JPH07186538A

JPH07186538A - 光記録材料

Info

Publication number: JPH07186538A
Application number: JP5335096A
Authority: JP
Inventors: Shuji Miyazaki; 修次宮崎
Original assignee: Toyo Ink Mfg Co Ltd
Current assignee: Toyo Ink Mfg Co Ltd
Priority date: 1993-12-28
Filing date: 1993-12-28
Publication date: 1995-07-25
Anticipated expiration: 2017-06-17
Also published as: JP3293293B2

Abstract

(57)【要約】【目的】記録、再生レーザーの波長が６５０〜７００ｎ
ｍの高密度デジタル記録に対応し、透明基板／記録層も
しくは透明基板／記録層／緩衝層の積層体で構成される
光記録媒体の記録層に適用できる光記録材料を提供する
ものである。。【構成】下記構造式［１］で示されるフタロシアニン系
化合物からなるレーザー波長６５０〜７００ｎｍの高密
度デジタル記録用光記録材料。構造式［１］【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光線によっ
て、情報を書き込んだり、読み取ったりすることが可能
な光記録媒体に関する。特に高密度光記録用として、６
５０〜７００ｎｍの波長のレーザー光線による記録、再
生が可能な光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、レーザー光線を用いて情報を記録
する媒体としては、低融点金属系、有機色素系材料を記
録層に用いた追記型光記録媒体が実用化されている。実
用化されている従来の追記型光記録媒体は、記録、再生
に用いる半導体レーザーの波長が７８０〜８３０ｎｍで
あった。近年、高密度光記録に関する研究が活発に行わ
れ、記録ピットの大きさをより小さくする事による高密
度化が進められている。その方法として、記録、再生に
使用する半導体レーザーの波長をより短くし、絞り込み
のビーム径を小さくする事、またトラックピッチを狭め
る事による高密度化がある。これらの高密度化の手段に
対して、半導体レーザーの開発により、６５０〜７００
ｎｍ程度のピックアップが実用化されつつある。また、
成形技術の進歩によりトラックピッチを従来の１．６μ
ｍから１．１μｍ程度まで狭める事か可能になってき
た。

【０００３】しかしながら、従来の追記型光記録媒体の
記録層に用いる有機色素系記録材料では６５０〜７００
ｎｍ付近に十分な吸収がなく感度が低かった。また、低
融点金属系記録材料では、６５０〜７００んｍ付近にも
吸収があり感度はあるが、熱伝導性が高いため、大きな
ピットが形成され、鮮明な微小ピットの形成が難しかっ
た。又、特性的には、熱伝導性が低く微小ピット形成に
優れた有機色素系記録材料の可能性が高いが、６５０〜
７００ｎｍ付近に吸収を有し、十分な記録感度を有する
記録材料はなかった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、有機色素
特に安定性の高いフタロシアニンに注目して鋭意検討を
行なった結果、６５０〜７００ｎｍ付近に大きな吸収を
有し高速記録および微小ピット形成に十分対応する記録
材料を開発するに至った。

【０００５】

【課題を解決する手段】本発明は、下記構造式［１］で
示されるフタロシアニン系化合物からなるレーザー波長
６５０〜７００ｎｍの高密度デジタル記録用光記録材料
である。構造式［１］

【化２】［ｎは、１又は２を表す。］

【０００６】構造式［１］で示されるフタロシアニン系
化合物は、以下の方法により製造することができる。す
なわち、フタル酸、無水フタル酸、フタロニトリルもし
くは１．３−ジイミノイソインドレインと塩化アルミニ
ウムを出発原料として常法により、構造式［２］で示さ
れるフタロシアニン系化合物のヒドロキシ体が製造でき
る。

【０００７】構造式［２］

【化３】次に、得られた構造式［２］で示されるフタロシアニン
系化合物のヒドロキシ体に、Ｎ−ヒドロキシメチルフタ
ルイミドを反応させることにより、構造式［３］で示さ
れるフタロシアニン系化合物が製造できる。フタロイミ
ドメチル基はフタロシアニン骨格のベンゼン環に置換す
るものと中心金属のアルミニウムに配位するものとがあ
る。構造式［３］

【化４】

【０００８】次に、得られた構造式［３］で示されるフ
タロシアニン系化合物に、ジフェニルクロルホスフィン
を反応させることにより、構造式［１］で示されるフタ
ロシアニン系化合物を製造することができる。構造式［１］

【化５】

【０００９】本発明の光記録材料が使用される光記録媒
体は、透明基材上に本発明のフタロシアニン化合物の記
録層を設け、必要ならばその記録層上に緩衝層を設けた
積層構造である。本発明における構造式［１］で示され
るフタロシアニン系化合物を用いた記録層には、記録層
の耐光性、耐環境性等の安定性繰り返し再生の安定性を
さらに向上させる目的で、酸素クエンチャー、紫外線吸
収剤等の添加剤を加えても良い。記録層の成膜方法とし
ては、ドライプロセス、例えば、真空蒸着法、スパッタ
リング法によっても可能であるが、ウェットプロセス、
例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ロ
ールコート法あるいはＬＢ（アングミュアーブロジェッ
ト）法によっても可能である。本発明のフタロシアニン
系化合物は、汎用の有機溶剤、例えば、アルコール系、
ケトン系、セロソルブ系、炭化水素系、ハロゲン化炭化
水素系、フロン系等に１０〜１００ｍｇ／ｍｌ程度の濃
度で溶解するため、生産性および記録層の均一性からス
ピンコート法により成膜する方法が最も好ましい。

【００１０】このような、いわゆる塗布法により成膜す
る場合には、必要に応じて高分子バインダーを加えても
よい。高分子バインダーとしてはアクリル樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、
塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ニトロセルロー
ス、フェノール樹脂等が挙げられるが、これに限られる
ものではない。高分子バインダーの混合比としては、特
に制限はないが、フタロシアニン系化合物に対して３０
％以下が好ましい。本発明の記録層の膜厚については、
記録層とする本発明のフタロシアニン系化合物と他の添
加剤との組合わせ等により異なるため、特に制限はない
が、基板上に成形されている案内溝等による凹凸を考慮
して平均膜厚で３００〜３０００オングストロームが好
ましく、さらに５００〜１５００オングストロームが最
適膜厚範囲である。

【００１１】本発明の光記録材料が適応される光記録媒
体の構成において、使用できる緩衝層としては、記録レ
ーザー照射によって生ずる記録層の変形を吸収できる材
料が好ましい。成膜性、コストの面から高分子材料が適
しており、例えば、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、低
分子量アクリル樹脂が挙げられるがこれに限られるもの
ではない。このような緩衝層の成膜方法としては、ウェ
ットプロセス、例えば、バーコート、スピンコートが挙
げられるが、これに限られるものではない。本発明の緩
衝層の膜厚については、特に制限はない。また、この緩
衝層に接着剤の機能を加え、記録媒体を接着性緩衝層を
挟んで２枚貼り合わせて、両面記録の光記録媒体とする
事も可能である。本発明において用いられる透明基板と
しては、信号の書き込みや読み出しを行なうために光の
透過率が好ましくは８５％以上であり、かつ光学異方性
の小さいものが望ましい。例えば、ガラスまたはアクリ
ル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リアミド樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリビニルエステル
系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂
（例えばポリ−４−メチルペンテン等）、ポリエーテル
スルホン樹脂等の熱可塑性樹脂やエポキシ樹脂、アリル
樹脂等の熱硬化性樹脂を用いた基板が挙げられる。ま
た、これらの基板上にＳｉＯ2等を蒸着したものを用い
てもよい。これらの中で、成型のしやすさ、案内溝やア
ドレス信号等の付与のしやすさなどから前記した熱可塑
性樹脂が好ましい。

【００１２】本発明においては、これらの透明基板の厚
さは特に制限がなく、板状でもフィルム状でもよい。ま
たその形状は円形やカ−ド状でもよく、その大きさには
特に制限はない。つまり一般の光ディスクという円盤状
のものに限定されるものではなく、光カードやテープ状
あるいはシート状の記録媒体でもよい。また本発明の透
明基板上には、記録および読み出しの際の位置制御のた
めの案内溝やアドレス信号や各種マーク等のプレフォー
マット用の凹凸を通常有しているが、これらの凹凸は前
記したような熱可塑性樹脂を成形（射出成形、圧縮成
形）する際にスタンパーなどを用いて付与する方法が好
ましいが、フォトポリマー樹脂を用いるいわゆる２Ｐ法
によっても行なうことができる。本発明の案内溝の形状
については特に制限はなく、短形、台形、Ｕ字形であっ
てもよい。また案内溝の寸法については、記録層に用い
られる材料の種類および組合せ等により最適値はそれぞ
れ異なるが、平均溝幅（溝深さの１／２の位置の幅）が
０．３〜０．６ミクロン、また溝深さが５００〜２５０
０オングストロームの範囲が好ましい。

【００１３】さらに、媒体の化学的劣化（例えば酸化、
吸水等）および物理的劣化（傷、けずれ等）を防ぐ目的
で、透明基板のレーザー光入射面に保護層を設けても良
い。保護層用の材料としては、ＳｉＯ2等の透明無機材
料の蒸着もしくはスパッタリング膜、あるいは紫外線硬
化型樹脂を用いて、スピンコートにより塗布し、紫外線
照射により硬化させる方法が好ましいがこれに限定され
るものではない。保護層の最適膜厚については、薄い場
合には、保護の効果が低下し、厚い場合には樹脂の硬化
時の収縮により媒体のそり等の機械特性の悪化の原因に
なるため、２〜２０ミクロンの範囲で成膜することが好
ましい。また、保護層以外の機能、例えば反射防止、帯
電防止、防湿性付与等を目的として、低屈折率材料、フ
ッ素樹脂あるいは導電性樹脂等を保護層と同様に透明基
板のレーザー入射面側および記録層の上または反射層の
上に設けてもよい。本発明の応用できる光記録媒体の代
表的なものとしては、文書ファイル用ＤＲＡＷ型光ディ
スク、追記型ＬＤ等が挙げられるが、これらに限られる
ものではない。本発明の光記録媒体において、記録層単
膜で構成される場合には、エアーサンドイッチのような
二枚貼り合わせ構造にしてもよい。

【００１４】

【実施例】以下の実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。実施例１深さ７００オングストローム、幅０．４ミクロン、ピッ
チ１．１ミクロンの案内溝を有する厚さ１．２０ｍｍ、
外径２００ｍｍ、内径３０ｍｍのポリカーボネート基板
上に、構造式［１］のフタロシアニン系化合物をエトキ
シエタノールに２０ｍｇ／ｍｌの濃度で溶解し、０．１
ミクロンのフィルタリングを行い塗液を調整し、この塗
液を用いて、スピンコーターにより８００オングストロ
ームに成膜し、単層型の光ディスクを作成した。このよ
うにして作成した光ディスクの最大吸収波長は６８５ｎ
ｍであり、６８０の反射率は３２％であった。このよう
にして作成した光ディスクを用い、波長６８０ｎｍ、
Ｎ．Ａ．＝０．５５の半導体レーザーを使用して８．０
ｍＷ、線速度１３ｍ／ｓｅｃで、周波数４０ＭＨｚの信
号を記録したところ、Ｃ／Ｎ比が５２ｄＢとなり再生可
能な信号品質の記録ができた。

【００１５】実施例２実施例１で作成した単層光ディスクの記録層の上にフッ
ソ樹脂系の緩衝層を設けて積層型の光ディスクを作成し
た。このようにして作成した光ディスクを実施例１と同
様な方法で記録したところ、Ｃ／Ｎ比が４２ｄＢとなり
再生が十分可能であった。

【発明の効果】実施例で明かなように、本発明のフタロ
シアニン系化合物を記録層に適用する事により波長６８
０ｎｍのレーザーによる高密度デジタル記録に適用でき
る光記録媒体を得る事が可能になった。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記構造式［１］で示されるフタロシア
ニン系化合物からなるレーザー波長６５０〜７００ｎｍ
の高密度デジタル記録用光記録材料。構造式［１］【化１】［ｎは、１又は２を表す。］