JP3272742B2 - 光ディスク - Google Patents

光ディスク

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JP3272742B2
JP3272742B2 JP09728391A JP9728391A JP3272742B2 JP 3272742 B2 JP3272742 B2 JP 3272742B2 JP 09728391 A JP09728391 A JP 09728391A JP 9728391 A JP9728391 A JP 9728391A JP 3272742 B2 JP3272742 B2 JP 3272742B2
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optical disk
layer
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spherical particles
recording layer
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留 博 雄 吉
松 通 郎 小
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触媒化成工業株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の技術分野】本発明は光ディスクに関し、さらに
詳しくは光ディスク装置内で回転する際の始動摩擦抵抗
が小さい光ディスクに関する。
【0002】
【発明の技術的背景】光によって情報を記録、再生する
光ディスクは、用途により再生専用形、追記形、書換形
の3つのタイプに分類される。
【0003】また光ディスクは、基本的には透明基板
と、該基板の上に形成された記録層とからなり、透明基
板としては、ポリカーボネート、エポキシ、ポリメチル
メタクリレートなどの合成樹脂、ガラスなどが用いられ
ている。
【0004】光ディスクの記録層に記録された情報を光
ディスク装置で再生する場合には、通常、レーザー光を
透明基板を通して記録層に照射し、記録層に生じた反射
率あるいはカー回転角などの変化を読取ることによって
行なわれている。
【0005】光ディスク装置内で光ディスクが静止して
いる状態では、ヘッドスライダと光ディスク表面は接触
しているが、光ディスクを回転し始めるとヘッドスライ
ダは光ディスク表面との摺動過程を経て光ディスク表面
から浮上する。
【0006】従来、このヘッドスライダが光ディスク表
面から浮上する際に、高速回転しているヘッドスライダ
と光ディスクとの間に摩擦が生じ、光ディスク表面やヘ
ッドスライダ自体を傷つけることがあった。
【0007】
【発明の目的】本発明は、上記従来技術の問題点を解決
するためになされたものであって、光ディスク装置内で
光ディスクが回転し始める際に生じるヘッドスライダと
光ディスク表面との摩擦抵抗が小さい光ディスクを提供
することを目的としている。
【0008】さらに本発明は、帯電防止効果および耐擦
傷性にも優れた光ディスクを提供することをも目的とし
ている。
【0009】
【発明の概要】本発明に係る光ディスクは、表面にJI
S B0601に記載された方法により測定された中心
線平均粗さが0.01μm〜2μmである凹凸を有する
ことを特徴としている。
【0010】このような特定の凹凸を表面に有する光デ
ィスクは、たとえば平均粒子径Dが3.1〜12μmの
範囲にあり、かつ次式(1) L/2μm<D≦(L+4)μm …(1) (上記式中、Lは層の膜厚を示す。) で表される関係を満足し、75%以上がD(1±0.
2)μmの範囲にある球状粒子を0.1重量%〜20重
量%含む層が記録層上に形成されている。
【0011】
【発明の具体的説明】以下、本発明に係る光ディスクに
ついて具体的に説明する。本発明に係る光ディスクの1
例を第1図に示す。
【0012】この光ディスク1は、透明基板2と、この
基板2上に記録層3および球状粒子を含む層4が順次積
層されている。なお透明基板2、記録層3および球状粒
子を含む層4の種類等に応じて、透明基板2と記録層3
の間に接着層を設けてもよく、あるいは記録層3および
球状粒子を含む層4との間に保護膜を設けてもよい。
【0013】球状粒子を含む層4の表面にはJIS B
0601に記載された方法により測定された中心線平均
粗さが0.01μm〜2μm、好ましくは0.01μm
〜1.5μm、さらに好ましくは0.03μm〜1.0
μmである凹凸が形成されている。
【0014】通常の光ディスク装置では、光ディスクの
記録面に記録された情報を再生している際に光ディスク
表面から浮上しているヘッドスライダと光ディスク表面
との離間距離は一般に2〜10μmである。したがって
光ディスク表面の上記中心線平均粗さ(Ra)が2μm
を越えると、情報再生時にもヘッドスライダが光ディス
ク表面に接触し、ヘッドスライダおよび光ディスクが破
損する恐れがあるので好ましくない。
【0015】上述したような特定の凹凸を表面に有する
層4は、たとえば平均粒子径Dが、次式(1) L/2μm<D≦(L+4)μm …(1) (上記式中、Lは層の膜厚を示す。)で表され、75%
以上がD(1±0.2)μmの範囲にある球状粒子を
0.1重量%〜20重量%、好ましくは1重量%〜15
重量%含む塗膜形成材料によって形成することができ
る。またこの球状粒子を含む層の膜厚Lは通常3〜15
μmの範囲にある。なお膜厚Lは凹凸を有する表面の凹
部に相当する厚さを意味する。上記球状粒子の含有割合
が0.1重量%より少ない場合は、本発明の所望の効果
が得られず、また20重量%より多い場合は、球状粒子
を含む層4の密着不良を生じやすくなるので望ましくな
い。球状粒子の平均粒子径DがL/2μm以下である場
合には層4の表面に効果的な凹凸を形成することができ
ないので好ましくなく、また(L+4)を越える場合に
は層4の表面に形成される凹凸の中心線平均粗さが2μ
mを越えるので好ましくない。
【0016】本発明では、球状粒子として、シリカ、ア
ルミナ、チタニア、およびガラスなどの無機化合物から
なる球状粒子、あるいはポリエステル樹脂、ポリスチレ
ン樹脂などの合成樹脂からなる球状粒子などが挙げられ
る。特にシリカ球状粒子が、光ディスク表面の耐擦傷性
の向上に優れた効果を有するので好ましい。本発明で
は、このような球状粒子の平均粒子径が、3.1〜12
μmの範囲にある。
【0017】また球状粒子のマトリックスとなる塗膜形
成材料としては、シリコン化合物とビニール化合物との
混合物、紫外線硬化性樹脂組成物などの保護膜形成材料
が一般的に用いられる。紫外線硬化性樹脂組成物に用い
ることができる硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステ
ル系樹脂、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルア
クリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレ
ート、スピロアセタールアクリレートなどのアクリレー
ト系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリチオール系樹
脂、エポキシ系樹脂などが挙げられる。
【0018】球状粒子を含む層4には、上述した球状粒
子および塗膜形成材料以外に、帯電防止効果を目的とし
てSnO2、SnO2−Sb25、In23−SnO2
SnO2−P25、Sb25などの導電性粉末(コロイ
ド粒子をも含む)、あるいは4級アンモニウム塩などの
界面活性剤系の帯電防止剤などを含有することもでき
る。
【0019】このような層4は、前述の球状粒子と、必
要に応じて有機溶媒、導電性粉末などを含有する塗膜形
成材料、たとえば紫外線硬化性塗料をスピンコートなど
の通常の方法で記録層3面上に塗布した後硬化させて調
製される。
【0020】
【発明の効果】本発明の光ディスクは、表面に特定の凹
凸を有するため動摩擦係数が小さく、しかもシリカ球状
粒子と紫外線硬化性樹脂組成物などの塗膜形成材料とを
組合せて用いるなどにより耐擦傷性を向上することがで
き、さらには導電性粉末や帯電防止剤などを添加するこ
とにより表面抵抗値を低下させて帯電防止性を向上する
こともできるので、光ディスク装置内で光ディスクを回
転させて記録情報を再生する際に、光ディスクの表面や
ヘッドスライダに生じる損傷が防止できる。
【0021】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0022】
【実施例1】アクリルウレタン系紫外線硬化樹脂100
重量部に平均粒径が5.5μmであって、4.4〜6.
6μmの範囲に80%存在する球状シリカ5重量部とイ
ソプロピルアルコール(IPA)40重量部とを混合し
て塗布液を形成した。スピンコーターを用いて得られた
塗布液を1500rpmで10秒間基板と記録層とから
なる光ディスクの記録層上に塗布した。次いで塗布され
た塗膜に紫外線を照射して6μmの厚さの層を形成し
た。得られた光ディスク表面の中心線平均粗さをJIS
B0601に記載された方法により測定した。
【0023】また、動摩擦係数は、協和界面科学(株)
社製の表面性試験機を用いて測定した。さらに光ディス
ク表面の表面抵抗および鉛筆硬度をも測定した。結果を
表1に示す。
【0024】
【実施例2】ポリエステルアクリレート系紫外線硬化樹
脂100重量部に平均粒径が8.8μmであって、7.
0〜10.6μmの範囲に78%存在する球状シリカ1
0重量部、導電性酸化錫(触媒化成工業(株)製 ELCO
M TL30)60重量部およびブタノール/1PA混合溶剤
50重量部を加え、これらの混合物をサンドミルで1時
間混合分散して塗布液を形成した。スピンコーターを用
いて得られた塗布液を1500rpmで7秒間基板と記
録層とからなる光ディスクの記録層上に塗布した。次い
で塗布された塗膜に紫外線を照射して9μmの厚さの層
を形成した。得られた光ディスク表面の中心線平均粗
さ、動摩擦係数、表面抵抗および鉛筆硬度を実施例1と
同様の方法で測定した。
【0025】結果を表1に示す。
【0026】
【実施例3】アクリルウレタン系紫外線硬化樹脂100
重量部に平均粒径が12.0μmであって、9.6〜1
4.4μmの範囲に90%存在する球状シリカ13重量
部および導電性酸化錫(触媒化成工業(株)製 ELCOM
TL30S )75重量部を加え、これらの混合物をボールミ
ルで8時間混合分散して塗布液を形成した。スピンコー
ターを用いてこの塗布液を1500rpmで5秒間基板
と記録層とからなる光ディスクの記録層上に塗布した。
次いで塗布された塗膜に紫外線を照射して11μmの厚さ
の層を形成した。得られた光ディスク表面の中心線平均
粗さ、動摩擦係数、表面抵抗および鉛筆高度を実施例1
と同様の方法で測定した。
【0027】結果を表1に示す。
【0028】
【実施例4】アクリルウレタン系紫外線硬化樹脂100
重量部に平均粒径が3.1μmであって、2.5〜3.
7μmの範囲に85%存在する球状シリカ1重量部を混
合して塗布液を形成した。スピンコーターを用いてこの
塗布液を1500rpmで8秒間基板と記録層とからな
る光ディスクの記録層上に塗布した。次いで塗布された
塗膜に紫外線を照射して4μmの厚さの層を形成した。
得られた光ディスク表面の中心線平均粗さ、動摩擦係
数、表面抵抗および鉛筆硬度を実施例1と同様の方法で
測定した。
【0029】結果を表1に示す。
【0030】
【比較例1】スピンコーターを用いてアクリルウレタン
系紫外線硬化樹脂を1500rpmで7秒間基板と記録
層とからなる光ディスクの記録層上に塗布した。次いで
塗布された塗膜に紫外線を照射して6μmの厚さの層を
形成した。得られた光ディスク表面の中心線平均粗さ、
動摩擦係数、表面抵抗および鉛筆硬度を実施例1と同様
の方法で測定した。
【0031】結果を表1に示す。
【0032】
【比較例2】ポリエステルアクリレート系紫外線硬化樹
脂100重量部に導電性酸化錫(触媒化成工業(株)製
ELCOM TL30)60重量部およびIPA 40重量部を
サンドミルで1時間分散して塗布液を得た。スピンコー
ターを用いてこの塗布液を1500rpmで5秒間基板
と記録層とからなる光ディスクの記録層上に塗布した。
次いで塗布された塗膜に紫外線を照射して9μmの厚さ
の層を形成した。得られた光ディスク表面の中心線平均
粗さ、動摩擦係数、表面抵抗および鉛筆硬度を実施例1
と同様の方法で測定した。
【0033】結果を表1に示す。
【0034】
【表1】
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る光ディスクの1例を示す断面図
である。
【符号の説明】 1…光ディスク、 2…透明基板、 3…記録層、 4…球状粒子を含む層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−62338(JP,A) 特開 平1−205742(JP,A) 特開 平2−73595(JP,A)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】記録層と、該記録層上に、0.1重量%〜
    20重量%の量で球状粒子を含む層とを有し、前記球状
    粒子の平均粒子径Dが3.1〜12μmの範囲にあり、
    かつ次式(1) L/2μm<D≦(L+4)μm …(1) (上記式中、Lは層の膜厚を示す。) で表される関係を満足し、前記球状粒子の75%以上が
    D(1±0.2)μmの範囲にあり、 かつJIS B0601に記載された方法により測定さ
    れた中心線平均粗さが0.01μm〜2μmである凹凸
    を有することを特徴とする光ディスク。
JP09728391A 1991-04-26 1991-04-26 光ディスク Expired - Lifetime JP3272742B2 (ja)

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JPH04325939A JPH04325939A (ja) 1992-11-16
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