JP2001243669A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JP2001243669A JP2001243669A JP2000051199A JP2000051199A JP2001243669A JP 2001243669 A JP2001243669 A JP 2001243669A JP 2000051199 A JP2000051199 A JP 2000051199A JP 2000051199 A JP2000051199 A JP 2000051199A JP 2001243669 A JP2001243669 A JP 2001243669A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 十分な潤滑を有し、ヘッドクラッシュの発生
しない光磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板２上に順次形成された無機エハ
ンス層３と、光磁気記録層４と、無機保護層５と、有機
保護層６とからなる光磁気記録媒体１において、有機保
護層６は、エポキシノボラックアクリレート及びエトキ
シ化トリメチロールプロパントリアクリレートからなる
混合物と、この混合物の合計量に対して所定割合で配合
された１αヒドロキシケトンと、ポリエーテル変性シリ
コン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させたもの
である。
しない光磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板２上に順次形成された無機エハ
ンス層３と、光磁気記録層４と、無機保護層５と、有機
保護層６とからなる光磁気記録媒体１において、有機保
護層６は、エポキシノボラックアクリレート及びエトキ
シ化トリメチロールプロパントリアクリレートからなる
混合物と、この混合物の合計量に対して所定割合で配合
された１αヒドロキシケトンと、ポリエーテル変性シリ
コン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させたもの
である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気記録媒体に
係わり、特にこの光磁気記録媒体に記録再生するヘッド
との潤滑性に関する。
係わり、特にこの光磁気記録媒体に記録再生するヘッド
との潤滑性に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、記録可能型光ディスクは、溝や
ピットが形成されている金属原盤（スタンパー）と射出
成形等によって溝とピットが転写されている透明基板上
に有機色素や金属合金薄膜で記録層を形成し、更に、金
属性の反射膜、高分子樹脂の保護層からなり、例えば、
特開平６−２５９８２６号公報や特開平７−６４１８号
公報に開示されているものがある。
ピットが形成されている金属原盤（スタンパー）と射出
成形等によって溝とピットが転写されている透明基板上
に有機色素や金属合金薄膜で記録層を形成し、更に、金
属性の反射膜、高分子樹脂の保護層からなり、例えば、
特開平６−２５９８２６号公報や特開平７−６４１８号
公報に開示されているものがある。
【０００３】特開平６−２５９８２６号公報には、基板
上に順次形成された光磁気記録層と、耐擦傷性保護層と
からなり、この耐擦傷性保護層をペンタエリスリトール
のトリアクリレート及びテトラアクリレートの混合物を
１０〜９０重量％含有する硬化性樹脂にすると、耐擦傷
性及び耐候性に優れ、浮上ヘッドによる傷の発生を抑
え、ヘッドクラッシュや発塵を防いだ光磁気記録媒体を
得ることができることが開示されている。また、特開平
７−６４１８号公報には、円板状基板上に順次形成され
た多層からなる光磁気記録層と、保護層とからなり、こ
の保護層が０．１〜５ｗｔ％のカップリング剤を含むよ
うにすると、前記保護層と前記光磁気記録層との密着性
に優れ、ヘッドクラッシュを生じない光磁気記録媒体を
得ることができることが開示されている。
上に順次形成された光磁気記録層と、耐擦傷性保護層と
からなり、この耐擦傷性保護層をペンタエリスリトール
のトリアクリレート及びテトラアクリレートの混合物を
１０〜９０重量％含有する硬化性樹脂にすると、耐擦傷
性及び耐候性に優れ、浮上ヘッドによる傷の発生を抑
え、ヘッドクラッシュや発塵を防いだ光磁気記録媒体を
得ることができることが開示されている。また、特開平
７−６４１８号公報には、円板状基板上に順次形成され
た多層からなる光磁気記録層と、保護層とからなり、こ
の保護層が０．１〜５ｗｔ％のカップリング剤を含むよ
うにすると、前記保護層と前記光磁気記録層との密着性
に優れ、ヘッドクラッシュを生じない光磁気記録媒体を
得ることができることが開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
６−２５９８２６号公報や特開平７−６４１８号公報に
開示されている光磁気記録媒体では、この光磁気記録媒
体に面接触して用いる記録再生用ヘッドとの十分な潤滑
性が得られないため、ヘッドクラッシュが発生するとい
った問題を生じていた。
６−２５９８２６号公報や特開平７−６４１８号公報に
開示されている光磁気記録媒体では、この光磁気記録媒
体に面接触して用いる記録再生用ヘッドとの十分な潤滑
性が得られないため、ヘッドクラッシュが発生するとい
った問題を生じていた。
【０００５】そこで、本発明は、上記のような問題点を
解消するためになされたもので、十分な潤滑を有し、ヘ
ッドクラッシュの発生しない光磁気記録媒体を提供する
ことを目的とする。
解消するためになされたもので、十分な潤滑を有し、ヘ
ッドクラッシュの発生しない光磁気記録媒体を提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の光磁気記録媒体
における第１の発明は、透明基板上に順次形成された無
機エハンス層と、光磁気記録層と、無機保護層と、有機
保護層とからなる光磁気記録媒体において、前記有機保
護層は、エポキシノボラックアクリレート及びエトキシ
化トリメチロールプロパントリアクリレートからなる混
合物と、この混合物の合計量に対して所定割合で混合さ
れた１αヒドロキシケトンと、ポリエーテル変性シリコ
ン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させたもので
あることを特徴とする。第２の発明は、請求項１記載の
光磁気記録媒体において、前記エポキシノボラックアク
リレートと前記エトキシ化トリメチロールプロパントリ
アクリレートとの重量割合の合計を１００重量％とする
時、６０〜７０重量％の前記エトキシ化トリメチロール
プロパントリアクリレート及び３０〜４０重量％の前記
エポキシノボラックアクリレートからなる混合物と、こ
の混合物の合計量に対して４重量％の前記１αヒドロキ
シケトンと、２〜８重量％の前記ポリエーテル変性シリ
コン高分子とからなることを特徴とする。
における第１の発明は、透明基板上に順次形成された無
機エハンス層と、光磁気記録層と、無機保護層と、有機
保護層とからなる光磁気記録媒体において、前記有機保
護層は、エポキシノボラックアクリレート及びエトキシ
化トリメチロールプロパントリアクリレートからなる混
合物と、この混合物の合計量に対して所定割合で混合さ
れた１αヒドロキシケトンと、ポリエーテル変性シリコ
ン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させたもので
あることを特徴とする。第２の発明は、請求項１記載の
光磁気記録媒体において、前記エポキシノボラックアク
リレートと前記エトキシ化トリメチロールプロパントリ
アクリレートとの重量割合の合計を１００重量％とする
時、６０〜７０重量％の前記エトキシ化トリメチロール
プロパントリアクリレート及び３０〜４０重量％の前記
エポキシノボラックアクリレートからなる混合物と、こ
の混合物の合計量に対して４重量％の前記１αヒドロキ
シケトンと、２〜８重量％の前記ポリエーテル変性シリ
コン高分子とからなることを特徴とする。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の実施形態の光磁気記録媒
体について図１乃至図３、表１及び表２を用いて説明す
る。図１は、本発明の実施形態の光磁気記録媒体を示す
断面図である。図２は、摩擦力のエポキシノボラックア
クリレートとエトキシ化トリメチロールプロパントリア
クリレートとの重量割合依存性を示す図である。図３
は、ポリエーテル変性シリコン高分子の添加量と摩擦力
との関係を示す図である。表１は、潤滑剤の種類を変え
た各種試料の摩擦力及び動摩擦係数を示す表である。表
２は、保護膜の種類を変えた各種試料の摩擦力及び動摩
擦係数を示す表である。
体について図１乃至図３、表１及び表２を用いて説明す
る。図１は、本発明の実施形態の光磁気記録媒体を示す
断面図である。図２は、摩擦力のエポキシノボラックア
クリレートとエトキシ化トリメチロールプロパントリア
クリレートとの重量割合依存性を示す図である。図３
は、ポリエーテル変性シリコン高分子の添加量と摩擦力
との関係を示す図である。表１は、潤滑剤の種類を変え
た各種試料の摩擦力及び動摩擦係数を示す表である。表
２は、保護膜の種類を変えた各種試料の摩擦力及び動摩
擦係数を示す表である。
【０００８】図１に示すように、本発明の実施形態の光
磁気記録媒体１は、射出成形やフォトポリマー成形等に
よりピットや溝が形成されている透明基板２と、この透
明基板２のピットや溝上に順次積層されたＳｉＮやＳｉ
Ｏ2等からなる厚さ５０ｎｍ〜１００ｎｍの無機エハン
ス層３と、ＴｂＦｅＣｏ等からなる厚さ３０ｎｍ〜１０
０ｎｍの光磁気記録層４と、ＳｉＮやＳｉＯ2等からな
る厚さ５０ｎｍ〜１００ｎｍの無機保護層５と、オリゴ
マー及びエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリ
レートからなる混合物と、この混合物の合計量に対して
所定割合で配合された１αヒドロキシケトンと、潤滑剤
とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させた厚さ１〜１０μ
ｍの有機保護層６とからなる。
磁気記録媒体１は、射出成形やフォトポリマー成形等に
よりピットや溝が形成されている透明基板２と、この透
明基板２のピットや溝上に順次積層されたＳｉＮやＳｉ
Ｏ2等からなる厚さ５０ｎｍ〜１００ｎｍの無機エハン
ス層３と、ＴｂＦｅＣｏ等からなる厚さ３０ｎｍ〜１０
０ｎｍの光磁気記録層４と、ＳｉＮやＳｉＯ2等からな
る厚さ５０ｎｍ〜１００ｎｍの無機保護層５と、オリゴ
マー及びエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリ
レートからなる混合物と、この混合物の合計量に対して
所定割合で配合された１αヒドロキシケトンと、潤滑剤
とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させた厚さ１〜１０μ
ｍの有機保護層６とからなる。
【０００９】１αヒドロキシケトンは、紫外線が照射さ
れることによってオリゴマーとエトキシ化トリメチロー
ルプロパントリアクリレートとをポリマーにする光開始
剤である。記録再生を行うヘッドを光磁気記録媒体１に
面接触して動作させる際の潤滑性は、有機保護層６中の
潤滑剤が光磁気記録媒体１の表面に滲み出てくることに
よって得られる。ヘッドがヘッドクラッシュを生じるこ
となく、記録再生を行うためには、このヘッドと光磁気
記録媒体の摩擦力は、０．８ｍＮ以下にすることが実験
的に確かめられている。このため、この摩擦力は、０．
８ｍＮ以下にする必要がある。
れることによってオリゴマーとエトキシ化トリメチロー
ルプロパントリアクリレートとをポリマーにする光開始
剤である。記録再生を行うヘッドを光磁気記録媒体１に
面接触して動作させる際の潤滑性は、有機保護層６中の
潤滑剤が光磁気記録媒体１の表面に滲み出てくることに
よって得られる。ヘッドがヘッドクラッシュを生じるこ
となく、記録再生を行うためには、このヘッドと光磁気
記録媒体の摩擦力は、０．８ｍＮ以下にすることが実験
的に確かめられている。このため、この摩擦力は、０．
８ｍＮ以下にする必要がある。
【００１０】以下に、潤滑剤の種類、オリゴマーの種
類、有機保護層中の混合物の重量割合及びポリエーテル
変性シリコン高分子の添加量を変えた時の潤滑性につい
て調べた。まず始めに、潤滑剤の種類を変えて各試料を
作製し、その潤滑性について調べた。潤滑剤の種類とし
ては、ポリエーテル変性シリコン高分子、アルキル変性
シリコン高分子、アクリル共重合シリコン高分子、ポリ
エステルアクリル基シリコン高分子、フッ素高分子、窒
化シリコンを選択した。各試料は、厚さ１．２ｍｍのポ
リカーボネート樹脂基板上に厚さ５０ｎｍのＳｉＮを形
成し、このＳｉＮ上に前記した各種の潤滑剤を形成した
ものである。潤滑性は、チタン酸カルシュウムからなる
２．２×３．３ｍｍの面接触ヘッドを用いて、これらの
試料の表面を線速１．５ｍ／ｓ、荷重５ｇで３０分間摺
動させて、その時の摩擦力及び動摩擦係数を調べること
によって評価した。その結果を表１に示す。
類、有機保護層中の混合物の重量割合及びポリエーテル
変性シリコン高分子の添加量を変えた時の潤滑性につい
て調べた。まず始めに、潤滑剤の種類を変えて各試料を
作製し、その潤滑性について調べた。潤滑剤の種類とし
ては、ポリエーテル変性シリコン高分子、アルキル変性
シリコン高分子、アクリル共重合シリコン高分子、ポリ
エステルアクリル基シリコン高分子、フッ素高分子、窒
化シリコンを選択した。各試料は、厚さ１．２ｍｍのポ
リカーボネート樹脂基板上に厚さ５０ｎｍのＳｉＮを形
成し、このＳｉＮ上に前記した各種の潤滑剤を形成した
ものである。潤滑性は、チタン酸カルシュウムからなる
２．２×３．３ｍｍの面接触ヘッドを用いて、これらの
試料の表面を線速１．５ｍ／ｓ、荷重５ｇで３０分間摺
動させて、その時の摩擦力及び動摩擦係数を調べること
によって評価した。その結果を表１に示す。
【００１１】
【表１】
【００１２】表１に示すように、潤滑剤にポリエーテル
変性シリコン高分子を用いた場合、動摩擦係数は最も小
さくなり、また摩擦力が０．８ｍＮ以下であり、ヘッド
クラッシュを生じなかった。このように、潤滑剤にポリ
エーテル変性シリコン高分子を用いると、良好な潤滑性
が得られることがわかった。
変性シリコン高分子を用いた場合、動摩擦係数は最も小
さくなり、また摩擦力が０．８ｍＮ以下であり、ヘッド
クラッシュを生じなかった。このように、潤滑剤にポリ
エーテル変性シリコン高分子を用いると、良好な潤滑性
が得られることがわかった。
【００１３】次に、オリゴマーの種類を変化させた有機
保護層６を作製し、この潤滑性について調べた。オリゴ
マーの種類としては、エポキシノボラックアクリレー
ト、エポキシアクリレート、脂肪族ウレタンジアクリレ
ート、シリコンアクリレート、変性ポリエーテルアクリ
レートを選択した。各試料は、厚さ１．２ｍｍのポリカ
ーボネート樹脂基板上に厚さ５０ｎｍのＳｉＮを形成
し、このＳｉＮ上にオリゴマーの種類を変化させた有機
保護層６を形成したものである。
保護層６を作製し、この潤滑性について調べた。オリゴ
マーの種類としては、エポキシノボラックアクリレー
ト、エポキシアクリレート、脂肪族ウレタンジアクリレ
ート、シリコンアクリレート、変性ポリエーテルアクリ
レートを選択した。各試料は、厚さ１．２ｍｍのポリカ
ーボネート樹脂基板上に厚さ５０ｎｍのＳｉＮを形成
し、このＳｉＮ上にオリゴマーの種類を変化させた有機
保護層６を形成したものである。
【００１４】具体的には、この有機保護層６は、エトキ
シ化トリメチロールプロパントリアクリレートとオリゴ
マーとの重量割合の合計を１００重量％とする時、７０
重量％のエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリ
レートと３０重量％のオリゴマーとからなる混合物と、
この混合物の合計量に対して４重量％の１αヒドロキシ
ケトンと、４重量％のポリエーテル変性シリコン高分子
とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させたものである。潤
滑性は、チタン酸カルシュウムからなる２．２×３．３
ｍｍの面接触ヘッドを用いて、これらの試料の表面を線
速１．５ｍ／ｓ、荷重５ｇで３０分間摺動させて、その
時の摩擦力及び動摩擦係数を調べることによって評価し
た。その結果を表２に示す。
シ化トリメチロールプロパントリアクリレートとオリゴ
マーとの重量割合の合計を１００重量％とする時、７０
重量％のエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリ
レートと３０重量％のオリゴマーとからなる混合物と、
この混合物の合計量に対して４重量％の１αヒドロキシ
ケトンと、４重量％のポリエーテル変性シリコン高分子
とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させたものである。潤
滑性は、チタン酸カルシュウムからなる２．２×３．３
ｍｍの面接触ヘッドを用いて、これらの試料の表面を線
速１．５ｍ／ｓ、荷重５ｇで３０分間摺動させて、その
時の摩擦力及び動摩擦係数を調べることによって評価し
た。その結果を表２に示す。
【００１５】
【表２】
【００１６】表２に示すように、オリゴマーにエポキシ
ノボラックアクリレートを用いた場合、動摩擦係数が最
も小さくなり、また摩擦力が０．８ｍＮ以下であり、ヘ
ッドクラッシュを生じなかった。このように、オリゴマ
ーにエポキシノボラックアクリレートを用いると、良好
な潤滑性を有する有機保護層６が得られることがわかっ
た。
ノボラックアクリレートを用いた場合、動摩擦係数が最
も小さくなり、また摩擦力が０．８ｍＮ以下であり、ヘ
ッドクラッシュを生じなかった。このように、オリゴマ
ーにエポキシノボラックアクリレートを用いると、良好
な潤滑性を有する有機保護層６が得られることがわかっ
た。
【００１７】次に、潤滑剤にポリエーテル変性シリコン
高分子、オリゴマーにエポキシノボラックアクリレート
を用い、このエポキシノボラックアクリレートとエトキ
シ化トリメチロールプロパントリアクリレートとの重量
割合を変化させた有機保護層６の各試料を作製し、この
潤滑性について調べた。各試料は、厚さ１．２ｍｍのポ
リカーボネート樹脂基板上に厚さ５０ｎｍのＳｉＮを形
成し、このＳｉＮ上にエトキシ化トリメチロールプロパ
ントリアクリレートとエポキシノボラックアクリレート
との重量比を変化させた有機保護層６を形成したもので
ある。
高分子、オリゴマーにエポキシノボラックアクリレート
を用い、このエポキシノボラックアクリレートとエトキ
シ化トリメチロールプロパントリアクリレートとの重量
割合を変化させた有機保護層６の各試料を作製し、この
潤滑性について調べた。各試料は、厚さ１．２ｍｍのポ
リカーボネート樹脂基板上に厚さ５０ｎｍのＳｉＮを形
成し、このＳｉＮ上にエトキシ化トリメチロールプロパ
ントリアクリレートとエポキシノボラックアクリレート
との重量比を変化させた有機保護層６を形成したもので
ある。
【００１８】具体的には、この有機保護膜６は、エトキ
シ化トリメチロールプロパントリアクリレートとオリゴ
マーとの重量割合の合計を１００重量％とする時、４０
〜８０重量％のエトキシ化トリメチロールプロパントリ
アクリレートと２０〜６０重量％のエポキシノボラック
アクとからなる混合物と、この混合物の合計量に対して
４重量％の１αヒドロキシケトンと、４重量％のポリエ
ーテル変性シリコン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を
硬化させたものである。
シ化トリメチロールプロパントリアクリレートとオリゴ
マーとの重量割合の合計を１００重量％とする時、４０
〜８０重量％のエトキシ化トリメチロールプロパントリ
アクリレートと２０〜６０重量％のエポキシノボラック
アクとからなる混合物と、この混合物の合計量に対して
４重量％の１αヒドロキシケトンと、４重量％のポリエ
ーテル変性シリコン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を
硬化させたものである。
【００１９】潤滑性は、チタン酸カルシュウムからなる
２．２×３．３ｍｍの面接触ヘッドを用いて、これらの
試料の表面を線速１．５ｍ／ｓ、荷重５ｇで３０分間摺
動させて、その時の摩擦力を調べることによって評価し
た。その結果を図２に示す。図２中、横軸は、エポキシ
ノボラックアクリレートとエトキシ化トリメチロールプ
ロパントリアクリレートとの重量割合、縦軸は、摩擦力
（ｍＮ）である。
２．２×３．３ｍｍの面接触ヘッドを用いて、これらの
試料の表面を線速１．５ｍ／ｓ、荷重５ｇで３０分間摺
動させて、その時の摩擦力を調べることによって評価し
た。その結果を図２に示す。図２中、横軸は、エポキシ
ノボラックアクリレートとエトキシ化トリメチロールプ
ロパントリアクリレートとの重量割合、縦軸は、摩擦力
（ｍＮ）である。
【００２０】図２に示すように、摩擦力は、エトキシ化
トリメチロールプロパントリアクリレートが６０重量
％、エポキシノボラックアクリレートが４０重量％の場
合が最も小さく、この両端で増大する傾向を示してい
る。更に、エトキシ化トリメチロールプロパントリアク
リレートが７０重量％以上、エポキシノボラックアクリ
レートが３０重量％以下の場合には、摩擦力が０．８ｍ
Ｎ以上となり、ヘッドクラッシュを生じた。これは、有
機保護膜６中のポリエーテル変性シリコン高分子が表面
に液体状となって滲み出すぎ、ヘッドがポリエーテル変
性シリコン高分子中に浸り、エトキシ化トリメチロール
プロパントリアクリレートとエポキシノボラックアクリ
レートのポリマーとの境界潤滑がなくなったことによる
と考えられる。
トリメチロールプロパントリアクリレートが６０重量
％、エポキシノボラックアクリレートが４０重量％の場
合が最も小さく、この両端で増大する傾向を示してい
る。更に、エトキシ化トリメチロールプロパントリアク
リレートが７０重量％以上、エポキシノボラックアクリ
レートが３０重量％以下の場合には、摩擦力が０．８ｍ
Ｎ以上となり、ヘッドクラッシュを生じた。これは、有
機保護膜６中のポリエーテル変性シリコン高分子が表面
に液体状となって滲み出すぎ、ヘッドがポリエーテル変
性シリコン高分子中に浸り、エトキシ化トリメチロール
プロパントリアクリレートとエポキシノボラックアクリ
レートのポリマーとの境界潤滑がなくなったことによる
と考えられる。
【００２１】また、エトキシ化トリメチロールプロパン
トリアクリレートが６０重量％以下、エポキシノボラッ
クアクリレートが４０重量％以上の場合には、有機保護
層６の表面の一部が削り取られた。これは、有機保護膜
６全体が柔らかく、ヘッドで削り取られやい状態になっ
たためと考えられる。エトキシ化トリメチロールプロパ
ントリアクリレートが６０〜７０重量％、エポキシノボ
ラックアクリレートが３０〜４０重量％の範囲では、ヘ
ッドクラッシュの発生がなく、また表面が削り取られる
ことのない良好な潤滑性を有した有機保護層６が得られ
ることがわかった。
トリアクリレートが６０重量％以下、エポキシノボラッ
クアクリレートが４０重量％以上の場合には、有機保護
層６の表面の一部が削り取られた。これは、有機保護膜
６全体が柔らかく、ヘッドで削り取られやい状態になっ
たためと考えられる。エトキシ化トリメチロールプロパ
ントリアクリレートが６０〜７０重量％、エポキシノボ
ラックアクリレートが３０〜４０重量％の範囲では、ヘ
ッドクラッシュの発生がなく、また表面が削り取られる
ことのない良好な潤滑性を有した有機保護層６が得られ
ることがわかった。
【００２２】次に、潤滑剤にポリエーテル変性シリコン
高分子を用いた時の添加量を変化させた有機保護膜６を
作製し、この潤滑性について調べた。各試料は、厚さ
１．２ｍｍのポリカーボネート樹脂基板上に厚さ５０ｎ
ｍのＳｉＮを形成し、このＳｉＮ上にポリエーテル変性
シリコン高分子の添加量を変化させた有機保護膜６を作
製した。具体的には、この有機保護膜６は、エトキシ化
トリメチロールプロパントリアクリレートとオリゴマー
との重量割合の合計を１００重量％とする時、６０重量
％のエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレー
トと４０重量％のエポキシノボラックアクリレートとか
らなる混合物と、この混合物の合計量に対して４重量％
の１αヒドロキシケトンと、０〜１０重量％のポリエー
テル変性シリコン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬
化させたものである。
高分子を用いた時の添加量を変化させた有機保護膜６を
作製し、この潤滑性について調べた。各試料は、厚さ
１．２ｍｍのポリカーボネート樹脂基板上に厚さ５０ｎ
ｍのＳｉＮを形成し、このＳｉＮ上にポリエーテル変性
シリコン高分子の添加量を変化させた有機保護膜６を作
製した。具体的には、この有機保護膜６は、エトキシ化
トリメチロールプロパントリアクリレートとオリゴマー
との重量割合の合計を１００重量％とする時、６０重量
％のエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレー
トと４０重量％のエポキシノボラックアクリレートとか
らなる混合物と、この混合物の合計量に対して４重量％
の１αヒドロキシケトンと、０〜１０重量％のポリエー
テル変性シリコン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬
化させたものである。
【００２３】潤滑性は、チタン酸カルシュウムからなる
２．２×３．３ｍｍの面接触ヘッドを用いて、これらの
試料の表面を線速１．５ｍ／ｓ、荷重５ｇで３０分間摺
動させて、その時の摩擦力を調べることによって評価し
た。その結果を図３に示す。図３中、横軸は、ポリエー
テル変性シリコン高分子の添加量（重量％）、縦軸は、
摩擦力（ｍＮ）である。図３に示すように、摩擦力は、
ポリエーテル変性シリコン高分子が４重量％の場合が最
も小さくなり、この両端で増大する傾向を示している。
２．２×３．３ｍｍの面接触ヘッドを用いて、これらの
試料の表面を線速１．５ｍ／ｓ、荷重５ｇで３０分間摺
動させて、その時の摩擦力を調べることによって評価し
た。その結果を図３に示す。図３中、横軸は、ポリエー
テル変性シリコン高分子の添加量（重量％）、縦軸は、
摩擦力（ｍＮ）である。図３に示すように、摩擦力は、
ポリエーテル変性シリコン高分子が４重量％の場合が最
も小さくなり、この両端で増大する傾向を示している。
【００２４】更に、ポリエーテル変性シリコン高分子が
２重量％以下では、摩擦力が０．８ｍＮ以上となり、ヘ
ッドクラッシュを生じた。これは、前記したと同様に境
界潤滑がなくなったことによると考えられる。また、ポ
リエーテル変性シリコン高分子が８重量％以上では、ヘ
ッドクラッシュを生じると共に８０℃、８０％で加水分
解して、耐湿性が悪くなった。このため、ポリエーテル
変性シリコン高分子の添加量は、２〜８重量％の範囲の
場合が、ヘッドクラッシュの発生がなく、良好な耐湿性
と共に潤滑性を有した有機保護層６が得られることがわ
かった。更にまた、エポキシノボラックアクリレートが
３０〜４０重量％、エトキシ化トリメチロールプロパン
トリアクリレートが６０〜７０重量％の範囲内で変化さ
せた場合も同様な結果が得られた。
２重量％以下では、摩擦力が０．８ｍＮ以上となり、ヘ
ッドクラッシュを生じた。これは、前記したと同様に境
界潤滑がなくなったことによると考えられる。また、ポ
リエーテル変性シリコン高分子が８重量％以上では、ヘ
ッドクラッシュを生じると共に８０℃、８０％で加水分
解して、耐湿性が悪くなった。このため、ポリエーテル
変性シリコン高分子の添加量は、２〜８重量％の範囲の
場合が、ヘッドクラッシュの発生がなく、良好な耐湿性
と共に潤滑性を有した有機保護層６が得られることがわ
かった。更にまた、エポキシノボラックアクリレートが
３０〜４０重量％、エトキシ化トリメチロールプロパン
トリアクリレートが６０〜７０重量％の範囲内で変化さ
せた場合も同様な結果が得られた。
【００２５】以上のように、エトキシ化トリメチロール
プロパントリアクリレートとオリゴマーとの重量割合の
合計を１００重量％とする時、６０〜７０重量％のエト
キシ化トリメチロールプロパントリアクリレートと３０
〜４０重量％のエポキシノボラックアクリレートとから
なる混合物と、この混合物の合計量に対して４重量％の
１αヒドロケシケトンと、２〜８重量％のポリエーテル
変性シリコン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬化さ
せたものを有機保護膜６として用いると、ヘッドクラッ
シュがなく、良好な潤滑性を有する光磁気記録媒体１を
得ることができる。
プロパントリアクリレートとオリゴマーとの重量割合の
合計を１００重量％とする時、６０〜７０重量％のエト
キシ化トリメチロールプロパントリアクリレートと３０
〜４０重量％のエポキシノボラックアクリレートとから
なる混合物と、この混合物の合計量に対して４重量％の
１αヒドロケシケトンと、２〜８重量％のポリエーテル
変性シリコン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬化さ
せたものを有機保護膜６として用いると、ヘッドクラッ
シュがなく、良好な潤滑性を有する光磁気記録媒体１を
得ることができる。
【００２６】
【発明の効果】本発明の光磁気記録媒体によれば、有機
保護層は、前記エポキシノボラックアクリレートと前記
エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートと
の重量割合の合計を１００重量％とする時、６０〜７０
重量％の前記エトキシ化トリメチロールプロパントリア
クリレート及び３０〜４０重量％の前記エポキシノボラ
ックアクリレートからなる混合物と、この混合物の合計
量に対して４重量％の前記１αヒドロキシケトンと、２
〜８重量％の前記ポリエーテル変性シリコン高分子とか
らなる紫外線硬化樹脂を硬化させたものであるので、ヘ
ッドクラッシュがなく、良好な潤滑性を有する光磁気記
録媒体を得ることができる。
保護層は、前記エポキシノボラックアクリレートと前記
エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートと
の重量割合の合計を１００重量％とする時、６０〜７０
重量％の前記エトキシ化トリメチロールプロパントリア
クリレート及び３０〜４０重量％の前記エポキシノボラ
ックアクリレートからなる混合物と、この混合物の合計
量に対して４重量％の前記１αヒドロキシケトンと、２
〜８重量％の前記ポリエーテル変性シリコン高分子とか
らなる紫外線硬化樹脂を硬化させたものであるので、ヘ
ッドクラッシュがなく、良好な潤滑性を有する光磁気記
録媒体を得ることができる。
【図１】本発明の実施形態の光磁気記録媒体を示す断面
図である。
図である。
【図２】摩擦力のエポキシノボラックアクリレートとエ
トキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートとの
重量割合依存性を示す図である。
トキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートとの
重量割合依存性を示す図である。
【図３】ポリエーテル変性シリコン高分子の添加量と摩
擦力との関係を示す図である。
擦力との関係を示す図である。
１…光磁気記録媒体、２…透明基板、３…無機エハンス
層、４…光磁気記録層、５…無機保護層、６…有機保護
層
層、４…光磁気記録層、５…無機保護層、６…有機保護
層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 4/00 Ｃ０９Ｄ 4/00 4/06 4/06 5/00 5/00 Ｃ 5/23 5/23 Ｆターム(参考） 4J002 CD201 CP182 EE037 EH076 FD157 FD172 GS00 4J027 AE03 BA26 CA10 CA29 CB10 CC04 CD08 4J038 DB071 DB072 DB371 DB372 DL152 FA121 FA251 FA252 JA33 NA09 PB08 PB11 5D075 EE03 FG04
Claims (2)
- 【請求項１】透明基板上に順次形成された無機エハンス
層と、光磁気記録層と、無機保護層と、有機保護層とか
らなる光磁気記録媒体において、 前記有機保護層は、エポキシノボラックアクリレート及
びエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート
からなる混合物と、この混合物の合計量に対して所定割
合で混合された１αヒドロキシケトンと、ポリエーテル
変性シリコン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬化さ
せたものであることを特徴とする光磁気記録媒体。 - 【請求項２】前記有機保護層は、前記エポキシノボラッ
クアクリレートと前記エトキシ化トリメチロールプロパ
ントリアクリレートとの重量割合の合計を１００重量％
とする時、６０〜７０重量％の前記エトキシ化トリメチ
ロールプロパントリアクリレート及び３０〜４０重量％
の前記エポキシノボラックアクリレートからなる混合物
と、この混合物の合計量に対して４重量％の前記１αヒ
ドロキシケトンと、２〜８重量％の前記ポリエーテル変
性シリコン高分子とからなることを特徴とする請求項１
記載の光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000051199A JP2001243669A (ja) | 2000-02-28 | 2000-02-28 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000051199A JP2001243669A (ja) | 2000-02-28 | 2000-02-28 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001243669A true JP2001243669A (ja) | 2001-09-07 |
Family
ID=18572872
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000051199A Pending JP2001243669A (ja) | 2000-02-28 | 2000-02-28 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001243669A (ja) |
-
2000
- 2000-02-28 JP JP2000051199A patent/JP2001243669A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050310 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20050517 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051007 |