JPH06150403A

JPH06150403A - 光記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPH06150403A
Application number: JP4299397A
Authority: JP
Inventors: Takashi Chuma; 隆中馬; Makoto Okano; 誠岡野; Shingo Iwasaki; 新吾岩崎; Fumio Matsui; 文雄松井
Original assignee: Pioneer Electronic Corp
Current assignee: Pioneer Corp
Priority date: 1992-11-10
Filing date: 1992-11-10
Publication date: 1994-05-31

Abstract

(57)【要約】【目的】媒体の記録特性に悪影響を与えず、信頼性に
優れた特性を備える記録媒体の製造方法を提供する。【構成】光透過性の基板の上に、有機色素を含有する
記録膜を形成する工程と、記録膜の上に光反射膜を形成
する工程を含む光記録媒体の製造方法であって、前記記
録膜を形成する工程の雰囲気条件は、相対湿度２５〜３
０％とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、書込みあるいは読み出
し可能な光記録媒体の製造方法、特に光透過性の基板の
上に有機色素を含有する記録膜と光反射膜を有する光記
録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、いわゆる書込み可能な追記型光記
録媒体の記録膜には例えば、シアニン、フタロシアニン
系等の有機色素が用いられていることは一般に良く知ら
れている。

【０００３】そして、このような追記型光記録媒体の書
込み方法としては、記録膜の微小面積にレーザビームを
集光させ、それを熱エネルギーに変換し、記録膜の性状
を変えて（ピット形成）行っている。この記録膜の性状
変化を円滑に行うために、媒体の構成は基板上に記録膜
を設層したものを２枚用意し、記録膜を対向して配置し
たいわゆるエアーサンドイッチ構造とされることが一般
的である。

【０００４】このようなタイプの追記型光記録媒体に用
いられる書込み用のレーザビームは、透明基板側から照
射され、記録膜の中に光読取り可能なピットを形成す
る。記録されたデータを再生するための読取り用のレー
ザビームの出力は、書込み用のそれと比べて弱い出力で
あり、ピットが形成された部分と、そうでない部分のコ
ントラストは電気信号として読み取られる。

【０００５】一方、上記媒体とは異なり予めすでにデー
タが記録されているいわゆるＲＯＭ（read only memor
y）タイプの媒体も存在し、音声記録と情報処理の分野
で広く実用化されている。しかし、このものには上記の
ごとく書込み可能な記録膜が存在しない。すなわち、再
生されるべくデータに相当するプリピットはすでにプラ
スチック基板の上に射出成形によって形成され、この上
にＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ等の金属からなる反射層が形
成され、さらにこの上に保護膜が形成されている。この
ＲＯＭタイプの典型的な媒体は、いわゆるＣＤと呼ばれ
るコンパクトディスクである。このＣＤの記録と読み取
りの信号の仕様は規格化されており、この規格に準じ
て、ＣＤの再生装置がコンパクトディスクプレーヤー
（ＣＤプレーヤー）として広く使われている。

【０００６】ところで、前記書込み可能な追記型光記録
媒体は、レーザビームを用いる点においてはＣＤと同様
であり、また、媒体の形態もディスク形状をなしている
点においてはＣＤと同様である。それゆえ、ＣＤ仕様の
規格に適合し、ＣＤプレーヤーにそのまま使える書込み
可能な媒体の開発が活発に行われている。このような媒
体の構成は、例えば、光透過性の基板と、この基板の上
に形成された有機色素を含有する記録膜と、この記録膜
の上に形成された光反射膜とを有する構成とされる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな媒体を製造するにあたって、記録膜を形成する工程
の雰囲気条件、特に相対湿度の条件は、媒体の記録再生
特性に無視できないような影響を及ぼすことが本発明者
らの研究の結果判明してきた。

【０００８】このような実情に鑑み本発明は創案された
ものであって、その目的は、媒体の記録再生特性に悪影
響を与えないような記録膜を形成する工程の雰囲気条件
を設定し、信頼性に優れる特性を備える記録媒体の製造
方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、光透過性の基板の上に、有機色素を含有する
記録膜を形成する工程と、記録膜の上に光反射膜を形成
する工程を含む光記録媒体の製造方法であって、前記記
録膜を形成する工程の雰囲気条件を、相対湿度２５〜３
０％とするように構成した。

【００１０】

【実施例】図１に基づいて、本発明の製造方法およびそ
の結果として作られる光記録媒体について説明する。

【００１１】この図に示されるように、本発明の製造方
法によって作られる光記録媒体１は、光透過性の基板１
１の上に記録膜１２が設層され、この記録膜１２の上に
光反射膜１３が設層される。さらに光反射膜１３の上に
は通常、保護膜１４が設けられる。

【００１２】光透過性の基板１１は、ディスク形状をな
し、基板１１の片側平面には、通常、トラッキング用の
プリグルーブが、同心円状にまたはスパイラル状に形成
されている。このようなプリグルーブを有する基板１１
は、生産性向上の観点から、いわゆる一体的に形成され
た射出成形樹脂基板を用いることが好ましく、このもの
は、例えば、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリメタ
クリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）等の透明材料から形成
される。また、一体的に形成された射出成形樹脂基板に
限らず、いわゆる２Ｐ（photo-polymer ）法で形成した
基板であってもよい。このような基板１１の厚さは１．
０〜１．５mm程度とされる。

【００１３】基板１１の上には、記録膜１２が形成され
る。記録膜１２の中には、有機色素、例えば、フタロシ
アニン色素などが含有される。フタロシアニン色素は、
下記一般式［Ｉ］で表わされる。

【００１４】

【化１】上記一般式［Ｉ］において、Ｒ₁は置換基を有してもよ
いアルキル基、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、−Ｏ
Ｒ¹⁵、−ＳＲ¹⁵、−ＳｅＲ¹⁵、−ＴｅＲ¹⁵、

【００１５】

【化２】を表す。Ｒ¹⁵は、置換基を有してもよいアルキル基、置
換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい
シクロアルキル基、あるいはポリエーテル基を表す。

【００１６】Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸は、互いに同一であ
っても異なっていてもよく、置換基を有してもよいアル
キル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換
基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいア
ルコキシ基、置換基を有してもよいアリーロキシ基、ポ
リエーテル基、水酸基、または水素原子を表す。

【００１７】Ｒ¹⁹、Ｒ²⁰は、互いに同一であっても異な
っていてもよく、置換基を有してもよいアルキル基、置
換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有して
もよいアリール基を表す。

【００１８】Ｒ₂は、それぞれ独立に置換基を有しても
よいアルキル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、
置換基を有してもよい複素環残基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、スルホン酸基を表す。Ｍｅは、金属を
表す。Ｍｅとしては、特に、Ｓｉ，Ｖ，Ｆｅ，Ａｌ等が
好ましい。

【００１９】有機色素は上記フタロシアニン色素にかえ
て、シアニン系の有機色素であってもよい。このような
色素を主成分として含有する記録膜１２は、例えば、以
下のようにして形成される。すなわち、色素を坪量し、
後述するような溶媒に溶かしてコート原液をつくり、こ
の原液をスピンナーを用いて基板上に成膜した後、塗膜
ベイクして溶媒を飛ばして記録膜を形成させる。

【００２０】このような記録膜を形成する工程、特にス
ピンナーコート成膜時における雰囲気条件は、相対湿度
２５〜３０％の範囲で行われる。この値が２５％未満に
なると、一定レベル以上の再生特性を得るための記録パ
ワーの範囲（記録パワーマージン）が狭くなるという不
都合が生じ、この値が３０％を越えると、ＢＬＥＲの値
が相対的に悪化するという不都合が生じる。

【００２１】また、記録膜を形成する工程の雰囲気温度
は、１５〜３０℃程度が好ましい。このように塗設され
る記録膜１２の厚さは、１０〜１０００ｎｍ、好ましく
は、１００〜５００ｎｍである。この値が１０ｎｍ未満
となると記録感度が不足し、理想的な記録ができなくな
るという不都合が生じ、この値が１０００ｎｍを越える
と反射率が不足するという不都合が生じる。

【００２２】なお、塗布に用いる溶媒としては、公知の
種々のものが用いられ、例えば、ジアセトンアルコー
ル、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、イソホロ
ン、メタノール、テトラフルオロプロパノール等が挙げ
られる。

【００２３】このような記録膜１２の上には、光反射膜
１３が設けられる。光反射膜１３はＡｕ、Ａｌ、Ａｇ、
Ｃｕ等の金属から構成され、このものは真空蒸着法、ス
パッタ法、イオンプレーティング法等で成膜される。な
かでもスパッタ法が好適である。

【００２４】このようにして形成される光反射膜１３の
厚さは、０．０２〜２．０μｍ程度とされる。光反射膜
１３の上には、通常、記録膜１２と光反射膜１３を保護
するために保護膜１４が設層される。保護膜１４は、一
般に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして塗設した
後、紫外線を照射し、塗膜を硬化させて形成する。

【００２５】その他の保護膜１４の材質として、エポキ
シ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂
等を用いてもよい。このような保護膜１４の厚さは、通
常、０．１〜１００μｍ程度とされる。

【００２６】なお、前記基板１１と記録膜１２との間に
は、基板１１を溶媒から保護するための中間層を設けて
も良い。また、記録膜１２と反射膜１３との間には、エ
ンハンス膜を形成してもよい。また、基板１１の記録・
再生光側の表面には、有機材料からなる反射率調整用の
トップコート膜を形成してもよい。トップコート膜は、
フッ素系樹脂またはシリコーン系樹脂から形成される。

【００２７】本発明の媒体には、一般に回転下におい
て、記録光が記録膜にパルス状に照射される。このとき
記録膜の一部が融解および昇華してピットが形成され
る。このように形成されたピットは、やはり媒体の回転
下、読出し光の反射光の差を検出することによって行わ
れる。

【００２８】以下、具体的実験例を示して本発明をさら
に詳細に説明する。本発明サンプルの作製記録膜に含有される有機色素として、下記式で特定され
るフタロシアニンを用い、これらをエチルセロソルブ溶
媒中に溶解し、直径１２ｃｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカ
ーボネート（ＰＣ）基板１１上に、スピンコート法で記
録膜を２０００オングストロームの厚さに形成した。ま
た、ベイクは、７０℃，１０ｍｉｎとした。

【００２９】

【化３】なお、スピンコート成膜時における雰囲気条件は、以下
の４つの条件下、すなわち、２０℃，１６％ＲＨ、
２０℃，２５〜２６％ＲＨ、２０℃，３０％ＲＨ、
２０℃，３４〜３５％ＲＨで行った。

【００３０】この記録膜１２の上に、Ａｕからなる光反
射膜１３を、１０００オングストロームの厚さに蒸着法
で成膜した。この光反射膜１３の上に紫外線硬化型アク
リレート樹脂からなる保護膜１４を５μｍ厚さにスピン
コートで形成した。

【００３１】さらに、基板１１の記録光照射側にはフッ
素樹脂を１４００オングストローム厚さにトップコート
して、各種サンプルを作製した。これらのサンプルにつ
いて、記録条件：Ｌ．Ｖ．（線速）＝１．４ｍ／ｓ，λ＝７８
５ｎｍ，Ｎ．Ａ．＝０．５，記録パワーは図２に示され
るように６．５〜９．０ｍＷの範囲で種々変えた。

【００３２】これらの条件のもとにＥＦＭ信号を記録
し、再生条件：Ｌ．Ｖ．（線速）＝１．４ｍ／ｓ，λ＝７７
８ｎｍ，Ｎ．Ａ．＝０．４５，再生パワー＝０．３mW の条件のもとに再生を行い、ＢＬＥＲ（ブロックエラー
レート）を測定した。

【００３３】結果を図２に示す。図２のグラフより、
２０℃，１６％ＲＨのものは、記録パワーに対するマー
ジンが狭く、また、２０℃，３４〜３５％ＲＨのもの
は、他に比べて最小ＢＬＥＲが大きくなってしまう。従
って、記録パワーに対するマージンおよび最小ＢＬＥＲ
を考慮するに、２０℃，２５〜３０％ＲＨが好適条件で
あることがわかる。

【００３４】

【発明の効果】上記の実験結果より本発明の効果は明ら
かである。本発明の光記録媒体の製造方法は、光透過性
の基板の上に、有機色素を含有する記録膜を形成する工
程と、記録膜の上に光反射膜を形成する工程を含む光記
録媒体の製造方法であって、前記記録膜を形成する工程
の雰囲気条件を、相対湿度２５〜３０％としているの
で、媒体の記録特性に悪影響を与えず、信頼性に優れる
特性を備える記録媒体の製造方法を提供することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録媒体の部分拡大断面図である。

【図２】記録膜コート時の湿度依存性を示すグラフであ
り、記録パワーと、ＢＬＥＲとの関係を、記録膜コート
時の湿度をパラメータとして示したグラフである。

【符号の説明】

１…光記録媒体１１…光透過性の基板１２…記録膜１３…光反射膜１４…保護膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者松井文雄埼玉県鶴ケ島市富士見６丁目１番１号パイオニア株式会社総合研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光透過性の基板の上に、有機色素を含有
する記録膜を形成する工程と、記録膜の上に光反射膜を
形成する工程を含む光記録媒体の製造方法であって、前記記録膜を形成する工程の雰囲気条件は、相対湿度２
５〜３０％であることを特徴とする光記録媒体の製造方
法。