JPH07244888A

JPH07244888A - 複合ディスク

Info

Publication number: JPH07244888A
Application number: JP5515394A
Authority: JP
Inventors: Noboru Kawai; 登川合; Tetsuya Kondo; 哲也近藤; Toshikazu Nishihara; 敏和西原; Migaku Tada; 琢多田; Toshiki Kasai; 利記河西
Original assignee: Victor Company of Japan Ltd
Current assignee: Victor Company of Japan Ltd
Priority date: 1994-02-28
Filing date: 1994-02-28
Publication date: 1995-09-19

Abstract

(57)【要約】【目的】磁気ヘッドの良好な接触走行と、良好な磁気
記録再生特性とを得ることが出来る複合ディスクを提供
する。【構成】複合ディスク１１は、円板状の透明基板１上
に、光情報の記録されるべき光記録層３と、この光記録
層３を保護するための光記録層保護膜４と、磁性材料あ
るいは磁性材料を主体とする材料で形成した磁性層５
と、シリコーンオイルよりなる潤滑層７とを順次積層し
て構成され、磁性層５表面における磁気ヘッド摺動走行
面の表面粗さの最大高さＲmax を０．０２〜２．５μｍ
とした。この結果、摩擦力（摩擦係数）が一定に保たれ
て磁気ヘッドを良好に接触走行させることができ、かつ
良好な磁気記録特性を得ることが可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【０００２】

【産業上の利用分野】本発明は、光記録層を有する光デ
ィスクに、少量のデータを書込みまたは読み出し可能な
磁性層を形成した複合ディスクに係わり、特に、この磁
性層の磁気ヘッド走行面に表面粗さのある面を形成し、
磁気ヘッドの良好な接触走行と良好な磁気記録による書
き込みまたは読み出し（以下、記録再生とも言う）を行
わせるのに好適な複合ディスクに関するものである。

【０００３】

【０００２】

【０００４】

【従来の技術】透明基板上に形成されている光学記録層
に記録されている情報信号を、レーザ光を用いて読みだ
す再生専用光ディスクは、同一情報を大量にしかも短時
間に複製することが出来ることにより、現在広範に普及
している。この再生専用光ディスクには、記録されてい
る情報内容により、ＣＤ，ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｖまた
はＣＤ−Ｉ等の種類がある。

【０００５】

【０００３】これら多種類の再生専用光ディスクの出現
により、その使用形態も多様化してきた。さらに、再生
専用光ディスクに少量の情報を付加できる記録領域を設
けて、ここに管理情報を記録することにより、再生専用
光ディスクの管理を容易にしようとする試みがなされて
いる。

【０００６】例えば、ゲーム用再生専用光ディスク（以
下、ゲーム用光ディスクともいう）の場合、ゲームを途
中で中断し、再びゲームを再開する時は、中断したシー
ンより始められるように、中断した時のゲームのシーン
番号やそれまでのゲームの得点等のゲーム管理情報を、
光ディスクプレーヤに記録できるようになっている。し
かし、ゲーム用光ディスクを別の場所に持ちだし、そこ
にある別の光ディスクプレーヤによってゲームを再開し
たい場合には、ゲーム用光ディスクにゲーム管理情報が
記録されていないため、先の中断したシーンより再開す
ることが出来なかった。

【０００７】

【０００４】そこで、このような欠点を解決するため
に、光ディスク上に、磁性層の領域を設けることで、少
量の情報を磁気記録方式により記録再生出来る複合ディ
スクが提案されている。以下、添付図面を参照して従来
の複合ディスクについて説明する。

【０００８】図４は、従来の複合ディスクの構成の一例
を示す部分断面図である。

【０００９】同図に示す複合ディスク１２は、円板状の
透明なポリカーボネート樹脂からなる基板１上の片面
に、情報に対応した信号ピット２が、射出成形法により
形成されており、この上にアルミニウムからなる光記録
層３が形成されている。この光記録層３は、信号ピット
２の形成されていない基板側から、レーザ光を入射し、
光記録層３で反射させ、信号ピット２の形状を読み取る
ためのものである。光記録層３の上には、紫外線硬化樹
脂からなる保護層４が形成されて、光ディスク１５が構
成されている。

【００１０】さらに、この保護層４の上には、少量の情
報を磁気記録方式によって書込むための、磁性層５が形
成され、この磁性層５の上には磁気ヘッドの接触走行面
の摩擦係数を一定に保つための潤滑層７が形成されて、
複合ディスク１３が構成されている。この磁性層５への
磁気記録再生は、図示しない磁気ヘッドによって行われ
る。

【００１１】このように、再生専用光ディスク１５に、
磁性層５を設けることで少量の情報を記録再生できるの
で、ディスクの管理情報やデータ訂正情報等の書替え可
能な情報を再生専用光ディスクで扱うことができる。

【００１２】

【０００５】

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、光ディスク
上に磁性層を設け、複合ディスクとし、書替え可能な情
報を磁気記録再生する時、通常、複合ディスクの回転数
は低く、また、複合ディスクの面振れは光ディスクを基
本構成とするため大きいので、安定に磁気記録再生を行
うためには、磁気ヘッドを複合ディスクに接触させる接
触記録方式をとる必要がある。安定に磁気記録再生を行
うためには、磁気ヘッドと複合ディスクとの良好な接触
走行が必要であるが、これらに深く関係する複合ディス
クの磁気ヘッド走行面の表面形状については従来では検
討が行われていなかった。

【００１４】

【０００６】そこで、本発明者らが磁気ヘッド走行面の
表面形状に付いての実験を行った結果、複合ディスクの
表面形状は磁気記録再生特性とも深く関係することが判
明した。

【００１５】即ち、磁気ヘッドの摺動面の表面粗さは通
常かなり小さく、複合ディスクの磁気ヘッド走行面の表
面粗さを小さくしすぎると、磁気ヘッド摺動面と複合デ
ィスクの接触面積が大きくなり、摩擦力が大きくなる。
このため、接触荷重を与えられた磁気ヘッドは吸着現象
を起こし、複合ディスクが回転することでスティック・
スリップという間欠接触を起こす。最悪の場合は、磁気
ヘッドが複合ディスクに張り付いて固着し、複合ディス
クの回転が妨げられる。このように、複合ディスクの磁
気ヘッド走行面の表面粗さが小さすぎると、磁気ヘッド
の良好な接触走行性は得られず、磁気記録再生特性が悪
くなるのである。

【００１６】

【０００７】また、複合ディスクの磁気ヘッド走行面の
表面粗さが大きい場合は、磁気ヘッド摺動面と複合ディ
スクの接触面積が小さくなり、摩擦力が小さくなるが、
磁性層内で実質的に磁気記録再生される部分と磁気ヘッ
ドとの距離が大きくなり、磁気記録再生特性が悪くな
る。また、複合ディスクの磁気ヘッド走行面の表面粗さ
が大きすぎると、ディスク表面の大きな突起により磁気
ヘッドが跳ね上げられ、間欠接触を起こしてしまい、磁
気ヘッドの走行が不安定になってしまう。

【００１７】このように、複合ディスクの磁気ヘッド走
行面の表面粗さを小さくしすぎても大きくしすぎても、
磁気記録再生特性が劣化してしまうのである。

【００１８】また、磁性層保護膜を設けた複合ディスク
においては、磁性層内で実質的に磁気記録再生される部
分と磁気ヘッドとの距離が大きくなるので、磁性層保護
膜を設けない複合ディスクに比べ、一般的に磁気記録再
生特性が劣化する。このため、磁気ヘッドの良好な接触
走行を得るために複合ディスクの磁気ヘッド走行面の表
面粗さを大きくすれば、磁性層保護膜の膜厚と相乗して
磁気記録再生特性が劣化するという問題点も明らかにな
った。

【００１９】

【０００８】そこで、本発明は上記の点に着目してなさ
れたものであり、磁気ヘッドの良好な接触走行と、良好
な磁気記録再生特性とを得ることが出来る複合ディスク
を提供することを目的とする。

【００２０】

【０００９】

【００２１】

【課題を解決するための手段】そこで、本発明は上記の
点に着目してなされたものであり、円板状の透明基板上
に、光情報の記録されるべき光記録層と、この光記録層
を保護するための光記録層保護膜と、磁性材料あるいは
磁性材料を主体とする材料で形成した磁性層とが少なく
とも順次積層され、磁気ヘッドを接触走行させて前記磁
性層に磁気記録による情報の書き込みまたは情報の読み
出しを行う複合ディスクにおいて、前記磁気ヘッドが接
触走行する面の表面粗さの最大高さＲmax を０．０２〜
２．５μｍとしたことを特徴とする複合ディスクを目的
とするものである。

【００２２】

【００１０】また、前記磁性層上に、この磁性層を保護
するための磁性層保護膜を形成した前記複合ディスクに
おいて、前記磁性層保護膜の膜厚ｄと前記最大高さＲma
x との和（ｄ＋Ｒmax ）が０．０２〜２．５μｍとなる
ように磁性層保護膜を形成したことを特徴とする複合デ
ィスクを目的とするものである。

【００２３】

【００１１】

【００２４】

【作用】本発明者らが磁気ヘッド走行面の表面形状に付
いての実験を行った結果、複合ディスクの磁気ヘッド走
行面の表面粗さには、磁気ヘッドを安定に走行させ、更
に磁気記録再生特性の劣化もある程度の範囲に抑えられ
るような最適範囲があることが明らかになった。よっ
て、磁気ヘッド走行面の表面粗さをこの範囲内とすれ
ば、複合ディスクと磁気ヘッドとの接触面積が適正な範
囲となり、摩擦力（摩擦係数）が一定に保たれて磁気ヘ
ッドを良好に接触走行させることができ、かつ良好な磁
気記録再生特性を得ることが可能になるのである。

【００２５】本発明者らの実験結果では、上記表面粗さ
の最適範囲は、磁性層保護膜を設けない場合、最大高さ
Ｒmax が０．０２〜２．５μｍであった。ここで、最大
高さＲmax は、ＪＩＳにより定義された物質の表面粗さ
を示す表現法であり、所定の基準長の断面曲線の最も深
い谷と、最も高い山との差をμｍで表したものである。
以下の説明では、この最大高さＲmax を用いて表面粗さ
を記載する。

【００２６】

【００１２】また、磁性層の保護のために磁性層保護膜
を設けた場合には、この磁性層保護膜の膜厚ｄと磁性層
保護膜表面の表面粗さとが関係することが判明した。即
ち、磁性層保護膜の膜厚が大きくなると、実質的に磁気
記録再生される部分と磁気ヘッドとの距離が大きくなる
ので、磁気記録再生特性が悪くなり、表面粗さが磁気記
録再生特性に与える影響と同様な傾向を示す。よって、
良好な磁気記録再生特性を得るための複合ディスクの磁
気ヘッド走行面の表面粗さと磁性層保護膜の膜厚との関
係について適正な範囲があるのである。そこで本発明者
らは、磁性層保護膜の膜厚ｄと複合ディスクの磁気ヘッ
ド走行面の最大高さＲmax との和（ｄ＋Ｒmax ）という
値に注目した。

【００２７】この値に注目した結果、磁気ヘッドが接触
走行する磁性層保護膜表面の表面粗さは、上記磁性層保
護膜がない場合と同様に、その最大高さＲmax は０．０
２〜２．５μｍであるが、上記和（ｄ＋Ｒmax ）が０．
０２〜２．５μｍとなるよう磁性層保護膜を構成すれ
ば、磁気ヘッドを良好に接触走行させることができ、ま
た磁性層保護膜を設けたことによる磁気記録再生特性の
劣化が小さく、安定した再生出力が得られることが判明
した。

【００２８】

【００１３】

【００２９】

【実施例】上述の結果に基づいた複合ディスクを製作
し、磁気記録再生特性の評価と、摺動試験を行った。以
下、添付図面を参照し、本発明の実施例を説明する。＜実施例１＞図１は、本発明の複合ディスクの実施例１
の構成を示す部分断面図である。

【００３０】図１において、１１は複合ディスクを示
す。なお、符号は、上述した従来例と共通するものは、
同一符号を付けて、その説明を省略する。

【００３１】まず、光ディスク１５の構成の概略を説明
する。

【００３２】直径１２０ｍｍの透明なポリカーボネート
樹脂製の基板１上に、スタンパによる射出成形法により
信号ピット２が形成されている。この信号ピット２上の
全面に、スパッタリング法により厚さ１００ｎｍのＡｌ
膜が光記録層３として形成されている。この光記録層３
上に、例えばトリメチルプロパントリアクリレートから
なる紫外線硬化樹脂が、スピンコート法によって塗布さ
れた後、紫外線によって硬化されて、厚さ１０μｍの光
記録層保護膜４が形成されている。

【００３３】

【００１４】以上の構成の光ディスク１５に、主に紫外
線硬化樹脂を含む磁性塗料（これについては、後述す
る）を用いて、スクリーン印刷法により（スクリーン
は、テトロン系３８０メッシュに、乳剤が１２μｍの厚
さに塗布されたものであり、内径３９ｍｍ、外径１１８
ｍｍのドーナツ形状に設けられている）、所定形状の磁
性塗料膜を形成する。この磁性塗料膜を、紫外線照射に
よって硬化し、膜厚が７．８μｍである磁性層５が形成
される。この磁性層５の表面は、比較的大きなうねりを
有するので、研磨テープを用いて研磨して平坦化し、膜
厚が６．２μｍである磁性層５を得た。

【００３４】この時の研磨条件は、粒径１６μｍのＳｉ
Ｃ砥粒の研磨テープＧＣ＃１０００（日本ミクロコーテ
ィング社製）で、圧搾空気を研磨テープ裏面より吹き出
すことにより研磨テープを上記複合ディスク１５の磁性
層５表面に押し付け９０秒研磨後、さらに粒径９μｍの
ＳｉＣ砥粒の研磨テープＧＣ＃２０００（日本ミクロコ
ーティング社製）で同様に９０秒研磨という条件であ
る。

【００３５】磁性層５の膜厚の測定は、上記条件で製作
した複合ディスクを破断し、その破断面を観察すること
によって行った。

【００３６】

【００１５】この磁性層５上に、ｎーヘキサンを溶剤と
して、ほぼ０．２５％に希釈したシリコーンオイルの１
種であるメチルフェニルポリシロキサン（ＫＦ−５４：
商品名、信越化学工業（株）製）を、スピンコート法に
より塗布し、約１０ｎｍの膜厚の潤滑層７を形成し、実
施例１の複合ディスク１１を得た。

【００３７】なお、潤滑層７を形成後、表面粗さを測定
したところ、磁気ヘッド走行面の最大高さＲmax が０．
３４μｍとなっていた。最大高さＲmax は、タリステッ
プ表面粗さ計（ランクテーラーホブソン（株）製）を用
いて測定した。

【００３８】

【００１６】次に、この複合ディスク１１の磁性層５
に、磁気ヘッドを用いて磁気記録を行った後、信号を再
生して、再生出力と再生出力の安定性を評価した。

【００３９】再生出力は３１．２５ｋＨｚの記録周波数
で１．８３ｍＶ、６２．５ｋＨｚで１．８２ｍＶとな
り、安定した再生出力を得た。

【００４０】なお、磁気記録再生の条件は次の通りであ
る。磁気ヘッドはトラック幅が４２０μｍ、ギャップ長
が４．５μｍのフェライトヘッドを使用した。記録トラ
ックは同心円状とし、複合ディスク１１の半径４０ｍｍ
付近の位置にトラックピッチが７００μｍとなるように
記録を行った。記録再生時の複合ディスク１１の回転数
は３３０ｒｐｍであり、３１．２５ｋＨｚと６２．５ｋ
Ｈｚの矩形波信号を記録再生した。再生出力はヘッド端
子出力を測定した。

【００４１】

【００１７】この複合ディスク１１を、複合ディスク用
摺動試験器（後述する）に装着し、磁気ヘッドによる摺
動試験を行った。

【００４２】摺動時の動摩擦係数は０．３６で、磁気ヘ
ッドの走行状態は安定走行であった。

【００４３】摺動試験条件は、磁気ヘッドの接触荷重を
３ｇ重、複合ディスク１１の回転数を３３０ｒｐｍ、磁
気ヘッドの摺動位置を複合ディスク１１の半径４０ｍｍ
のトラック位置とした。

【００４４】

【００１８】次に、複合ディスク用摺動試験器と摺動試
験の概要を説明する。

【００４５】図３は、複合ディスク用摺動試験器の概略
構成を示す正面図である。

【００４６】図３において、２０は摺動試験器を、１０
（１１、１２）は複合ディスクを、２１はクランプを、
２２はスピンドルを、２３は回転中心軸を、２４は磁気
ヘッドを、２５はサスペンションを、２６はヘッド固定
部を、２７はロードセルを、２８はアームを、２９は定
盤をそれぞれ示す。

【００４７】

【００１９】摺動試験器２０の図示しない基台に、図示
しないモータが固定され、このモータの回転軸に、スピ
ンドル２２が回転可能に接続されている。スピンドル２
２の回転中心軸２３は垂直方向となっている。複合ディ
スク１１は、そのセンタ穴を貫通するスピンドル２２の
突起部に装着され、クランプ２１によって、スピンドル
２２に固定される。

【００４８】

【００２０】一方、スピンドル２２より所定の距離離れ
て、基台に固定された、定盤２９が配置されている。定
盤２９の上面２９ａは垂直及び水平方向（スピンドル２
２の回転中心軸２３に向かう方向）に移動可能に構成さ
れている。定盤２９の上面２９ａの所定の位置に、ロー
ドセル２７が配置固定されている。ロードセル２７に
は、アーム２８がロードセル２７内部の支持点に水平方
向に揺動できるようにその一端を接続されており、この
アーム２８の他端にはヘッド固定部２６が固定されてい
る。ヘッド固定部２６の所定位置に、サスペンション２
５の一端が固定されており、サスペンション２５の他端
には、磁気ヘッド２４が複合ディスク１１の上面に配置
される様取り付けられている。複合ディスク１１上の磁
気ヘッド２４の位置は、定盤２９の水平方向の移動によ
り調整される。磁気ヘッド２４の接触荷重は定盤２９の
垂直方向の移動により調整され、ロードセル２７によっ
て、検出される。

【００４９】

【００２１】次に、摺動試験の概要を説明する。

【００５０】複合ディスク１１は、図示しないモータに
連結したスピンドル２２により、所定の回転数で回転さ
せられる。複合ディスク１１上の磁気ヘッド２４には所
定の接触荷重が印加されており、複合ディスク１１の回
転方向に摩擦力が作用する。摩擦力の大きさは、アーム
２８の水平方向の変位量に比例しており、ロードセル２
７によって検出される。摩擦力の時間変化は、ロードセ
ル２７の出力端に接続された図示しない記録計に、記録
される。

【００５１】

【００２２】次に、磁性層５を形成するのに使用した磁
性塗料について説明する。

【００５２】磁性塗料の主成分は、紫外線硬化樹脂であ
り、これにはアクリル酸エステル系のトリメチルプロパ
ントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ：日本化薬（株）製）
を使用し、磁性粉としては、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃であるＣＭ
Ｘ−４７３（商品名、戸田工業（株）製）を使用し、磁
性粉の濃度を１５ｗｔ％とし、分散剤としては、高級脂
肪酸エステル（グリセリンモノ脂肪酸エステル）を使用
し、光硬化剤としては、ダロキュア−４２６５（商品
名、メルクジャパン（株）製）を使用した。それぞれの
所定量を混合し、充分混練し、磁性粉を分散させ、磁性
塗料を調製した。

【００５３】

【００２３】＜実施例２＞磁性層５の形成時の研磨条件
を、上記研磨テープＧＣ＃１０００で９０秒研磨後、上
記研磨テープＧＣ＃２０００で４０秒研磨という条件と
し、潤滑層７形成後の磁気ヘッド走行面の最大高さＲma
x を０．７１μｍとした以外は、実施例１と同様にして
複合ディスク１１を得た。

【００５４】この複合ディスク１１について、実施例１
と同様に磁気記録再生出力の測定と摺動試験を行った。

【００５５】再生出力は３１．２５ｋＨｚの記録周波数
で１．６１ｍＶ、６２．５ｋＨｚで１．３６ｍＶとな
り、安定した再生出力を得た。

【００５６】摺動試験では、摺動時の動摩擦係数は０．
３６であり、磁気ヘッドの走行状態は、安定走行であっ
た。

【００５７】

【００２４】＜実施例３＞磁性層５の形成時の研磨条件
を、上記研磨テープＧＣ＃１０００で９０秒研磨という
条件とし、潤滑層７形成後の磁気ヘッド走行面の最大高
さＲmax を１．４５μｍとした以外は、実施例１と同様
にして複合ディスク１１を得た。

【００５８】この複合ディスク１１について、実施例１
と同様に磁気記録再生出力の測定と摺動試験を行った。

【００５９】再生出力は３１．２５ｋＨｚの記録周波数
で１．２０ｍＶ、６２．５ｋＨｚで０．９０ｍＶとな
り、安定した再生出力を得た。

【００６０】摺動試験では、摺動時の動摩擦係数は０．
３４であり、磁気ヘッドの走行状態は、安定走行であっ
た。

【００６１】

【００２５】＜実施例４＞図２は、本発明の複合ディス
クの実施例４の構成を示す部分断面図である。

【００６２】図２において、６は磁性層保護膜を、１０
は複合ディスクをそれぞれ示す。なお、符号は、上述し
た従来例と共通するものは、同一符号を付けて、その説
明を省略する。

【００６３】膜厚が７．８μｍの磁性層５を形成し、上
記ＧＣ＃１０００の研磨テープを用いて９０秒研磨後、
さらに上記ＧＣ＃２０００の研磨テープで９０秒研磨を
行い、膜厚６．２μｍの磁性層５を形成する。この磁性
層５上に、ウレタンアクリレートからなる紫外線硬化樹
脂（これについては、後述する）を、スピンコート法に
より塗布した後、紫外線を照射して硬化させて、膜厚
１．３μｍの磁性層保護膜６を形成し、この磁性層保護
膜６の表面にテープ研磨処理を施した。この研磨条件
は、上記ＧＣ＃２０００の研磨テープで２０秒研磨とい
う条件であった。研磨後の磁性層保護膜の膜厚は１．３
μｍで、研磨前と変化がなかった。この磁性層保護膜６
上に、粘度が４４０ｃＳｔであり揮発分が０．５％であ
るジメチルポリシロキサン（ＫＦ−５４）を、ｎ−ヘキ
サンを溶剤として、ほぼ０．２５％に希釈してスピンコ
ート法により塗布し、膜厚約１０ｎｍの潤滑層７を形成
した以外は、実施例１と同様にして複合ディスク１０を
得た。この複合ディスク１０の磁気ヘッド走行面の最大
高さＲmax は０．５μｍであった。よって、磁性層保護
膜の膜厚ｄと最大高さＲmax との和（ｄ＋Ｒmax ）は、
１．８μｍである。

【００６４】

【００２６】次に、この複合ディスク１０の磁性層５
に、実施例１と同様に磁気ヘッドにより磁気記録を行っ
た後、信号を再生して、再生出力及び再生出力の安定性
を評価した。

【００６５】再生出力は３１．２５ｋＨｚの記録周波数
で０．８３ｍＶ、６２．５ｋＨｚで０．５６ｍＶとな
り、安定した再生出力を得た。

【００６６】次に、この複合ディスク１０を、複合ディ
スク用摺動試験器に装着し、実施例１と同様に磁気ヘッ
ドによる摺動試験を行った。

【００６７】摺動時の動摩擦係数は０．４５であり、磁
気ヘッドの走行状態は安定走行であった。

【００６８】

【００２７】ここで、磁性層保護膜６の形成に使用した
紫外線硬化樹脂を説明する。

【００６９】３０ｗｔ％のウレタンアクリートモノマ
（ｕＸ−２２０１：商品名、日本化薬（株）製）と、２
０ｗｔ％のＲ−５５１（商品名、日本化薬（株）製）
と、５０ｗｔ％の１．６ヘキサンジオールジアクリレー
ト（ＨＤＤＡ：商品名、日本化薬（株）製）との混合物
に、光硬化剤としてダロキュア１１７３（商品名：メル
クジャパン（株）製）を添加して、紫外線硬化樹脂を調
製した。

【００７０】

【００２８】＜実施例５＞磁性層保護膜６の形成時の膜
厚を、１．５μｍとした以外は実施例４と同様にして、
複合ディスク１０を得た。なお、この複合ディスク１０
の磁気ヘッド走行面の最大高さＲmax は０．５μｍであ
ることを確認した。この結果、磁性層保護膜の膜厚ｄと
最大高さＲmax との和（ｄ＋Ｒmax ）は、２．０μｍで
ある。

【００７１】この複合ディスク１０について、実施例１
と同様に磁気記録再生出力の測定と摺動試験を行った。

【００７２】再生出力は３１．２５ｋＨｚの記録周波数
で０．９８ｍＶ、６２．５ｋＨｚで０．６３ｍＶとな
り、安定した再生出力を得た。

【００７３】摺動試験では、摺動時の動摩擦係数は０．
４４であり、磁気ヘッドの走行状態は、安定走行であっ
た。

【００７４】

【００２９】＜実施例６＞磁性層保護膜６の形成時の膜
厚を、２．０μｍとした以外は実施例４と同様にして、
複合ディスク１０を得た。なお、この複合ディスク１０
の磁気ヘッド走行面の最大高さＲmax は０．５μｍであ
ることを確認した。この結果、磁性層保護膜の膜厚ｄと
最大高さＲmax との和（ｄ＋Ｒmax ）は、２．５μｍで
ある。

【００７５】この複合ディスク１０について、実施例１
と同様に磁気記録再生出力の測定と摺動試験を行った。

【００７６】再生出力は３１．２５ｋＨｚの記録周波数
で０．８３ｍＶ、６２．５ｋＨｚで０．５６ｍＶとな
り、安定した再生出力を得た。

【００７７】摺動試験では、摺動時の動摩擦係数は０．
４４であり、磁気ヘッドの走行状態は、安定走行であっ
た。

【００７８】

【００３０】＜比較例１＞比較例１，２で使用した複合
ディスクは、上記複合ディスク１２（図４参照）に示す
構造とした。

【００７９】磁性層５はスパッタ法により、Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｃｒ合金を０．２μｍ成膜することで、潤滑層７は実
施例１と同様に形成し、複合ディスク１３を得た。この
複合ディスク１２はスパッタ法により磁性層５を作製し
ているため、複合ディスク１２の磁気ヘッド走行面の最
大高さＲmax は小さく０．０１５μｍであった。

【００８０】次に、この複合ディスク１２の磁性層５
に、実施例１と同様に磁気ヘッドにより磁気記録を行っ
た後、信号を再生して、再生出力及び再生出力の安定性
を評価した。

【００８１】再生出力は３１．２５ｋＨｚの記録周波数
で５．０４ｍＶ、６２．５ｋＨｚで５．０４ｍＶとかな
り大きい再生出力が得られる場合もあったが、再生出力
は不安定な状態であった。

【００８２】

【００３１】次に、この複合ディスク１２を、上記複合
ディスク用摺動試験器２０に装着し、実施例１と同様に
磁気ヘッドによる摺動試験を行った。

【００８３】摺動時の動摩擦係数は、磁気ヘッドのステ
ィックスリップが大きすぎて測定できず、磁気ヘッドの
走行状態は磁気ヘッドが間欠接触となる状態で、極めて
不安定な走行状態であった。

【００８４】

【００３２】＜比較例２＞複合ディスクである比較例２
の構成は実施例１と同様で、部分断面図は図１と同様と
なるが、磁性層５の形成時、スクリーン印刷後、紫外線
による硬化を行い、膜厚７．８μｍの磁性層５を形成
し、その後の研磨は行わないこと以外は、実施例１と同
様にして比較例２の複合ディスク１２を得た。この比較
例２の複合ディスクの磁気ヘッド走行面の最大高さＲma
x は２．８μｍであった。

【００８５】

【００３３】次に、この比較例２の複合ディスク１２の
磁性層５に、磁気ヘッドにより磁気記録を試みた後、再
生出力及び再生出力の安定性を評価した。

【００８６】再生出力は磁気ヘッドが大きく振動し、こ
の複合ディスクとの走行性が極めて悪く、再生出力が測
定不可能な状態であった。

【００８７】次に、この比較例２の複合ディスク１２
を、複合ディスク用摺動試験器２０に装着し、磁気ヘッ
ドによる摺動試験を行った。

【００８８】摺動時の動摩擦係数は、走行している磁気
ヘッドが異常振動を起こて走行不安定な状態となり、測
定不可能な状態であった。

【００８９】

【００３４】＜比較例３＞比較例３の複合ディスクの構
成は実施例４と同様で、その部分断面図は図２と同様と
なるが、磁性層保護膜６の膜厚を２．５μｍとした以外
は、実施例４と同様にして比較例３の複合ディスクを得
た。なお、この比較例３の複合ディスクの磁気ヘッド走
行面の最大高さＲmax は実施例４と同じく０．５μｍ
で、（ｄ＋Ｒmax ）は、３．０μｍである。

【００９０】

【００３５】次に、この比較例３の複合ディスクの磁性
層５に、実施例１と同様に磁気ヘッドにより磁気記録を
行った後、信号を再生して、再生出力及び再生出力の安
定性を評価した。

【００９１】再生出力は３１．２５ｋＨｚの記録周波数
で０．５９ｍＶ、６２．５ｋＨｚで０．２９ｍＶとな
り、安定した再生出力を得た。

【００９２】次に、この比較例４の複合ディスクを、複
合ディスク用摺動試験器２０に装着し、実施例１と同様
に磁気ヘッドによる摺動試験を行った。

【００９３】摺動時の動摩擦係数は０．４５であり、磁
気ヘッドの走行状態は安定走行であった。

【００９４】

【００３６】＜比較例４＞比較例４の複合ディスクの構
成は実施例４と同様で、その部分断面図は図２と同様と
なるが、磁性層保護膜６の膜厚を１．５μｍとし、この
磁性層保護膜６の表面のテープ研磨処理の条件をＧＣ＃
１０００で２０秒とした以外は、実施例４と同様にして
比較例４の複合ディスクを得た。なお、この比較例４の
複合ディスクの磁気ヘッド走行面の最大高さＲmax は
１．２μｍで、（ｄ＋Ｒmax ）は、２．７μｍである。

【００９５】

【００３７】次に、この比較例４の複合ディスクの磁性
層５に、実施例１と同様に磁気ヘッドにより磁気記録を
行った後、信号を再生して、再生出力及び再生出力の安
定性を評価した。

【００９６】再生出力は３１．２５ｋＨｚの記録周波数
で０．６４ｍＶ、６２．５ｋＨｚで０．３７ｍＶで、安
定した再生出力を得た。

【００９７】次に、この比較例３の複合ディスクを、複
合ディスク用摺動試験器に装着し、実施例１と同様に磁
気ヘッドによる摺動試験を行った。

【００９８】摺動時の動摩擦係数は０．４１であり、磁
気ヘッドの走行状態は安定走行であった。

【００９９】

【００３８】以上の各試料について、磁性層保護膜厚
ｄ、磁気ヘッド走行面の最大高さＲmax 、再生出力、再
生出力の安定性、摺動試験結果をまとめたものが、表１
である。

【０１００】

【００３９】

【０１０１】

【表１】

【０１０２】

【００４０】実施例１〜３と比較例１，２の磁性層保護
膜６を形成しない場合を比べると、実施例１〜３のよう
に、請求項１で規定の複合ディスクの磁気ヘッド走行面
の最大高さＲmax が０．０２〜２．５μｍの範囲内のと
きには、磁気ヘッドの走行状態は安定であったが、この
範囲外である比較例１，２は、不安定な走行状態を示し
た。このため、比較例１では再生出力は測定可能であっ
たが、再生出力が不安定となり、比較例２では再生出力
が不安定で測定が出来ない状態であった。

【０１０３】また、複合ディスクに少量の情報を磁気記
録再生する場合に、必要と考えられる最低の磁気記録密
度１００ｂｉｔｓ／ｍｍ²を記録再生するためには、再
生出力が３１．２５ｋＨｚの周波数で０．７ｍＶ以上、
６２．５ｋＨｚで０．４ｍＶ以上必要でありが、実施例
１〜３は十分な再生出力が得られている。また、摺動試
験結果も動摩擦係数が０．５以下で、走行状態が安定走
行であり、実施例１〜３は良好な磁気記録再生特性と磁
気ヘッドの良好な接触走行性を有する複合ディスクであ
る。

【０１０４】これに対し、比較例１，２は磁気ヘッドの
走行状態が不安定で、再生出力も不安定であり、良好な
複合ディスクとは言えない。

【０１０５】

【００４１】実施例４〜６と比較例３，４のように磁性
層保護膜６を形成する場合を比べると、実施例４〜６の
ように、請求項２で規定の複合ディスクの磁性層保護膜
厚ｄと磁気ヘッド走行面の最大高さＲmax の和（ｄ＋Ｒ
max ）が０．０２〜２．５μｍの範囲内のときには、磁
気ヘッドの走行状態は安定走行であり、再生出力も前述
の必要な値以上となっており、実施例４〜６の複合ディ
スクは良好な磁気記録再生特性と磁気ヘッドの良好な接
触走行性を有する複合ディスクである。

【０１０６】これに対し、磁性層保護膜厚ｄと磁気ヘッ
ド走行面の最大高さＲmax の和（ｄ＋Ｒmax ）が０．０
２〜２．５μｍの範囲外である比較例３，４では、磁気
ヘッドの走行状態は安定走行であったが、再生出力が前
述の必要な値以下となり、良好な磁気記録再生特性を有
する複合ディスクとは言えない。このように、磁性層保
護膜を形成する場合には、磁性層保護膜厚ｄと磁気ヘッ
ド走行面の最大高さＲmax の和（ｄ＋Ｒmax ）が再生出
力に大きく影響を及ぼす結果であり、この磁性層保護膜
厚ｄと磁気ヘッド走行面の最大高さＲmax の和（ｄ＋Ｒ
max ）という値に注目すれば、磁性層保護膜を設けたこ
とによる磁気記録再生特性の劣化を小さくできることが
分かる。

【０１０７】そして、実施例４〜６の磁性層保護膜６を
形成した複合ディスクでは、その磁性層保護膜６が紫外
線硬化樹脂を主体とする材料で形成されていたため、光
記録層保護膜４を形成する装置が使用できたため、安価
に複合ディスクを作製することが出来た。

【０１０８】

【００４２】

【０１０９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の複合ディ
スクによれば、磁気ヘッドを接触走行させて磁性層に磁
気記録による情報の書き込みまたは情報の読み出しを行
う複合ディスクにおいて、前記磁気ヘッドが接触走行す
る面の表面粗さの最大高さＲmax を０．０２〜２．５μ
ｍとすることで、摩擦力（摩擦係数）が一定に保たれて
磁気ヘッドを良好に接触走行させることができ、かつ良
好な磁気記録再生特性を得ることが可能になる。

【０１１０】

【００４３】また、前記磁性層上に、この磁性層を保護
するための磁性層保護膜を形成した場合には、磁気ヘッ
ドが接触走行する面の表面粗さの最大高さＲmax を０．
０２〜２．５μｍにすると共に前記磁性層保護膜の膜厚
ｄと前記最大高さＲmax との和（ｄ＋Ｒmax ）が０．０
２〜２．５μｍとなるように磁性層保護膜を形成するこ
とで、磁性層保護膜を設けたことによる磁気記録再生特
性の劣化が小さく、かつ安定した再生出力を得ることが
可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の複合ディスクの第一の実施例の構成を
示す部分断面図である。

【図２】本発明の複合ディスクの第二の実施例の構成を
示す部分断面図である。

【図３】複合ディスク用摩擦試験器の概略構成を示す正
面図である。

【図４】従来例の複合ディスクの構成の一例を示す部分
断面図である。

【符号の説明】

１基板２信号ピット３光記録層４光記録層保護膜５磁性層６磁性層保護膜７潤滑層１０複合ディスク１１複合ディスク１２複合ディスク１５光ディスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者多田琢神奈川県横浜市神奈川区守屋町３丁目12番地日本ビクター株式会社内 (72)発明者河西利記神奈川県横浜市神奈川区守屋町３丁目12番地日本ビクター株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】円板状の透明基板上に、光情報の記録され
るべき光記録層と、この光記録層を保護するための光記
録層保護膜と、磁性材料あるいは磁性材料を主体とする
材料で形成した磁性層とが少なくとも順次積層され、磁
気ヘッドを接触走行させて前記磁性層に磁気記録による
情報の書き込みまたは情報の読み出しを行う複合ディス
クにおいて、前記磁気ヘッドが接触走行する面の表面粗さの最大高さ
Ｒmax を０．０２〜２．５μｍとしたことを特徴とする
複合ディスク。
【請求項２】前記磁性層上に、この磁性層を保護するた
めの磁性層保護膜を形成した請求項１記載の複合ディス
クにおいて、前記磁性層保護膜の膜厚ｄと前記最大高さＲmax との和
（ｄ＋Ｒmax ）が０．０２〜２．５μｍとなるように磁
性層保護膜を形成したことを特徴とする複合ディスク。