JPH03203692A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光記録媒体、特に有機系色素を含有する記録
膜を有する光記録媒体に関する。

〔従来の技術〕

光記録媒体は、一般に記憶容量が大きく、しかも書き込
みまたは読み出しが非接触で行なわれる等、優れた特徴
を備えており、その開発が従来から活発に行なわれてき
ている。

このような光記録媒体の１例として、例えば追記型光デ
ィスクがあり、このものは、記録膜の微少面積にレーザ
ビームを集光させ、それを熱エネルギーに変換し、記録
膜の性状を変えて（ピット形成）記録し、未記録部分と
の反射光量の違いによって再生を行うようにしている。

このような媒体の記録膜の材質としては、大きな反射率
変化を与えるものが好ましく、当初はテルル系の低融点
金属材料が先行して用いられていた。

しかし、近年テルル系材料が有害であること、そして、
より高感度化する必要があること、より製造コストを安
価にする必要があることから、テルル系材料にかえ、色
素を主とした有機材料系の記録膜を用いた光記録媒体の
提案がなされている（特開昭第５８−１１２７９０号公
報、同第５８１１４９８９号公報、同第５８−１２５２
４６号公報、同第６０−７１２９５号公報等）。

このような色素を主とした有機材料系の記録膜を用いる
光記録媒体は、一般に基板と、グループおよびアドレス
を形成するためにこの基板上に設けられた紫外線硬化型
樹脂層（２Ｐ層）と、この紫外線硬化型樹脂層の上にス
ピンコード法により形成された記録膜を備えている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、上記２Ｐ層を有する基板は、例えばＮｉ
スタンパ上に紫外線硬化型樹脂を滴下し、その上に基板
をのせ、スタンパと基板との間に気泡が残らないように
しながら、紫外線硬化型樹脂を十分に薄くのばした後、
基板の上から紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を重合
、硬化させることによって形成される。そのため、作業
工程がきわめて煩雑となり、生産性の向上が図れないと
いう問題が生じる。このような問題を解決するための一
つの方策として、上記の紫外線硬化型樹脂を用いずにグ
ループ等を備えたプラスチック基板を射出成形により一
体成形した、いわゆる射出成形基板の使用が考えられる
。

しかしながら、この射出成形基板では、このものの表面
（グループ側）に直接記録膜が塗膜されるため、一般に
、塗膜時に含有される溶媒によって基板がダメージを受
け、実用に耐えないという問題が生じる。

そこで、本発明は、上記の問題点を解決し、射出成形基
板にダメージを与えることなく、しかも記録再生等の特
性にも優れる記録膜を備えた光記録媒体を提供すること
を目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

このような課題を解決するため、本発明は、プラスチッ
ク基板上に記録膜を有する光記録媒体において、前記記
録膜は、下記一般式 で表わされるシアニン系色素（式中Ｒ１およびＲ２は、
それぞれ炭素数３〜６のアルキル基を表わす）と、下記
一般式 で表されるクエンチャ（式中Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は
それぞれ、水素または置換基を表わす）を含有するよう
に構成した。

本発明に用いられるプラスチック基板は、生産性向上の
観点から、いわゆる射出成形基板が用いられる。射出成
形基板とは、平板状の基板と、この基板の片面に設けら
れるグループ、アドレス等とを同一材料で一体的にワン
ショットの射出成形で形成した基板をいう。

このような基板は、例えばポリカーボネート樹脂（ＰＣ
）、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）等のプラ
スチック材料から形成される。

このような基板上には、記録膜が成膜され、この記録膜
には下記一般式［１］で表わされるシア二ン系色素が含
有される。

一般式［Ｉコ 上記一般式［１］において、ＲおよびＲ２は、それぞれ
炭素数３〜６のアルキル基を表わす。この炭素数が３未
満となると、後述する溶媒への溶解性がなくなり、成膜
ができない。この炭素数が６を超えると、これもまた同
様に難溶性を示し成膜ができない。

さらに本発明の記録膜には、下記一般式［ｎｌで示され
るクエンチャが含有される。

一般式［■コ 式［■コにおいてＲ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６はそれぞれ、
水素またはこれに代わる置換基を表わす。

置換基としては、 ＣＨＯ−、ＣＨ３０ＣＨ２ＣＨ２０− ＣＨＣｏｏ−、（ｎ−Ｃ３Ｈ７）　２Ｎ−（Ｃ２Ｈ５）
２Ｎ−、ＣＩ　− 等が挙げられる。

このようなりエチンヤの具体例としては、例えば以下の
構造式［Ｑ−１］〜［Ｑ−４］のものが挙げられる。

［Ｑ−１］ け　　　　　　　　　　しχ ［Ｑ ２］ ［Ｑ−３］ ［Ｑ−４コ これらのクエンチャの中でも特に、上記構造式［Ｑ−１
］で示されるものが、前記一般式［１］で表わされる色
素との組み合せによる媒体特性上好ましい。このような
りエンチャは、光安定性を増し、特に読み出し光による
脱色（再生劣化）を防止するために用いられる。

このようなりエンチャおよび前記シアニン系色素を含有
する記録膜は、例えばスピンコード法等の常用手段によ
り塗設される。塗設される記録膜の厚さは４０〜１１０
０ｎ程度である。なお、塗布に用いる溶媒としては、ジ
アセトンアルコール、エチルセロソルブ、メチルセロソ
ルブ、イソホロン、メタノール等が挙げられる。これら
の溶媒は、記録膜が設けられる基板にダメージを与えな
いので好適である。

本発明の記録媒体に適用されるレーザ光は使用色素の吸
収波長に応じて適宜、選択されるが、中でも半導体レー
ザ（波長７６０〜８３０ｎｍ）が好ましい。

本発明の記録媒体は、前述したように、いわゆる射出成
形基板上に記録膜を設けて形成されるが、通常は、この
ものを２枚用意し、記録膜を対向して配置した、いわゆ
るエアーサンドイッチ構造とすることが好ましい。

〔作用〕

本発明の媒体には、一般に回転下において、記録光がパ
ルス状に照射される。

このとき記録膜の一部が融解、除去されピットが形成さ
れる。

このように形成されたピットは、やはり媒体の回転下、
読み出し光の反射光の差を検出することによって行なわ
れる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を示して本発明をさらに詳細に説
明する。

記録膜に含有される色素としては、以下に示される［Ｄ
−１］〜［Ｄ−５］を用い、クエンチャとしては、前記
［Ｑ−１］または下記［Ｑ　　］を用い、これらを下記
表１に示される溶媒中に溶解し、直径１３ａｎのポリカ
ーボネート（ｐ　ｃ）基板上に、６０ｎｍの厚さに塗設
し、種々の光記録媒体サンプルを作製した。

色　　素 ［Ｄ−１］ 上記一般式［１］において、ＲおよびＲ２を、それぞれ
１−Ｃ３Ｈ１１（イソペンチル基）とした。

［Ｄ−２コ 上記一般式［Ｉ］において、ＲおよびＲ２をそれぞれＣ
２Ｈ５（エチル基）とした。

［Ｄ−３］ 上記一般式［Ｉ］において、ＲおよびＲ２を、それぞれ
Ｃ７Ｈ１５（ヘプチル基）とした。

［Ｄ−４］ 上記一般式［Ｉ］において、ＲおよびＲ２を、それぞれ
ＣＨ３（メチル基）とした。

［Ｄ−５コ クエンチャ ［Ｑ＊］ 上述の方法で作製した光記録媒体サンプルの記録膜構成
およびその評価結果を下記表１に示す。

なお、評価項目としては、色素およびクエンチャの溶解
性、ならびに高温高湿環境下（７０℃、９０％ＲＨ）に
おけるシステム制御信号レベルの変動および記録再生特
性の変化、ならびに繰り返し読出しの繰り返し回数の特
性を評価した。さらに、これらの特性の総合特性をも評
価した。

結果を下記表１に示す。

△・実用レベルでやや問題あり、 ×・実用レベル外 なお、サンプル磁８については、基板材質をサンプルＮ
α１〜７の射出成形基板とは変え、いわゆるＰＭＭＡと
紫外線硬化型樹脂層（２Ｐ層）との組み合せによる基板
とした。

〔発明の効果〕

以上の結果より本発明の効果は明らかである。

すなわち、本発明の光記録媒体は、記録膜中に特定のシ
アニン系色素およびクエンチャを含有するので、いわゆ
る射出成形基板にダメージを与えることなく、基板上に
直接塗設することができ、従来の紫外線硬化型樹脂層（
２ＰＩｍ）を有する基板を用いた媒体と比べて生産性は
格段と向上する。

しかも記録再生等の特性も極めて優れる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 プラスチック基板上に記録膜を有する光記録媒体におい
   て、 前記記録膜は、下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるシアニン系色素（式中Ｒ＿１およびＲ＿２
   は、それぞれ炭素数３〜６のアルキル基を表わす）と、
   下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表されるクエンチャ（式中Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５、
   Ｒ＿６はそれぞれ、水素または置換基を表わす）を含有
   することを特徴とする光記録媒体。