜にて覆ってなる光情報記録媒体において、前記保護膜
を、ポリアニリンに酸をドーピングしてなる電気伝導性
材料にて形成したことを特徴とする光情報記録媒体。 - 【請求項２】 請求項１において、前記ポリアニリンと
して、数平均分子量が５００００以下のものを用いたこ
とを特徴とする光情報記録媒体。 - 【請求項３】 基板上に少なくとも記録膜又は反射膜を
含む１層又は多層の薄膜を設け、この薄膜の外面を保護
膜にて覆ってなる光情報記録媒体の製造方法において、
前記薄膜を適宜の方法で成膜した後、この薄膜の外面
に、酸をドーピングしたポリアニリンをＮ−メチルピロ
リドン又はＮ−メチルピロリドン混合溶媒に溶解させた
液状体をスピンコート法し、しかる後に、前記溶媒を揮
発させてポリアニリンの皮膜を形成することを特徴とす
る光情報記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4182372A JPH0628714A (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | 光情報記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4182372A JPH0628714A (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | 光情報記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0628714A true JPH0628714A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=16117163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4182372A Withdrawn JPH0628714A (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | 光情報記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0628714A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0758671A3 (en) * | 1995-08-10 | 1997-02-26 | Eastman Kodak Company | Electrically conductive composition and elements containing solubilized polyaniline complex |
| KR20010069012A (ko) * | 2000-01-11 | 2001-07-23 | 구자홍 | 광 디스크 및 그의 스크래치 방지방법 |
-
1992
- 1992-07-09 JP JP4182372A patent/JPH0628714A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0758671A3 (en) * | 1995-08-10 | 1997-02-26 | Eastman Kodak Company | Electrically conductive composition and elements containing solubilized polyaniline complex |
| US5716550A (en) * | 1995-08-10 | 1998-02-10 | Eastman Kodak Company | Electrically conductive composition and elements containing solubilized polyaniline complex and solvent mixture |
| US5910385A (en) * | 1995-08-10 | 1999-06-08 | Eastman Kodak Company | Electrically conductive composition and elements containing solubilized polyaniline complex |
| KR20010069012A (ko) * | 2000-01-11 | 2001-07-23 | 구자홍 | 광 디스크 및 그의 스크래치 방지방법 |
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