JP2804045B2 - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JP2804045B2 JP2804045B2 JP63188417A JP18841788A JP2804045B2 JP 2804045 B2 JP2804045 B2 JP 2804045B2 JP 63188417 A JP63188417 A JP 63188417A JP 18841788 A JP18841788 A JP 18841788A JP 2804045 B2 JP2804045 B2 JP 2804045B2
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- Japan
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- film
- protective film
- sliding
- magneto
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- Prior art date
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光デイスクに係り、特に重ね書き(オーバー
ライト)ができる光磁気デイスクに関するものである。
ライト)ができる光磁気デイスクに関するものである。
オーバーライトできる光磁気デイスクは第1図に示す
ような構造になつている。磁気ヘツド7と光磁気膜3と
の間隔が狭いので耐摺動保護膜5が使用されている。従
来はこの耐摺動保護膜5として表面高度の高い紫外線硬
化樹脂、あるいはこれに無機系のフイラーを分散させた
ものを使用してきた。
ような構造になつている。磁気ヘツド7と光磁気膜3と
の間隔が狭いので耐摺動保護膜5が使用されている。従
来はこの耐摺動保護膜5として表面高度の高い紫外線硬
化樹脂、あるいはこれに無機系のフイラーを分散させた
ものを使用してきた。
上記従来技術は耐摺動保護膜の潤滑性の点について配
慮されておらず、磁気ヘツドと耐摺動保護膜との摩擦力
が大きかつた。そのために磁気ヘツドが光磁気デイスク
の回転開始時および停止時に耐摺動保護膜表面に接触し
た場合、磁気ヘツドの動作不良や保護膜にキズ、クラツ
クなどが発生し、光磁気膜を損傷させるという問題があ
つた。
慮されておらず、磁気ヘツドと耐摺動保護膜との摩擦力
が大きかつた。そのために磁気ヘツドが光磁気デイスク
の回転開始時および停止時に耐摺動保護膜表面に接触し
た場合、磁気ヘツドの動作不良や保護膜にキズ、クラツ
クなどが発生し、光磁気膜を損傷させるという問題があ
つた。
本発明の目的は、上記従来技術の問題を解決するため
に、耐摺動保護膜に潤滑性を与えることにある。
に、耐摺動保護膜に潤滑性を与えることにある。
上記目的は、光磁気膜上の耐摺動保護膜として潤滑剤
を含む紫外線硬化樹脂、あるいは潤滑剤とフイラーを含
む紫外線硬化樹脂を用いることによつて達成される。
を含む紫外線硬化樹脂、あるいは潤滑剤とフイラーを含
む紫外線硬化樹脂を用いることによつて達成される。
〔作用〕 紫外線硬化樹脂(以下UV樹脂という)に溶解、または
混入させられた潤滑剤分子が、耐摺動保護膜表面に浸み
出し、適正な潤滑性を与えるので、磁気ヘツドの接触時
でもヘツドの動作は正常となり、また保護膜のクラツク
やキズが発生することはなくなり、光磁気膜の保護効果
を増大する。
混入させられた潤滑剤分子が、耐摺動保護膜表面に浸み
出し、適正な潤滑性を与えるので、磁気ヘツドの接触時
でもヘツドの動作は正常となり、また保護膜のクラツク
やキズが発生することはなくなり、光磁気膜の保護効果
を増大する。
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。透
明基板1として5″ガラス基板を用い、これの表面に2P
法(ホトポリメリゼーシヨン:photopolymerijation)に
より、案内溝や信号用ピツトを形成させた。このレブリ
カ基板上にスパツタリングにより誘導体膜2、光磁気膜
3、誘電体膜4を順次積層させた。誘電体膜4は窒化物
であり厚さは約0.1μmである。
明基板1として5″ガラス基板を用い、これの表面に2P
法(ホトポリメリゼーシヨン:photopolymerijation)に
より、案内溝や信号用ピツトを形成させた。このレブリ
カ基板上にスパツタリングにより誘導体膜2、光磁気膜
3、誘電体膜4を順次積層させた。誘電体膜4は窒化物
であり厚さは約0.1μmである。
この窒化膜4の上に耐摺動保護膜5を以下の方法で形
成させた。まずUV樹脂材料はアクリル系であるが、硬化
後の表面硬度の高い材料を選択した。この液状UV樹脂に
潤滑剤として固形のステアリン酸エステルを約1.0重量
%添加し、十分攪拌させた。これを上述の記録層付き基
板上に回転塗布した後、紫外線を照射し硬化させた。こ
のようにして形成された耐摺動保護膜5の厚さは約10μ
mであつた。
成させた。まずUV樹脂材料はアクリル系であるが、硬化
後の表面硬度の高い材料を選択した。この液状UV樹脂に
潤滑剤として固形のステアリン酸エステルを約1.0重量
%添加し、十分攪拌させた。これを上述の記録層付き基
板上に回転塗布した後、紫外線を照射し硬化させた。こ
のようにして形成された耐摺動保護膜5の厚さは約10μ
mであつた。
つぎに摺動試験として回転台の上にセツトされた記録
媒体表面に、半径30mmの球面摺動子を一定荷重が押え付
けながら摺動させ、保護膜表面の粗さ、キズなどを観察
した。また、摺動開始時における摺動子と保護膜表面と
の静止摩擦力を測定した。循環剤入り、保護膜の静止摩
擦力はUV樹脂だけの場合と比較して数分の1と小さくな
つている。
媒体表面に、半径30mmの球面摺動子を一定荷重が押え付
けながら摺動させ、保護膜表面の粗さ、キズなどを観察
した。また、摺動開始時における摺動子と保護膜表面と
の静止摩擦力を測定した。循環剤入り、保護膜の静止摩
擦力はUV樹脂だけの場合と比較して数分の1と小さくな
つている。
また、106回摺動後でも0.5μm以下のキズが認められ
ただけで実用的には問題とならない。実際に浮上型磁気
ヘツドを搭載した装置にかけて試験した結果も良好であ
つた。
ただけで実用的には問題とならない。実際に浮上型磁気
ヘツドを搭載した装置にかけて試験した結果も良好であ
つた。
潤滑剤はUV樹脂膜のなかに分子的に分散した状態、あ
るいは数100Åの塊として分散した状態で存在し、潤滑
分子が徐々に浸み出してきて潤滑性が保たれるものと考
えられる。
るいは数100Åの塊として分散した状態で存在し、潤滑
分子が徐々に浸み出してきて潤滑性が保たれるものと考
えられる。
つぎに耐摺動性のより一層の向上は、アルミナなどの
フイラーをさらに添加した保護膜で達成される。アルミ
ナは粒系約0.5μm、濃度は10重量%以下である。潤滑
剤としては上記以外の高級脂肪酸、高級脂肪酸イミド、
およびこれらを部分的にフツ化させた化合物を用いても
同等の性能の保護膜を得ることができた。透明基板がプ
ラスチツクの場合でも同様に作製することができる。
フイラーをさらに添加した保護膜で達成される。アルミ
ナは粒系約0.5μm、濃度は10重量%以下である。潤滑
剤としては上記以外の高級脂肪酸、高級脂肪酸イミド、
およびこれらを部分的にフツ化させた化合物を用いても
同等の性能の保護膜を得ることができた。透明基板がプ
ラスチツクの場合でも同様に作製することができる。
耐摺動保護膜の形成法としては回転塗布のほかにつぎ
のような方法でも良い。光磁気積層膜付基板の上に潤滑
剤を含む液状のUV樹脂をのせ、その上から表面が平坦で
しかも紫外線を透過させる板を重ね合せUV樹脂を拡げた
後、紫外線を照射し、UV樹脂を硬化させた後に平坦板を
UV樹脂膜との境界から剥離させる方法である。
のような方法でも良い。光磁気積層膜付基板の上に潤滑
剤を含む液状のUV樹脂をのせ、その上から表面が平坦で
しかも紫外線を透過させる板を重ね合せUV樹脂を拡げた
後、紫外線を照射し、UV樹脂を硬化させた後に平坦板を
UV樹脂膜との境界から剥離させる方法である。
本発明によれば、表面硬度が大でしかも潤滑性のある
耐摺動保護膜が得られるので、磁気ヘツドによる摺動回
数が106回以上でも問題は発生しない。つまり信頼性の
高い磁界変調型光磁気媒体を作製することができる。ま
た紫外線硬化樹脂を用いているので生産性の点でも優れ
ている。
耐摺動保護膜が得られるので、磁気ヘツドによる摺動回
数が106回以上でも問題は発生しない。つまり信頼性の
高い磁界変調型光磁気媒体を作製することができる。ま
た紫外線硬化樹脂を用いているので生産性の点でも優れ
ている。
第1図は、本発明のオーバーライト用光磁気媒体の断面
図である。 1……基板、2……誘電体膜、3……光磁気膜、4……
誘電体膜、5……耐摺動保護膜、6……レーザビーム、
7……磁気ヘツド。
図である。 1……基板、2……誘電体膜、3……光磁気膜、4……
誘電体膜、5……耐摺動保護膜、6……レーザビーム、
7……磁気ヘツド。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 市川 真鯉 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 安斉 由美子 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 石原 平吾 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 太田 憲雄 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (56)参考文献 特開 平1−277348(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】光磁気積層膜上に潤滑剤とフィラーを溶解
混入させた紫外線硬化樹脂から形成される耐摺動保護膜
を有してなることを特徴とする光記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63188417A JP2804045B2 (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63188417A JP2804045B2 (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 光記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0240149A JPH0240149A (ja) | 1990-02-08 |
JP2804045B2 true JP2804045B2 (ja) | 1998-09-24 |
Family
ID=16223299
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63188417A Expired - Fee Related JP2804045B2 (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2804045B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2563626B2 (ja) * | 1990-01-24 | 1996-12-11 | 松下電器産業株式会社 | 光磁気ディスク及びディスクカートリッジ |
ATE187839T1 (de) * | 1990-06-29 | 2000-01-15 | Sony Corp | Aufzeichnungs-/wiedergabesystem für eine magneto- optische platte |
US5279877A (en) * | 1991-09-06 | 1994-01-18 | Tdk Corporation | Magneto optical disc |
JPH06314446A (ja) * | 1992-06-19 | 1994-11-08 | Tdk Corp | 光磁気ディスク |
JP2994538B2 (ja) * | 1993-10-19 | 1999-12-27 | ティーディーケイ株式会社 | 光磁気ディスク |
JPH11345441A (ja) | 1998-06-01 | 1999-12-14 | Sony Chem Corp | 保護膜用組成物及び光学的記録媒体 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01277348A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-07 | Hitachi Maxell Ltd | 光−磁気記録媒体ならびにその製造方法 |
-
1988
- 1988-07-29 JP JP63188417A patent/JP2804045B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0240149A (ja) | 1990-02-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |