JPH06145643A - 保護コート剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 【構成】 （メタ）アクリル酸エステル誘導体から
なるコーティング剤に、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシランのようなシラン系、チタニウム
エチルアセトアセテートのようなチタン系、インジウム
トリスアセチルアセテートのようなインジウム系、およ
びアルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチル
アセトアセテート）のようなアルミニウム系カップリン
グ剤を１種以上添加してなる保護コート剤。 【効果】 プラスチックへの密着性、表面平滑性、
経時安定性に優れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は保護コート剤に関し、さ
らに詳しくはプラスチックへの密着性および表面平滑性
に優れ、かつ表面状態の経時的安定性にも優れた光ディ
スクなどの光学式メディアに特に有用な保護コート剤に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より光学式メディア、特に光磁気デ
ィスク用のコート剤として種々のものが提案されている
が、これまでに提案されたコート剤は光磁気ディスクの
信頼性、耐久性を評価することを目的とした、例えば８
０℃，８５%,４０００時間保持などの高温、高湿度環境
での耐久試験において、ブリードアウトなどの表面状態
の変化があり、試験前と同等の表面状態を維持すること
が極めて困難であり、表面状態の安定性に問題があっ
た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はプラス
チックへの密着性及び表面平滑性に優れ、かつコーティ
ング表面の経時的安定性に優れた保護コート剤を提供す
ることにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
を解決するために鋭意検討を行った結果、（メタ）アク
リル酸エステル誘導体から構成されるコーティング剤に
シラン系、チタン系、インジウム系、又はアルミニウム
系カップリング剤を添加することで目的とする保護コー
ト剤が得られることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。

【０００５】すなわち本発明は、（メタ）アクリル酸エ
ステル誘導体から構成されるコーティング剤に、さらに
シラン系、チタン系、インジウム系およびアルミニウム
系カップリング剤からなる群より選ばれる１種を以上組
合せたものを添加してなる保護コート剤に関する。

【０００６】以下、本発明を詳細に説明する。

【０００７】本発明に使用される（メタ）アクリル酸エ
ステル誘導体としては、単官能や２官能以上の（メタ）
アクリル酸エステル誘導体をあげることができる。

【０００８】単官能（メタ）アクリル酸エステル誘導体
としては、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレートなどをあげることが
できる。

【０００９】２官能（メタ）アクリル酸エステル誘導体
としては、エチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、１，３−プロパンジオ
ールジアクリレート、１，３−プロパンジオールジメタ
クリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、
１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，５−ペ
ンタンジオールジアクリレート、１，５−ペンタンジオ
ールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジア
クリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレー
ト、１，７−ヘプタンジオールジアクリレート、１，７
−ヘプタンジオールジメタクリレート、１，８−オクタ
ンジオールジアクリレート、１，８−オクタンジオール
ジメタクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレ
ート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、１，
１０−デカンジオールジアクリレート、１，１０−デカ
ンジオールジメタクリレート、平均分子量２００−６０
０のポリエチレングリコールから誘導されるジアクリレ
ートまたはジメタクリレート、ビス（ヒドロキシメチ
ル）−トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカンジアク
リレート、ビス（ヒドロキシメチル）−トリシクロ
［５．２．１．０^2,6］デカンジメタクリレートなどを
あげることができる。

【００１０】３官能以上の（メタ）アクリル酸エステル
誘導体としては、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）
−トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカントリアクリ
レート、ビス（ヒドロキシメチル）−トリシクロ［５．
２．１．０^2,6］デカントリメタクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサメタクリレートなどをあげることができ
る。

【００１１】本発明に使用されるカップリング剤として
は、シラン系カップリング剤、チタン系カップリング
剤、インジウム系カップリング剤、アルミニウム系カッ
プリング剤などを例示することができる。

【００１２】シラン系カップリング剤としては、ビニル
トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエ
トキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−
エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−β
（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチル
ジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、メチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、
γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラザンなどがあ
る。

【００１３】シラン系カップリング剤として特に好まし
くは、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシ
シランである。

【００１４】チタン系カップリング剤としては、テトラ
イソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、ブ
チルチタネートダイマー、テトラステアリルチタネー
ト、トリエタノールアインチタネート、チタニウムアセ
チルアセトネート、チタニウムエチルアセトアセテー
ト、チタニウムラクテート、オクチレングリコールチタ
ネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネー
ト、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタ
ネート、テトライソプロピルビス（ジオクチルホスフェ
ート）チタネート、テトラオクチルビス（ジトリデシル
ホスフェート）チタネート、テトラ（２，２−ジアリル
オキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデシル）ホス
フェートチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェ
ート）オキシアセテートチタネート、ビス（ジオクチル
パイロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピ
ルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタク
リルイソステアロイルチタネート、イソプロピルイソス
テアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ
（ジオクチルホスフェート）チタネート、イソプロピル
トリクミルフェニルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ
−アミノエチルアミノエチル）チタネート、ジクミルフ
ェニルオキシアセテートチタネート、ジイソステアロイ
ルエチレンチタネートなどがある。

【００１５】チタン系カップリング剤として特に好まし
くは、テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチ
タネート、チタニウムアセチルアセトネート、チタニウ
ムエチルアセトアセテートがよい。

【００１６】インジウム系カップリング剤としては、イ
ンジウムトリスアセチルアセテート、インジウムトリス
エチルアセトアセテートが挙げられる。

【００１７】アルミニウム系カップリング剤としては、
エチルアセテートアルミニウムジイソプロピレート、ア
ルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミ
ニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトア
セテート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネー
ト）などである。

【００１８】アルミニウム系カップリング剤として特に
好ましくは、アルミニウムモノアセチルアセトネートビ
ス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス
（アセチルアセトネート）である。

【００１９】これらのカップリング剤は、（メタ）アク
リル酸エステル誘導体に比べてポリカーボネートなどの
プラスチック材料に対する浸透性が高い為に、（メタ）
アクリル酸エステル誘導体だけを使用してコーティング
剤を構成した場合よりも、プラスチックに対する密着性
を強化することができ、この効果は高温、高湿度の耐久
試験においてより顕著に見ることができる。

【００２０】添加量は、対象となるプラスチック材料を
白濁化させない範囲で適当量加えることができるが、単
独、または２種以上の混合で使用するときは添加量全量
として、０．１〜１０重量％、好ましくは０．１〜５重
量％の範囲である。

【００２１】また、これらのカップリング剤はコート剤
のレベリング性を同時に高める効果があり、これらカッ
プリング剤を添加したコート剤のコーティング表面は、
表面平滑性が非常に良好であり、この効果はシラン系カ
ップリング剤の全般およびチタン系カップリング剤のチ
タニウムアセチルアセトネート、チタニウムエチルアセ
トアセテートで特に顕著である。

【００２２】さらにチタン系、インジウム系、アルミニ
ウム系カップリング剤は、（メタ）アクリル酸エステル
誘導体と配位子交換反応を起こすと推定され、このため
疑似架橋反応が進行し、コーティング表面の架橋密度が
増加する。この作用によって高温、高湿度環境における
安定性が顕著に増加する。

【００２３】尚、上述のような推定は、何ら本発明の特
許性に影響を与えないものである。本発明のコート剤
は、特に光磁気ディスク用として有用であるが、ディス
ク用コート剤とするためには紫外線硬化型コート剤とす
ることが望ましい。そのために少なくとも一種以上の光
重合開始剤を添加するが、この開始剤としては１−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノ
ン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２，２−ジ
メトキシ−１，２−ジフェニルエタン１−オン、ジエト
キシアセトフェノン、４−ジメチルアミノアセトフェノ
ンなどが例示される。これらは単体または２種以上を混
合して使用でき、その添加量はコート剤に対して０．１
〜１０重量％である。１０重量％を越えて添加した場
合、形成されるコート層の３次元架橋密度の低下および
経時的ブリードアウトによる表面汚染を引起こす場合が
ある。また０．１重量％未満の添加量では実質的に開始
剤効率が０に等しく実用的でない。

【００２４】また均一な塗布性を付与し、オレンジピー
ルやクレーターなどの塗膜欠陥の発生を抑制する目的か
ら、コート剤に対して少なくとも一種以上のレベリング
剤を添加することもできる。このレベリング剤としては
一般にシリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤が
知られており、これらを特に制限なく使用できる。これ
らの添加量はコート剤に対して通常０．０１〜３重量％
である。

【００２５】さらに本発明の保護コート剤には、その性
能を損なわない範囲において熱安定剤、酸化防止剤、そ
の他の添加剤を加えてもよい。

【００２６】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の保護コート剤はプラスチックへの密着性及び表面平滑
性に優れ、かつコーティング表面の経時的安定性に優れ
た保護コート剤である。

【００２７】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるもの
ではない。

【００２８】実施例１ 多官能性アクリル酸エステル誘導体として、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート４００ｇ、ＰＥＧ＃６００
より誘導されたテトラデカエチレングリコール３５０
ｇ、ビス（ヒドロキシメチル）−トリシクロ［５．２．
１．０^2.6］デカンジアクリレート５０ｇ、および１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート２００ｇを混和
し、コート剤ベースレジンを調製した。

【００２９】このベースレジン全量に対して、レベリン
グ剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業（株）
製、商品名「ＫＰ３０６」）を１ｇ、および紫外線重合
開始剤として４−ジメチルアミノアセトフェノン５０ｇ
を添加し、よく混合した。

【００３０】このベースレジンに対してさらにシランカ
ップリング剤としてＮ−フェニル−γ−アミノプロピル
トリメトキシシランを１０ｇ添加して光磁気ディスク用
保護コート剤を調製した。

【００３１】次いでこのコート剤１．５ｇを直径９０ｍ
ｍのポリカーボネート製光磁気ディスク基板上にディス
ペンス後、スピンコート法により厚さ１０μｍにコーテ
ィングし、これを窒素雰囲気下で紫外線露光し硬化させ
た。

【００３２】この露光時の紫外線の積算照射線量は６５
０ｍＪ／ｃｍ²（λ＝３６５ｎｍ）であった。

【００３３】この基板のグルーブ面（コートを施した面
の反対側）に窒化ケイ素からなる保護層を膜厚５００オ
ングストロームにスパッタし、この保護層上にテルビウ
ム、鉄、コバルトからなる合金薄膜をスパッタリングに
より厚さ０．１μｍに積層し、磁性薄膜層とした。

【００３４】次いで、この磁性薄膜層上に保護層として
再び窒化ケイ素を５００オングストローム、反射層とし
てアルミニウムを８００オングストロームの膜厚にスパ
ッタリングを行い積層した。

【００３５】更に、アルミニウム層上に多官能アクリレ
ートからなる紫外線硬化型コート剤を１０μｍの膜厚で
塗布し、紫外線照射により硬化させオーバーコートを形
成し光磁気ディスクを作製した。

【００３６】このようにして作製した基板を温度８０
℃、湿度８５％ＲＨの環境下において４０００時間保存
した後に、その表面状態およびドライブテスターによる
電気特性を検査した。検査成績を表１に示す。

【００３７】実施例２ 多官能性アクリル酸エステル誘導体として、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート４００ｇ、ＰＥＧ＃６００
より誘導されたテトラデカエチレングリコール３５０
ｇ、ビス（ヒドロキシメチル）−トリシクロ［５．２．
１．０^2,6］デカンジアクリレート５０ｇ、および１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート２００ｇを混和
し、コート剤ベースレジンを調製した。

【００３８】このベースレジン全量に対して、レベリン
グ剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業（株）
製、商品名「ＫＰ３０６」）を１ｇ、および紫外線重合
開始剤として４−ジメチルアミノアセトフェノン５０ｇ
を添加し、よく混合した。

【００３９】このベースレジンに対して、さらにチタン
カップリング剤としてチタニウムエチルアセトアセテー
トを３０ｇ添加して光磁気ディスク用保護コート剤を調
製した。

【００４０】このコート剤を用いて、実施例１と同様に
してコーティングした基板を作製し、更に、実施例１と
同様にスパッタリング、オーバーコートを行い光磁気デ
ィスクを作製し、同様の環境保存試験を実施し、表面状
態および電気特性を検査した。検査成績を表１に示す。

【００４１】実施例３ 多官能性アクリル酸エステル誘導体として、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート４００ｇ、ＰＥＧ＃６００
より誘導されたテトラデカエチレングリコール３５０
ｇ、ビス（ヒドロキシメチル）−トリシクロ［５．２．
１．０^2,6］デカンジアクリレート５０ｇ、および１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート２００ｇを混和
し、コート剤ベースレジンを調製した。

【００４２】このベースレジン全量に対して、レベリン
グ剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業（株）
製、商品名「ＫＰ３０６」）を１ｇ、および紫外線重合
開始剤として４−ジメチルアミノアセトフェノン５０ｇ
を添加し、よく混合した。

【００４３】このベースレジンに対して、さらにシラン
カップリング剤としてＮ−フェニル−γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシランを１０ｇ、チタンカップリング剤
としてチタニウムエチルアセトアセテートを３０ｇ添加
してよく混合し光磁気ディスク用保護コート剤を調製し
た。

【００４４】このコート剤を用いて、実施例１と同様に
して光磁気ディスクを作製し、同様の環境保存試験を実
施し検査した。検査成績を表１に示す。

【００４５】実施例４ 多官能性アクリル酸エステル誘導体として、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート４００ｇ、ＰＥＧ＃６００
より誘導されたテトラデカエチレングリコール３５０
ｇ、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート２００
ｇ、およびテトラヒドロフルフリルアクリレート５０ｇ
を混和し、コート剤ベースレジンを調製した。 このベ
ースレジン全量に対して、レベリング剤としてシリコー
ン系添加剤（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＰ３０
６」）を１ｇ、および紫外線重合開始剤として４−ジメ
チルアミノアセトフェノン５０ｇを添加し、よく混合し
た。

【００４６】このベースレジンに対して、さらにシラン
カップリング剤としてＮ−フェニル−γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシランを１０ｇ、チタンカップリング剤
としてチタニウムエチルアセトアセテートを３０ｇ添加
してよく混合し光磁気ディスク用保護コート剤を調製し
た。

【００４７】このコート剤を用いて、実施例１と同様に
して光磁気ディスクを作製し、同様の環境保存試験を実
施し検査した。検査成績を表１に示す。

【００４８】実施例５ 多官能性アクリル酸エステル誘導体として、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート４００ｇ、ＰＥＧ＃６００
より誘導されたテトラデカエチレングリコール３５０
ｇ、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート２００
ｇ、およびイソボルニルアクリレート５０ｇを混和し、
コート剤ベースレジンを調製した。

【００４９】このベースレジン全量に対して、レベリン
グ剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業（株）
製、商品名「ＫＰ３０６」）を１ｇ、および紫外線重合
開始剤として４−ジメチルアミノアセトフェノン５０ｇ
を添加し、よく混合した。

【００５０】このベースレジンに対してさらにシランカ
ップリング剤としてＮ−フェニル−γ−アミノプロピル
トリメトキシシランを１０ｇ、チタンカップリング剤と
してチタニウムエチルアセトアセテートを３０ｇ添加し
てよく混合し光磁気ディスク用保護コート剤を調製し
た。

【００５１】このコート剤を用いて、実施例１と同様に
して光磁気ディスクを作製し、同様の環境保存試験を実
施し検査した。検査成績を表１に示す。

【００５２】実施例６ 多官能性アクリル酸エステル誘導体として、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート４００ｇ、ＰＥＧ＃６００
より誘導されたテトラデカエチレングリコール３５０
ｇ、ビス（ヒドロキシメチル）−トリシクロ［５．２．
１．０^2,6］デカンジアクリレート５０ｇ、および１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート２００ｇを混和
し、コート剤ベースレジンを調製した。

【００５３】このベースレジン全量に対して、レベリン
グ剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業（株）
製、商品名「ＫＰ３０６」）を１ｇ、および紫外線重合
開始剤として４−ジメチルアミノアセトフェノン５０ｇ
を添加しよく混合した。

【００５４】このベースレジンに対して、さらにシラン
カップリング剤としてＮ−フェニル−γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシランを１０ｇ、インジウムカップリン
グ剤としてインジウムトリスアセチルアセテートを３０
ｇ添加してよく混合し光磁気ディスク用保護コート剤を
調製した。

【００５５】このコート剤を用いて、実施例１と同様に
して光磁気ディスクを作製し、同様の環境保存試験を実
施し検査した。検査成績を表１に示す。

【００５６】実施例７ 多官能性アクリル酸エステル誘導体として、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート４００ｇ、ＰＥＧ＃６００
より誘導されたテトラデカエチレングリコール３５０
ｇ、ビス（ヒドロキシメチル）−トリシクロ［５．２．
１．０^2,6］デカンジアクリレート５０ｇ、および１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート２００ｇを混和
し、コート剤ベースレジンを調製した。

【００５７】このベースレジン全量に対して、レベリン
グ剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業（株）
製、商品名「ＫＰ３０６」）を１ｇ、および紫外線重合
開始剤として４−ジメチルアミノアセトフェノン５０ｇ
を添加しよく混合した。

【００５８】このベースレジンに対して、さらにシラン
カップリング剤としてＮ−フェニル−γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシランを１０ｇ、アルミニウムカップリ
ング剤としてアルミニウムモノアセチルアセトネートビ
ス（エチルアセトアセテート）を３０ｇ添加してよく混
合し光磁気ディスク用保護コート剤を調製した。

【００５９】このコート剤を用いて、実施例１と同様に
して光磁気ディスクを作製し、同様の環境保存試験を実
施し検査した。検査成績を表１に示す。

【００６０】比較例１ 多官能性アクリル酸エステル誘導体として、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート４００ｇ、ＰＥＧ＃６００
より誘導されたテトラデカエチレングリコール３５０
ｇ、ビス（ヒドロキシメチル）−トリシクロ［５．２．
１．０^2,6］デカンジアクリレート５０ｇ、および１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート２００ｇを混和
し、コート剤ベースレジンを調製した。

【００６１】このベースレジン全量に対して、レベリン
グ剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業（株）
製、商品名「ＫＰ３０６」）を１ｇ、および紫外線重合
開始剤として４−ジメチルアミノアセトフェノン５０ｇ
を添加し、よく混合して光磁気ディスク用保護コート剤
を調製した。

【００６２】このコート剤を用いて、実施例１と同様に
して光磁気ディスクを作製し、同様の環境保存試験を実
施し検査した。検査成績を表１に示す。

【００６３】比較例２ 多官能性アクリル酸エステル誘導体としてペンタエリス
リトールトリアクリレート４００ｇ、ＰＥＧ＃６００よ
り誘導されたテトラデカエチレングリコール３５０ｇ、
ビス（ヒドロキシメチル）−トリシクロ［５．２．１．
０^2,6］デカンジアクリレート５０ｇ、および１，６−
ヘキサンジオールジアクリレート２００ｇを混和し、コ
ート剤ベースレジンを調製した。

【００６４】このベースレジン全量に対して、レベリン
グ剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業（株）
製、商品名「ＫＰ３０６」）を１ｇ、および紫外線重合
開始剤として４−ジメチルアミノアセトフェノン５０ｇ
を添加しよく混合して光磁気ディスク用保護コート剤を
調製した。

【００６５】このコート剤を用いて、実施例１と同様に
して光磁気ディスクを作製し、同様の環境保存試験を実
施し検査した。検査成績を表１に示す。

【００６６】比較例３ 多官能性アクリル酸エステル誘導体として、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート４００ｇ、ＰＥＧ＃６００
より誘導されたテトラデカエチレングリコール３５０
ｇ、ビス（ヒドロキシメチル）−トリシクロ［５．２．
１．０^2,6］デカンジアクリレート５０ｇ、および１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート２００ｇを混和
し、コート剤ベースレジンを調製した。

【００６７】このベースレジン全量に対して、レベリン
グ剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業（株）
製、商品名「ＫＰ３０６」）を１ｇ、および紫外線重合
開始剤として４−ジメチルアミノアセトフェノン５０ｇ
を添加し、よく混合して光磁気ディスク用保護コート剤
を調製した。

【００６８】このコート剤を用いて、実施例１と同様に
して光磁気ディスクを作製し、同様の環境保存試験を実
施し検査した。検査成績を表１に示す。

【００６９】比較例４ 多官能性アクリル酸エステル誘導体として、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート４００ｇ、ＰＥＧ＃６００
より誘導されたテトラデカエチレングリコール３５０
ｇ、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート２００
ｇ、およびテトラヒドロフルフリルアクリレート５０ｇ
を混和し、コート剤ベースレジンを調製した。 このベ
ースレジン全量に対して、レベリング剤としてシリコー
ン系添加剤（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＰ３０
６」）を１ｇ、および紫外線重合開始剤として４−ジメ
チルアミノアセトフェノン５０ｇを添加し、よく混合し
て光磁気ディスク用保護コート剤を調製した。

【００７０】このコート剤を用いて、実施例１と同様に
して光磁気ディスクを作製し、同様の環境保存試験を実
施し検査した。検査成績を表１に示す。

【００７１】比較例５ 多官能性アクリル酸エステル誘導体として、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート４００ｇ、ＰＥＧ＃６００
より誘導されたテトラデカエチレングリコール３５０
ｇ、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート２００
ｇ、およびイソボルニルアクリレート５０ｇを混和し、
コート剤ベースレジンを調製した。

【００７２】このベースレジン全量に対して、レベリン
グ剤としてシリコーン系添加剤（信越化学工業（株）
製、商品名「ＫＰ３０６」）を１ｇ、および紫外線重合
開始剤として４−ジメチルアミノアセトフェノン５０ｇ
を添加し、よく混合して光磁気ディスク用保護コート剤
を調製した。

【００７３】このコート剤を用いて、実施例１と同様に
して光磁気ディスクを作製し、同様の環境保存試験を実
施し検査した。検査成績を表１に示す。

【００７４】

【表１】

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （メタ）アクリル酸エステル誘導体から
   構成されるコーティング剤に、シラン系、チタン系、イ
   ンジウム系、およびアルミニウム系カップリング剤から
   なる群より選ばれる１種以上を組合せて添加してなるこ
   とを特徴とする保護コート剤。