JP3336051B2 - 光磁気ディスク - Google Patents
光磁気ディスクInfo
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- JP3336051B2 JP3336051B2 JP32949192A JP32949192A JP3336051B2 JP 3336051 B2 JP3336051 B2 JP 3336051B2 JP 32949192 A JP32949192 A JP 32949192A JP 32949192 A JP32949192 A JP 32949192A JP 3336051 B2 JP3336051 B2 JP 3336051B2
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- magneto
- protective film
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光情報記録媒体に係
り、特に、記録膜等を機械的衝撃や化学的影響などから
保護する保護膜に関する。
り、特に、記録膜等を機械的衝撃や化学的影響などから
保護する保護膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、光情報記録媒体においては、
基板上に設けられた記録膜や反射膜等の薄膜を機械的衝
撃や化学的影響などから保護するための保護膜が設けら
れている。保護膜材料としては、有機高分子材料と無機
誘電体材料とがあるが、無機誘電体材料は、成膜中にピ
ンホール等の欠陥が生じやすく、また使用中にクラック
等を生じやすいという欠点があるために、有機高分子材
料が多用されている。保護膜用の有機高分子材料として
は、成膜を比較的容易に行なえる等の理由から、紫外線
硬化性樹脂や室温硬化樹脂が通常用いられている。
基板上に設けられた記録膜や反射膜等の薄膜を機械的衝
撃や化学的影響などから保護するための保護膜が設けら
れている。保護膜材料としては、有機高分子材料と無機
誘電体材料とがあるが、無機誘電体材料は、成膜中にピ
ンホール等の欠陥が生じやすく、また使用中にクラック
等を生じやすいという欠点があるために、有機高分子材
料が多用されている。保護膜用の有機高分子材料として
は、成膜を比較的容易に行なえる等の理由から、紫外線
硬化性樹脂や室温硬化樹脂が通常用いられている。
【０００３】ところで、単板構造の光磁気ディスクを介
して、その基板側に光学ヘッドを、保護膜側に磁気ヘッ
ドを配置し、光学ヘッドより所定強度のレーザビームを
照射して光磁気記録膜をキュリー温度又は補償温度近傍
まで昇温しつつ、該昇温部に前記磁気ヘッドより磁界を
印加して情報を磁気光学的に記録する光磁気記録再生シ
ステムが従来より知られている。この種のシステムにお
ける磁気ヘッドの支持方式には、情報の記録、再生、消
去時に、磁気ヘッドを保護膜に摺動させる方式と、磁気
ヘッドを保護膜面からわずかに浮上させる方式とがある
が、浮上方式を採用した場合にも、少なくとも光磁気デ
ィスクの起動時及び停止時には磁気ヘッドが保護膜上を
摺動するので、摩擦による光磁気ディスクの帯電及び保
護膜の損傷が問題になる。
して、その基板側に光学ヘッドを、保護膜側に磁気ヘッ
ドを配置し、光学ヘッドより所定強度のレーザビームを
照射して光磁気記録膜をキュリー温度又は補償温度近傍
まで昇温しつつ、該昇温部に前記磁気ヘッドより磁界を
印加して情報を磁気光学的に記録する光磁気記録再生シ
ステムが従来より知られている。この種のシステムにお
ける磁気ヘッドの支持方式には、情報の記録、再生、消
去時に、磁気ヘッドを保護膜に摺動させる方式と、磁気
ヘッドを保護膜面からわずかに浮上させる方式とがある
が、浮上方式を採用した場合にも、少なくとも光磁気デ
ィスクの起動時及び停止時には磁気ヘッドが保護膜上を
摺動するので、摩擦による光磁気ディスクの帯電及び保
護膜の損傷が問題になる。
【０００４】かかる不都合を解決するため、従来より、
保護膜上に潤滑剤を塗布したり、あるいは保護膜中に潤
滑剤を混入して摩擦を緩和し、保護膜ひいては光磁気記
録膜の損傷を防止することが提案されている。
保護膜上に潤滑剤を塗布したり、あるいは保護膜中に潤
滑剤を混入して摩擦を緩和し、保護膜ひいては光磁気記
録膜の損傷を防止することが提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、保護膜上に
潤滑剤を塗布する方法は、磁気ヘッドとの摩擦によって
潤滑剤が使用ごとに脱落するため、潤滑効果が長続きし
ないという問題がある。また、保護膜中に潤滑剤を単に
混入しただけでは、やはり潤滑剤の脱落、減少を回避す
ることができず、実用上充分な耐久性を光情報記録媒体
に付与することができないばかりでなく、保護膜が多孔
質になって保護膜が吸湿しやすくなるために、却って記
録膜又は反射膜が腐食されやすくなるという問題があ
る。したがって、光磁気ディスクのように、保護膜に硬
質の部材（例えば、磁気ヘッド）を摺動させて情報の記
録、再生を行なう光情報記録媒体においては、保護膜表
面の潤滑効果が高く、しかもそれが長続きする潤滑剤の
開発が不可欠である。本発明はかかる課題を解決するた
めになされたものであって、その目的は、耐擦傷性、不
透水性、耐衝撃性に優れた光情報記録媒体を提供するこ
とにある。
潤滑剤を塗布する方法は、磁気ヘッドとの摩擦によって
潤滑剤が使用ごとに脱落するため、潤滑効果が長続きし
ないという問題がある。また、保護膜中に潤滑剤を単に
混入しただけでは、やはり潤滑剤の脱落、減少を回避す
ることができず、実用上充分な耐久性を光情報記録媒体
に付与することができないばかりでなく、保護膜が多孔
質になって保護膜が吸湿しやすくなるために、却って記
録膜又は反射膜が腐食されやすくなるという問題があ
る。したがって、光磁気ディスクのように、保護膜に硬
質の部材（例えば、磁気ヘッド）を摺動させて情報の記
録、再生を行なう光情報記録媒体においては、保護膜表
面の潤滑効果が高く、しかもそれが長続きする潤滑剤の
開発が不可欠である。本発明はかかる課題を解決するた
めになされたものであって、その目的は、耐擦傷性、不
透水性、耐衝撃性に優れた光情報記録媒体を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するため、基板上に少なくとも記録膜又は反射膜を
含む１層又は多層の薄膜を設け、この薄膜の外面を保護
膜にて被覆した光磁気ディスクにおいて、前記保護膜と
して、樹脂基剤と当該樹脂基剤中に添加された潤滑剤と
からなり、前記潤滑剤が前記樹脂基剤に化学反応により
固定された保護膜を形成し、当該保護膜に磁気ヘッドを
摺動させて情報の記録、再生を行うという構成にした。
達成するため、基板上に少なくとも記録膜又は反射膜を
含む１層又は多層の薄膜を設け、この薄膜の外面を保護
膜にて被覆した光磁気ディスクにおいて、前記保護膜と
して、樹脂基剤と当該樹脂基剤中に添加された潤滑剤と
からなり、前記潤滑剤が前記樹脂基剤に化学反応により
固定された保護膜を形成し、当該保護膜に磁気ヘッドを
摺動させて情報の記録、再生を行うという構成にした。
【０００７】この場合、前記薄膜に作用するストレスを
緩和するため、前記薄膜の外面を前記潤滑剤を含まない
第１の保護膜にて被覆し、この第１の保護膜の外面を前
記潤滑剤が添加された第２の保護膜にて被覆することも
できる。
緩和するため、前記薄膜の外面を前記潤滑剤を含まない
第１の保護膜にて被覆し、この第１の保護膜の外面を前
記潤滑剤が添加された第２の保護膜にて被覆することも
できる。
【０００８】潤滑剤が添加される保護膜材料としては、
シリコーン樹脂が特に好適であり、これに添加する潤滑
剤としては、アルコキシル基の炭素数が３個以上の金属
アルコキシドが特に好適である。また、保護膜の基剤に
対する潤滑剤の添加量は、実用上充分な潤滑性を得るた
めに、０．０１％以上とすることが好ましい。
シリコーン樹脂が特に好適であり、これに添加する潤滑
剤としては、アルコキシル基の炭素数が３個以上の金属
アルコキシドが特に好適である。また、保護膜の基剤に
対する潤滑剤の添加量は、実用上充分な潤滑性を得るた
めに、０．０１％以上とすることが好ましい。
【０００９】また、薄膜は、必要に応じて任意の材料及
びその組合せからなる１層又は多層に形成することがで
きる。例えば、光磁気記録媒体に本発明を適用する場合
には、前記薄膜を、前記基板側から積層された第１エン
ハンス膜と、光磁気記録膜と、第２エンハンス膜と、金
属反射膜とからなる４層構造にすることができる。さら
に、これに加えて、例えば前記薄膜と保護膜との間に、
高熱伝導層など他の膜を積層することもできる。
びその組合せからなる１層又は多層に形成することがで
きる。例えば、光磁気記録媒体に本発明を適用する場合
には、前記薄膜を、前記基板側から積層された第１エン
ハンス膜と、光磁気記録膜と、第２エンハンス膜と、金
属反射膜とからなる４層構造にすることができる。さら
に、これに加えて、例えば前記薄膜と保護膜との間に、
高熱伝導層など他の膜を積層することもできる。
【００１０】
【作用】保護膜として、樹脂基剤と当該樹脂基剤中に添
加された潤滑剤とからなり、前記潤滑剤が前記樹脂基剤
に化学反応により固定された保護膜を形成すると、保護
膜が磁気ヘッドで繰り返し摩擦されても潤滑剤が脱落し
にくく、潤滑効果を永続できる。また、潤滑剤が保護膜
中に化学反応により固定されることから、不透水性が劣
化せず、記録膜等の防食効果も高い。したがって、記録
膜等の防食効果を犠牲にすることがなく、耐擦傷性及び
耐衝撃性が永続する光磁気ディスクを提供できる。
加された潤滑剤とからなり、前記潤滑剤が前記樹脂基剤
に化学反応により固定された保護膜を形成すると、保護
膜が磁気ヘッドで繰り返し摩擦されても潤滑剤が脱落し
にくく、潤滑効果を永続できる。また、潤滑剤が保護膜
中に化学反応により固定されることから、不透水性が劣
化せず、記録膜等の防食効果も高い。したがって、記録
膜等の防食効果を犠牲にすることがなく、耐擦傷性及び
耐衝撃性が永続する光磁気ディスクを提供できる。
【００１１】
〈第１実施例〉本発明の第１実施例を図１及び図２に基
づいて説明する。図１は第１実施例に係る光磁気ディス
クの断面図、図２は図１の要部拡大断面図である。
づいて説明する。図１は第１実施例に係る光磁気ディス
クの断面図、図２は図１の要部拡大断面図である。
【００１２】図１に示すように、本例の光磁気ディスク
は、透明基板１のプリフォーマットパターン形成面２
に、情報の記録再生に関与する薄膜３が担持され、この
薄膜３の外面が第１保護膜４にて被覆され、さらにこの
第１保護膜４の外面が第２保護膜５にて被覆された構造
になっている。また、本例の光磁気ディスクは、前記薄
膜３が、前記透明基板１側から順次積層された第１エン
ハンス膜１１と、光磁気記録膜１２と、第２エンハンス
膜１３と、光反射膜１４とから構成されている。
は、透明基板１のプリフォーマットパターン形成面２
に、情報の記録再生に関与する薄膜３が担持され、この
薄膜３の外面が第１保護膜４にて被覆され、さらにこの
第１保護膜４の外面が第２保護膜５にて被覆された構造
になっている。また、本例の光磁気ディスクは、前記薄
膜３が、前記透明基板１側から順次積層された第１エン
ハンス膜１１と、光磁気記録膜１２と、第２エンハンス
膜１３と、光反射膜１４とから構成されている。
【００１３】透明基板１は、ガラス等の透明セラミック
材料や、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレ
ート樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリオレフィン樹
脂、エポキシ樹脂等の透明樹脂材料などをもって所望の
形状及び寸法に形成される。この透明基板２の片面に
は、記録、再生用光の案内溝やプリピット列などのプリ
フォーマットパターン２が、微細な凹凸状に形成され
る。なお、プリフォーマットパターン２の形成方法や配
列等については、公知に属する技術であり、かつ本発明
の要旨でもないので、説明を省略する。これらについて
は、光磁気ディスクの種類に応じて、公知に属する適宜
の技術を応用できる。
材料や、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレ
ート樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリオレフィン樹
脂、エポキシ樹脂等の透明樹脂材料などをもって所望の
形状及び寸法に形成される。この透明基板２の片面に
は、記録、再生用光の案内溝やプリピット列などのプリ
フォーマットパターン２が、微細な凹凸状に形成され
る。なお、プリフォーマットパターン２の形成方法や配
列等については、公知に属する技術であり、かつ本発明
の要旨でもないので、説明を省略する。これらについて
は、光磁気ディスクの種類に応じて、公知に属する適宜
の技術を応用できる。
【００１４】第１エンハンス膜１１は、透明基板１と光
磁気記録膜１２との間で再生用光を多重干渉させ、見掛
け上の磁気光学効果を大きくするために設けられるもの
であって、透明基板１よりも屈折率が大きな透明体、例
えば無機誘電体などをもって形成される。
磁気記録膜１２との間で再生用光を多重干渉させ、見掛
け上の磁気光学効果を大きくするために設けられるもの
であって、透明基板１よりも屈折率が大きな透明体、例
えば無機誘電体などをもって形成される。
【００１５】光磁気記録膜１２は、公知に属する任意の
磁気光学効果を呈する材料をもって形成できるが、カー
回転角やファラデー回転角などの磁気光学効果が大きい
ことなどから、希土類−遷移金属系の非晶質垂直磁化膜
が特に好適である。
磁気光学効果を呈する材料をもって形成できるが、カー
回転角やファラデー回転角などの磁気光学効果が大きい
ことなどから、希土類−遷移金属系の非晶質垂直磁化膜
が特に好適である。
【００１６】第２エンハンス１３は、光磁気記録膜１２
と光反射膜１４との間で再生用光を多重干渉させ、見掛
け上の磁気光学効果を大きくするために設けられるもの
であって、前記第１エンハンス１１と同様の透明体をも
って形成される。
と光反射膜１４との間で再生用光を多重干渉させ、見掛
け上の磁気光学効果を大きくするために設けられるもの
であって、前記第１エンハンス１１と同様の透明体をも
って形成される。
【００１７】反射膜１４は、薄膜３の総反射率を高め、
光磁気ディスクからの再生信号出力を高めるためのもの
であって、例えばアルミニウムや金、あるいはこれらの
各金属材料を主成分とする合金などをもって形成され
る。これらの膜１１〜１４は、スパッタリングや真空蒸
着などの真空成膜法によって連続的に形成できる。
光磁気ディスクからの再生信号出力を高めるためのもの
であって、例えばアルミニウムや金、あるいはこれらの
各金属材料を主成分とする合金などをもって形成され
る。これらの膜１１〜１４は、スパッタリングや真空蒸
着などの真空成膜法によって連続的に形成できる。
【００１８】第１保護膜４は、紫外線硬化性樹脂及び室
温硬化樹脂などの樹脂材料や、窒化珪素、酸化珪素、窒
化アルミニウム、酸化アルミニウムなどの無機誘電体材
料をもって形成することができるが、前記薄膜３に作用
するストレスを緩和するため、鉛筆硬度がＨＢ以下のや
や軟質の樹脂材料を用いることが特に好ましい。第１保
護膜材料として樹脂材料を用いる場合には、真空蒸着法
のほかスピン塗布法によっても第１保護膜４を成膜でき
る。成膜法としてスピン塗布法を適用すると、真空成膜
法を適用した場合に比べて、成膜効率を格段に高めるこ
とができる。
温硬化樹脂などの樹脂材料や、窒化珪素、酸化珪素、窒
化アルミニウム、酸化アルミニウムなどの無機誘電体材
料をもって形成することができるが、前記薄膜３に作用
するストレスを緩和するため、鉛筆硬度がＨＢ以下のや
や軟質の樹脂材料を用いることが特に好ましい。第１保
護膜材料として樹脂材料を用いる場合には、真空蒸着法
のほかスピン塗布法によっても第１保護膜４を成膜でき
る。成膜法としてスピン塗布法を適用すると、真空成膜
法を適用した場合に比べて、成膜効率を格段に高めるこ
とができる。
【００１９】第２保護膜５は、樹脂基材中にこれと化学
反応する潤滑剤が添加されたものによって形成できる。
第２保護膜を構成する樹脂基材としては、シリコーン樹
脂が特に好適であり、これに添加する潤滑剤としては、
下記の一般式１，２で表される金属アルコキシドが特に
好適である。金属アルコキシドは、アルコキシル基に結
合した炭素数が多いほど潤滑性が高い。実用的には、ア
ルコキシル基に炭素が３個以上結合したものが好適であ
る。また、保護膜基剤に対する潤滑剤の添加量は、ある
程度高いほど潤滑性が高い。実用的には、保護膜基剤に
対する潤滑剤の添加量を、０．０１％以上とすることが
好ましい。 （一般式１） Ｓｉ(Ｏ−Ｒ)4 但し、Ｒはアル
キル基である。 （一般式２） Ｔｉ(Ｏ−Ｒ)4 但し、Ｒはアル
キル基である。
反応する潤滑剤が添加されたものによって形成できる。
第２保護膜を構成する樹脂基材としては、シリコーン樹
脂が特に好適であり、これに添加する潤滑剤としては、
下記の一般式１，２で表される金属アルコキシドが特に
好適である。金属アルコキシドは、アルコキシル基に結
合した炭素数が多いほど潤滑性が高い。実用的には、ア
ルコキシル基に炭素が３個以上結合したものが好適であ
る。また、保護膜基剤に対する潤滑剤の添加量は、ある
程度高いほど潤滑性が高い。実用的には、保護膜基剤に
対する潤滑剤の添加量を、０．０１％以上とすることが
好ましい。 （一般式１） Ｓｉ(Ｏ−Ｒ)4 但し、Ｒはアル
キル基である。 （一般式２） Ｔｉ(Ｏ−Ｒ)4 但し、Ｒはアル
キル基である。
【００２０】図３に、保護膜基剤として東レ・ダウコー
ニングシリコーン株式会社製の脱アルコール型シリコー
ン樹脂ＴＳＨＲ−１００を用い、これに潤滑剤としてテ
トラステアリルオキシチタンを添加してなる樹脂材料を
用いて保護膜を形成したときの、ステアリル比率と、摺
動試験結果と、保護膜表面の摩擦係数と、保護膜表面の
鉛筆硬度とを示す。また、図４に、図３に表示された各
保護膜基剤の溶剤、非溶剤分、粘度を示す。図３及び図
４から明らかなように、Ｎｏ．３〜Ｎｏ．８の保護膜
は、いずれも摺動試験の結果、欠陥の増加が認められ
ず、耐擦傷性の改善に効果があることが判った。特に、
Ｎｏ．４、Ｎｏ．５、Ｎｏ．７、Ｎｏ．８の保護膜は、
鉛筆硬度がＦ以上あり、耐擦傷性の改善により効果があ
るものと思料される。
ニングシリコーン株式会社製の脱アルコール型シリコー
ン樹脂ＴＳＨＲ−１００を用い、これに潤滑剤としてテ
トラステアリルオキシチタンを添加してなる樹脂材料を
用いて保護膜を形成したときの、ステアリル比率と、摺
動試験結果と、保護膜表面の摩擦係数と、保護膜表面の
鉛筆硬度とを示す。また、図４に、図３に表示された各
保護膜基剤の溶剤、非溶剤分、粘度を示す。図３及び図
４から明らかなように、Ｎｏ．３〜Ｎｏ．８の保護膜
は、いずれも摺動試験の結果、欠陥の増加が認められ
ず、耐擦傷性の改善に効果があることが判った。特に、
Ｎｏ．４、Ｎｏ．５、Ｎｏ．７、Ｎｏ．８の保護膜は、
鉛筆硬度がＦ以上あり、耐擦傷性の改善により効果があ
るものと思料される。
【００２１】
【００２２】〈第２実施例〉本発明の第２実施例を図５
に基づいて説明する。図５は第２実施例に係る光磁気デ
ィスクの要部拡大断面図である。図５に示すように、本
例の光磁気ディスクは、透明基板１のプリフォーマット
パターン形成面２に、情報の記録再生に関与する薄膜３
が担持され、この薄膜３の外面が、潤滑剤を添加した保
護膜５によって直接被覆されている。保護膜材料として
は、前記第１実施例にて示した第２保護膜５と同様のも
のを用いることができる。本例の光情報記録媒体も、第
１実施例の光情報記録媒体と同様の効果を奏する。
に基づいて説明する。図５は第２実施例に係る光磁気デ
ィスクの要部拡大断面図である。図５に示すように、本
例の光磁気ディスクは、透明基板１のプリフォーマット
パターン形成面２に、情報の記録再生に関与する薄膜３
が担持され、この薄膜３の外面が、潤滑剤を添加した保
護膜５によって直接被覆されている。保護膜材料として
は、前記第１実施例にて示した第２保護膜５と同様のも
のを用いることができる。本例の光情報記録媒体も、第
１実施例の光情報記録媒体と同様の効果を奏する。
【００２３】〈第３実施例〉本発明の第３実施例を図６
に基づいて説明する。図６は第３実施例に係る光磁気デ
ィスクの要部拡大断面図である。図６に示すように、本
例の光磁気ディスクは、透明基板１のプリフォーマット
パターン形成面２に、透明基板１側より第１エンハンス
膜１１と、光磁気記録膜１２と、第２エンハンス膜１３
と、光反射膜１４と、断熱膜１５と、高熱伝導膜１６と
を順次積層して担持し、これら薄膜３の外面を潤滑剤を
添加した保護膜５によって被覆した構造になっている。
に基づいて説明する。図６は第３実施例に係る光磁気デ
ィスクの要部拡大断面図である。図６に示すように、本
例の光磁気ディスクは、透明基板１のプリフォーマット
パターン形成面２に、透明基板１側より第１エンハンス
膜１１と、光磁気記録膜１２と、第２エンハンス膜１３
と、光反射膜１４と、断熱膜１５と、高熱伝導膜１６と
を順次積層して担持し、これら薄膜３の外面を潤滑剤を
添加した保護膜５によって被覆した構造になっている。
【００２４】断熱膜１５は、例えばＡｌ2Ｏ3，ＳｉＯ，
ＳｉＯ2，ＭｇＦ2，水ガラスなどの無機物のほか、例え
ば光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、ポリテトラフルオロエ
チレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化
ビニリデン、ポリフィニレンオキシド、ポリスルホン、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、
ポリベンズイミダゾールなどの耐熱性高分子材料の蒸着
膜をもって形成することもできるし、高熱伝導膜１６が
箔体にて形成される場合には、前記光反射膜１４と高熱
伝導膜１６とを接着する接着剤もしくは粘着剤をもって
形成することもできる。なお、断熱膜材料としては、記
録・再生用光に対して透明な材料であることがより好ま
しい。
ＳｉＯ2，ＭｇＦ2，水ガラスなどの無機物のほか、例え
ば光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、ポリテトラフルオロエ
チレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化
ビニリデン、ポリフィニレンオキシド、ポリスルホン、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、
ポリベンズイミダゾールなどの耐熱性高分子材料の蒸着
膜をもって形成することもできるし、高熱伝導膜１６が
箔体にて形成される場合には、前記光反射膜１４と高熱
伝導膜１６とを接着する接着剤もしくは粘着剤をもって
形成することもできる。なお、断熱膜材料としては、記
録・再生用光に対して透明な材料であることがより好ま
しい。
【００２５】高熱伝導膜１６は、Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａ
ｌ，Ｃｕ，Ｓｎ，Ｓｉ，Ｃｅ，Ｌａ，Ｉｎ，Ｇｅ，Ｐ
ｂ，Ｂｉ，Ｔｅ，Ｔａ，Ｓｃ，Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｃｄ，
Ｚｎ，Ｓｅ，Ｓｂ，Ｇａ，Ｍｇ，Ｂ，Ｃ等の金属材料ま
たは非金属材料、もしくはＣｅＯ2，Ｌａ2Ｏ3，Ｓｉ
Ｏ，ＳｉＯ2，Ｉｎ2Ｏ3，Ａｌ2Ｏ3，ＧｅＯ，ＧｅＯ2，
ＰｂＯ，ＳｎＯ，ＳｎＯ2，Ｂｉ2Ｏ3，ＴｅＯ2，Ｔａ2
Ｏ5，Ｓｃ2Ｏ3，Ｙ2Ｏ3，ＴｉＯ2，ＺｒＯ2，Ｖ2Ｏ5，
Ｎｂ2Ｏ5，Ｃｒ2Ｏ3，ＷＯ2，ＷＯ3，ＣｄＳ，ＺｎＳ，
ＣｄＳｅ，ＺｎＳｅ，Ｉｎ2Ｓ3，Ｉｎ2Ｓｅ3，Ｓｂ
2Ｓ3，Ｓｂ2Ｓｅ3，Ｇａ2Ｓ3，Ｇａ2Ｓｅ3，ＧｅＳ，Ｇ
ｅＳｅ，ＧｅＳｅ2，ＳｎＳ，ＳｎＳ2，ＳｎＳｅ，Ｓｎ
Ｓｅ2，ＰｂＳ，ＰｂＳｅ，Ｂｉ2Ｓｅ3，Ｂｉ2Ｓ3，Ｍ
ｇＦ2，ＣｅＦ2，ＣａＦ2，ＴａＮ，Ｓｉ3Ｎ4，Ａｌ
Ｎ，ＢＮ，ＴｉＢ2，Ｂ4Ｃ，ＳｉＣなどの合金または無
機化合物の蒸着膜をもって形成することもできるし、上
記より選択された物質の箔体をもって形成することもで
きる。また、上記より選択された物質の粉状体または粒
状体を分散させた高分子材料をもって高熱伝導膜１６を
形成することもできる。
ｌ，Ｃｕ，Ｓｎ，Ｓｉ，Ｃｅ，Ｌａ，Ｉｎ，Ｇｅ，Ｐ
ｂ，Ｂｉ，Ｔｅ，Ｔａ，Ｓｃ，Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｃｄ，
Ｚｎ，Ｓｅ，Ｓｂ，Ｇａ，Ｍｇ，Ｂ，Ｃ等の金属材料ま
たは非金属材料、もしくはＣｅＯ2，Ｌａ2Ｏ3，Ｓｉ
Ｏ，ＳｉＯ2，Ｉｎ2Ｏ3，Ａｌ2Ｏ3，ＧｅＯ，ＧｅＯ2，
ＰｂＯ，ＳｎＯ，ＳｎＯ2，Ｂｉ2Ｏ3，ＴｅＯ2，Ｔａ2
Ｏ5，Ｓｃ2Ｏ3，Ｙ2Ｏ3，ＴｉＯ2，ＺｒＯ2，Ｖ2Ｏ5，
Ｎｂ2Ｏ5，Ｃｒ2Ｏ3，ＷＯ2，ＷＯ3，ＣｄＳ，ＺｎＳ，
ＣｄＳｅ，ＺｎＳｅ，Ｉｎ2Ｓ3，Ｉｎ2Ｓｅ3，Ｓｂ
2Ｓ3，Ｓｂ2Ｓｅ3，Ｇａ2Ｓ3，Ｇａ2Ｓｅ3，ＧｅＳ，Ｇ
ｅＳｅ，ＧｅＳｅ2，ＳｎＳ，ＳｎＳ2，ＳｎＳｅ，Ｓｎ
Ｓｅ2，ＰｂＳ，ＰｂＳｅ，Ｂｉ2Ｓｅ3，Ｂｉ2Ｓ3，Ｍ
ｇＦ2，ＣｅＦ2，ＣａＦ2，ＴａＮ，Ｓｉ3Ｎ4，Ａｌ
Ｎ，ＢＮ，ＴｉＢ2，Ｂ4Ｃ，ＳｉＣなどの合金または無
機化合物の蒸着膜をもって形成することもできるし、上
記より選択された物質の箔体をもって形成することもで
きる。また、上記より選択された物質の粉状体または粒
状体を分散させた高分子材料をもって高熱伝導膜１６を
形成することもできる。
【００２６】その他の部分については、前記第１実施例
及び第２実施例にて説明したと同じであるので、重複を
避けるため説明を省略する。本例の光情報記録媒体は、
薄膜３の外面を潤滑剤が添加された保護膜５にて被覆し
たので、第１及び第２実施例の光情報記録媒体と同様の
効果を奏するほか、薄膜３と保護膜５との間に断熱膜１
５及び高熱伝導膜１６を設けたので、図６に示すよう
に、保護膜５の表面に磁気ヘッドＨを摺動させたとき、
それによって発生した摩擦熱Ｊが高熱伝導膜１６を通し
て周囲に拡散され、さらにその熱の光磁気記録膜１２側
への拡散が断熱膜１５によって防止されるので、光磁気
記録膜１２が摩擦熱Ｊによって昇温されにくく、したが
って光学ヘッドＰから出射されたレーザＬによる光磁気
記録膜１２の温度制御が容易になるという効果がある。
なお、断熱膜１５及び高熱伝導膜１６のうち、いずれか
一方を省略しても、光磁気記録膜１２の温度制御の容易
化に効果がある。
及び第２実施例にて説明したと同じであるので、重複を
避けるため説明を省略する。本例の光情報記録媒体は、
薄膜３の外面を潤滑剤が添加された保護膜５にて被覆し
たので、第１及び第２実施例の光情報記録媒体と同様の
効果を奏するほか、薄膜３と保護膜５との間に断熱膜１
５及び高熱伝導膜１６を設けたので、図６に示すよう
に、保護膜５の表面に磁気ヘッドＨを摺動させたとき、
それによって発生した摩擦熱Ｊが高熱伝導膜１６を通し
て周囲に拡散され、さらにその熱の光磁気記録膜１２側
への拡散が断熱膜１５によって防止されるので、光磁気
記録膜１２が摩擦熱Ｊによって昇温されにくく、したが
って光学ヘッドＰから出射されたレーザＬによる光磁気
記録膜１２の温度制御が容易になるという効果がある。
なお、断熱膜１５及び高熱伝導膜１６のうち、いずれか
一方を省略しても、光磁気記録膜１２の温度制御の容易
化に効果がある。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
保護膜として、樹脂基剤と当該樹脂基剤中に添加された
潤滑剤とからなり、前記潤滑剤が前記樹脂基剤に化学反
応により固定された保護膜を形成したので、保護膜が磁
気ヘッドで繰り返し摩擦されても潤滑剤が保護膜から脱
落しにくく、保護膜の耐擦傷性、耐衝撃性、不透水性を
長期間保持することができる。
保護膜として、樹脂基剤と当該樹脂基剤中に添加された
潤滑剤とからなり、前記潤滑剤が前記樹脂基剤に化学反
応により固定された保護膜を形成したので、保護膜が磁
気ヘッドで繰り返し摩擦されても潤滑剤が保護膜から脱
落しにくく、保護膜の耐擦傷性、耐衝撃性、不透水性を
長期間保持することができる。
【図１】第１実施例に係る光磁気ディスクの断面図であ
る。
る。
【図２】第１実施例に係る光磁気ディスクの要部拡大断
面図である。
面図である。
【図３】第１実施例に係る光磁気ディスクの試験結果を
示す表図である。
示す表図である。
【図４】保護膜基剤の組成及び粘度を示す表図である。
【図５】第２実施例に係る光磁気ディスクの要部拡大断
面図である。
面図である。
【図６】第３実施例に係る光磁気ディスクの要部拡大断
面図である。
面図である。
１ 透明基板 ３ 薄膜（記録膜、反射膜等の総称） ４ 第１保護膜 ５ 第２保護膜 １１ 第１エンハンス膜 １２ 光磁気記録膜 １３ 第２エンハンス膜 １４ 光反射膜 １５ 断熱膜 １６ 高熱伝導膜
フロントページの続き (72)発明者 長瀧 義幸 大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号 日立 マクセル株式会社内 (72)発明者 大森 桂子 大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号 日立 マクセル株式会社内 (56)参考文献 特開 平６−176353（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−36348（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−332928（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−209343（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−102244（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−49229（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 11/105 G11B 7/24
Claims (7)
- 【請求項１】 基板上に少なくとも記録膜又は反射膜を
含む１層又は多層の薄膜を設け、この薄膜の外面を保護
膜にて被覆した光磁気ディスクにおいて、前記保護膜と
して、樹脂基剤と当該樹脂基剤中に添加された潤滑剤と
からなり、前記潤滑剤が前記樹脂基剤に化学反応により
固定された保護膜を形成し、当該保護膜に磁気ヘッドを
摺動させて情報の記録、再生を行うことを特徴とする光
磁気ディスク。 - 【請求項２】 請求項１において、前記薄膜の外面を前
記潤滑剤を含まない第１の保護膜にて被覆するととも
に、この第１の保護膜の外面を前記潤滑剤が添加された
第２の保護膜にて被覆したことを特徴とする光磁気ディ
スク。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、前記保護膜
を、前記樹脂基剤中に前記潤滑剤として金属アルコキシ
ドを添加したものにて形成したことを特徴とする光磁気
ディスク。 - 【請求項４】 請求項１又は２において、前記樹脂基剤
として、シリコーン樹脂を用いたことを特徴とする光磁
気ディスク。 - 【請求項５】 請求項１又は２において、前記樹脂基剤
に対する前記潤滑剤の添加量を、０．０１％以上とした
ことを特徴とする光磁気ディスク。 - 【請求項６】 請求項１又は２において、前記薄膜が、
前記基板側から積層された第１エンハンス膜と、光磁気
記録膜と、第２エンハンス膜と、金属反射膜とを含んで
構成されていることを特徴とする光磁気ディスク。 - 【請求項７】 請求項１において、前記薄膜と前記保護
膜との間に、高熱伝導層が設けられていることを特徴と
する光磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32949192A JP3336051B2 (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | 光磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32949192A JP3336051B2 (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | 光磁気ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06176401A JPH06176401A (ja) | 1994-06-24 |
| JP3336051B2 true JP3336051B2 (ja) | 2002-10-21 |
Family
ID=18221966
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32949192A Expired - Fee Related JP3336051B2 (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | 光磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3336051B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5714222A (en) * | 1995-01-23 | 1998-02-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording medium and process for producing same |
| EP0977192A4 (en) * | 1997-04-14 | 2000-11-15 | Toray Industries | OPTICAL RECORDING DEVICE AND OPTICAL RECORDING MEDIUM |
| WO1998047141A1 (en) * | 1997-04-16 | 1998-10-22 | Digital Papyrus Corporation | Phase change media compatible with air bearing flying head |
| US6106919A (en) * | 1998-04-16 | 2000-08-22 | Digital Papyrus Corporation | Phase change media compatible with air bearing flying head |
-
1992
- 1992-12-09 JP JP32949192A patent/JP3336051B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06176401A (ja) | 1994-06-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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