JPH06150371A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH06150371A JPH06150371A JP4299396A JP29939692A JPH06150371A JP H06150371 A JPH06150371 A JP H06150371A JP 4299396 A JP4299396 A JP 4299396A JP 29939692 A JP29939692 A JP 29939692A JP H06150371 A JPH06150371 A JP H06150371A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- recording
- forming
- medium
- recording film
- Prior art date
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 媒体の記録特性に影響を与えないような保存
環境条件を設定し、信頼性に優れる特性を備える記録媒
体の製造方法を提供する。 【構成】 光透過性の基板の上に、有機色素を含有する
記録膜を形成する工程と、記録膜の上に光反射膜を形成
する工程を含む光記録媒体の製造方法であって、前記記
録膜を形成する工程から、記録膜の上に光反射膜を形成
する工程に至るまでの保存環境を、相対湿度３０％以下
にする。
環境条件を設定し、信頼性に優れる特性を備える記録媒
体の製造方法を提供する。 【構成】 光透過性の基板の上に、有機色素を含有する
記録膜を形成する工程と、記録膜の上に光反射膜を形成
する工程を含む光記録媒体の製造方法であって、前記記
録膜を形成する工程から、記録膜の上に光反射膜を形成
する工程に至るまでの保存環境を、相対湿度３０％以下
にする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、書込みあるいは読み出
し可能な光記録媒体の製造方法、特に光透過性の基板の
上に有機色素を含有する記録膜と光反射膜を有する光記
録媒体の製造方法に関する。
し可能な光記録媒体の製造方法、特に光透過性の基板の
上に有機色素を含有する記録膜と光反射膜を有する光記
録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、いわゆる書込み可能な追記型光記
録媒体の記録膜には例えば、シアニン、フタロシアニン
系等の有機色素が用いられていることは一般に良く知ら
れている。
録媒体の記録膜には例えば、シアニン、フタロシアニン
系等の有機色素が用いられていることは一般に良く知ら
れている。
【０００３】そして、このような追記型光記録媒体の書
込み方法としては、記録膜の微小面積にレーザビームを
集光させ、それを熱エネルギーに変換し、記録膜の性状
を変えて（ピット形成）行っている。この記録膜の性状
変化を円滑に行うために、媒体の構成は基板上に記録膜
を設層したものを２枚用意し、記録膜を対向して配置し
たいわゆるエアーサンドイッチ構造とされることが一般
的である。
込み方法としては、記録膜の微小面積にレーザビームを
集光させ、それを熱エネルギーに変換し、記録膜の性状
を変えて（ピット形成）行っている。この記録膜の性状
変化を円滑に行うために、媒体の構成は基板上に記録膜
を設層したものを２枚用意し、記録膜を対向して配置し
たいわゆるエアーサンドイッチ構造とされることが一般
的である。
【０００４】このようなタイプの追記型光記録媒体に用
いられる書込み用のレーザビームは、透明基板側から照
射され、記録膜の中に光読取り可能なピットを形成す
る。記録されたデータを再生するための読取り用のレー
ザビームの出力は、書込み用のそれと比べて弱い出力で
あり、ピットが形成された部分と、そうでない部分のコ
ントラストは電気信号として読み取られる。
いられる書込み用のレーザビームは、透明基板側から照
射され、記録膜の中に光読取り可能なピットを形成す
る。記録されたデータを再生するための読取り用のレー
ザビームの出力は、書込み用のそれと比べて弱い出力で
あり、ピットが形成された部分と、そうでない部分のコ
ントラストは電気信号として読み取られる。
【０００５】一方、上記媒体とは異なり予めすでにデー
タが記録されているいわゆるＲＯＭ（read only memor
y）タイプの媒体も存在し、音声記録と情報処理の分野
で広く実用化されている。しかし、このものには上記の
ごとく書込み可能な記録膜が存在しない。すなわち、再
生されるべくデータに相当するプリピットはすでにプラ
スチック基板の上に射出成形によって形成され、この上
にＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ等の金属からなる反射層が形
成され、さらにこの上に保護層が形成されている。この
ＲＯＭタイプの典型的な媒体は、いわゆるＣＤと呼ばれ
るコンパクトディスクである。このＣＤの記録と読み取
りの信号の仕様は規格化されており、この規格に準じ
て、ＣＤの再生装置がコンパクトディスクプレーヤー
（ＣＤプレーヤー）として広く使われている。
タが記録されているいわゆるＲＯＭ（read only memor
y）タイプの媒体も存在し、音声記録と情報処理の分野
で広く実用化されている。しかし、このものには上記の
ごとく書込み可能な記録膜が存在しない。すなわち、再
生されるべくデータに相当するプリピットはすでにプラ
スチック基板の上に射出成形によって形成され、この上
にＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ等の金属からなる反射層が形
成され、さらにこの上に保護層が形成されている。この
ＲＯＭタイプの典型的な媒体は、いわゆるＣＤと呼ばれ
るコンパクトディスクである。このＣＤの記録と読み取
りの信号の仕様は規格化されており、この規格に準じ
て、ＣＤの再生装置がコンパクトディスクプレーヤー
（ＣＤプレーヤー）として広く使われている。
【０００６】ところで、前記書込み可能な追記型光記録
媒体は、レーザビームを用いる点においてはＣＤと同様
であり、また、媒体の形態もディスク形状をなしている
点においてはＣＤと同様である。それゆえ、ＣＤ仕様の
規格に適合し、ＣＤプレーヤーにそのまま使える書込み
可能な媒体の開発が活発に行われている。このような媒
体の構成は、例えば、光透過性の基板と、この基板の上
に形成された有機色素を含有する記録膜と、この記録膜
の上に形成された光反射膜とを有する構成とされる。
媒体は、レーザビームを用いる点においてはＣＤと同様
であり、また、媒体の形態もディスク形状をなしている
点においてはＣＤと同様である。それゆえ、ＣＤ仕様の
規格に適合し、ＣＤプレーヤーにそのまま使える書込み
可能な媒体の開発が活発に行われている。このような媒
体の構成は、例えば、光透過性の基板と、この基板の上
に形成された有機色素を含有する記録膜と、この記録膜
の上に形成された光反射膜とを有する構成とされる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな媒体を製造するにあたって、記録膜を形成する工程
から、記録膜の上に光反射膜を形成する工程に至るまで
の保存条件は、媒体の記録特性に無視できないような影
響を及ぼすことが本発明者らの研究の結果判明してき
た。
うな媒体を製造するにあたって、記録膜を形成する工程
から、記録膜の上に光反射膜を形成する工程に至るまで
の保存条件は、媒体の記録特性に無視できないような影
響を及ぼすことが本発明者らの研究の結果判明してき
た。
【０００８】このような実情に鑑み本発明は創案された
ものであって、その目的は、媒体の記録特性に影響を与
えないような保存環境条件を設定し、信頼性に優れる特
性を備える記録媒体の製造方法を提供することにある。
ものであって、その目的は、媒体の記録特性に影響を与
えないような保存環境条件を設定し、信頼性に優れる特
性を備える記録媒体の製造方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、光透過性の基板の上に、有機色素を含有する
記録膜を形成する工程と、記録膜の上に光反射膜を形成
する工程を含む光記録媒体の製造方法であって、前記記
録膜を形成する工程から、記録膜の上に光反射膜を形成
する工程に至るまでの保存環境を、相対湿度３０％以下
にするように構成した。
本発明は、光透過性の基板の上に、有機色素を含有する
記録膜を形成する工程と、記録膜の上に光反射膜を形成
する工程を含む光記録媒体の製造方法であって、前記記
録膜を形成する工程から、記録膜の上に光反射膜を形成
する工程に至るまでの保存環境を、相対湿度３０％以下
にするように構成した。
【００１０】
【実施例】図１に基づいて、本発明の製造方法およびそ
の結果として作られる光記録媒体について説明する。
の結果として作られる光記録媒体について説明する。
【００１１】この図に示されるように、本発明の製造方
法によって作られる光記録媒体１は、光透過性の基板１
１の上に記録膜１２が設層され、この記録膜１２の上に
光反射膜１３が設層される。さらに光反射膜１３の上に
は通常、保護膜１４が設けられる。
法によって作られる光記録媒体１は、光透過性の基板１
１の上に記録膜１２が設層され、この記録膜１２の上に
光反射膜１３が設層される。さらに光反射膜１３の上に
は通常、保護膜１４が設けられる。
【００１２】光透過性の基板１１は、ディスク形状をな
し、基板１１の片側平面には、通常、トラッキング用の
プリグルーブが、同心円状にまたはスパイラル状に形成
されている。このようなプリグルーブを有する基板１１
は、生産性向上の観点から、いわゆる一体的に形成され
た射出成形樹脂基板を用いることが好ましく、このもの
は、例えば、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリメタ
クリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）等の透明材料から形成
される。また、一体的に形成された射出成形樹脂基板に
限らず、いわゆる２Ｐ（photo-polymer ）法で形成した
基板であってもよい。このような基板１１の厚さは１．
０〜１．５mm程度とされる。
し、基板１１の片側平面には、通常、トラッキング用の
プリグルーブが、同心円状にまたはスパイラル状に形成
されている。このようなプリグルーブを有する基板１１
は、生産性向上の観点から、いわゆる一体的に形成され
た射出成形樹脂基板を用いることが好ましく、このもの
は、例えば、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリメタ
クリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）等の透明材料から形成
される。また、一体的に形成された射出成形樹脂基板に
限らず、いわゆる２Ｐ（photo-polymer ）法で形成した
基板であってもよい。このような基板１１の厚さは１．
０〜１．５mm程度とされる。
【００１３】基板１１の上には、記録膜１２が形成され
る。記録膜１２の中には、有機色素、例えば、フタロシ
アニン色素などが含有される。フタロシアニン色素は、
下記一般式［Ｉ］で表わされる。
る。記録膜１２の中には、有機色素、例えば、フタロシ
アニン色素などが含有される。フタロシアニン色素は、
下記一般式［Ｉ］で表わされる。
【００１４】
【化１】 上記一般式［Ｉ］において、Ｒ1 は置換基を有してもよ
いアルキル基、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、−Ｏ
Ｒ15、−ＳＲ15、−ＳｅＲ15、−ＴｅＲ15、
いアルキル基、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、−Ｏ
Ｒ15、−ＳＲ15、−ＳｅＲ15、−ＴｅＲ15、
【００１５】
【化２】 を表す。Ｒ15は、置換基を有してもよいアルキル基、置
換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい
シクロアルキル基、あるいはポリエーテル基を表す。
換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい
シクロアルキル基、あるいはポリエーテル基を表す。
【００１６】Ｒ16、Ｒ17およびＲ18は、互いに同一であ
っても異なっていてもよく、置換基を有してもよいアル
キル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換
基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいア
ルコキシ基、置換基を有してもよいアリーロキシ基、ポ
リエーテル基、水酸基、または水素原子を表す。
っても異なっていてもよく、置換基を有してもよいアル
キル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換
基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいア
ルコキシ基、置換基を有してもよいアリーロキシ基、ポ
リエーテル基、水酸基、または水素原子を表す。
【００１７】Ｒ19、Ｒ20は、互いに同一であっても異な
っていてもよく、置換基を有してもよいアルキル基、置
換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有して
もよいアリール基を表す。
っていてもよく、置換基を有してもよいアルキル基、置
換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有して
もよいアリール基を表す。
【００１８】Ｒ2 は、それぞれ独立に置換基を有しても
よいアルキル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、
置換基を有してもよい複素環残基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、スルホン酸基を表す。Ｍｅは、金属を
表す。Ｍｅとしては、特に、Ｓｉ，Ｖ，Ｆｅ，Ａｌ等が
好ましい。 有機色素は上記フタロシアニン色素にかえ
て、シアニン系の有機色素であってもよい。このような
色素を主成分として含有する記録膜１２は、例えば、以
下のようにして形成される。すなわち、色素を坪量し、
後述するような溶媒に溶かしてコート原液をつくり、こ
の原液をスピンナーを用いて基板上に成膜した後、塗膜
ベイクして溶媒を飛ばして記録膜を形成させる。
よいアルキル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、
置換基を有してもよい複素環残基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、スルホン酸基を表す。Ｍｅは、金属を
表す。Ｍｅとしては、特に、Ｓｉ，Ｖ，Ｆｅ，Ａｌ等が
好ましい。 有機色素は上記フタロシアニン色素にかえ
て、シアニン系の有機色素であってもよい。このような
色素を主成分として含有する記録膜１２は、例えば、以
下のようにして形成される。すなわち、色素を坪量し、
後述するような溶媒に溶かしてコート原液をつくり、こ
の原液をスピンナーを用いて基板上に成膜した後、塗膜
ベイクして溶媒を飛ばして記録膜を形成させる。
【００１９】このように塗設される記録膜１２の厚さ
は、１０〜１０００ｎｍ、好ましくは、１００〜５００
ｎｍである。この値が１０ｎｍ未満となると記録感度が
不足し、理想的な記録ができなくなるという不都合が生
じ、この値が１０００ｎｍを越えると反射率が不足する
という不都合が生じる。
は、１０〜１０００ｎｍ、好ましくは、１００〜５００
ｎｍである。この値が１０ｎｍ未満となると記録感度が
不足し、理想的な記録ができなくなるという不都合が生
じ、この値が１０００ｎｍを越えると反射率が不足する
という不都合が生じる。
【００２０】なお、塗布に用いる溶媒としては、公知の
種々のものが用いられ、例えば、ジアセトンアルコー
ル、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、イソホロ
ン、メタノール、テトラフルオロプロパノール等が挙げ
られる。
種々のものが用いられ、例えば、ジアセトンアルコー
ル、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、イソホロ
ン、メタノール、テトラフルオロプロパノール等が挙げ
られる。
【００２１】このような記録膜１２の上には、光反射膜
１３が設けられる。この際、記録膜を形成する工程か
ら、記録膜の上に光反射膜を形成する工程に至るまでの
保存環境は、相対湿度３０％以下、特に、低ければ低い
程好ましい。この値が３０％を越えると記録再生信号に
おけるＢＬＥＲが悪化するという不都合が生じる。な
お、この工程間で保存される時間としては、０〜５００
時間程度を考慮している。
１３が設けられる。この際、記録膜を形成する工程か
ら、記録膜の上に光反射膜を形成する工程に至るまでの
保存環境は、相対湿度３０％以下、特に、低ければ低い
程好ましい。この値が３０％を越えると記録再生信号に
おけるＢＬＥＲが悪化するという不都合が生じる。な
お、この工程間で保存される時間としては、０〜５００
時間程度を考慮している。
【００２２】光反射膜１３はＡｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ等
の金属から構成され、このものは真空蒸着法、スパッタ
法、イオンプレーティング法等で成膜される。なかでも
スパッタ法が好適である。
の金属から構成され、このものは真空蒸着法、スパッタ
法、イオンプレーティング法等で成膜される。なかでも
スパッタ法が好適である。
【００２３】このようにして形成される光反射膜１３の
厚さは、０．０２〜２．０μｍ程度とされる。光反射膜
１３の上には、通常、記録膜１２と光反射膜１３を保護
するために保護膜１４が設層される。保護膜１４は、一
般に、紫外線硬化型樹脂をスピンコートして塗設した
後、紫外線を照射し、塗膜を硬化させて形成する。
厚さは、０．０２〜２．０μｍ程度とされる。光反射膜
１３の上には、通常、記録膜１２と光反射膜１３を保護
するために保護膜１４が設層される。保護膜１４は、一
般に、紫外線硬化型樹脂をスピンコートして塗設した
後、紫外線を照射し、塗膜を硬化させて形成する。
【００２４】その他の保護膜１４の材質として、エポキ
シ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂
等を用いてもよい。このような保護膜１４の厚さは、通
常、０．１〜１００μｍ程度とされる。
シ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂
等を用いてもよい。このような保護膜１４の厚さは、通
常、０．１〜１００μｍ程度とされる。
【００２５】なお、前記基板１１と記録膜１２との間に
は、基板１１を溶媒から保護するための中間層を設けて
も良い。また、記録膜１２と反射膜１３との間には、エ
ンハンス膜を形成してもよい。また、基板１１の記録・
再生光側の表面には、有機材料からなる反射率調整用の
トップコート膜を形成してもよい。トップコート膜は、
フッ素系樹脂またはシリコーン系樹脂から形成される。
は、基板１１を溶媒から保護するための中間層を設けて
も良い。また、記録膜１２と反射膜１３との間には、エ
ンハンス膜を形成してもよい。また、基板１１の記録・
再生光側の表面には、有機材料からなる反射率調整用の
トップコート膜を形成してもよい。トップコート膜は、
フッ素系樹脂またはシリコーン系樹脂から形成される。
【００２６】本発明の媒体には、一般に回転下におい
て、記録光が記録膜にパルス状に照射される。このとき
記録膜の一部が融解および昇華してピットが形成され
る。このように形成されたピットは、やはり媒体の回転
下、読出し光の反射光の差を検出することによって行わ
れる。
て、記録光が記録膜にパルス状に照射される。このとき
記録膜の一部が融解および昇華してピットが形成され
る。このように形成されたピットは、やはり媒体の回転
下、読出し光の反射光の差を検出することによって行わ
れる。
【００２７】以下、具体的実験例を示して本発明をさら
に詳細に説明する。本発明サンプルの作製 記録膜に含有される有機色素として、下記式で特定され
るフタロシアニンを用い、これらをエチルセロソルブ溶
媒中に溶解し、直径１２ｃｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカ
ーボネート（ＰＣ）基板１１上に、スピンコート法で記
録膜を２０００オングストロームの厚さに形成した。ベ
イクは、７０℃，１０ｍｉｎとした。
に詳細に説明する。本発明サンプルの作製 記録膜に含有される有機色素として、下記式で特定され
るフタロシアニンを用い、これらをエチルセロソルブ溶
媒中に溶解し、直径１２ｃｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカ
ーボネート（ＰＣ）基板１１上に、スピンコート法で記
録膜を２０００オングストロームの厚さに形成した。ベ
イクは、７０℃，１０ｍｉｎとした。
【００２８】
【化３】 この後、記録膜の上に光反射膜を形成する工程に至るま
での保存環境を相対湿度４６％ＲＨおよび，３０％ＲＨ
にそれぞれ変えて、これらの各条件下で、２４時間保存
した後、この記録膜１２の上に、Ａｕからなる光反射膜
１３を、１０００オングストロームの厚さに蒸着法で成
膜した。
での保存環境を相対湿度４６％ＲＨおよび，３０％ＲＨ
にそれぞれ変えて、これらの各条件下で、２４時間保存
した後、この記録膜１２の上に、Ａｕからなる光反射膜
１３を、１０００オングストロームの厚さに蒸着法で成
膜した。
【００２９】この光反射膜１３の上に紫外線硬化型アク
リレート樹脂からなる保護膜１４を５μｍ厚さにスピン
コート（回転数５８００rpm,２ｃｃ滴下）で形成した。
さらに、基板１１の記録光照射側にはフッ素樹脂を１４
００オングストローム厚さにトップコートして、各種サ
ンプルを作製した。
リレート樹脂からなる保護膜１４を５μｍ厚さにスピン
コート（回転数５８００rpm,２ｃｃ滴下）で形成した。
さらに、基板１１の記録光照射側にはフッ素樹脂を１４
００オングストローム厚さにトップコートして、各種サ
ンプルを作製した。
【００３０】これらのサンプルについて、 記録条件：Ｌ．Ｖ．（線速）＝１．４ｍ／ｓ，λ＝７８
５ｎｍ，Ｎ．Ａ．＝０．５，記録パワー＝８．０ｍＷ これらの条件のもとにＥＦＭ信号を記録し、 再生条件：Ｌ．Ｖ．（線速）＝１．４ｍ／ｓ，λ＝７７
８ｎｍ，Ｎ．Ａ．＝０．４５，再生パワー＝０．３mW の条件のもとに再生を行い、ＢＬＥＲ（ブロックエラー
レート）を測定した。
５ｎｍ，Ｎ．Ａ．＝０．５，記録パワー＝８．０ｍＷ これらの条件のもとにＥＦＭ信号を記録し、 再生条件：Ｌ．Ｖ．（線速）＝１．４ｍ／ｓ，λ＝７７
８ｎｍ，Ｎ．Ａ．＝０．４５，再生パワー＝０．３mW の条件のもとに再生を行い、ＢＬＥＲ（ブロックエラー
レート）を測定した。
【００３１】測定の結果、３０％ＲＨで保存のサンプル
（本発明）のＢＬＥＲは８×１０-4であったのに対し
て、４６％ＲＨで保存のサンプル（比較）のＢＬＥＲは
２×１０-3であった
（本発明）のＢＬＥＲは８×１０-4であったのに対し
て、４６％ＲＨで保存のサンプル（比較）のＢＬＥＲは
２×１０-3であった
【００３２】
【発明の効果】上記の実験結果より本発明の効果は明ら
かである。本発明の光記録媒体の製造方法は、光透過性
の基板の上に、有機色素を含有する記録膜を形成する工
程と、記録膜の上に光反射膜を形成する工程を含む光記
録媒体の製造方法であって、前記記録膜を形成する工程
から、記録膜の上に光反射膜を形成する工程に至るまで
の保存環境を、相対湿度３０％以下にするようにしてい
るので、保存環境下による媒体の記録特性への影響はほ
とんどなく、信頼性に優れる特性を備える記録媒体を提
供することができる。
かである。本発明の光記録媒体の製造方法は、光透過性
の基板の上に、有機色素を含有する記録膜を形成する工
程と、記録膜の上に光反射膜を形成する工程を含む光記
録媒体の製造方法であって、前記記録膜を形成する工程
から、記録膜の上に光反射膜を形成する工程に至るまで
の保存環境を、相対湿度３０％以下にするようにしてい
るので、保存環境下による媒体の記録特性への影響はほ
とんどなく、信頼性に優れる特性を備える記録媒体を提
供することができる。
【図１】本発明の光記録媒体の部分拡大断面図である。
１…光記録媒体 １１…光透過性の基板 １２…記録膜 １３…光反射膜 １４…保護膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松井 文雄 埼玉県鶴ケ島市富士見６丁目１番１号 パ イオニア株式会社総合研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 光透過性の基板の上に、有機色素を含有
する記録膜を形成する工程と、記録膜の上に光反射膜を
形成する工程を含む光記録媒体の製造方法であって、 前記記録膜を形成する工程から、記録膜の上に光反射膜
を形成する工程に至るまでの保存環境を、相対湿度３０
％以下にすることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4299396A JPH06150371A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 光記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4299396A JPH06150371A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 光記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06150371A true JPH06150371A (ja) | 1994-05-31 |
Family
ID=17872017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4299396A Pending JPH06150371A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06150371A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0968769A2 (en) * | 1998-06-30 | 2000-01-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information-recording medium, method for producing the same, and air-conditioning system for producing optical information recording medium |
| EP1126450A2 (en) * | 2000-02-14 | 2001-08-22 | Sony Corporation | Method for producing optical recording medium |
| US6309728B1 (en) | 1999-01-27 | 2001-10-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for producing optical information-recording medium and optical information-recording medium |
| US6821459B1 (en) | 1999-10-07 | 2004-11-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Information-recording medium and method for producing the same |
| US6887403B1 (en) | 1999-11-10 | 2005-05-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Information recording medium and method of manufacturing same |
-
1992
- 1992-11-10 JP JP4299396A patent/JPH06150371A/ja active Pending
Cited By (8)
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