JPH06158019A - 保護コート剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 【構成】 ３官能性以上の（メタ）アクリレート、
２官能（メタ）アクリレートおよびイソボルニル（メ
タ）アクリレートからなる保護コート剤。 【効果】 この保護コート剤は、微細な凹凸を有す
る金属薄膜層への十分な塗布性、密着性を有しており、
形成された保護コート層は、耐擦傷性、金属薄膜層の化
学的保護能に優れている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は保護コート剤に関し、さ
らに詳しくは光ディスクなどの光学式メディアにおける
記録層および反射層を形成する金属組成物薄膜のために
用いられる保護コート剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】光磁気ディスクなどの光学式メディアの
記録層は、例えばテルビウム−鉄−コバルト（Ｔｂ−Ｆ
ｅ−Ｃｏ）などの金属組成物を蒸着あるいは各種のスパ
ッタリング法によってメディア基板上に薄膜として形成
し、さらにこの上にアルミニウムなどからなる反射層を
同様の方法によって形成して製造される。これらの金属
組成物薄膜層、とくにこれらの薄膜の中で最後に積層さ
れる反射層はそのままでは外界からの物理的擦傷、ある
いは酸化変性などの化学的耐久性に劣っているため、こ
の上にさらに有機組成物からなる保護コート層を形成す
る技術が一般に知られている。

【０００３】光磁気ディスクなどの光学式メディアの記
録層、反射層などが配置される面には、光学ヘッドがト
レースするための案内溝と番地情報のためのピットが予
め形成されており、この案内溝、ピットの微細な凹凸上
に上記の記録層、反射層などが金属薄膜層として配置さ
れている。

【０００４】この微細な凹凸を有する金属薄膜表面に対
する濡れ性がコート剤の重要な性能であるが、濡れ性を
良好にするためにシリコン系あるいはフッ素系の界面活
性剤からなるレベリング剤を添加する技術が知られてい
る。

【０００５】しかし、現在トラックピッチ１．６０μ
ｍ、溝幅５００〜５５０ｎｍ、ピット幅６００〜６５０
ｎｍで設計されている光磁気ディスクは、メディアの大
容量化にともないトラックピッチ１．３５μｍ、溝幅４
００〜４２０ｎｍ、ピット幅５００〜５２０ｎｍとさら
に微細化され、従来のコート剤ではその微細な凹凸に対
する塗れ性が不十分であり、金属薄膜層と保護コート剤
との間に微小な空間が生成することがあり、これが原因
となってピンホール等の欠陥を発生し、経時的なエラー
レートの上昇を引き起こしてしまう。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上記問
題点に鑑み、レベリング性が極めて高く、トラックピッ
チ１．３５μｍ、溝幅４００〜４２０ｎｍ、ピット幅５
００〜５２０ｎｍの微細な凹凸を有する金属薄膜表面に
対して十分な濡れ性があり、かつ金属薄膜層に対する物
理的、化学的保護特性を有し、実用上十分な密着性を有
する保護コート剤を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題点
を解決するために鋭意検討を行った結果、下記一般式
、、

【０００８】

【化６】

【０００９】

【化７】

【００１０】

【化８】

【００１１】で示される３官能以上の多官能（メタ）ア
クリレートおよび下記一般式

【００１２】

【化９】

【００１３】で示される２官能（メタ）アクリレート、
および下記一般式

【００１４】

【化１０】

【００１５】で示される（メタ）アクリレートを混合し
たベースレジンにレベリング剤とシランカップリング剤
を添加したものが目的とする保護コート剤として好適で
あることを見出し、本発明を完成するに至った。

【００１６】以下、本発明を詳細に説明する。

【００１７】ここで一般式で示される化合物は、３官
能（メタ）アクリレートであり、具体的にはペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレートが
例示される。

【００１８】この一般式で示される化合物の添加量
は、ベースレジンに対して、５重量％以上８０重量％以
下、好ましくは、２０重量％以上７０重量％以下の範囲
である。本化合物の添加は、保護コート剤に物理的擦傷
から金属薄膜層を保護するために必要な硬度、耐擦傷性
を付与すると共に、金属薄膜層への密着性を与えるもの
である。添加量が５重量％未満の場合、目的とする硬
度、耐擦傷性を得ることができず、また、８０重量％を
越える場合、保護コート剤の硬化収縮率が高くなるので
好ましくない。

【００１９】一般式で示される化合物としては、例え
ば、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラメタクリレートであり、一般式
で示される化合物としては、例えば、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサメタクリレートである。

【００２０】これらの添加量は、ベースレジンに対し
て、それぞれ０重量％以上３０重量％以下、好ましく
は、０重量％以上２５重量％以下の範囲である。これら
の化合物は架橋剤として添加されるが、３０重量％を越
えて添加された場合、架橋度が高くなり過ぎるため硬化
した保護コート層の金属薄膜層への密着性が低下してし
まい好ましくない。

【００２１】一般式で示される化合物は、２官能（メ
タ）アクリレートであり、具体的にはエチレングリコー
ルジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、１，３−プロパンジオールジアクリレート、１，３
−プロパンジオールジメタクリレート、１，４−ブタン
ジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメ
タクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレー
ト、１，５−ペンタンジオールジメタクリレート、１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサ
ンジオールジメタクリレート、１，７−ヘプタンジオー
ルジアクリレート、１，７−ヘプタンジオールジメタク
リレート、１，８−オクダンジオールジアクリレート、
１，８−オクダンジオールジメタクリレート、１，９−
ノナンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオー
ルジメタクリレート、１，１０−デカンジオールジアク
リレート、１，１０−デカンジオールジメタクリレート
などが例示できる。

【００２２】一般式で示される化合物は、コート剤の
粘度調整およびポリカーボネート基板への接着性を発現
するために５重量％以上５０重量％以下の添加量で使用
される。５重量％より低い濃度では実質的に接着性が発
現されず、また５０重量％を越えて添加した場合、目的
とする保護特性が発現されない。

【００２３】一般式で示される化合物はイソボルニル
アクリレート、イソボルニルメタクリレートであるが、
本化合物はコート剤の粘度調整および水分透過率を低下
させるために、疎水的な構造を導入するために用いられ
る。その添加量は０重量％以上５０重量％以下、好まし
くは５重量％以上４５重量％以下の範囲で使用される。
５０重量％を越えて添加された場合、この化合物は一官
能であるために形成された膜が、３次元架橋構造を取り
にくくなるため好ましくない。

【００２４】以上に示した各化合物を混合し保護コート
剤のベースレジンを調製する。この際、アクリレート体
とメタクリレート体とを混合して使用してもよいが、ア
クリレート体のほうが反応性が高く、より好ましい。

【００２５】以上のようなベースレジンを重合すること
によって、保護コート剤を得ることができる。重合は、
熱、紫外線、Ｘ線、又は電子線のような慣用方法を用い
て行うことができるが、ハンドリング等の点で紫外線に
よる重合が好ましい。尚、紫外線源としては、高圧水銀
灯等が好ましい。

【００２６】紫外線で硬化させるために少なくとも一種
以上の光重合開始剤を添加するが、この開始剤としては
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾ
フェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４
−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２，２
−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン１−オン、ジ
エトキシアセトフェノン、４−ジメチルアミノアセトフ
ェノンなどが例示される。これらは単体または２種以上
を混合して使用でき、その添加量はベースレジンに対し
て０．１〜１０重量％である。１０重量％を越えて添加
した場合、形成されるコート層の３次元架橋密度の低下
および経時的ブリードアウトによる表面汚染を引起こす
場合がある。また０．１重量％未満の添加量では実質的
に開始剤効率が０に等しく実用的でない。

【００２７】また均一な塗布性を付与し、オレンジピー
ルやクレーターなどの塗膜欠陥の発生を抑制する目的か
ら、ベースレジンに対して少なくとも一種以上のレベリ
ング剤を添加する。このレベリング剤としては一般にシ
リコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤が知られて
おり、これらを特に制限なく使用できる。これらの添加
量はベースレジンに対して通常０．００５〜３重量％で
ある。

【００２８】シリコーン系界面活性剤としては、信越化
学工業（株）製、商品名「ＫＰ３２３」、「ＫＰ３２
４」、商品名「ポリエーテル変性シリコーンオイルＫＦ
−３５１」、「ＫＦ−３５２」、「ＫＦ−６１５」、日
本ユニカー（株）製、商品名「Ｌ−７７」、「Ｌ−７６
０２」などが挙げられる。

【００２９】フッ素系界面活性剤としては、旭硝子
（株）製、商品名「サーフロンＳ−３８１」、「Ｓ−３
８２」、大日本インキ化学工業（株）製、商品名「メガ
ファックＦ−１４２Ｄ」、「Ｆ−１７７」などが挙げら
れる。

【００３０】さらにトラックピッチ１．３５μｍ、溝幅
４００〜４２０ｎｍ、ピット幅５００〜５２０ｎｍの微
細な凹凸を有する金属薄膜への十分なコート性（塗れ
性）を付与するためにシランカップリング剤を添加す
る。

【００３１】本発明に使用されるシランカップリング剤
としては、例えば、ビニルトリス（β−メトキシエトキ
シ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジ
エトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルト
リメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ヘ
キサメチルジシラザン、γ−クロロプロピルメチルジメ
トキシシラザンなどがあるが、特に好ましくはγ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェ
ニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシランである。

【００３２】これらのシランカップリング剤は単独、ま
たは２種類以上組合わせて使用され、その添加量はシラ
ンカップリング剤全量としてベースレジンに対して０．
１〜１０重量％の範囲で添加される。０．１重量％未満
では実質的に添加効果が認められず、また１０重量％を
越えて添加された場合、保存安定性が低下するなどの問
題が発生することがある。

【００３３】さらに本発明の保護コート剤には、その性
能を損なわない範囲において熱安定剤、酸化防止剤、そ
の他の添加剤を加えてもよい。

【００３４】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の保護コート剤は微細な凹凸を有する金属薄膜層への十
分な塗布性、密着性を有しており、この保護コート剤に
より形成された保護コート層は耐擦傷性、金属薄膜層の
化学的保護能に優れている。

【００３５】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるもの
ではない。

【００３６】実施例１ ペンタエリスリトールトリアクリレート８００ｇおよび
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート２００ｇを混
合してベースレジンを調製した。このベースレジン１０
００ｇに対してレベリング剤としてシリコーン系添加剤
（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＰ３２４」）を１
ｇ、シランカップリング剤としてγ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシランを１ｇ、紫外線重合開始剤と
して１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを３
０ｇ添加して保護コート剤を調製した。

【００３７】次いでトラックピッチ１．３５μｍ、溝幅
４１５ｎｍ、ピット幅５１０ｎｍに設計された案内溝お
よびピットを有する直径９０ｍｍのポリカーボネート製
基板上に窒化ケイ素からなる保護層を膜厚５００オング
ストロームにスパッタし、この保護層上にテルビウム、
鉄、コバルトからなる合金薄膜をスパッタリングにより
厚さ０．１μｍに積層し、磁性薄膜層とした。次いでこ
の磁性薄膜層上に保護層として再び窒化ケイ素を５００
オングストローム、反射層としてアルミニウムを８００
オングストロームの膜厚にスパッタリングを行い積層し
た。

【００３８】このようにして作製したディスクの金属薄
膜層上に上記のコート剤１．５ｇをディスペンスした
後、スピンコートし１６０ｍＷ／ｃｍの高圧水銀灯を用
いてディスク上１５０ｍｍの高さから２０秒間紫外線を
照射して厚さ１０μｍの保護コート層を硬化させた。

【００３９】この光磁気ディスクを温度８０℃、湿度８
５％ＲＨの環境下において４０００時間保存した後に、
バイトエラーレイトを検査した。検査成績を表１に示
す。

【００４０】実施例２ ペンタエリスリトールトリアクリレート７００ｇ、イソ
ボルニルアクリレート２００ｇ、及び１，６−ヘキサン
ジオールジアクリレート１００ｇを混合してベースレジ
ンを調製した。このベースレジン１０００ｇに対してレ
ベリング剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業
（株）製、商品名「ＫＰ３２３」）を１ｇ、シランカッ
プリング剤としてβ−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリメトキシシランを１ｇ、紫外線重合開始
剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
を３０ｇ添加して保護コート剤を調製した。

【００４１】実施例１と同様のポリカーボネート基板上
に、同様にして金属薄膜層をスパッタリングによって構
成した。この金属薄膜層上に上記保護コート剤を用いて
保護コートを行い同様の環境保存試験を実施し、バイト
エラーレイトを検査した。検査成績を表１に示す。

【００４２】実施例３ ペンタエリスリトールトリアクリレート６００ｇ、イソ
ボルニルアクリレート３００ｇ、及び１，６−ヘキサン
ジオールジアクリレート１００ｇを混合してベースレジ
ンを調製した。このベースレジン１０００ｇに対してレ
ベリング剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業
（株）製、商品名「ＫＰ３２３」）を１ｇ、シランカッ
プリング剤としてγ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ンを１ｇ、紫外線重合開始剤として１−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトンを３０ｇおよびベンゾフェノ
ンを３０ｇ添加して保護コート剤を調製した。

【００４３】実施例１と同様のポリカーボネート基板上
に、同様にして金属薄膜層をスパッタリングによって構
成した。この金属薄膜層上に上記保護コート剤を用いて
保護コートを行い同様の環境保存試験を実施し、バイト
エラーレイトを検査した。検査成績を表１に示す。

【００４４】実施例４ ペンタエリスリトールトリアクリレート５００ｇ、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート２００ｇ、及び
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート３００ｇを混
合してベースレジンを調製した。このベースレジン１０
００ｇに対してレベリング剤としてシリコーン系添加剤
（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＰ３２４」）を１
ｇ、シランカップリング剤としてＮ−フェニル−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシランを１ｇ、紫外線重合開
始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ンを３０ｇおよびベンゾフェノンを３０ｇ添加して保護
コート剤を調製した。

【００４５】実施例１と同様のポリカーボネート基板上
に、同様にして金属薄膜層をスパッタリングによって構
成した。この金属薄膜層上に上記保護コート剤を用いて
保護コートを行い同様の環境保存試験を実施し、バイト
エラーレイトを検査した。検査成績を表１に示す。

【００４６】実施例５ トリメチロールプロパントリアクリレート５００ｇ、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート２００ｇ、及
び１，６−ヘキサンジオールジアクリレート３００ｇを
混合してベースレジンを調製した。このベースレジン１
０００ｇに対してレベリング剤としてシリコーン系添加
剤（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＰ３２４」）を
１ｇ、シランカップリング剤としてＮ−フェニル−γ−
アミノプロピルトリメトキシシランを１ｇ、紫外線重合
開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トンを３０ｇおよびベンゾフェノンを３０ｇ添加して保
護コート剤を調製した。

【００４７】実施例１と同様のポリカーボネート基板上
に、同様にして金属薄膜層をスパッタリングによって構
成した。この金属薄膜層上に上記保護コート剤を用いて
保護コートを行い同様の環境保存試験を実施し、バイト
エラーレイトを検査した。検査成績を表１に示す。

【００４８】実施例６ トリメチロールプロパントリアクリレート５００ｇ、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート１００ｇ、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート１００ｇ、及び
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート３００ｇを混
合してベースレジンを調製した。このベースレジン１０
００ｇに対してレベリング剤としてシリコーン系添加剤
（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＰ３２４」）を１
ｇ、シランカップリング剤としてγ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシランを３ｇ、紫外線重合開始剤と
して１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを３
０ｇおよびベンゾフェノンを３０ｇ添加して保護コート
剤を調製した。

【００４９】実施例１と同様のポリカーボネート基板上
に、同様にして金属薄膜層をスパッタリングによって構
成した。この金属薄膜層上に上記保護コート剤を用いて
保護コートを行い同様の環境保存試験を実施し、バイト
エラーレイトを検査した。検査成績を表１に示す。

【００５０】実施例７ ペンタエリスリトールトリアクリレート５００ｇ、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート１００ｇ、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート１００ｇ、及びイ
ソボルニルアクリレート３００ｇを混合してベースレジ
ンを調製した。このベースレジン１０００ｇに対してレ
ベリング剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業
（株）製、商品名「ＫＰ３２４」）を１ｇ、シランカッ
プリング剤としてβ−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリメトキシシランを３ｇ、紫外線重合開始
剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
を３０ｇおよびベンゾフェノンを３０ｇ添加して保護コ
ート剤を調製した。

【００５１】実施例１と同様のポリカーボネート基板上
に、同様にして金属薄膜層をスパッタリングによって構
成した。この金属薄膜層上に上記保護コート剤を用いて
保護コートを行い同様の環境保存試験を実施し、バイト
エラーレイトを検査した。検査成績を表１に示す。

【００５２】実施例８ ペンタエリスリトールトリアクリレート５００ｇ、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート２００ｇ、１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート１５０ｇ、及びイ
ソボルニルアクリレート１５０ｇを混合してベースレジ
ンを調製した。このベースレジン１０００ｇに対してレ
ベリング剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業
（株）製、商品名「ＫＰ３２４」）を１ｇ、シランカッ
プリング剤としてγ−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシランを３ｇ、紫外線重合開始剤として１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトンを３０ｇおよびベン
ゾフェノンを３０ｇ添加して保護コート剤を調製した。

【００５３】実施例１と同様のポリカーボネート基板上
に、同様にして金属薄膜層をスパッタリングによって構
成した。この金属薄膜層上に上記保護コート剤を用いて
保護コートを行い同様の環境保存試験を実施し、バイト
エラーレイトを検査した。検査成績を表１に示す。

【００５４】実施例９ ペンタエリスリトールトリアクリレート４００ｇ、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート１００ｇ、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート１００ｇ、１，６
−ヘキサンジオールジアクリレート２００ｇ、及びイソ
ボルニルアクリレート２００ｇを混合してベースレジン
を調製した。このベースレジン１０００ｇに対してレベ
リング剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業
（株）製、商品名「ＫＰ３２４」）を１ｇ、シランカッ
プリング剤としてＮ−フェニル−γ−アミノプロピルト
リメトキシシランを３ｇ、紫外線重合開始剤として１−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを３０ｇおよ
びベンゾフェノンを３０ｇ添加して保護コート剤を調製
した。

【００５５】実施例１と同様のポリカーボネート基板上
に、同様にして金属薄膜層をスパッタリングによって構
成した。この金属薄膜層上に上記保護コート剤を用いて
保護コートを行い同様の環境保存試験を実施し、バイト
エラーレイトを検査した。検査成績を表１に示す。

【００５６】比較例１ ペンタエリスリトールトリアクリレート７００ｇ、イソ
ボルニルアクリレート２００ｇ、及び１，６−ヘキサン
ジオールジアクリレート１００ｇを混合してベースレジ
ンを調製した。このベースレジン１０００ｇに対してレ
ベリング剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業
（株）製、商品名「ＫＰ３２３」）を１ｇ、紫外線重合
開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トンを３０ｇ添加して保護コート剤を調製した。

【００５７】実施例１と同様のポリカーボネート基板上
に、同様にして金属薄膜層をスパッタリングによって構
成した。この金属薄膜層上に上記保護コート剤を用いて
保護コートを行い同様の環境保存試験を実施し、バイト
エラーレイトを検査した。検査成績を表２に示す。

【００５８】また、実施例１で用いたポリカーボネート
基板のかわりに、トラックピッチ１．６０μｍ、溝幅５
２０ｎｍ、ピット幅６２０ｎｍに設計された案内溝およ
びピットを有する直径９０ｍｍのポリカーボネート製基
板を用いて、その基板上に実施例１と同様の金属薄膜層
をスパッタリングによって構成した。この金属薄膜層上
に上記保護コート剤を用いて保護コートを行い同様の環
境保存試験を実施し、バイトエラーレイトを検査した。
検査成績を表２に示す。

【００５９】比較例２ トリメチロールプロパントリアクリレート５００ｇ、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート２００ｇ、及
び１，６−ヘキサンジオールジアクリレート３００ｇを
混合してベースレジンを調製した。このベースレジン１
０００ｇに対してレベリング剤としてシリコーン系添加
剤（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＰ３２４」）を
１ｇ、紫外線重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトンを３０ｇおよびベンゾフェノンを
３０ｇ添加して保護コート剤を調製した。

【００６０】実施例１と同様のポリカーボネート基板上
に、同様にして金属薄膜層をスパッタリングによって構
成した。この金属薄膜層上に上記保護コート剤を用いて
保護コートを行い同様の環境保存試験を実施し、バイト
エラーレイトを検査した。検査成績を表２に示す。

【００６１】また、実施例１で用いたポリカーボネート
基板のかわりに、トラックピッチ１．６０μｍ、溝幅５
２０ｎｍ、ピット幅６２０ｎｍに設計された案内溝およ
びピットを有する直径９０ｍｍのポリカーボネート製基
板を用いて、その基板上に実施例１と同様の金属薄膜層
をスパッタリングによって構成した。この金属薄膜層上
に上記保護コート剤を用いて保護コートを行い同様の環
境保存試験を実施し、バイトエラーレイトを検査した。
検査成績を表２に示す。

【００６２】比較例３ ペンタエリスリトールトリアクリレート５００ｇ、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート２００ｇ、１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート１５０ｇ、及びイ
ソボルニルアクリレート１５０ｇを混合してベースレジ
ンを調製した。このベースレジン１０００ｇに対してレ
ベリング剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業
（株）製、商品名「ＫＰ３２４」）を１ｇ、紫外線重合
開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トンを３０ｇおよびベンゾフェノンを３０ｇ添加して保
護コート剤を調製した。

【００６３】実施例１と同様のポリカーボネート基板上
に、同様にして金属薄膜層をスパッタリングによって構
成した。この金属薄膜層上に上記保護コート剤を用いて
保護コートを行い同様の環境保存試験を実施し、バイト
エラーレイトを検査した。検査成績を表２に示す。

【００６４】また、実施例１で用いたポリカーボネート
基板のかわりに、トラックピッチ１．６０μｍ、溝幅５
２０ｎｍ、ピット幅６２０ｎｍに設計された案内溝およ
びピットを有する直径９０ｍｍのポリカーボネート製基
板を用いて、その基板上に実施例１と同様の金属薄膜層
をスパッタリングによって構成した。この金属薄膜層上
に上記保護コート剤を用いて保護コートを行い同様の環
境保存試験を実施し、バイトエラーレイトを検査した。
検査成績を表２に示す。

【００６５】

【表１】

【００６６】

【表２】

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式、、、、およびで
   示される（メタ）アクリル酸エステル誘導体を、それぞ
   れ下記ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ（重量パーセント）の範囲で
   含んでなるコート剤に、レベリング剤およびシランカッ
   プリング剤を添加してなることを特徴とする保護コート
   剤。 ５≦ａ≦８０ 、０≦ｂ≦３０ 、 ０≦ｃ≦３０ 、
   ５≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０ 、かつ、ａ＋ｂ＋ｃ＋
   ｄ＋ｅ＝１００ 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】