JPS60502277A - 光学記録媒体用の改良されたオ−バコ−ト - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 光学記録媒体用の改良されたオーバコートこの発明は、新規な情報貯蔵レコード に関し、さらに特定的には、保護コート手段を有する光学的データ記録に適用す る情報層、および可使期間と記録特性を高めるための関連したコーティングを含 むようなレコードに関する。

柾１ニー九１− 光学的技術を利用した、および○Ｄ　Ｄ　（ｏｐｔｉｃａｌ　ｄｉｇｉｔａｌ　 ｄａｔａ）ディスクのような特に関連した媒体を用いた、ディジタル化情報の貯 蔵および回復に関し、今ではディジタル化データの光学的貯蔵は比較的急速な進 歩をする技術となっている。これに類似のものとして、従来、このようなデータ は、今日の高速ディジタル化コンピュータで一般に用いられているテープもしく はディスクのような磁気的な媒体の上に貯蔵していた。

ここでは、感度の高い光学的記録媒体の上に保護的コーティングを設ける新規な 試みについていくつか述べる。たとえば、成るものは酸化もしくは環境による破 壊のようなものに対して抵抗を有し、そこでは現在の代表的なものよりも、感度 が改善され、長い可使期間が可能となり、製作の上のパラメータが簡単になって いる。

このような媒体、特に同調された媒体（ｔｕｎｅｄ　ｍｅｄｉａ　）に関して、 色々なタイプの保護オーバコーティングが、提唱されている。、（たとえば、ダ ークミラー効果を用いた媒体に関しては、米国特許第４，２２２，０７１号、、 Ｂａ１ｌら；「光学的貯蔵媒体に関する総説１　（”Ｒｅｖｉｅｗ　ｏｆ　０ｐ ｔｉｃａｌ　Ｓｔｏｒａｇｅ　Ｍｅｄｉａ”　＞　７ｅｃｈ著、５ＰＩＥ第１７ ７巻、光学的情報貯蔵（Ｏｐｔｉｃａｌ　ｌ　ｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ　Ｓ　ｔｏ ｒａａｅ）、１９７９．５６頁以後；「光学的記録媒体総説」（”０ｐｔｉｃａ ｌ　Ｒｅｃｏｒｄｉｎａ　Ｍｅｄｉａ　Ｒｅｖｉｅｗ　”　）　Ｂａｒｔ。

１１旧著、２頁以後、１９７７．５ＰＩＥ第１２３巻、［光学的貯蔵物質および 方法Ｊ　（”　ＯＤｔｉｃａｌ　Ｓ　ｔｏｒａｏｅ　Ｍ　ａｔｅｒｉａｌｓ　ａ ｎｄ　１ｙｌｅｔｈｏｄｓ”　）　；　ｒ実時間高密度データ貯蔵に関する金属 フィルム中の溶融したホールＪ（”Ｍｅ目１ｎｇＨｏｌｅｓｉｎＭｅｔａｌ　Ｆ ｉｌｍｓｒｏｒ　Ｒｅａｌ−ＴｉｍｅＨｉｇｈ　Ｄｅｎｓｉｔｙ　Ｄａｔａ　３ 　ｔｏｒａｇｅ”　）　ＣｏｃｈｒａｎおよびＦ　ｅｒｒｉｅｒ著。

ＳＰ■Ｅ会報、１９７７　８月、１７−３１頁；以下に述べるその他の文献） ［長期の記録保存期間］ 光学的データ貯蔵技術は、増大した貯蔵容量を約束するものなので注目されてい る。ここで企画される光学的データディスクは、長期にわたる記録保存期間にお いて情報をそこに貯蔵するものと考えられている。目標は、データ処理（ｄａｔ ａ　ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　；　Ｄ　Ｐ　）装置の典型的な、極度の、使用条件 の下で、３−１０年間もしくはそれ以上である。

当業者は、長い間これに向かって努力しているが、このような長期間は技術的に は未だ到達できない目標である。この発明は、このような記録保存期間により適 するように改善されたＯＤＤ媒体に関するものである。その媒体は、改良された オーバコート手段の重要性によって、特に゛光学量メモリ″およびその応用に適 したものである。

したがって、この特徴として、本願発明者達は、長期にわたる記録保存期間を好 ましく示すレコードに関しての新規なオーバコートの構造および材質の使用を企 画する。すなわち、このレコードとは、典型的なりＰ貯蔵および使用期間中の、 酸化もしくはそのような環境における崩壊に対して非常に強い抵抗を示すもので ある。（したがって、長期にわたる貯蔵の期間において、記録された情報はほと んどもしくは全く失われることなく、十分に読出しできるようにその反射率は安 定して維持されている。）このような何らかの実際的な貯蔵の媒体、もしくはこ れに関連した系統のものは、特に、良好な感度もまた要求されて０る場合におい て未だ供給されていない。この発明は、この目的に適う手段を教示する。

［一般的なオーバコート］ 典型的な記録スポット（ビット）は、直径で約１マイクロメータに企画されてい る。しかしながら、表面の汚物（たとえば、油、指紋）、もしくは空気中で生じ たごみのような特別の汚染物が、これと同じ大きさか、もしくはこれ以上になる と、記録されたビットを妨げることとなる。

たとえば、一般の煙の粒子は、直径で約６ミクロン（６μｍ、もしくは約２４０ マイクロインチ）である。したがって、このような汚れの粒子が、もしそれらの １つもしくはいくらかが、ちょうどオーバコートの上に載った場合に（よ、一般 に記録されたビット（データ）を覆い隠し、抹消する。

そこで、従来、たとえば、ここで、１００から１８０ミクロンの厚みの透明なオ ーバコートを用いることにより、このような汚染の粒子、およびすべての汚れ、 汚点、もしくは、じみを焦点から外すため、分厚いオーハコ−１〜層が提唱され てきた。したがって、このような保護層の表面の上に載っているどのような汚れ の粒子であっても（そして拭き取られないもの）、焦点からずれていた。すなわ ら、記録されたデータおよび光学的な連続の残りの部分を検知するのに用いられ る対物レンズの焦点範囲から外されており、これらは光学的に見えなくなってい る。第２の目的として、このようなオーバコートは、記録層に機械的な保護を与 え（たとえば、製作中、試験もしくは使用中における）取扱いなどから生ずる損 害を防ぐであろう。

さて、成る場合に、当業者は、保護的な透明なＡ−バコードとして、比較的に硬 い物質を提唱してきた。一方、他の場合には、より軟らかい物質を提唱してきた 。たとえば、成る者は、エラストマによる外部コートを提唱してきた。

（参考：ＧＦ社の「３１ｌａｓｔｉｃ　ＲＴ　Ｖ　ｊのようなシリコーンコム。

参照：米［１１特ｆ’＋１４，１０１，９０７号、　Ｂｅ１ｌら。ここでは或邑 種の有機染料のようなパ切除され得る″吸収体が、ＳｉＯ□もしくは蔗糖の誘導 体もしくは酸性レジンによる障壁層によってオーバコートされている。そして、 これは、そのようなシリコーン樹脂で上塗りされている。）しかしながら、よく 知られているように、軟らかい弾力のあるくゴムのような）物質によるオーバコ ーティングは、特徴的に、粘着性の、さらされた表面を示し、容易にごみを引き 付けて保持する。そして、成る場合には、このようなエラストマによるコーティ ングが、未だ、下の吸収体を締め付けているように思われる。また、エラス］〜 マは、非常に高い硬化温度を要求する。もしくは、それらを空温で硬化した場合 には、非常に長い時間かがることとなる。さらに、素早い硬化のために加熱した ときには、３重層を加熱しすぎるという重大な危険をもたらす。（ＲＴＶのよう なシリコーンエラストマは、これらのすべての欠点を有しており、硬化による圧 縮および、使用中における過剰な水分吸収を伴う、、） 一方、他の者は、吸収体層の上に直接ハードな外部シール用のオーバコートを用 いることを考えてきたくたとえば、「光学的ディスクシ゛ステムの出現Ｊ　（” 　Ｑ　ｐＮｃａｌ　Ｄ　ｉｓｋｓｙｓｔｅｍｓ　Ｅｍｅｒｇｅ　”　）　３ａｒ ｔＯ１ｉｎｌら著、ＩＥＥＥＳｐｅｃｔｒｕｍ　、　１９７８　８月；ここで３ 重層構造として、５１０２はチタン吸収体の上と下に描かれている。）しかしな がら、このようなハードオーバコート（多分、それは吸収体を硬く閉じ込めて締 め付けているからである）は記録感度を低下させ、他の方法では満足な記録媒体 を、本質的に記録不可能にしてしまうということを認めざるを得なかつた。また 、Ｓ　ｉ　Ｏ２のようなハードな外部のコーティングは、あまりに吸収力が強い ため（たとえば、水蒸気の）、長い間もちこたえることができなかった。

［ハード／ラフ］−オーバコート］ この試みの顕著な特徴は、はとんどの、もしくはすべての上）蚤の欠点を解消し たオーバコーティングを与えることにある。これは、ソフトパッド内側層とハー ドな外部シール層とからなる、２つの部分のオーバコーティングを供給して用い ることによって達成される。すなわち、ハード、／ソフトオーバコートによって 。相対的により軟らかな中間的なパッドは、吸収体に対して配置される傾向にあ り、書込みの加熱の間、隣接する吸収体が歪みおよび／または移動することを許 容するように、しなやかで、優れた圧縮性を（軟らかな座蒲団のように）有する ものである。一方、また、良好な熱的絶縁性（非常に低い熱伝導、相対的に低い 比熱）を与える。端的に言えば、このソフトパッドは、機械的におよび熱的に吸 収体をより良く隔離するように思われる。一方、ハードな外部コートは、最適の 機械的な保護を与える（すなわち、蒸気の侵入に対してシールする）。

もちろん、このような層は互いによく接着しており、設訂した読出し／書込みの 波長に対し石高度に透明であり、応用において好ましく便宜で、安価である。

既に述べたように、特定のこのようなソフトパッド（たとえば、フッ素化ポリマ からなるもの、以下に示す）の機械的な性質は、書込み加熱中の下の層の吸収体 の運動、もしくは形崩れに対して、より良く便宜を図るようである（たとえば、 軟らかい物質をスペ〜すとしても用いた場合には、上部のパッドおよび底部のパ ッドとして）。このようなソフトバンドは、明らかにそのまわりのＭ境から、吸 収体を機械的におよび熱的に引き離すために、顕著にその感度を増加させること ができる（たとえば、溶融シリカのような硬いオーバコートのみを用いた場合に 期待できる程度に比べてはるかに良く。すなわち、この後者のものは、与えられ たピントもしくはホールを書込むためには、より多くのエネルギを必要とする。

）。ソフトパッドは、隣接するスペーサとしてのみ用いても、非常に効果的に隔 離することができる（たとえば、吸収体の上に直接載った５１０２を備えて）。

これは感度を増長させるであろう（たとえば、５１０２スペーザを伴って置ぎ換 えた場合に比べて）そして、以下に述べるように、このようなソフトパッドコー ティングは、特定の場合には、〈反射体および）吸収体層に付１ｆｆｆるのによ く用いるのど本質的に同じ設備で、応用させることができる。（たとえば、関連 した続いて起こる付着のステップにおいて、そして一般の設備を用いて）結果と して生ずる便宜、およびコスト、時間などの低下は明らかであろう。

また有利には、同しソフトパッドの月利を吸収体の両側に用いることも、しばし ば可能である（リーなわら、スペーサＪ３よびオーバコートとして）。成る場合 には、ポリビニルフロライド（ＰＶＦ）のような、フッ素化エチレンポリマ（Ｆ −Ｐ）ポリエチレン（Ｐ−８＞のような他のフッ素化ポリマを、プラズマ重合し たポリマの類から選ぶこともできる。好ましくは、吸収体層（また（よ／および スペーサ層）の付着と同時に、および同じ装置を用いて、このようなソフトパッ ド層に、蒸着させる。これに代わって、成る場合には、プラズマ（重合）付着の ような他の方法で付着させることもてきる。

このソフトパッドオーバコートの厚みとしては、その」二のコーティング（特に ソフトパッド上に設けられたハード層）から吸収体層を（熱的および機械的に） 分離し、また下の層の吸収体と好ましく結合するようなものが好ましい。

〈たとえば、感度を悪く妥協させないように、および吸収体をハードな外側のオ ーバコーティングから十分に分離するように、また一方、ハードオーバコーティ ングおよび／またはそこからの圧力による吸収体への圧迫、およびその中での窪 みの形成を妨げるように。さらに、使用中に、剥離や水分の浸入などを起こさな い」；う、十分に良くバートコートと結合するように。これによ−）で、必要な 光学的性でも、必要な同調が破壊されてしまう。）吸収体を、あらゆる有害な影 響から保護することは巾要なことである。たとえば、特に、記録過程およびビッ トスボッ１〜の形成過程において、吸収体が形崩れおよび／または置換されてし まうような有害な影響から。ハードオーバコーティング（たとえば、公知のＳｉ Ｏもしくは５１０２）を吸収体層の上に直接設けると、これを圧縮し、ビット書 込中のこのような形崩れもしくは移動を抑制することができることは、よく知ら れており、明らかである。このように、ビットの形成の邪魔は、感度および記録 効率を低下さゼるので１、より多（の書込エネルギが必要となる。また、はとん どの酸化シリコンは、非常に吸湿性である。これらの問題は、５１０２を用いた 場合（冷たい基板に上に蒸着させた場合）によく経験することである。好ましい フッ素化ポリマのような物質とともに用いた場合は、なおさらである。（参考： このような条件下、これらは比較的空隙の少ないフィルムとして付着させること ができる。、）こ３こに述べたタイプの適当なソフトパッドは、特に、隣接した ＯＤ吸収体層の記録効率を助長したい場合には、いかに重要であり、有用である かが理解されるであろう。したがって、吸収体層の上にソフトパッドコーティン グを設けること、および、できれば一般の付着技術を使ってそのようにすること が常に望まれている。（いずれにせよ、吸収体の真下に、同様のソフトパッドス ペーサ層を設けることができる。それによって、上部および／または下部から、 生ずる障害から吸収体を熱的および機械的に隔離することができる。） この技術は、隣接する吸収体層を機械的に離し、すてに述べた移動を自由にする よう、十分に軟らかで、しなやかな、そして、また熱的にそれを隔離する（フッ 素化ポリマの）ソフトパッドの塗布を含むものであることが理解されよう（すな わち、下のスペーサとして、もしくは−ヒのソフトオーバコートとしてもしくは その両方として機能させるため）。したがって、下の反射体層と強く結合し、一 方、相対的に異なるように、上の吸収体層と接着する有機層を用いたこのような ソフトパッドスペーサの供給されることが要望されている。そして、上のハード オーバコートと相対的に固く結合するようなくしがし、下の吸収体とは異なって 結合するような）ソフトパッドオーバコートの供給されることが好ましいであろ う。

［新規なハード上塗り（スーパー）コート］既に）本べたように、ここでのもう １つの顕著な特徴は、上記のように特性付けられたソフトパッドオーバコートが 、好ましくは、適当なハードな外側の保護層によって、次に上塗りされることで ある。このソフトパッドオーバコートの外側に、ハートな保護的なオーバコーテ ィングを上塗りした場合、それは、表面の汚れを焦点からそらすだめの必要な光 学的厚みを満たすとどもに、良好な蒸気の障壁、および機械的な被覆および非帯 電の表面としての役目を果たす。すなわち、ハード／ソフトオーバコートを与え るのである。

そして、さらに特有の特徴として、１群の新規なＵＶ硬化アクリル−エポキシポ リマを、記録保存のＯＤ　（ｏｐｔｉｃａｌｄａｔａ：光学的データ）ディスク のための、このようなハードな外側のコーティングに用いることを、ここで開示 する。また、このような材質を用いて、このようなディスクにコーティングする ことに関して、好ましい関連した新規な方法を開示する。このようなアクリル化 エポキシポリマは、相対的に透明（記録／読出ビームに対して）であり、既に述 べたオーバコートの要求条件に加えて、いくらかたわみ性を有している。たとえ ば、剥離やクラックを生ずることなくすべての関連した環境試験に合格するよう な。

新規なプレポリマの配合物は、以下に示す（たとえば、混合物Ｔ−１）。これら は、○Ｄディスク（長期にわたる記録保存期間など）のハードな保護的オーバコ ーティング、および特にソフトパッドオーバコートの上の上塗りとして用いられ るものである。さらに、特定的には、表面のごみなどを焦点から外すような厚み （たとえば、６−８ミルまで）で、（設計のＲ／Ｗ波長において透過する）透明 な塗膜を与え、さらに機械的な障害、もしくは蒸気の侵入（特に水、水性の煙霧 体、硫酸塩、もしくはＮａＣｆＬ、もしくはその他の塩化物）に対して環境上の 障壁を提供するものである。それらは、むしろ、よく知られた類似のオーバコー ティング（たとえばガラス製）のように機能し、良好な機械的保護を与えるもの である。（たとえば、指の爪による隙りのような、明確な切断動作に対する抵抗 は、必要とされていないが、ディスクを軽（挾むことを許容している。

） ［従来のハードな外側コーティングコ 当業者は、類似の保護コーティングに関して、様々な物質を考えてきた。たとえ ば、溶融シリカ（Ｓｉｏ２もしくはＳｉ　Ｏ）のようなガラス製のオーバコー１ −を提唱することは、−膜化してきている。しかしながら、この目的（ＯＤディ スクなど）に対しては、これらは不適当であると思われる。たとえば、それらは 、典型的に空隙が多く、あまりにも多く吸湿する。したがって、膨潤しやすく、 クラックを生じゃすいく特に既に）ホベた極限の温度／湿度４ノイクル試験にお いて）。また、このような湿度による汚れは、光学的特性を悪く低下させる。ま た、それらは、望ましい真空蒸着に対して最適のものではない。（たとえば、数 ミルもしくはそれ以上付着するのは実際的でない）このような無機オーバコーテ ィングの他にも、同様の状況での保護のオーバコートを与えるために、特定の有 機物質を考慮されもした。たとえば、既に述べたように、成る者は、これに対し てシリコンゴム、もしくは類似のエラストマのポリマを使用することを考えてき た。たとえば、いくつかのシラスティクス（ｓｉｌａｓｔｉｃｓ　）は室温で便 宜に硬化させることができるが、硬化の間、酢酸のような有害な汚染物が、典型 的に遊離してくる。（もしくは、米国特許第４．３３４．２３３号のプラスティ ックシートを参照されたい） 同様の特質において、我々は、色々なフッ素化ポリマを用いることを検討してき た。しかし、企画した厚み（６から８ミル）の点で、典型的なフッ素化ポリマの 付着方法は、好ましくなかった。たとえば、典型的に、あまりにも多くの溶剤を 消散する必要があった（溶剤の消散、およびそれに関連した収縮などについては 、以下の問題を参照されたい）。さらに重大なことに、これは、全くあまりに強 い（約３９０℃において）硬化加熱を含んでいる。ところが、この対象となるＯ Ｄディスクおよびこれに関連した塗膜は、約６６℃以上で変わらずに残存するも のではないくたとえば、有機の軟らかいフッ素化ポリマのオーバコートおよび吸 収体層のような塗膜は、破壊されてしまい、および／または、成分が移動してし まうなどする）。さらには、このようなポリマは、ごみの付門やすい粘着性の表 面を示しがちであり、対象の読出／書込波長（参照：　６００−９０ＯＮ、メー タ）において、最適に透明であるとは考えられない。

また、このようなハードな保護オーバコートに関して、様々の溶剤をベースとし た（溶剤を用いた）エポキシのようなポリマが検討された。しかしながら、これ らの乾燥く硬化）は、比較的大きな割合の溶剤の消散を含んでおり、また、おそ らく大きな問題となる収縮も伴うてあろう。これらは、特に、このような設計の 厚みの］−ティングに関し、これらの材質には不適当であると思われる（また、 泡などが、この材質によるこのような塗膜において多分発生するであろう）。

また、ＲＴＶ−６（Ｇ２社製〉、もしくはエポキシのような種々の２成分の硬化 ポリマも企画された。しかしながら、これらは、典型的に比較的に高い粘度を有 しているため、やや用いるのが難しかった。（素早く、滑らかに応用できるよう に、十分に軟らかくするため、多分問題となる、加熱もしくは希釈化が必要であ ろう。たとえば、希釈したＲＴＶ：例、Ｓ　ｙｌａａｒｄｌ　８４およびｌ）ｏ ｗ　Ｃ０ｒｎｉｎ（＋　２００）それらは、また、典型的に、ガス扱けの問題を 有している。さらに、比較的ゆっくり、しかも比較的高い温度で硬化する。（た とえば、約６６゛Ｃで、そして、そのＪ：うにしても、しばしば硬化した材質は 、粘着性の表面を示し、引掻き傷や皮むけなどを示しがちであった。さらに、こ のような材質は、典型的に可使時間が非常に短い（１日くらい）。しかも、他の 応用上の欠点があった。

この好ましい照射硬化エポキシ−アクリルポリマは上述のような問題がないよう に思われる。たと゛えば、溶剤を必要とせず、室温でも短時間で硬化する。

［ハードオーバコートに好ましい材料］したがって、これまで述べてきた類の化 学的塗料は、好ましくないものである。照射硬化するアクリル−エポキシのタイ プのポリマ（アクリルモノマ、もしくはプレポリマの混合物と種々の添加剤を有 したエポキシ樹脂。後で議論する混合物Ｔ−１に類似のもの。）を用いて、試み た。適当な応用により（たとえば、渦巻の技術、適当なセツティング界面活性剤 および適当な溶剤による平滑化など）、このようなオーバコートは、（はとんど 、必ずもしもすべてでないがン以上述べた条件を満足させることができた。他の 材質はほとんどそのようなことはないにもかかわらず。

したがって、この開示の目的は、このような照射硬化するアクリル化エポキシポ リマをハードな保護オーバコートとして、このような光学的データディスクに対 して用いること、および、これと同様に、それらを調製して応用する関連した方 法を示すことにある。

以下に述べるように、好ましい１群のハードコート物質、すなわち照射硬化する ポリマ【ま、エポキシといくらかのアクリル化モノマ（もしくはプレポリマ、づ なわち、オリゴマもしくはさらに重合させた樹脂。ここで、特に主成分は、）内 当なアクリレートもしくはアクリルアミドて゛ある。）好ましいものく混合物下 −１）は、アクリレート架橋剤およびアクリレートのたわみ性付与剤および関連 したアクリレ−１〜の希釈剤およびＵＶ開始剤および清澄化接着促進剤を一緒に 含む適当なアクリル化エポキシド、および好ましくは、さらに適当な界面活性剤 成分を含むものである。また、混合物は、小部分として、１つもしくはそれ以上 の添加剤を含むことができる。（好ましく（よ、たとえば、α−メチルスヂレン 、酢酸ビニル、およびこのように働くもの、のようなＵＶ重合に関係する有機物 ）。

このようなアクリル化物は、明らかにいくらかの理由によって優れている。それ らは、（収縮を起こしがちな溶剤）のような問題のある成分くこの大部分を）を 含んでおらず、また、（過激な加熱のような）問題となる加熱条件を要求しない 。それらは、必要な特性を有するハードなそして光沢のあるポリマのオーバコー トを最終的に、本質的に与えてくれるようである。

そして、このようなアクリル−エポキシ照射硬化ポリマは、他のところで記載し た、望ましいハートオーバコートの要件のすべてを、本質的に満たしてくれるも のであることがわかるであろう。すなわち、それら（ユ容易に結晶化せず、多く の溶剤成分もしくはそれに関連した収縮の問題を有せず、過剰に加熱する必要な く１便利に素早く硬化する。

そして、比較的、塗布しやすい（たとえば、粘度の低い溶液として）。それらは 、崩壊および一般の環境上の成分による攻撃に対して非常に優れた抵抗力を有づ −る。それらは、粘着性を有しないか、もしくはごみの付着を起こさず、ぞして 、（２成分の硬化による）ポリマとは異なっている。

それらは、多くの数および種類の添加剤に対して、適合性を有する（たとえは、 以下の例に示づように、硬化はそれらの影響を受けない。） 要求される硬化照射は、ＵＶ源（適当なλと強度などを有する）に対して数分間 の露光であり、便宜に、そして素早く安価にできるものであり、また、数パーセ ントの低い収縮率を示すようなものである。さらに、コストがあまり重大なもの でないならば、代わりに電子線もしくはガンマ線の照射による硬化を用いること もできる。

硬化も可能である。そして、第１の硬化の方式であれば、成る場合には、軽い補 助的な加熱を用いて硬化を完全に促進することもできる。

［渦巻状の塗布方法］ 関連した特徴によれば、このようなアクリル−エポキシオーバコートポリマはホ ストである基板ディスク上に、その上に平らに分配されるように（たとえば、適 当なディスク回転を伴って、および適当な平滑化剤を含有して）、渦巻の形状で 塗布される。平らに設置され、流れ出ることが可能とされている（あるいは誘導 される場合もある。）。

この表面にわたって、混合物は、異常に平滑で、均一な厚みをもって広げられる 。当業者は、このようなコーティングの技術の簡便さおよび新規な長所を評価す るであろう。

したがって、既に述べた、および他に関連した、特徴および長所を与えることが この発明の目的である。さらに、特定的な目的は、光学的記録層に隣接してソフ トパッド物質を用い、そのラフ１−パッドの上に相対的により固い上塗りコート を設けることを教示することにある。もう１つの目的は、このようなものが、記 録感度を改善し、低いパワーのレーザに適合させ、使用期間を長期化させること を教示することにある。さらに、アクリル化エポキシの材質を用いた、このよう なハードな上塗りコーティングの調製を開示することにもある。もう１つの目的 は、このようなハードなオーバコーティングおよび関連した好ましい材質を提供 することにある。

図面の簡単な説明 同一の参照記号がそれぞれ対応する同一の要素を示している、添付した図面と関 連づけて考察し、この好ましい実施例について次に示す詳細な記述を参照するこ とによって、当業者により良（この発明が理解され、本発明のこれらおよびその 他の特徴と長所は当業者により認識されるであろう。

第１図は、記録媒体の実施例の断面を表わし、この発明の特徴に従って構造を表 わしたものである。そして、第２図は、ここで開示する成る種のオーバコート物 質を塗布する好ましい方法を、まさに図式的に示すものである。

第３図は、第１図の方法の後に示す、変化させた実施例の図である。

［例示的なＯＤ記録；例１（第１図；オーバコー１〜を有する３重層）］ 図１は、記録する３重層丁−りおよび上層の保護的なオーバコート○−Ｃおよび これらを支持する基板ディスク△を含んだ、光学的データディスクＲ８の断片的 な部分を（図式的におよび理想的な様式で）描いたものであることが理解される だろう。ディスクＲｏは、技術的にはよ（知られているように、既知の照射源（ レーザＬ）によって記録されるように意図し、適合されているものであり、その ビーム（想像線で示すＬＢ）を、３重層Ｔ−Ｌの方に向け、その中へ成るビット を記録するようにされており、これらのビットは、所定の組み込まれた検知器（ Ｄ）を用いて、読取られるものである。

読取用のレーザビーム（第１図のＬＢ）の波長は、ディスクＲｏの記録されてい ない領域が、好ましい非反射状態を示すように選択される。読取用ビームの強度 は、ディスク上に記録されたデータの完全さを乱すことがないようにできるだけ 低く保持される。基板Ａは、滑らかな層Ｂを有した、必要であればその上に塗布 した、比較的よく用いられる磁気記録ディスクからなることが好ましい。３重層 Ｔ−りは、反射フィルムＣ１およびその上の透明なスペーサ層ｄ、およびスペー サ層ｄの上に重ねた、適当な吸収体もしくは記録フィルムｅからなることが好ま しい。

したがって、反射した読取ビームは、データの記録されたビットの位置で、光学 的に検知され得る変化によって強度が変調されることが理解される。したがって 、読取ビームは、１つのピッ］〜の上に入射したときは比較的高い反則を受け、 書込みのない領域の上に入射したときは比較的低い反射を受ける。保護手段Ｏ− Ｃは、その上の表面の塵の粒子を光学系の焦点面から遠ざけ（すなわち、焦点の 外に置き）、記録および読取りの走査の際に無視できる効果となるように、選択 され、配置されたハード／ソフト合成のオーバコートである。

レーザビームが、−与えられたビットの位置で吸収フィルムｅに「書込む」　（ すなわち、「記録」して、薄いフィルム状の吸収体層Ｃの反射率に光学的に検知 可能な乱れを生じさせる）には、所定のくＲ低の）書込温度（ＴＷ）まで加熱し なければならないと一般に考えられる。最低温度ＴＷのレベルは、吸収体Ｃの性 質〈たとえば、厚み、冶金学上の性質、微視的な構造、など）および下にあるス ペーサｄの性質、およびそれらと同様にスペーサ層ｄと吸収体Ｃの間の、および 多分オーバコートＯ−Ｃと吸収体ｅとの間の界面性質に依存するものと思われる 。

ヒツトの位置（この上に書込レーザビームの焦点があわられる）に書込むために は、この必須の最低の記録温度ＴＷに達するまでの、成る限定された時間が必要 と思われる。

しかしながら、ビットの位置が加熱されている間、供給さ多分Ｏ−Ｃを通っても ）逃げて行き浪費されるものと考えられる。そのような熱の失われる範囲の分ま で、もちろん、書込みのために、時間５．′エネルギのより高いことか要求され る。すなわち、記録感度Ｃま釣り合うように落とされる。

また、そのような熱の損失は、記録特性を低下させ、したがって、与えられた媒 体に対する記録密度も減少させる。

［３重層のスペーナとしてのソフトパッド；好ましい材質］ 強いて言えば、誘電性のスペーサ層ｄ　（第１図）としては、特定のソフトパッ ド（たとえば、フッ素化炭化水素ポリマ）を用いることが好ましい。このような ソフトパッドのスペーサは、書込みのエネルギの損失を減少させることができる と思われる（すなわち、ビットの位置から書込エネルギが逃げ出すのを少なくす る）。

好ましい材質としては、フッ素化ポリエチレン、もしくはその他のフッ素化ポリ マ、もしくはコポリマである。たとえば、デュポン社の商標であるテフロンとい う名前で、工業的に利用されるものが挙げられる。このようなフッ素化ポリマは 、よく知られているように反射層Ｃの上に薄い均一な膜として付着させることが できる。

［３重層丁の調製（第１図）］ 約６００−９００　Ａ（７）金ノヨウなく好マシ（ハ、６０ｏ入に蒸着した）良 い記録の反射体は、アルミニウムディスクＡ１好ましくは、この業界においてよ く知らたように、下塗り層Ｂによって適度に滑らかにされたアルミニウムディス ク△の上に反射体Ｃとして用いられる。価格を下げることがめられ、記録性を妥 協づる場合１ｊ　ｉｔアルミーウムを金に置き換えてもよい。

反射体Ｃは、コーティング間隔およびより高い均一性を保証するための基板の２ 回転を可能にする、大きな回分式コーティングチャンバ内で、高真空下で蒸発さ れる。各部分の上のすべての埃および汚れは、精密なりリーンルーム技術を用い ることによって、厳密に最小にしなければならない。

スペーサｄも同様に、反射体Ｃの上に設置される。この実施例において、スペー サｄは、レーザスペクトルの可動範囲内において、相対的に透明である誘電性の 物質が用いられている。フッ素化ポリマのソフトパッドの厚みは、その主な目的 から波長（レーザＬ）の４分の１であることが注：光学的な観点からは、スペー サの厚みがｔ　Ｓ　＝　（１／２）ｎλ２である場合消失する。） 吸収体層ｅは、スペーサ層ｄ上に（よく用いられているテルルの吸収体と対照し て見ると、相対的に平滑な（〜≦１／２０にＩ）記録表面上に島状に蒸着成長（ 熱による蒸発で）された、非常に薄い金の層からなっていることが理解されるで あろう。たとえば、［データ記録に用いるテルルのフィルムの光学的性質Ｊ　（ ”０ｐｔｉｃａｌ　ｐｒｏｐｅｒＮｅｓ　ＯｆＴｅｌｌｕｒｉｕｍ　Ｆｉｌｍｓ 　ＵｓｅｄｆｏｒＤａｔａ　Ｒｅｃｏｒｄｉｎａ”）アッシーＬ　（Ａｓｈ）　 、アレン（Ａｌｌｅｎ）著、５ＰｆＥ会報。

付２２２，１９８０；および［テルルの光学的データディスクの段別と製造ｊ　 （”［）Ｏ３ｉｇｎ　ａｎｄ　ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ　ｏｆＴｅｌｌｕｒｉｕｍ 　０ｐｔｃａｌ　Ｄａｔａ　Ｄｉｓｋｓ”）ランコート（ｒａｎｃｏｕｒｔ）著 、５ＰＩＦ会報、＃２９９，１９８１　；もしくは米国特許第４，２２２，０７ １号もしくは米国特許第４，３３４，２９９号を参照。」 ここで、ガスレーザビーム（Ｈｅ　−Ｎｅ　）を用いて６３２８Ａで、記録露光 を３０から４７　Ｏｎ、ｓｅｃで操作させるとする。［一般には、１０　ｍＷ、 　４０　ｎ、ｓｅｃ、もしくは約４００ｐ、Ｊ、で用いる。これは、同一のもし くは類似のレーザ装置を用いて、より低いパワーたとえば、１５０−５００　ｐ Ｊ／ｃｍ２（こコテ、ｐＪ＝１０−１２’）ッ１秒’ｂしくはジュール）で読ん だとき、最小の適切な読出し、もしくは約４０６ＢＳ／Ｎを与えるものである。

注：この企画の構成にでは、レーザビームは、１／２から１ミクロンの直径（′ ？ｌなわち、５０００−１０．０ＯＯＡ）（１）ビットの位置に焦点を合わされ 、書込みのパルスは約４　Ｏｎ、ｓｅｃの長さであると思われ、また、ディスク の回転は１８００ｒｐｍに調整され、ガルボ−ミラーの焦点の特性に合わされて いる。

したがって、スペーサ層ｄ　（たとえば、ダーク　ミラー装置の中の）は、好ま しくは、反射体層の上に蒸着され、さらに、その上には立ち代わって吸収体（記 録）層がイ」着されている、ソフ１へパッドからなる。スペーサ層は、このよう に付着して設けられたくたとえば、約１１００Δの厚みの）フッ素化ポリマから なり、企画した読み書きの波長に対して高度に透明で、反射体層を吸収体層から 離し、良好な熱的および機械的絶縁を与えるようなものであることが好ましい。

く反射体は、曲型的な熱伝導の高い金属であり、吸収層から記録エネルギを断ち 切って、その効率を低下させる、熱の逃げ道という他の触きをすることに注目し なければならない。） したがって、以下で述べるように、テトラフルオロエチレンのプラズマ重合によ り調製されるポリテトラフルオロカーボン（テフロン）のような、（真空蒸発さ れた）フッ素化ポリマが一例として好ましい。これに代わって、ＰＶＦを用いる こともできる。

［注：これは、スペーサとしてよく用いられているハード　シリダ−１−コーテ ィング（シリコンオキサイドもしくはシリコンディオキサイド、たとえば溶融シ リカ）と区別される。〈たとえば米国特許第４，１９５，３１２号もしくは第４ ．１９５，３１３号もしくは第４，２１６．５０１号　３ｅｌｌら）、もしくは ［テルルの光学的デーダディスクの設計と製造Ｊ　（”Ｄｅｓｉｇｎ　ａｎｄ　 ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ　ｏｆＴｅｌｌｕｒｉｕｍ　０ｐｔｉｃａｌ　Ｄａｔａ　 Ｄ　ｉｓｋ　”　）　Ｊ　、　Ｒａｎｃｏｕｒｔ著、５ＰＩＥ会由；レーザ走査 技術の進歩（Ａ　ｄｖａｎｃｅｓ　ｉｎしａｓｅｒ　５ｃａｎ　Ｔｅｃｈｎｏｌ ｏｏｙ　）　５７頁、２９９Ｗ、１９８１と比較される。］ 関連しノ；付着方法を含む、このようなソフトパッドのスペーサの材料は、特に ＯＤディスクに適当である。また、さらに特定的には、このレーザの装置による 低いエネルギの記録（たとえば、＠ｅ−Ｎｅレーザによる５−５−２Ｏ／　４０ 　ｎ、ｓｅｃ、パルスでの書込みのような一参照；２５ＭＨ２の速度で）に、特 に便宜である。

レコードＲｏ　（第１図）は、以下のようにして記録される。（文献などの中の 比較し得る状態に関し、）相対的に中間的なパワーのレーザパルスは、相対的に 騒音なく、の反射が１−３％に対し、ビットの反射が〜５０％となるような）良 好な読出しを与えるのに十分なように、金の島状フィルムを加熱し凝集させるこ とのできることがわかる。

フッ素化ポリマのような有機物質を薄い層で、アルミニウムフィルムの上に再構 成し、高真空で蒸発させるという、この好ましい方法はよく知られている。（参 照：ランコールト（Ｒａｎｃｏｕｒｔ　）の論文によると再び再類似の積層をす る） このような好ましいフッ素化ポリマは、一般に脂肪族の構造を有しており、水素 が部分的にもしくは全体的に、フッ素に置き換えられている。両者ともに、デュ ポン社より商標テフロンとして販売されている。これらは非常に不活性であり（ 反応性の化学薬品に影響を受けない）、企画する極限の温度や湿度の条件下でも 、化学的にまた機械的に全く安定している。これらの銹電定数は低く、十分に結 合しているものと思われる。

この目的に関して、感度は、書込エネルギＦＷによって特性付けられるものと理 解される。すなわち、レーザビームは、記載した最小の読出しを与えるに十分な ように、反射率（もしくは続出特性のようなもの）を変化させなければならない 。

この技術分野においてはよく知られているように、焦点の合わされた書込ビーム の露光の時間および強度は、必要な読出特性などくたとえば、適当な対比のよう なもの、Ｓ、／Ｎ比）を与えるような反射率の指示した変化を起こさせるよう、 吸収体層ｅの温度を十分に上昇させるものでなければならないことが理解される であろう。［参照：約１５ＭＨｚのバンド幅に対して、例示的なＳ／Ｎ比として ＲＭＳノイズに対してピークからピークのシグナル）４０−５　ｄＢ レーザ記録は、第１図に関連して言及した一般的なタイプの装置を用いて、１分 間に２４００回転で、結果としての光学的媒体の上になされる。ヘリウム−ネオ ンレーザ（波長０．６３３μｍ）は再び記録に使用される。媒体フィルム９８上 の、焦点を合わされたレーザビームのスポットは、大体０．５μｍである。この ような記録の結果としての感度は従来の方法によってもたらされるものよりも良 （、非常に良好である。

さらに、フッ素化ポリマは、相対的に低い屈折率〈溶融シリカ約１．５に対して 、約１．３；最適条件よりもいくらか高い値である）を持った良好な光学的に明 るい層を与える。

当業者が認識するように、プラズマ重合もしくは他の技術による付着も、特定の 場合には、可能である。

また、このかなり厳重な必要条件を考慮して、その選択はいくらか制限されるの であるが、他の種類のソフトパッドポリマを、真空蒸発によって同様に付着させ ることができることを、当業者は企図するであろう。好ましい材料および厚みは 、非常に多枝にわたることがわかっている。たとえば、多くの場合、このスペー サの厚みもしくは材料を変えずに、違った吸収体の金属を用いることができる（ もしくは以下述べるように、ソフトパッドオーバコードについて〉 ［吸収体上のスーパーコーティングとしてのソフトパッド］ すでに述べたように、吸収体層のすぐ上に緩衝的なスーパーコーｔ−（Ｊ［リコ ート）として、このようなソフトパッド層を用いることは好ましい。たとえば、 それを熱的におよび機械的にさらに遠（に隔離する場合、特に、吸収体のすぐ下 に同様のソフトパッドがあるような場合に好ましい。たとえば、この助けによっ て、書込エネルギが保存され、一方、書込みの加熱の際に、金の島状環をさらに 自由にして、移動もしくは形くずれを可能にするものと思われる。（たとえば、 従来のシリカのスーパーコートは、これに対し非常に収縮し、隙間を形成する。

）どちらを勘定に入れても、感度は高まるはずである。

以下述べる場合について、このようなことが見い出されるはずである。

吸収体の上の、接触しない！Ｉｉｉ的なスーパーコートとしてソフトパッド層を 用いた場合、この教示の顕著な特徴は、ソフトオーバコートに、以下詳述するよ うな、アクリルエポキシなどのハードな障壁層を順にオーバコートすることにあ る。このようなソフトパッドスーパーコートは、次のような特性（第１表）を好 ましく示づことか明らかである。

第１表 ソフトパッドスーパーコートの長所 １、　光学的な適合性：　（Ｒ／Ｗ）λにおける良好な透過性 ２、　良好な均一な厚みおよび表面の平滑性：３、　中から弱に至る吸収体への 接着：ホール書込みおよび吸収体の関連した形の崩れまたは／および移動に対し 、はとんどもしくは全く抵抗を示さない。

−−さらに、ゆずはだ（ｏｒａｎｇｅ　ｐｅｅｌ　）　、起こしくｌｉｆｔｉｎ ｇ）９層剥離などがない。

４、（ハード）オーバコートに対する強い接着：５、　企画した環境の下におけ る安定性：くすなわち、温度および湿度、汚染などの変化にもかがねらず）：た とえば、ホール形成の位置に隣接していても、与えられた温度を下げることなく 維持する；また化学的に安定である；たとえば、硬化の際、もしくは長期にわた る極度の温度および湿度のザイクルの条件下でも、溶剤もしくは他の汚染物を放 置することはない。

６、　相対的な軟らかさ：＃３に示したような移動／形の崩れを許容する。〈ハ ードオーバコート以上にがなり）ビットの書込みにおいて、オーバコーティング （Ｓ）からの感度の最小限度の低下をもたらすように十分に厚い。

７、　良好な熱的絶縁体：たとえば、低い熱拡散性、低い比熱；製作の、および 書込みの温度を残存している。

さて、他の者によって、このような吸収体対する、ある種のポリマによるスーパ ーコーティングが、提唱されてきた。たとえば、米国特許第４，１０１，９０７ 号ではシリコン樹脂が提唱されている。（たとえば、ジェネラルエレクトリック Ｑｅｎｅｒａｌ　Ｅ　１ｅｃｔｒｉｃ社のＲＴ−Ｖ　６１５もしくはＲＴＶ６０ ２であり、これらは、成る種の硬化剤を用いて室温で硬化させる。；もしくは、 ダウコーニング（Ｑ　ｏｗＣｏｒｎｉｎ（］）社のＳ　ｉｌｇａｒｔ　１８４− 一たとえば、チタニウムの上に用いるために、これらが提唱されている。）好ま しくは、ＳｉＯ２もしくは成る種の複合した有機金属化合物の障壁層の干渉とし て用いる。

［他のソフトパッドの実施例コ 特定の場合には、別のソフトパッドスペーナを用いることがよく知られている（ たとえば、他の相対的に柔らがな、相対的に反応性の低い、安定な、永続性のあ るポリマ。変性フッ素化ポリマもしく１よポリエチレン、ポリプロピレンもしく はスチレンのようなもの。これらは、類似の様式で、典型的に分解され重合され る。）。これらのものは、同様にして、ソフトパッドスーパーコートにも用いら れる。

また、特定の場合には、他の付着方法を用いることも可能である。グロー族Ｎ（ 特に、フルオロカーボンに対して）もしくはスパッタリングのようなプラズマ付 着技術である。

特に、ここでは化学的分解は起こらない。さらに、光学的吸収体を、たとえば、 他のもっと互換性のある、感度の高い、薄いフィルム状の、熱伝導性の低い材料 などと交換することもできる。これらは、またソフトパッドとよく接合する。さ らに、このようなソフトパッドの伯の使用および他の応用を行なうこともできる 。

［好ましいオーバコートの実施例；ハード／ソフト　オルバコードＯ−Ｃ］ 第１図のディスクＲｏ　（小部分のみを図式的に示したにすぎないが）は、以上 述べた特徴の最も好ましい例を図示したものである。特に、吸収体く光学的記録 フィルム）の上をカバーする、ソフトパッド層の上に用いられるハードオーバコ ートについて（一般的に）示したものである。すなわち、新規なハード／ソフト オーバコーティング構造Ｏ−〇について示したものである（参照：第１図、基板 Ａ上に応用される、０ＤＤ３重層Ｔ−Ｌの一部である吸収体ｅの上の、ソフトバ ンド層ｆおよびハードコートｇ）、、この図を参照しながら、以下説明する。

特に、他のものとして記載したちのを除き、（ここで、およびすべての実施例に おいて）、すべての材料、方法および装置および器械は、この良好な実施に従い 、上述のもしくはその他よく知られている手段として用いられるものであること が理解されるであろう。この明細書の途中においては、成る状況の下では有用で あることがわがっている変形についても指摘されるであろう。

［基板］ 好ましくは、基板は、必要な場合には、その表面を十分に平滑にするように、平 坦化もしくは下塗り層Ｂで処理されたようなディスクＡの表面である。したがっ て、基板△は、コンピュータの媒体用の市販の磁気記録ディスクのような、あり ふれたウィンヂエスター　ディスクのようなものが好ましい。これは、アルミニ ウム合金からできており、典型的に、ディジタルデータの高速磁気記録用のディ スクとして調製されるものである（たとえば、コンピュータメモリ　システムと して用いられているような）。周知のようにこのようなディスクの表面は、一般 には磨かれており、ダイヤモンドによる研磨、もしくは他の方法で平滑にされて いる。適当なガラスもしり（ヨブラスティックのディスクを代わりに用いること も可能である。

゛下塗り″層Ｂは、裸の、よく洗浄されたディスクの表面に設けられることが理 解されるであろう。°“下塗り″は、有機物質からできていることが好ましい。

基板△の表面の微視的な不規則性を滑らかにして、ホールのサイズ以下にするた めである（たとえば、直径で０．５μｍか、もしくはそれ以下）。たとえば高度 に研磨されたガラスのディスクを用いる場合など、のように、既に十分に表面が 平滑な場合には、知られているように、下塗り層を設ける必要はない。

したがって、基板は、良好な表面の平滑性を有しており、約１８００（から数千 に至るまで）　ｒｐｍで操作されるような１４インチディスクからなることが好 ましい。

所定のエネルギおよび波長の照射〈レーザ）ビームは、レーザ源りから媒体Ｒ８ に対して与えられることが理解されよう（参照：第１図）。このような照射ビー ムは、書込みの際、記録層ｅの上に、設計どおりの読出しが可能となるような光 学的な異例のようなもの、もしくはホール、ビットを段けるよう、書込タイムに おいて活性化され、かつ焦点を合わされる。たとえば、さらに特定的には、直径 ０゜８μｍ　（すなわち、８０００Ａ）（７）１０　ｍＷガウスノヒビーを、４ ５　ｎ、ｓｅｃ’、で走査し、成る最小の長さおよび幅、たとえば０．８μｍ２ で光学的な遷移を形成することができる。しかしながら、その形状は四角形、円 形もしくは他の形状である必要はない。ここで、この要求は、従来の手段に対し ては、非常に厳しいものであることが、当業者は、わかるであろう。〈たとえば 、記録保存用レコードに対して〉 ビット（ビット）の記録された場所では、高い］ン１〜ラストの続出バックに適 合する、ビットのマークを生じるように、非反射のパックグラウンドが崩壊する 。そして、記録波長がシフトした場合、同様の結果を得るために、躊躇なぺ、ス ペーサの厚みが変えられる。この同調された構造（３重層もしくはダークミラー ）において、表面の反射率（吸収体ｅ）は、吸収体の厚みおよびスペーυの厚み を調整することによって、ゼロもしくは他の選択された値を示すことができる。

（３重層は、光学的同調に適合するような厚みをもって、１而の上に吸収体、他 の面の上に反射体を持った透明なスペーサからなることがわかるであろう。）し たがって、ここでコーティングのパラメータは、書込ビームがこの吸収体層の上 に焦点を合わせたときに、コートされたディスクに対し、設計された記録周波数 において非反射の条件を好ましく与えるように選択されることが理解されるであ ろう。（上述の参考として：［光学的記録に関する非反射構造Ｊ　（”ＡｎＮ− Ｒｅｒｌｅｃ口ｏｎ　３　ｔｒｕｃｔｕｒｅｓｆｏｒ　０ｐｔｉｃａｌ　Ｅｅｃ ｏｒｄｉｎｇ”）　、Ｂｅ１ｌ　、５ｐｏｎｏ著、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｑｕ ａｎｔｕｍ　Ｅ　１ｅｃｔｒｏｎｉｃｓ、　Ｑ　Ｅ　１４巻、Ｎｏ、７゜Ｊｕｌ ｙ１９７８；−一般的な先１１技術に関しては、典型的な文献を参照されたい： ［光学的ディスクシステムのイマージ」　（○ｐｔｉｃａｌ　Ｄｉｓｋ　Ｓｙｓ ｔｅｍｓ　Ｆｍｅｒｑｅ　Ｊ　、Ｉ　Ｅ　Ｅ　ＥＳｐｅｃｔｒｕｍ　、　Ｂａｒ ｔｏｌｉ旧ら著、　Ａｕｇｕｓｔ　１９７８．２０頁；および「光学的貯蔵物質 およびその方法Ｊ　（ＯｐｔｉｃａｌＳｔｏｒａｇｅ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　ａ ｎｄ　Ｍｅｔｈｏｄｓ）　、　Ｓ　Ｐ　Ｉ　Ｅ会報。

Ｖｏｌ、　１７７、０ｐｔｉｃａｌ　Ｉ　Ｎｒｏｒｍａｔｉｏｎ　Ｓｔｏｒａｇ ｅ、　１９７９．５６頁） ［記録部分（ダーク　ミラー　タイプ）コディスクＲｏの記録部は、この技術に おいてよく知られているように、下に適当なスペーサ層（ｄ　）を有し、そのス ペーサｄの下に反射層（Ｃ）を−緒に有している、吸収体層（ｅ）として表わさ れる。ここでこの開示の伯の観点として、このような層（ｃ　、　ｄおよびｅ） は、単一の高真空チャンバ中において、適当な材料によって、続いて行なわれる 蒸発的コーティング操作によって設けられることが好ましい。さらに、上述した ように、ソフトパッドのＡ−バコーティング（ｆ）をともに有していることが好 ましい。

これに代わって、これらの応用として、適当なプラズマ重合技術、もしくはここ に述べるタイプ′のフィルムを製作するための、その他の適当な方法を用いるこ とができるかもしれない。共通の付着装置を用いた、一連の好ましいイ」着を行 なうことを可能とする材料および技術を教示していることを、当業者は効果的な 特徴として認識するだろう。

（たとえば、特にスペーサ層ｄおよびソフト　オーバコーティングｆの両者とも にソフトパッドのようなものでできている場合）。

反射層Ｃは、これまで述べてきたような蒸着による金もしくはアミニウムのよう な反射率の高い金属の層からなることが好ましい。たとえば、層Ｃを通して眺め て、設計した照明の下で、層Ｃがちょうど不透明となるまでに、付着させる。（ よく知られたことではあるが、蒸発法により反射体を製造する場合において、あ まりに厚く付着すると、反射体はその反射率を低下させてしまう）。知られてい るように、設計したＲ／Ｗの波長において、十分に高い反射率を与える場合には 、時折、他の金属を用いることかできる。他の選択としては、交互の高いおよび 低い屈折率の誘電体フィルムを用いることおよび波長の４分の１の反射体を用い ることである。

スペーサ層ｄは、反射体層Ｃおよび吸収層ｅとの関連において、３重層の集合体 の反射率をＯにまで、もしくはその他の予め決められた反射率の値にまで減少さ せてしまうように機能すべく意図されている。好ましく用いられる物質は、相対 的に吸収かなくかつ意図したＲ／Ｗの波長において高度に透明である。スペーサ ｄの厚みはその光学的な性質および、この３重層の中の他の層のそれらにい依存 しているであろう。好ましくは、波長の４分の０．５かＩう１゜５の厚みが用い られる。これに代わって、当業者が理解づるように、半波長の数倍の厚みのもの が加えられることもできる。（注：光学的な観点から、スペーサの厚みが［。

−（１／２）ｎλｒの場合に消失する）層ｅは（第１図）、作用する入射した書 込エネルギが集中することが予定されている、吸収フィルムである。

［オーバコート部］ ソフトパッド　コーティング　ｆは適当な厚み（たとえば、数１０００人）のフ ッ素化ポリマからなる（たとえば、好ましくは便利なものとしては、スペーサ層 ｄに関してと同じように物質および付着方法を用いることができる。）。

好ましくは、上述したように、吸収層ｅの上に形成し、付着させる。最も好まし くは同一の全体にわたる連続イ」着に置く。参照：便宜上、３重層Ｔ−Ｌと一緒 に。

３重層を用いる場合、層「が１もしくはそれ以上の半波長の厚みとなるように検 知しコントロールするのが便宜である。当業者が理解するように、いくらかの半 波長の厚みは、光学的にソフト　オーバコーティングを見えなくし、吸収層に示 された読出／書込　エネルギの反射をなくする（これはシステムの効率を低下さ せるであろう）。

ソフトパッド　スーパーコーティング［は、寸分にソフに絶縁性であり、相対的 に低い比熱を有し、上述したように意図したＲ　％　Ｗ　波長（λｒ）に対して 高度に透明てあろう。また、上のハード障壁層と強く結合しているが下の吸収体 とはむしろ緩やかに接合している（たとえばパッドとともに相対的に反応性の低 いことが好ましい）Ｑまた、もちろんフラッシュインターコーティングを用いる こともできる。また、化学的に安定で、適合性を有しくレコードＲｏに汚れをも たらさない）かつ、隣接の層に対して熱的におよび機械的に適合することのでき るものでな（プればならないくずなわち、隣接の層と吸収層ｅおよびハードコー トｑ、）。また理想的には、コスト面からも効果的であり応用が便利である（た とえば、層ｃ、ｄ、ｅに対してと同様の積層方法および装置を用いることができ る）。

他の同様な物質（たとえば、プラズマ重合されたフッ素化ポリマのようなもの） が、特定の場合には適切なこともあるが１．Ｆ述したフッ素化ポリマ物質が、必 ずしもではないが、このような厳しい条件（第１表にまとめたような）に最も良 （合うことがわかる。さらに、両側で吸収体を挾んだソフトパッドの場合には、 このようにして与えられる熱的および機械的な孤立が例外であることかがわかる であろう。

接触するコーティングに対する適合性および結合を最適にするために、さらにソ フトパッド　オーバコーティングｆを処理することが必要である（たとえばその さらされた表面とハード　オーバコーティングとの接着を高めるために、または ／゛および、下の吸収体層との結合を弱めるために）。たとえば、ソフトパッド のさらされた表面に成る種のプロモータを応用すると、以下に述べるような照射 硬化のアクリル樹脂のようなハード　オーバーコーテイングｇの濡れなどを助長 するのに好ましいことがわかった。

このようなプロモータは、明らかに水分の吸湿を減少させ、ソフトパッドの表面 エネルギＥ、を上昇し、基板７．′コーティング系の自由エネルギを低下させる ことができる。濡れおよび、ＴＦＥもしくはＦＥＰのラフ１ヘパツドの表面上の 極性基に関連して付与されるヒドロキシル親和性を、助長覆ることが好ましいか もしれない。メチルメタクリレート。

もしくはＭＭＡはこのようなく両立性の）極性基を有している。このような極性 基の付与は、プラズマ〈枝分かれの）重合（たとえば、ＭＭＡの場合１０十分間 ）によってもしくはプラズマエツチングによって、もしくはそれに類似のものに よって行なうことができる。これに代わって、金属もしくは金属酸化物の光透過 性のストライクを軽でそのようなソフトパッドの好ましいコーティングおよびよ り低いＥｓを得ることもできる（これらはＥ５を高めて濡れを改善する）。ここ で、特徴として、このようなソフトパッドスーパーコーティングは、その上に載 るハードスーパーコートに対して強い接着をもたらし、しかしながら下の吸収層 に対しては相対的に緩やかに結合していることがわかるであろう。吸収体ｅの上 のオーバコーティング０−Ｃの残りの部分（すなわち、外側の部分）は、これに ついて関連した特徴に従うと、ハード　オーバコーティング層　ｑからなってい る。これは以下に述べるアクリルエポキシ樹脂でできている。これは、外部の機 械的保護および（パッドｆとともに）焦点を合わせるのに必要な厚みを与えるだ けでなく、良好な上記の障壁および帯電防止の表面を与える。ハード　オーバコ ート　９に関する好ましい形態、およびこれに関連した調製および応用に関する 好ましい方法は以下に）ホベる。

層ｇ（７）、厚みは、成る範囲内で、使用する光学系に依存する（Ｉ；とえば、 焦点を合わせる目的物における球面収差の修正を含む）。この実施例に関しては 、２００μｍの程度の厚みがちょうど適合していることがわかるであろう。

［結果：（例■、第１図）］ 上記で考案した、ハード／ソフト　オーバコートの実施例（下層の吸収体、３重 層などと共にソフトパッドの上に何着される、下記の混合Ｔ−１におけるような アク１ノルイヒエポキシ樹脂では）は、以上）ホべた他の好ましい特性（たとえ ば、第１表）を示すとともに、驚くべき良０感度を示す（たとえば、吸収体の上 に厚いＳｉｏ２のオーバコートを設（プたような類似のレコードに対して優れて ０る）。

もちろんこの実施例はむしろ一般的なことを記載していることが理解されよう。

ハードおよびソフトパッドコーティングの物質、積層などの詳細については他の 部分に示される。（参照：以下のハードの例■など）ハード／ソフト　オーバコ ーティングは、溶融シリカのような一般のコーティング（複合していない）に比 べて優れていることがわかるであろうくたとえば、必要な書込コニネルギを低下 させ、より長くさせる。特に水分の取込みに関して言えば、より良い環境安定性 を与える）。

ハードオーバコートは、結果として、ソフトパッドとの良い結合（たとえば、そ れへの十分な結合）を与えるだけでなく、保護的なオーバコートとして期待され 得る一般的な性質（たとえば、硬さ、耐摩耗性、非粘着性を与える）。

さらには、（たとえば、埃、油、指紋などによるものを）容易に洗浄でき、明る く、λいに対して透明である。また、水蒸気、酸素などの汚染物の透過性も低く なる。

このようなハードコードの物質は、スピンコーティング（この良好な実施に従っ て）によって、もしくは当業者にとって公知の適当な方法によって付着されるこ とが好ましい。（たとえば、−例として、スプレーコーティング、チップコーテ ィング、フローコーティングもしくはカー−フィンコーティングをこれに代わっ て用いることが可能である）。以下に述べる照射硬化のアクリル−エポキシ　コ ーティングは多くの場合の例示であることが理解されよう。

ハード／ソフト　オーバコーティングのための他の物質：適当な例におい′て、 他のソフトパッド、および／または、ハード　オーバコート材料は、ここで説明 する好ましい実施例の示づ機能のいくらかあるいはすべてについて影響を与える ものであることを理解するだろう。たとえば、成る場合には、ハードオーバコー トはアクリルエポキシ（ソフトパッドの上に積層されたもしくは逆の形態の）の 既に形作られた透明なシートして与えられる。また、成る場合には、ソフトパッ ドはハードコートの接着剤として股【プられる。

し好ましいハード　オーバコートの材質コ前記を拡張し、特に、先に議論したよ うな保護的なハード、オーバコーティングに用いるのに驚くほど適した１群の物 質を次に記載する（すなわち、第１図のＯＤディスクの上のソフトパッドの上に さらにコーティングするものとして）。その後に、ＯＤディスクもしくはそれに 類似の基板に対して用いるハードコーティング物質に関する、好ましい新規な関 連した技術について述べる。

例Ｉ−Ａ：（例■のだめのコードコーティング：調製。

応用、硬化） この例では、実施例■に用いる、好ましく照射・硬化されたアクリル−エポキシ のハードコーティングの混合物ニー１の調製および特性について記述する（実施 例■吸収体の上にコートしたソフトパッド上に）。また、これの基板への応用お よび現時点における硬化の一般的な方法について記述する。後では、これを上述 した光学的データディスクに付着するための特別のより好ましい方法の詳細につ いてさらに記Ｊする（第２図に関連して以下の記述を参照されたい）。

光学的ディスクに対づる望ましいハード　Ａ−ハコ−１〜は、保護層（媒体を埃 の汚染および環境上の崩壊などから保護する）としての機能だけでなく、高い光 学的伝導性、感度における最小の影響および媒体のＳ／Ｎ性能イｆどの他の性質 をもたらすことを当業者は納得するだろう。ＵＶ硬化コーティングは、従来の熱 硬化コーティングよりもさらに工業的に利用され１ｑるものである。なせなら、 たとえば、ＵＶ硬硬化−ティングは、硬化サイクルが速く、エネルギ消費が少な く、環境に及ぼず汚染も少ない（問題になるような溶剤の放出がない）。埃を寄 せつけないので〈帯電しないので）、非常にきれいである。さらに、Ｒ／Ｗ／ｌ に対して高度に透過性を有し、非常に強く、いくらか撓み性を有し、ソフトパッ ドに対してよく接着し、光学的Ｒ／Ｗ性能を悪く低下させることもない。さらに 、湿度／温度のサイクルにもかかわらず、良好な機械的な完全さを有している（ たとえば、脆いとか、容易に破壊するとかいうことなく、内部応力によって剥離 したり曲がったりすることがない）そして、良好な耐摩耗性を有している。

一般に、ここでは、ＵＶ硬化コーティングは、不飽和樹脂、不飽和上ツマおよび 光開始材からできている。それらの成分の構成はあるいは他の、それらの成分の 割合およびそれらの役割についての機能の完全な理解が必要である。

室温において、その他は標準状態で、保護的なハードオーバコーティングに用い るために次のハードオーバコートのプレポリマの混合物Ｔ−１を調製し、約７− １０ミルの厚みて、前述した特性を持つように均一に塗り、前述の光学的データ ディスク表面上で硬化させる。

この表面は、適当に処理されたアルミニウム基板ディスク（たとえば、その上に 上塗りすることにより平滑にした）の上に３重層の光学的マトリックスを設け、 さらに続けて薄くプラズマ重合し、ソフトパッドを重ねてコーティングした（ソ フトパッドフッ素化ポリマによる）である。したがってこのようなフッ素化ポリ マはここで選択された基板”　Ｃｅ１ｒａｄ　３７０１　”　（アクリル　３６ 　３０−４０化エポキシ樹脂） ＴＭＰＴＡ　（１−リアクリル化モノ　２４　２０−３０マ：架橋用） ２−ＥｈＡ　（モノアクリル化Ｌ）　３６　３０−４０マ；たわみ性付与） ＦＣ−１１３０（フルオロカーボン　１　０．５−２湿潤剤） Ｉ−１８４＜非黄変ＵＶ開始剤）　２　１−４２−６０２０　（清澄化接着促進 剤）’＋０．５２Ｃｅｌｒａｄ　３７０１　（セラニース社製）は、紫外線く以 下に示すように）によって適当に開始し容易に硬化する、アクリル化したエポキ シの１１性のバルク樹脂である。この塩基性の樹脂は、非常に早くかつ都合良く 硬化し、良好な清澄性を与えるので比較的長期にわたる寿命において硬化したコ ーティングに望ましい強度および化学的な安定性を与えるＩ；めに選択された。

さらに重要なことには、相対的にほとんど吸ａしないことである。また、他のす べての成分と同じように、一般に価格が安く、容易に一定成分（こ調整できて応 用でき、さらには（他のところでも述へるように）望ましい文書記録の保護コー ティングを与えてくれることから、好ましいものである。

混合物Ｔ−１の粘度は、最小になるように監視すべきである。あまりに粘度が高 く分厚くなると、容易に用いることができなくなるく以下に表わず好ましい渦巻 形の応用技術を参照されたい。たとえは混合物は分配ノズルから流れなければな らない。）。また硬化したコーディング（ま、水分をほとんどもしくは全く含む べきてはない。それらは後に、膨潤やひびを起こすこととなる。

しかしながら、３７０１は長年の間にわずからながら変色傾向があるので、以下 に述べるように、清澄化の促進および黄変の抑制のための添加剤を一緒に使用づ るへさである。

低粘度のコモノマ（１）シ＜けブレボリン、低粘度の希釈剤）のような他の物質 で置き換えることによって粘１９をＪ宜に調整し得ることを認識するであろう。

たとえば、成る場合には、他の成るＣｅ１ａｒｄの配合が適当であることがある 。しかしながら、他の一般的なコーティングポリマは用いることができない。た とえば、アクリル化ウレタンは柚子の朋（ｏｒａｎｇｅ　ｐｅｅｌ　）を生ずる 傾向にある。そして他のアクリル化樹脂は置き換えるのに適当ではない。たとえ ば、もう１つのアクリル化エポキシ樹脂であるＣｅ１ａｒｄ　３２００は、塗膜 の分離、剥離、ひび割れもしくは破れを起こしやすい。（低粘度で、撓みやすく 、引張り強度がより低い）そして、Ｃｅ１ａｒｄ　１７００　（アクリル化アク リレート）は同様の問題を有している。さらに、飽和樹脂を加えることにより、 水分の浸入および収縮を減少させることができる（たとえば、ポリ酢酸ビニルの 類やポリスチレンの誘導体など）。

ポリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ〉は三官能性のアクリレ ートモノマであり、この混合物において架橋を促進させる。トリメチロールトリ メタクリレートのような、他のくアクリレートに類似の）架橋剤を代わりに用い ることもてきる。いくらかのそのような架橋剤を通常用いることは好ましい。こ れらのものは塗膜強度などを高めるために用いることはよく知られている。、（ 他のアクリレート架橋剤） ＴＭＰＴＡもしくはＣｅ１ａｒｄ　（同等のもので置換えることなく）を除くと 、硬化した塗膜は軟らかくなり、収縮が減少する傾向にある。

２−エチルへキシルアクリレート（２−Ｅ　ｌ−１Δ、ｔラニーズ社製）は単一 官能のアクリレートモノマであり３７０１を補うものであり、ここでは最終的な ポリマコートのたわみ性を改善するために添加する。このような希釈剤の他のも のとして、イソデシルアクリレートもしくはスチレンのようなもので置き換える ことができることがわかるであろう。

Ｉｒｇａｃｕ、ｒｅ　１８／ｌ　（１−１８４，チパガイ千−社製〉は、このよ うな混合物のこのような（ＵＶ）硬化に対して適した光開始剤である。このＵＶ 開始剤は、驚くほどかかる目的に適している（多分、独特のものである）。その 理由は特に、硬化したオーバコートの変色（黄変）に対して驚くほど抵抗を有し ていることにあるくたとえば、後はどｉ！ｌＳべるように７−６０２０を含む、 Ｔ−１のような混合物に用いた場合）。

非常によく似た仲間のＵＶ開始剤１　ｒｇａｃｕｒｅ　＃　６５１く同じく、ヂ バガイギー社製）をｌ　ｒｇａｃｕｒｅ　＃　１８４に置き換えた場合に、その ような変色（黄変）が起こることは特に驚くべきことである。（多分、これは＃ ６５１が不飽和結合を有すること、および／または、キノニド型の末端基を有す るからと思われる。参照：廿１８４：α−ヒドロキシシクロへキシルフェノン； 　仁６５１：２．２−キメトキシー２−フェニルアセトフェノン）Ｚ−６０２０ （ダウコーニング社製）はジアミノプライマであり、塗膜の接着（ソフトパッド 際に対して）を促進するために、および塗膜を清澄化（黄変もしくは琥珀色にな るのを減少する）するために、Ｔ−１に加えられる。この清澄化はやや意外なこ とである。この黄変の機構は完全には理解されていない。ヒドロキシル基が何ら かの役割を果たしているものと思われる。

たとえば、Ｚ−６０２０を他の従来の接着促進剤で置き換えた場合には、Ｔ−１ の塗膜は黄変してしまう、、（Ｚ−６０４０もしくはＺ−６０３０は良好である ）したがって、望ましい結果を得るためには、ｌ−１８４のような開始剤および Ｚ−６０２０のような接着促進剤を用いることが重要である旨理解されるであろ う。

混合Ｔ−２ これに対して、Ｔ−１からＺ−６０２０を取り除き、ｌ−１８４を既に述べたｌ −６５１で置き換えて生成する塗膜（Ｔ−２）は、〈環境の）条件下、明確な黄 変を示した。

また靭性は低下した。粘度は２５℃で約１１０ｃｐで、密度は１　、０７０ｍ１ ０Ｃテあった。

混合Ｔ−３ ここで、ｌ−６５１をｌ−１８４で置き換えて混合Ｔ−２を再度調製すると、黄 変は減少した。しかしながら、塗膜には薄い琥珀色の色調が未だ残った。この塗 膜はＴ−２のものより硬いものである。約１０ミルの厚さのものからは、６３２ ８△において、９２．４％の透過率が得られた。

ここで、混合Ｔ−３にＺ−６０２０を加えてＴ−１を作成したところ、本質的に すべての着色はなくなり、非常に清澄な、塗膜が得られた。

この促進剤（７−６０２０＞は、混合溶液の中において、水分およびヒドロキシ ル基と反応するものと思われる。ヒドロキシル基の琥珀色の着色剤を取り除くも のと思われる。

試験結果は、このＴ−１のフィルムが、基板とより強固に接着し、優れたたわみ 性を保持することを示している。

（７０℃および８０％Ｒ，Ｈ，の試験室に５０時間放置後、このフィルムは３重 層ディスク上で、いかなるクラックあるいは剥離を示さなかった。） すなわち、Ｔ−１混合で作られたオーバコートフィルムを用いたディスクは、厳 しい環境試験条件（ＭＩＬ−８下Ｄ　−８１０Ｃ）を合格するであろう。７０’ Ｃおよび８０％Ｒ，Ｈ，の条件に５０時間装いたものは、全く目で認められるよ うな剥離もしくはクラックが生じていないであろう。

ＦＣ−４３０は、有機ポリマコーティング系に関し非イオン性の界面活性剤とし て特徴付けられる、フッ素化ポリマの界面活性剤添加物（３Ｍ社製）である。こ のものは、濡れ性、レベリング性および延展性を良くする機能を促進するために 、ならびに流動性調整剤として加えられる。またこのものは、成る種の基板上の 成る種の塗料の表面張力を低下させるのに適合している。このものは、まさしく 非反応性のものとして、および水をベースとしたもしくは溶剤をベースとした系 （そしてほとんどのポリマに対しても）適合するものとして、促進する。ＦＣ− ４３０は、一定の調節の下に、デュポン社製のｚｏｎｙｌ　’Ｆ　Ｓ　Ｎのよう な界面活性剤によって置ぎ換えることができる。

混合Ｔ−１は延展性およびディスクへの付着性に最適どするために、粘度調整が されなければならない。ここでは、主たる環境条件（室温、フッ素化ポリマ基板 の表面、など）において、最終的な粘度は約４１　ｃｐ　（２５℃、密度　１゜ ０７０ｍ／Ｃｃ）でなければならない。

Ｔ−１組成物〈および類似の混合物）は、広く変化する化学的他の多数の添加物 に対して、完全に耐え得るものである。したがって、必要な場合にはこれらを添 加することができる。（たとえば、帯電防止剤） ［硬化］ 対象となるディスク（フッ素化ポリマ）の表面に平らにその物質を延ばしておき 、本質的にすべての酸素を取り除き（たとえば、以下に述べるように、Ｎ２もし くはそれに類似の不活性な充填ガスなどによって）、ディスクをゆっくりと回転 させながら、数分間紫外線光を照射しながら塗膜を光硬化する。これによって良 好な完全に硬化したハードなオーバコーティングが得られる（補助的な熱を必要 とすることなく重合を完全にするために必要なエージングタイムを要することな （）Ｑ さらに特定的にはおよび好ましくは、窒素ガスにょる子備充填を用いるくたとえ ば、すべての酸素を押出づために約１分間〉るして、窒素ガスの下、ＵＶを約３ −５分間露光するか、もしくは望みのように塗膜を硬化するのに十分なように露 光する。好ましくは、ディスクをゆっくりと回転しながらこれを実施するくたと えば、２０ｒｐｍ　：注：好ましいＵｖビームは、はとんどの場合そのλは０． ３から０．４μｍであり、そのλによって強度を変える。たとえば、５０　ｍＷ ／ａｍ２で０．３６６μｍで３．５分間。開始剤の量が少ない場合にはさらに長 く）。

十分な安定性〈長期わたる記録保存において〉を保証し、材質の分解もしくは応 力によるクラックの発生を避けるように注意しなければならず、適当な場合には 、その他の関係した技術および／もしくは材料および関連した調節によって置換 える必要のあることが理解されるであろう。

照射硬化は他のく表面に関連した）方法よりも好まれている。たとえば、熱硬化 は、過度に複雑であり、調整が難しい。また、この方法はより多くのエネルギが 必要で、溶剤による汚染の危険を招く。

［結果］ 混合物Ｔ−１をディスク（フッ素化ポリマの表面）上に付着し硬化させた場合、 硬い清澄なほど的な塗膜が与えられ、本質的に既に述べた主な要望を満足させる 。たとえば、水分の浸入に対する抵抗（およびこれに関連した膨潤−クランク発 生、収縮）優秀な光学的透明性および良好な耐引掻き性を示し、容易に表面をき れいにできる。

特に水分に対する抵抗力は驚くべきものであり、印象的なものである。たとえば 、１００％の不浸透性ではないが、このハードコートは、長期にわたる水中での 浸漬の後でさえ膨潤−クラッキングを示さない。同様に、このバーＩ−コートは 、長期にわたる極度の温度／湿度のサイクルに対しても耐えることが観察される （たとえば、幾週にもわたる、ｉ温から１４０℃までおよび約４０％湿度から８ ０％湿度まで〉。

さらにこのハードアウタコーティングは長期にわたる安定性を示すことが認めら れるであろう。たとえば、かなりの極度の温度／湿度のサイクルに長期間さらさ れることに耐え得る。この安定性およびこれに関連した靭性などは、比較的に架 橋された、生成した長鎖のポリマ（エポキシ）基から導き出されるものと思われ る。

また、望まれるように、このハードコートはフッ素化ポリマのソフトパッドに（ 十分に）接着する。ハードコートおよび／またはソフトパッドが代わった場合に は、このような接着は起こらないであろう。このような場合には、（たとえば十 分透明な）別個の中間的な適合した「接着の中間層」が必要となるであろう。し かしながら、このようなものは好ましくない。（たとえば、厚みの調整が複雑に なる） 例■ 以下のように（混合下−４の）割合を変える以外は、例工と同様に配合して、イ 」着および硬化を行なった。

混合Ｔ−４ＬＩＬ Ｃｅｌｒａｄ　１７００　１７ Ｃｅｌｒａｄ　３２００　１７ ＴＭＰＴ△　３２ １−ＥＨΔ（エヂルへキシル　アクリレート）３１［結果１ オーバコートがより脆くなり、水分の浸入および膨潤−クラックの発生が起こり やすくなったことを除いて、結果として本質的に例工と同様であった。丁−１に 比べると、この混合による塗膜は、最終の引張り強度が小さくなった。

（たとえば、Ｔ−１の約４０００ｐｓｉ　に対しＴ　〜２０００ｐｓｉ　） 例■ Ｔ−１におけるように、他の代替混合物、Ｔ−５４配合し、付着し硬化１した。

混合Ｔ−５！！Ｈｉｔ肛 ＲＤＸ−５２２２５３９ 王ＲＰＧＤ△（セラニーズ社製）３９ Ｎ−ＶＰ　（ＧＡＦ社製）１４ メチル　ジェタノールアミン　５ Ｉｒｇａｃｕｒｅ　６５１　１００ ［結果］ 表面の硬さが回転されたことを除いて、本質的にＴ−１と同様であった。しかし ながら、表面には柚子肌（ｏｒａｎｇｅｐｅｅｌ）を発生した。

好ましくない配合 成る類似の照射硬化アクリル混合物では実用的ではなく、この目的には好ましく はないことは、幾分驚くべきことである。たとえば、以下の混合Ｔ−６のような 配合をよ、清澄および透明性において十分ではない（設計した０、４−０゜８μ ｍの波長では）。

ＬＬ二二飢 接着促進剤Ｚ−６０２０をＺ−６０３０に置き換える以外は、混合Ｔ−１と同様 に行なった。

［結果］ 清澄度が悪くなった。Ｚ−６０２０は、明らかに他の成分との適合性に欠ける。

［コーティング方法〕 ＯＤディスク基板（フッ素化ポリマのような）の上に前記の例のようなハードコ ーティング混合物を付着し、そこに外側の保護オーバコートを設ける、新規な技 術の例を次に示す。特に、数ミルの厚みで塗られ、その上高度に均一な、その位 置において照射硬化されたものは、上述した環境上のおよびその他の保護を上） ホした長期にわたる期間内においてディスクに与える。これらの技術は、厚みの 非常に精密な調整および厚みの均一性を伴うので、便宜であり、コスト的に効果 的な、コーティングおよび硬化の方法であることを強調することが理解されるで あろう。

このコーティングは、約７ミルの高度に均一な厚みに形成されているが、約２０ ミルまでの厚みに十分され得ることがわかるであろう。

このように述べてきたハードコートの配合は、その他の特徴に従って、渦巻状の 付着方法〈たとえば以下の○Ｄディスクに対して）に向いていることがわかる。

このような物質は、精密な調整の下において、驚（はど分散を簡単および容易に し、既に述べたように、厚みの均一性において驚くほど正確な調整をもたらす。

配合Ｔ−１は、一定の好ましい螺旋方式において、第１図のＯＤディスク表面ｆ に対表面位着されることが理解されるであろう。これは、既に）ホベた３重層の 光学的記録構造を設け、およびその上にフッ素化ポリマの（も（しはソフトパッ ドのポリマの表面のようなものの）層をさら（こ設けたアルミニウムディスクで あることが理解されよう。

一般に、この方法は、既に述べた数の渦巻の列で既に述べたディスク表面（フッ 素化ポリマ）の上にコーテイング物質が付着すること、もしくは広げられるよう な滴、もしくは平滑にすることによって非常に滑らかで非常に均一な塗膜となる ことを含むものと理解されるであろう。そして、その後、この塗膜は硬化および 固められて、望ましいハード保護オーバコートとなる。ここで、この付着の方法 のいくらかの特定のおよび好ましい形態について記載する。

例Ｍ−１：フッ素化ポリマ基板に対するＴ−１の付着第１段階：混合の調製 新規なコーティング方法の好ましい方式についてここで述べる。ここで好ましい ハードコーティング混合（好ましくは先に述べたＴ−１）は、均一な対象的な滴 の渦巻の列状にディスクに付着され、その後、同時にゆっくり回転するディスク において、上述した濡れによって平滑にされる。

（上述した表面上の滴の急速な、高度に均一な平坦化を導いて）すなわち、隣り 合う滴が互いに合併するように十分法（。

第２段階；渦巻の滴の分散 特に、第２図に図示されるように、混合Ｔ−１を往復運動するアームＡに取付（ プた前述の速度を調製した（よく知られたシリンジノズルｎのような）分散手段 ｎを用い、よく知られているように供給する。既に述べたように、注意深く調製 された、混合の均一な流れｓｔを対象のディスクの上の受入れる表面（フッ素化 ポリマ）の上に一定速度で分散して落ちるように、〈よく知られた方法で）ノズ ルｎが適合および調製されている。アームΔはディスクｄを放射状に（両方へ） 継続的に移動するものである。ディスクが回転しながら、この流れｓｔはディス クｄを放射状に移動して、記入した渦巻ＳＲをそれによって描くように注意深く 調製されている。（たとえば、アームＡは、間隔および滴の大きさを均一に保つ ように、磁気記録ヘッドと同じようにリニアモータによって移動する。）以下に 示すように、ディスクのｒｐｍはまた変化する。均一な大きぎのビーズを与える ために、ディスクのｒｐｍ　、アームの速度および分散速度の３つの変数のうち の１つもしくはいくつかを、他の変数を一定にしておきながら、変化させ得るこ とがわかるであろう。

したがって、ノズルｎは、所定の半径のディスクｄを、ディスクが回転しながら 、制御可能に掃引する。この際、連続的な均一な渦巻ＳＲ（当業者がよく行なう ように、滴の部分すの間隔、大きさおよび形状を均一とするように）内で混合を 展開する。混合は、公知のシリンジポンプ（詳述はしないが）によってノズルｎ に供給され、螺旋形を形成するように所定の速度で分散するよう調整されている 。

（たとえば、１−３９ｍ−ｍ１ｎで、３．５インチの半径のバンドＢ　を横切る のに約４０の滴を生じるように）。

混合物の粘度調製は、良好な分配および均一な設定を得るためには非常に重要で あることがわかる。

脱落部もしくはピンホールが、できないように注意しなければならない（この空 間部においては、溶剤がほとんどもしくは全く凝縮しておらず、その場所におい て湿りが異なっているか、またはほとんど湿りがない。注：周囲温度の上昇は、 このような空間部を大きくするよってある。多分、多（の溶剤があまりに速く蒸 発するためであろう。

第２−Ａ段階：滴の平滑化 フッ素化ポリマ表面上でのこのような正確に均一なポリマコーティングく厚み、 １７０＋１０μ…）の付着技術は難ｑい。次に示す手順は、スピニング技術によ るオーバコーティングのより好ましい方法である。スピニング技術には、回転す る基板の上にコーティング溶液を分散し、続いて平滑化し硬化する工程が含まれ ている。均一な塗膜を得るためには、低い回転速度（好ましくは４−４−１６ｒ ｐにおいて渦巻の方法で基板の表面上に正確な量のコーティング溶液を分散させ る。このコーティング溶液は、この基板表面によく濡れることが重要である。こ れは、コーティング溶液の表面張力および粘度によって、および基板表面材質の 表面張力によって、および外に広がろうとする力（回転する基板ディスクにより 生ずる遠心力の影響〉によって、調整される。

各トラックの上のコーティングの滴は、互いにちょうどむき出すように接触する ように置かれ、したがって表面全体を濡らすようにするであろう。コーティング 溶液が、（遠心力の影響の下）認めるほどに外に向かって放射状に移動する０と のないように、回転速度ｒｐｍを制御しなければならない。そうすることによっ て、表面張力および遠心力が、阻止しようとするコーティング溶液の粘度に打ち 勝ち、コーティング溶液を均一に押し広げるであろう。

フッ素化ポリマの表面張力が非常に低いため、このように用いられるコーティン グ溶液は、非常にゆっくりにしか濡れない。このような濡れを改善し促進するた めに、分散の間、（分散シリンジからの）流速を比較的低くし、スピニングの速 度を比較的高く維持する。それによって、基板の（渦巻形のトラック）の上にお いて、相対的に多くの、相対的に薄い滴が生じ、隣接した滴が互いに接し合い、 基板はさらに速くおよび完全に濡れる（その表面全体にわたって）。

分散速度が、一定にたとえば、Ｉ　Ｑｒ、　、／ｍｉｎ　、から３　ｇｒ。

／ｍｉｎ　、に維持される。もしシリンジの先を（ディスク）基板に相対的に近 づけないならば、流れ（渦巻の滴）は連続とならないかもしれないという問題が 生じる。したがって、連続的な渦巻のトラックと１−るためには、内径０．０３ ３インチのチップを用いる場合、このチップとコートづる表面との間隔を約１７ ０−２５０μｍに維持しなければならない。ここで、この先端は分散したドロッ プを押し広げて平滑にするのを助ける。これは、非常にうまく働かせた場合に観 察された。

分散させる先端は、基板の全体を滴（１〜ラツク）が十分に覆うように置かれる ように、放射状に移動された。（りなわら、相対的に回転する基板の中心に向か うように）放射状の移動速度を制御するのに加えて、ディスクの回転速度もま１ ：、相対的に継続的に外径における４　ｒｐｍから内径における１　１　ｒｐｍ まで変化させた（外側から内側まで放射的に、すべてのトラックにおいて接線方 向の速度が等しくなるように〉これはオーバスプリッティングを防ぐ。

第３段階：硬化 基板全体を塗料が覆った後、ディスクは平滑化を促進覆る（容易にする。助長す る）ために好ましくは、回転される（ここで約７分間約４　ｐｐｍで十分である ）そして、＄第１は硬化される。たとえば、周囲の（ＵＶ）条件下で３分間。

それから、Ｎ２の環境の下で３分間Ｕｖ露光する。初期の空気による硬化（第１ の３分間）は、皺が寄るのを防ぐためには好ましい。最初のＵＶ硬化をＮ２雰囲 気中で行なった場合には、塗膜の上部はより短い波長の透過を阻止する傾向にあ るので、皺が寄ってしまうということが意外にもわかった。明らかにこれはその ベースの方が硬化が少ないためである（もしくはより遅い、たとえば、その部分 は長い間流動性を維持している）。

ディスクｄの面を全体にわたって平らに塗り完全に平滑化して、そのままの状態 で（および他の方法で処理して）、硬化したらならば、望みどおりのハードな保 護オーバコーティングが得られる。したがって、ディスクの回転をやめて、ディ スクを硬化の状態にしなければならない。好ましくはコーティングの位置から移 動させずに、塗料の均一さを乱さないもしくは汚れを導かないように（たとえば 、この際に粘着性である表面の上に埃が付く）。

ＵＶ硬化は硬化位置で実施される。すなわち、対象のディスク表面全体にわたっ て物質を平らに広げたままで、塗膜は空気の下で紫外線光を当てられることによ って光硬化する。継いで塗膜が十分に硬化し硬くなるまで、不活性な雰囲気（た とえば、Ｎ２の充満によりすべての酸素を追い出して）の下で行なわれる。０． ３−０．４μＩＩＩ　ＵＶ　（たとえば、５０　ｍＷ／Ｃｍ２の強度、０．３６ ６μｍ　）の約３分間の総甜の空気中での露光、それに続き同様なＮ２の下での 露光で全く十分である。

これに代わって、適当な調ｍ＜たとえば、光開始剤の濃度やタイプのような）で もって、成る場合には、他の類似の硬化方法（たとえば、他の照射）を用いるこ とができることを理解するであろう。

結果 以上述べたように、厚みの均一性は非常に優れている。

（３，５インチのバンドの上に公称７ミルを用いて±１６８−１８２μｍの状態 て・の］−ティングは素晴らしく印象的である。特に′、使用する装置および用 いるコーティング混合物のタイプの簡便さゆえに）既に述べたように、処理条件 の他のものと同様に、硬化時間および温度は全く都合の良いものである。

例△−２（フッ素化ポリマ上でのＳｉｎ、フラッシュ）たとえ滴付着技術を用い るとしても、どこかで提唱したように、濡れ、接着およびそれに関連した特性を 増進するために基板を前処理することは好ましいことである。たとえば、例Ｍ− １もしくはそこでの変形のように、基板の親水性ＪコよびＴ−１の滴のその場所 に対する濡れが改善されることが期待され得る。このような場合、滴を付着する 前に、フッ素化ポリマ上に非常に透明な３ｉ０２によるフラッシュコーティング を付着もしくは食刻することが非常に有用であることを見い出した。（Ｔ−１も しくはそれに類似のもの；参照：第１図の層上りＳｉＣ２）・　カプセル化され たレコード；第３図第３図は第１図の様式において変形されたレコードＲ′を示 す。他の方法を用いたと述べるところ以外は、すべて同じ成分を用いて、構造、 材質および組立てはＲｏと同じである（Ｒ初の指定）。ここで、基板ディスク八 −は、プライマコートＰ−および下塗り層Ｂ−によって平滑化されており、その 上にはミラ一層ｃ”が設けられており、ミラーＣ−の上にはスペーサｄ−が、そ のスペーサの上には吸収体層ｅ−が設けられている。感度の強い層を囲みカプセ ル化して記録保存の期間を増進するようにしていること°以外は、吸収体ｅ−の 上に同様のハード／ソフト　オーバコート　ＯＣ−を設けている。したがって、 ソフトパッドコーティングｆ−は、記録の３重層下−Ｌ−を越えて「−１Ｄ−、 Ｃ−の層の暴露した周囲に沿って延ひ、下塗り層Ｂ−の放射状に延びた外側の部 分に結合でるに至っている。

同様にして、ハードオーバコート層！Ｊ−は好ましくは、下塗り層Ｂ−およびソ フト層Ｆ−を越えて放射状に延び、それらの外側の周囲の角から下に沿って延び シーリングして、ディスク八−もしくはプライマＰ−の延びた外側の部分結合す るに至っている。

もう１つの使用方法 変更されたソフトパッド塗料のような他の（・りらか違った表面に対して、この ようなハードコーティングを調整して用いることかできることがわかる。そして 、基板表面がかなり異なるような場合でさえ（たとえばシリコーンエラストマ） 、以上のようなハードオーバコートを用いることができるように適用させるため 、特定な場合には、他の不適当な基板を予備コートもしくは他の方法で処理７： キることがわかるであろう。たとえば、プラスチックコーティングおよび加工技 術においては、それらの濡れ性を増長するために、色々な種類のポリマの基板を 処理する手段が知られている。特定の場合には、この発明を用いあるいはこの発 明と結合させることができるであろう。

ここで記述した好ましい実施例は、例示的なものにづぎす、この発明は構成ある いよ背後において多くの変形お」、び変化を適用させることがｉ′き、この発明 の趣旨から外４′工ない範囲において使用づることができる。

たとえば、ここに示したようなハード外部コーティングは、もちろん、同じよう な目的で他の基板を被覆し保護するのに用いることができる。そして、く他の物 質を用いて、適度に調整して）上述した渦巻のコーティング方法より他の方法を 用いて提供することができる。このようなコーティングの構造は、ソフトパッド の上の吸収体の付着、求められている、吸収体の上のスペーサ／反剣体等の付着 より他に、特定な場合には使用できる。たとえば、ハードコーティング基板〈た とえば、エポキシアクリレート基板）の上にソフトパッドを付着するような場合 。そして、Ｒ柊的には、これ関連したウィンチェスタ−ディスクもしくは担体の ようなものの上に接着および圧着して用いることができる。

この発明を、またさらに変更して適用することができる。

たとえば、ここで開示した手段および方法を、ラフ１〜パツドをコートした記録 テープ、フロッピーディスクおよびそのようなものに対しても用いることができ る。また、この発明は、異なる照射による露光を用いてデータを記録および／ま たは再生するような、記録および７／または再生系の他の形態を用いた媒体に対 する保護的な外部コーティングのようなものを供給することができる。

この発明について以上掲げた可能な限りの変形の例は単に゛例示したものにづぎ ない。したがって、この発明は、添付した特許請求の範囲から定義されるこの発 明の範囲に入る、すべての可能な限りの変態および変形を含むものと解釈されな ければならない。

ＦＩＧ、２゜ １）卑　腑　杏　碧　告

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １．　ディスク基板上に機械的／化学的な障壁を設けるために相対的にハードな アクリルの外部シールコーティングを施す方法であって、この基板が所定の記録 照射を用いて所定の記録層上に情報が記録された１つの情報領域を少なくとも１ つ含んでおり、この方法が、 バルク樹脂として少なくとも１つの照射硬化されるアクリルアミドもしくはアク リレートモノマもしくはプレポリマ、さらに、関連した非黄変性光開始剤、非黄 変性接着促進剤および関連の塗料成分を含む、塗料配合のポリマ生成物からなり 、記録照射のために相対的に透明な塗料混合物を配合し、 前記照射が唯一のもしくは主な重合の作因であって、はとんどもしくは全く補助 的な加熱を用いず、長期にわたる粘着性がなく、速く作用するように機能するよ うに、記録領域の表面を非常に均一に被覆し、この塗料を意味ありげに加熱する ことなく硬化するように硬化照射するために露光する、所定の方式でこの混合物 を付着させ、この混合物を平坦にし、望ましコーティングとすることができるよ うに、該混合物が配合され、かつ付着される各ステップを備える方法。 ２、　配合がそのような照射硬化をする非溶剤をベースとしたアクリル化エポキ シ混合物を主に有することを特徴とする請求の範囲第１項記載の方法。 ３、　硬化が関連したＵｖ開始剤成分を用いて所定のＵｖ照射露光によってなさ れることを特徴とする請求の範囲第２項記載の方法。 ４、　結果として生ずる塗膜の清澄化を助成し、また非黄変性とするように、前 記接着促進剤を適合および選択したことを特徴とする請求の範囲第３項の方法。 ５、　水性のおよび／もしくは他のヒドロキシル基を結合することによって塗膜 を清澄化するような部分を含むように接着促進剤が適合および選択されたことを 特徴とする請求の範囲第４項記載の方法。 ６、　ディスク基板の記録表面が適合性のある湿潤剤を含む配合物とフッ素化ポ リマの層とを備えることを特徴とする請求範囲第５項記載の方法。 ７、　フッ素化ポリマ層が、前記塗料配合物を用いる−［において濡れを助長す るように適合された、光促進接着の親水性フィルムでエツチングもしくは被覆さ れていることを特徴とする請求範囲第６項記載の方法。 ８、　前記フィルムが金属のもしくは金属酸化物のストライク、もしくは極性基 を含む積層物を有することを特徴とする請求範囲第７項記載の方法。 ９、　ストライクが５ｔｏｚもしくは△ｆ１．２０．もしくは１０、フィルムが 軽い３ｉ０２フラツシユコートを有することを特徴とする請求範囲第９項記載の 方法。 記録表面が再構成されたフッ素化ポリマの沈積物を有することを特徴とする請求 範囲第８項記載の方法。 １２、ＵＶ開始剤がエポキシ成分を含むことを特徴とする請求の範囲第５項記載 の方法。 １３、　配合物が優れた耐Ｇ性および耐収縮性を有づるように架橋部分および十 分な飽和樹脂を含むことを特徴とする請求の範囲第２項記載の方法。 １４、　前記飽和樹脂がポリスチレンもしくはポリスチレンの誘導体を有するこ とを特徴とする請求の範囲第１３項記載の方法。 １５、　配合物がまた、３官能性のアクリレートを有する架橋モノマおよび適合 性のある湿潤剤を含むことを特徴とする請求の範囲第１３項記載の方法。 １６、　配合物がまた、適合性のある希釈剤および／またはたわみ性付与剤を有 することを特徴とする請求範囲第１３項記載の方法。 １７、　配合物がたわみ性を付与するアクリレートモノマを含むことを特徴とす る請求の範囲第１６項記載の方法。 １８、　前記Ｕ　Ｖ　Ｎ光が、約７０’　−８０℃以上ノ温度ニ上がらないよう に塗膜を相対的に完全にかつそのままの状態で素早く架橋して重合させるような ものであり、前記配合物がそのようになされるようにされていることを特徴とす る請求の範囲第１７項記載の方法。 １つ、　前記配合物およびＵＶ露光が、数分間もしくはそれ１ス内で硬化し、塗 膜の厚みが数ミルから数１０ミルとなるようにされていることを特徴とする請求 の範囲第１８項記載の方法。 ２０、　前記配合物およびＵＶ露光が、大きな皺が寄らないように、空気中で最 初のＵｖ硬化を起こし、その後、不活性な雰囲気中で硬化することのできるよう にされていることを特徴とする請求の範囲第１９項記載の方法。 ２１、　前記配合物のバルク樹脂がまた、エポキシ樹脂を有することを特徴とす る請求の範囲第１項記載の方法。 ２２、　前記配合物のバルク樹脂がまた、アクリル化エポキシを有することを特 徴とする請求の範囲第２１項記載の方法。 ２３、　ディスク基板の上に相対的に堅いアクリルの外部のシール塗料を施す方 法であって、この基板には所定の記録照射を用いて所定の情報層上に情報が記録 されている少なくとも１つの記録層を有しており、この方法が、少なくとも１つ の照射硬化する不飽和樹脂、およびこれに関連した非黄変性の光開始剤、非黄変 性の接着促進剤および関連の塗料成分を含む塗料配合物の照＠重合生成物を含ん でおり、記録照射に対し相対的に透明なように塗料混合物を配合し、 前記照射がただ１つのもしくは主な重合作因であって、速くそして少なくともも しく１まほとんど補助的な熱を用０ず、長期にわたる粘着性を持たないように、 意味ありげに硬化することのないように、硬化照射するようにこの塗膜を露光し 、記録領域の表面をまさに均一に被覆するように所定の方式でこの混合物を用い 、 この混合物が望ましい塗膜を与えるように平滑化されるようにこのように配合し および用いられ、この塗膜が機械的／化学的障壁のとしての役割を果たし、前記 記録照射に対してまた相対的に透明である、各ステップを備える方法。 ２４、　前記塗料配合物が、照射硬化する不飽和アクリルモノマもしくはプレポ リマを含んでおり、前記記録照射の焦点が合うように十分に薄く用いて硬化し、 多年にわたり外部からの汚染による重大な崩壊から前記表面を保護するように前 記表面と十分に固く結合していることを特徴とづ＼。 る請求の範囲第２３項記載の方法。 ２５、　記、録表面がフッ素化ポリマ層および適合性のあるａ潤剤を含にだ配合 物を有することを特徴とする請求の範囲第２４項記載の方法。 ２６、　配合物が主にアクリル化エポキシ樹脂、３官能性架橋剤およびアクリル 化したたわみ性付与七ツマを有することを特徴とする請求の範囲２５項記載の方 法。 ２７、　配合物がまた、清澄化接着促進剤とフルオロカーボンａ潤剤を含むこと を特徴とする請求の範囲第２６項記載の方法。 ２８、　配合物がまた、ポリスチレン誘導体のような飽和樹脂を含んでおり、前 記架橋剤がトリアクリル化物であることを特徴とする請求の範囲第２７項記載の 方法。 ２９、　記録表面が再構成されたフッ素化ポリマ付名物を含んでおり、硬化照射 が主に紫外線スベク［−ルの下で行なわれ、ＵＶ開始剤がエポキシ成分を含んで おり、水付および、／または他のヒドロキシ基と結合して塗膜を清澄化するよう な部分を含むように接着促進剤を適合および選択することを特徴とする請求の範 囲第２８項記載の方法。 ３０、　７！ｉ１潤剤が表面を湿潤するようなフルオロカーボンであることを特 徴とする請求の範囲第２９項記載の方法。 ３１、　フッ素化ポリマ層が、前記塗料配合物をその上に用いた場合にＩ！ｉｉ ！許を促進させるように適合させた光により接着を促進でる親水性のフィルムで エツチングもしくは被覆されていることを特徴とする請求の範囲第３０項記載の 方法。 ３２、　隣接して、もしくはほとんど隣接して、滴のように落ちるように、表面 をノズル手段に対して相対的に回転させながら、塗料をノズル手段によってディ スク表面に応用することを特徴とする請求の範囲第３１項記載の方法。 ３３、　配合物の粘度が、このようにして用いられた滴がすぐに合併して均一な 塗膜となるように調製されていることを特徴とする請求の範囲第３２項記載の方 法。 ３４、　ディスク基板の“上で機械的、／化学的な障壁として働くように相対的 にハートなアクリルの外部シール塗膜を設ける方法において、この基板が所定の 記録照射を用いて所定の情報層の−にに情報を記録する１つの記録領域を少なく とも１つ有しており、この方法が、 塗料配合物がバルク樹脂として少な（とも１つの照射して硬化するアクリルアミ ドもしくはアクリレートモノマもしくはプレポリマおよび関連した非黄変性光開 始剤、非黄変性接着促進剤および関連した塗料成分を含むようなポリマ生成物を 有するシートであって、記録照射に対してアクリルのように相対的に透明なシー トするように配合し、記録領域の表面をまさに均一にカバーするように所定の方 式でこのシートを適用する各ステップを備える方法・３５、　ノズル手段が分散 する際自在的に平滑となるようにビード部分が互いに接近もしくはほとんど接近 して置かれるように塗料を配合および分配し、またこのような分散に向くような 所定の粘度、および滴がその上に据えられる前記ディスク表面に対して平滑化さ れることができるよう十分な所定のチキソトロピー性および濡れ特性を示すよう に配合されることを特徴とする請求の範囲第３７１項記載の方法。 ３６、　配合物が１つもしくはそれ以」のアクリレートプレポリマ自体および適 合性のある共通の官能基を持った撓み性を付与する希釈剤、望みの塗膜硬さを与 えるよう十分な低い粘度の架橋剤とディスク表面にそのような応用をするに必要 な低い粘度を備える十分な適合性のある希釈剤とをともに含むことを特徴とする 請求の範囲第１項記載の方法。 ３７、　プレポリマ成分が、透明で高分子量のアクリレートとディスク表面上で その配合物が適度に広がるよう粘度を十分低下さゼるような、関連した低分子量 の適合性のある有１１希釈剤を含むことを特徴とする請求の範囲第３６項記載の 方法。 ３８、　架橋剤がトリメチロールプロパンのトリアクリレートもしくは１ヘリメ タクリレートのような多官能性のアクリレートを有することを特徴とする請求の 範囲３７項記載の方法。 ３９、　ポリマの実体が高分子量のアクリル化アクリレートと粘度を十分に低下 させる低分子量アクリル化エポキシドを有することを特徴とする請求の範囲３８ 項記載の組合わせ。 ４０、記録ユニツｌ〜がレーザ記録のための光学量記録ディスクであって、塗料 が少なくとも数ミルの厚みであり、情報層の上もしくはその上の薄いスーパーコ ー１〜の上に用いられており、長年にわたり使用できるように適合されているこ とを特徴とする請求範囲第３６項記載の組合わせ。 ４１、　情報を所定のレーザ照射ビームで記録した少なくとも１つの光学的記録 領域を有づるディスク上に、少なくとも数ミルで、かつ非常に高度な厚みの均一 性で、保護的な長期にわたる外部シールコーティングを設ける方法において、こ の方法が、 少なくとも１つの照射硬化する不飽和樹脂と関連した非黄変性光開始剤、非黄変 性接着促進剤および関連した塗料成分を含む塗料配向物の照射重合生成物を有し 、記録照射に対して相対的に透明とするように塗料混合物を配合し、所定の回転 速度で記録領域の表面を回転させながら、この混合物をこの記録領域の表面に適 用し、この混合物を、機械的／化学的障壁の役目を果たし、前記照射に対して相 対的に透明で、それからその位置のままで塗膜を照射硬化させ、塗膜を望ましい 状態とし、平滑化を可能とするように、この混合物を配合しおよび用いる各ステ ップを備える方法。 ４２、　塗料を、数インチもしくはそれ以上の幅の間隔にわたって数μｍ状態で 、精密な厚みの均一性を維持するように、少なくとも数ミルの厚みで用い、かつ 、配合物が、１つもしくはそれ以上のＵｖ硬化アクリル七ツマもしくはプレポリ マの実体、望ましい塗膜に必要な硬さおよび強さを与えるのに十分な低粘度の架 橋剤とディスク表面に対して用いるのに必要な低い粘度を与えるのに十分な適合 性のある低分子量の希釈剤を有し、かつ、プレポリマの実体が、透明な高分子量 のアクリレートと配合物を素早く適度に押し広げるのを助長するため粘度を十分 に低下させる関ｊ重した低分子量の適合性のある、共通の官能基を有するたわみ 性を付与づ−る希釈剤とを有することを特徴とする請求の範囲第４１項記載の方 法。 ４３、　架橋剤がポリメチロールプロパンのトリアクリレートもしくはトリメタ クリレ−１−のような多官能性アクリレートを有し、混合物が少なくともいくら かの自己平滑化を起こすように互いに接近もしくはほとんど接近して滴の部分が 分散されるように配合されることを特徴とする請求範囲第４２項の組合わせ。 ４４、　混合物が１．ノズルから分散され、そのような分散において所定の粘度 を示すように、その上に滴が設けられる前記ディスク表面に対して所定のチキソ １〜ロビー性および濡れ特性を示すように配合され、混合物が滴を据える間中、 示された濡れ性をもＩ−ら寸前記所定のセツティング界面活性剤を含むように配 合されることを特徴とする請求の範囲第４２項記載の方法。 ４５、　請求の範囲第１項記載の方法の生成物。 ４６、　請求の範囲第２項記載の方法の生成物。 ４７、　請求の範囲第３項記載の方法の生成物。 ４８、　請求の範囲第４項記載の方法の生成物。 ５０、　請求の範囲第４１項記載の方法の生成物。