JPH064922A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPH064922A JPH064922A JP18994292A JP18994292A JPH064922A JP H064922 A JPH064922 A JP H064922A JP 18994292 A JP18994292 A JP 18994292A JP 18994292 A JP18994292 A JP 18994292A JP H064922 A JPH064922 A JP H064922A
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- magneto
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐擦傷性、耐摩耗性に優れると同時に、耐候
性にも優れた光磁気記録媒体を提供する。 【構成】 透明基板上に記録層が形成されると共に、紫
外線硬化樹脂層にポリマー微粒子を分散させることによ
り得られた保護層を最外層に有する光磁気記録媒体。
性にも優れた光磁気記録媒体を提供する。 【構成】 透明基板上に記録層が形成されると共に、紫
外線硬化樹脂層にポリマー微粒子を分散させることによ
り得られた保護層を最外層に有する光磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は耐擦傷性、耐摩耗性およ
び耐候性に優れた光磁気記録媒体に関する。
び耐候性に優れた光磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、光磁気ディスクは高密度記録媒体
として注目されている。とくに、オーバライトが可能な
磁界変調方式の光磁気ディスクは記録媒体としての利用
範囲を一層拡大するものとして、その開発が進められて
いる。このような光磁気記録媒体にあっては、記録媒体
表面と磁気ヘッドとが繰り返し接触するため、記録媒体
表面の機械的強度とくに耐擦傷性、耐摩耗性の向上が要
求される。
として注目されている。とくに、オーバライトが可能な
磁界変調方式の光磁気ディスクは記録媒体としての利用
範囲を一層拡大するものとして、その開発が進められて
いる。このような光磁気記録媒体にあっては、記録媒体
表面と磁気ヘッドとが繰り返し接触するため、記録媒体
表面の機械的強度とくに耐擦傷性、耐摩耗性の向上が要
求される。
【０００３】そこで、この要求を満足するために光磁気
記録媒体の最外層である保護層に上記機械的強度をもた
せたものが各種提案されている。具体的には、イ）保護
層にビッカース硬度５００〜１，０００ｋｇ／ｍｍ2以
上の焼結体（ガラス溶融体、セラミック、サーメットな
ど）の微粒子を分散させた樹脂を用いたもの（特開平３
−１５４３４７号）、ロ）保護層に熱硬化性樹脂（エポ
キシ樹脂など）研磨剤（Ａｌ２Ｏ３など）、静電防止剤
（カーボン粒子など）、潤滑剤（ステアリン酸、ノルマ
ルブチルスタレートなど）を混合させた複合熱硬化性樹
脂膜を用いたもの（特開平３−１５７８３６号公報）、
ハ）上記ロ）の複合熱硬化性樹脂膜を複合紫外線硬化型
樹脂膜としたもの、および、研磨剤としてＡｌ２Ｏ３、
ＺｒＯ２、ＳｉＯ２などの微粒子を用いたもの（特開平
３−１５７８３７号公報）、ニ）機械的強度を増すため
に保護層として絶縁性無機物質（ＳｉＯ２、ＳｉＯ、Ｚ
ｒＯ２など）を用いたもの（特開平２−５８７４７号公
報）、ホ）保護層上に表面粗さが１００〜２００Ａの潤
滑剤層（フォンブリン、フッ素系樹脂など）を設けたも
の（特開平１−３１９１４３号公報）、ヘ）保護層に潤
滑剤浸量を多くした紫外線硬化性樹脂膜を用いたもの
（特開平２−３０８４４５号公報）、ト）保護層に吸水
率０．５％以下の紫外線硬化型のフッ素化物（フッ素化
ポリオールポリアクリレート、フッ素化ジアクリルエス
テルなど）を用いたもの（特開平２−１２２４４７号公
報）、チ）保護層に主鎖骨格を形成する炭素原子に結合
したフッ素原子を有するフッ素化ポリウレタン系樹脂を
主成分とする樹脂組成物を用いたもの（特開平２−３０
１０４０号公報）、リ）保護層上に接着剤層（紫外線硬
化型接着剤、ホットメルト型接着剤など）を介して厚さ
１０〜３０μｍの保護シートを設けたもの（特開平２−
２３９４４７号公報）、ならびに、ヌ）保護層として、
１００％引張応力５０ｋｇｆ／ｃｍ2以下、透湿度２０
Ｇ／ｍ2・２４ｈ以下のものを用い、この保護層上に鉛
筆硬度がＨ以上の表面保護膜を設けたもの（特開平２−
１０５４０号公報）などをあげることができる。
記録媒体の最外層である保護層に上記機械的強度をもた
せたものが各種提案されている。具体的には、イ）保護
層にビッカース硬度５００〜１，０００ｋｇ／ｍｍ2以
上の焼結体（ガラス溶融体、セラミック、サーメットな
ど）の微粒子を分散させた樹脂を用いたもの（特開平３
−１５４３４７号）、ロ）保護層に熱硬化性樹脂（エポ
キシ樹脂など）研磨剤（Ａｌ２Ｏ３など）、静電防止剤
（カーボン粒子など）、潤滑剤（ステアリン酸、ノルマ
ルブチルスタレートなど）を混合させた複合熱硬化性樹
脂膜を用いたもの（特開平３−１５７８３６号公報）、
ハ）上記ロ）の複合熱硬化性樹脂膜を複合紫外線硬化型
樹脂膜としたもの、および、研磨剤としてＡｌ２Ｏ３、
ＺｒＯ２、ＳｉＯ２などの微粒子を用いたもの（特開平
３−１５７８３７号公報）、ニ）機械的強度を増すため
に保護層として絶縁性無機物質（ＳｉＯ２、ＳｉＯ、Ｚ
ｒＯ２など）を用いたもの（特開平２−５８７４７号公
報）、ホ）保護層上に表面粗さが１００〜２００Ａの潤
滑剤層（フォンブリン、フッ素系樹脂など）を設けたも
の（特開平１−３１９１４３号公報）、ヘ）保護層に潤
滑剤浸量を多くした紫外線硬化性樹脂膜を用いたもの
（特開平２−３０８４４５号公報）、ト）保護層に吸水
率０．５％以下の紫外線硬化型のフッ素化物（フッ素化
ポリオールポリアクリレート、フッ素化ジアクリルエス
テルなど）を用いたもの（特開平２−１２２４４７号公
報）、チ）保護層に主鎖骨格を形成する炭素原子に結合
したフッ素原子を有するフッ素化ポリウレタン系樹脂を
主成分とする樹脂組成物を用いたもの（特開平２−３０
１０４０号公報）、リ）保護層上に接着剤層（紫外線硬
化型接着剤、ホットメルト型接着剤など）を介して厚さ
１０〜３０μｍの保護シートを設けたもの（特開平２−
２３９４４７号公報）、ならびに、ヌ）保護層として、
１００％引張応力５０ｋｇｆ／ｃｍ2以下、透湿度２０
Ｇ／ｍ2・２４ｈ以下のものを用い、この保護層上に鉛
筆硬度がＨ以上の表面保護膜を設けたもの（特開平２−
１０５４０号公報）などをあげることができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
イ）のように保護層に焼結体を分散させたものは、逆に
磁気ヘッドに損傷を与えたり、外部の圧力で記録媒体自
身にキズを発生させたりするという問題がある。また、
焼結体は保護層に対し、分散性が悪い。ロ）、ハ）で
は、研磨剤を含有していると上記と同様に磁気ヘッドに
損傷を与え、また、潤滑剤を含有している場合は腐食が
生じやすい。ニ）のように無機物質のみで保護層を形成
すると、熱膨張率の差によりクラックが発生しやすく、
耐候性が低下する。ホ）、ヘ）のように潤滑剤のみで保
護層を形成すると下層への密着性が悪く、剥離を生じる
場合があり、また、耐候性が低い。ト）、チ）のように
保護層をフッ素化合物で形成すると耐摩耗性の向上が期
待できない。リ）のように保護層上に保護シートを形成
すると接着剤の耐久性が得られず、また、保護シートの
貼り合わせの際にシワが発生し、平滑な表面が得られな
い。さらに、コストが上昇するという問題もある。ま
た、ヌ）のように透湿度を調整しても耐食性向上効果は
あまり得られない。さらに、表面硬度が硬すぎてクラッ
クを発生しやすくなり、耐候性が劣化する。
イ）のように保護層に焼結体を分散させたものは、逆に
磁気ヘッドに損傷を与えたり、外部の圧力で記録媒体自
身にキズを発生させたりするという問題がある。また、
焼結体は保護層に対し、分散性が悪い。ロ）、ハ）で
は、研磨剤を含有していると上記と同様に磁気ヘッドに
損傷を与え、また、潤滑剤を含有している場合は腐食が
生じやすい。ニ）のように無機物質のみで保護層を形成
すると、熱膨張率の差によりクラックが発生しやすく、
耐候性が低下する。ホ）、ヘ）のように潤滑剤のみで保
護層を形成すると下層への密着性が悪く、剥離を生じる
場合があり、また、耐候性が低い。ト）、チ）のように
保護層をフッ素化合物で形成すると耐摩耗性の向上が期
待できない。リ）のように保護層上に保護シートを形成
すると接着剤の耐久性が得られず、また、保護シートの
貼り合わせの際にシワが発生し、平滑な表面が得られな
い。さらに、コストが上昇するという問題もある。ま
た、ヌ）のように透湿度を調整しても耐食性向上効果は
あまり得られない。さらに、表面硬度が硬すぎてクラッ
クを発生しやすくなり、耐候性が劣化する。
【０００５】このように、従来の光磁気記録媒体におい
ては、耐擦傷性、耐摩耗性と耐候性を同時に満足するも
のは得られず、さらに改良が望まれている。したがっ
て、本発明は耐擦傷性、耐摩耗性にすぐれると同時に、
耐候性に優れた光磁気記録媒体を提供することを目的と
する。
ては、耐擦傷性、耐摩耗性と耐候性を同時に満足するも
のは得られず、さらに改良が望まれている。したがっ
て、本発明は耐擦傷性、耐摩耗性にすぐれると同時に、
耐候性に優れた光磁気記録媒体を提供することを目的と
する。
【０００６】
【課題を解消するための手段】上記目的を達成するため
に本発明によれば、透明基板上に記録層が形成されると
共に、最外層に紫外線硬化樹脂層にポリマー微粒子を分
散させることにより形成した保護層を有する光磁気記録
媒体が提供される。
に本発明によれば、透明基板上に記録層が形成されると
共に、最外層に紫外線硬化樹脂層にポリマー微粒子を分
散させることにより形成した保護層を有する光磁気記録
媒体が提供される。
【０００７】以下に、本発明の光磁気記録媒体の層構成
について添付図面を参照しながら説明する。図１に示す
ように、本発明の光磁気記録媒体は基板１上に、記録層
２、必要に応じて反射層３、および最外層として保護層
４が順次形成されたものである。基板１は、例えばアク
リル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ガラスなどが使用さ
れ、その表面には、溝およびピット１ａが形成されてい
る。この基板１の成形法としてはＰＰ法、インジェクシ
ョン法などを使用することができる。
について添付図面を参照しながら説明する。図１に示す
ように、本発明の光磁気記録媒体は基板１上に、記録層
２、必要に応じて反射層３、および最外層として保護層
４が順次形成されたものである。基板１は、例えばアク
リル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ガラスなどが使用さ
れ、その表面には、溝およびピット１ａが形成されてい
る。この基板１の成形法としてはＰＰ法、インジェクシ
ョン法などを使用することができる。
【０００８】記録層２は、例えばスパッタリング法など
により、ＳｉＮ、ＳｉＯx、Ｚｎなどの無機誘電体物質
を一種または二種以上組み合せた積層膜を形成し、さら
にその上にＴｂＦｅ、ＧｄＴｂ、ＧｄＴｂＦｅ、ＴｂＦ
ｅＣｏなどの非晶質光磁気記録層を形成し、その上に上
記と同様の無機誘電体物質層を形成した層構造とする。
反射層３は、Ａｌ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ａｕなどの金属または
その合金を真空蒸着法、スパッタリング法などにより前
述の記録層上に形成する。しかし、この反射層は光磁気
記録媒体の機能上必ずしも必要ではない。反射層３を必
要としないものの場合は、記録層２の上に直接保護層４
を形成する。
により、ＳｉＮ、ＳｉＯx、Ｚｎなどの無機誘電体物質
を一種または二種以上組み合せた積層膜を形成し、さら
にその上にＴｂＦｅ、ＧｄＴｂ、ＧｄＴｂＦｅ、ＴｂＦ
ｅＣｏなどの非晶質光磁気記録層を形成し、その上に上
記と同様の無機誘電体物質層を形成した層構造とする。
反射層３は、Ａｌ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ａｕなどの金属または
その合金を真空蒸着法、スパッタリング法などにより前
述の記録層上に形成する。しかし、この反射層は光磁気
記録媒体の機能上必ずしも必要ではない。反射層３を必
要としないものの場合は、記録層２の上に直接保護層４
を形成する。
【０００９】最外層の保護層４は紫外線硬化樹脂層５に
微粒子ポリマー６を分散させることにより構成される。
紫外線硬化樹脂としては、ポリエステルアクリレート系
のもの、エポキシアクリレート系のもの、ウレタンアク
リレート系のものなどを使用することができるが、なか
でも、柔軟性があり、耐食性に優れたウレタンアクリレ
ート系のものが好適である。ここで、微粒子ポリマーと
は、樹脂製の微粒子球をいい、使用される樹脂として
は、フェノール樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、ウ
レタン樹脂などをあげることができるが、なかでも、ア
クリル樹脂、ウレタン樹脂を使用したものが優れてお
り、とくに、記録層２を外力から保護するという点で柔
軟性のあるウレタン樹脂が好適である。
微粒子ポリマー６を分散させることにより構成される。
紫外線硬化樹脂としては、ポリエステルアクリレート系
のもの、エポキシアクリレート系のもの、ウレタンアク
リレート系のものなどを使用することができるが、なか
でも、柔軟性があり、耐食性に優れたウレタンアクリレ
ート系のものが好適である。ここで、微粒子ポリマーと
は、樹脂製の微粒子球をいい、使用される樹脂として
は、フェノール樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、ウ
レタン樹脂などをあげることができるが、なかでも、ア
クリル樹脂、ウレタン樹脂を使用したものが優れてお
り、とくに、記録層２を外力から保護するという点で柔
軟性のあるウレタン樹脂が好適である。
【００１０】また、微粒子ポリマー６の粒径は保護層４
の厚さにより適宜決められるが、通常１〜１０μｍ程度
とする。微粒子ポリマー６の粒径は紫外線硬化樹脂層５
の膜厚より小さくしても、大きくしても共に耐摩耗性の
向上効果が得られる。すなわち、図２に示すように微粒
子ポリマー６ａの粒径が紫外線硬化樹脂層５の膜厚より
小さい場合は、保護層４全体の表面粗さが小さくなり、
耐摩耗性の向上効果が得られる。また、図３に示すよう
に微粒子ポリマー６ｂの粒径が紫外線硬化樹脂層５の膜
厚より大きい場合は、紫外線硬化樹脂層５の上面から微
粒子ポリマー６ｂの一定量が突出することにより、表面
粗さを大きくしかも一定に保つので、磁気ヘッドとのク
リアランスを一定に保持することができ、耐摩耗性が一
層向上する。さらに、この保護層４を形成する場合、例
えば、紫外線硬化型樹脂に微粒子ポリマーを分散させた
ものを、スピンコーター法により記録層２または反射層
３上に積層したのち、紫外線照射を行って樹脂を硬化さ
せる方法が使用できる。このとき、微粒子ポリマーの比
重が例えばＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2などの無機物質に比べて
小さいものを選択すると、紫外線硬化型樹脂層への分散
性がよく、しかも微粒子ポリマーの透明度が高いものを
使用すると、紫外線樹脂の硬化性が向上するため好まし
い。
の厚さにより適宜決められるが、通常１〜１０μｍ程度
とする。微粒子ポリマー６の粒径は紫外線硬化樹脂層５
の膜厚より小さくしても、大きくしても共に耐摩耗性の
向上効果が得られる。すなわち、図２に示すように微粒
子ポリマー６ａの粒径が紫外線硬化樹脂層５の膜厚より
小さい場合は、保護層４全体の表面粗さが小さくなり、
耐摩耗性の向上効果が得られる。また、図３に示すよう
に微粒子ポリマー６ｂの粒径が紫外線硬化樹脂層５の膜
厚より大きい場合は、紫外線硬化樹脂層５の上面から微
粒子ポリマー６ｂの一定量が突出することにより、表面
粗さを大きくしかも一定に保つので、磁気ヘッドとのク
リアランスを一定に保持することができ、耐摩耗性が一
層向上する。さらに、この保護層４を形成する場合、例
えば、紫外線硬化型樹脂に微粒子ポリマーを分散させた
ものを、スピンコーター法により記録層２または反射層
３上に積層したのち、紫外線照射を行って樹脂を硬化さ
せる方法が使用できる。このとき、微粒子ポリマーの比
重が例えばＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2などの無機物質に比べて
小さいものを選択すると、紫外線硬化型樹脂層への分散
性がよく、しかも微粒子ポリマーの透明度が高いものを
使用すると、紫外線樹脂の硬化性が向上するため好まし
い。
【００１１】
【実施例】以下に、本発明の具体的実施例について説明
する。 実施例１〜４、比較例１〜５ 厚さ１．２ｍｍのポリカーボネイト樹脂よりなる基板上
にスパッタリング法によりＳｉＮ／ＴｂＦｅＣｏ／Ｓｉ
Ｎからなる記録層を形成し、この記録層上にスパッタリ
ング法によりＡｌよりなる反射層を形成し、さらに反射
層上に表１に示す各種材料を使用した保護層を形成して
光磁気記録媒体を完成した。なお、実施例１〜４におい
て、紫外線硬化樹脂膜の膜厚はいずれも μｍとし
た。これらの光磁気記録媒体について、以下に述べる各
種試験を行いその性能を評価し、結果を表１に示した。 （１）摩擦係数 自動摩擦摩耗解析装置（ＤＦＰＭ−ＳＳ型、協和界面科
学製）を使用し、ＳＵＳ球（直径５ｍｍ）、点接触、荷
重５０．０ｇ、ストローク１０．０ｍｍ、速度５．０ｍ
ｍ／ｓ、２０℃、５５％ＲＨにて測定。 （２）表面粗さ タリステップ（Ｒａｎｋ Ｔａｙｌｏｒ Ｈｏｂｓｏｎ
社製）を使用し、ＪＩＳ Ｂ ６０１−１９７６に準拠
した方法により測定。 （３）摩耗量 自動摩擦摩耗解析装置（ＤＦＰＭ−ＳＳ型、協和界面科
学製）を使用し、ＳＵＳ１．０ｃｍ角面接触、荷重５
０．０ｇ、ストローク１０．０ｍｍ、速度５．０ｍｍ／
ｓ、回数１００回、２０℃、５５％ＲＨにて測定。 （４）耐候性 ８０℃、８５％ＲＨにて負荷試験を行い、０時間後、
２，０００時間後の光記録媒体のバイトエラーレート
（Ｂ・Ｅ・Ｒ）、および２，０００時間後のクラック、
腐食の発生の有無を調べた。クラック、腐食の有無は、
変化なしを○、部分的に変化ありを△、全面に変化あり
を×で表した。
する。 実施例１〜４、比較例１〜５ 厚さ１．２ｍｍのポリカーボネイト樹脂よりなる基板上
にスパッタリング法によりＳｉＮ／ＴｂＦｅＣｏ／Ｓｉ
Ｎからなる記録層を形成し、この記録層上にスパッタリ
ング法によりＡｌよりなる反射層を形成し、さらに反射
層上に表１に示す各種材料を使用した保護層を形成して
光磁気記録媒体を完成した。なお、実施例１〜４におい
て、紫外線硬化樹脂膜の膜厚はいずれも μｍとし
た。これらの光磁気記録媒体について、以下に述べる各
種試験を行いその性能を評価し、結果を表１に示した。 （１）摩擦係数 自動摩擦摩耗解析装置（ＤＦＰＭ−ＳＳ型、協和界面科
学製）を使用し、ＳＵＳ球（直径５ｍｍ）、点接触、荷
重５０．０ｇ、ストローク１０．０ｍｍ、速度５．０ｍ
ｍ／ｓ、２０℃、５５％ＲＨにて測定。 （２）表面粗さ タリステップ（Ｒａｎｋ Ｔａｙｌｏｒ Ｈｏｂｓｏｎ
社製）を使用し、ＪＩＳ Ｂ ６０１−１９７６に準拠
した方法により測定。 （３）摩耗量 自動摩擦摩耗解析装置（ＤＦＰＭ−ＳＳ型、協和界面科
学製）を使用し、ＳＵＳ１．０ｃｍ角面接触、荷重５
０．０ｇ、ストローク１０．０ｍｍ、速度５．０ｍｍ／
ｓ、回数１００回、２０℃、５５％ＲＨにて測定。 （４）耐候性 ８０℃、８５％ＲＨにて負荷試験を行い、０時間後、
２，０００時間後の光記録媒体のバイトエラーレート
（Ｂ・Ｅ・Ｒ）、および２，０００時間後のクラック、
腐食の発生の有無を調べた。クラック、腐食の有無は、
変化なしを○、部分的に変化ありを△、全面に変化あり
を×で表した。
【００１２】
【表１】
【００１３】表１からも明らかなように、本発明の光磁
気記録媒体は、適度な表面粗さをもち、耐摩耗性、耐擦
傷性に優れると共に、耐候性にも優れていることが確認
された。
気記録媒体は、適度な表面粗さをもち、耐摩耗性、耐擦
傷性に優れると共に、耐候性にも優れていることが確認
された。
【００１４】
【発明の効果】以上詳細に説明したところから明らかな
ように、本発明の光磁気記録媒体は保護層の耐摩耗性、
耐擦傷性に優れると共に、耐候性にも優れているため、
オーバライト可能な磁界変調方式の光磁気記録媒体とし
て有用であり、さらには、光変調方式の光磁気記録媒
体、磁気記録ディスク、ＭＤ、ＣＤ、ＬＤ、ＣＤ−ＲＯ
Ｍなどの高密度で情報を記録することができる各種ディ
スクに幅広く適応することが可能である。
ように、本発明の光磁気記録媒体は保護層の耐摩耗性、
耐擦傷性に優れると共に、耐候性にも優れているため、
オーバライト可能な磁界変調方式の光磁気記録媒体とし
て有用であり、さらには、光変調方式の光磁気記録媒
体、磁気記録ディスク、ＭＤ、ＣＤ、ＬＤ、ＣＤ−ＲＯ
Ｍなどの高密度で情報を記録することができる各種ディ
スクに幅広く適応することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光磁気記録媒体の層構成を示す断面図
である。
である。
【図２】本発明の光磁気記録媒体の保護層の拡大断面図
である。
である。
【図３】本発明の光磁気記録媒体の保護層の拡大断面図
である。
である。
【符号の説明】 １ 基板 １ａ ピット ２ 記録層 ３ 反射層 ４ 保護層 ５ 紫外線硬化樹脂層 ６，６ａ，６ｂ 微粒子ポリマー
Claims (1)
- 【請求項１】 透明基板上に記録層が形成されると共
に、最外層に保護層を有する光磁気記録媒体において、
紫外線硬化樹脂層にポリマー微粒子を分散させることに
より前記保護層を形成したことを特徴とする光磁気記録
媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18994292A JPH064922A (ja) | 1992-06-24 | 1992-06-24 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18994292A JPH064922A (ja) | 1992-06-24 | 1992-06-24 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH064922A true JPH064922A (ja) | 1994-01-14 |
Family
ID=16249791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18994292A Withdrawn JPH064922A (ja) | 1992-06-24 | 1992-06-24 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH064922A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5900896A (en) * | 1995-04-27 | 1999-05-04 | Hewlett-Packard Company | Ink cartridge adapters |
| JP2008101149A (ja) * | 2006-10-20 | 2008-05-01 | Inoac Corp | 紫外線硬化発泡体 |
| JP2009051889A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Inoac Corp | 紫外線硬化発泡シート |
-
1992
- 1992-06-24 JP JP18994292A patent/JPH064922A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5900896A (en) * | 1995-04-27 | 1999-05-04 | Hewlett-Packard Company | Ink cartridge adapters |
| JP2008101149A (ja) * | 2006-10-20 | 2008-05-01 | Inoac Corp | 紫外線硬化発泡体 |
| JP2009051889A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Inoac Corp | 紫外線硬化発泡シート |
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