JP2959645B2 - 光情報記録媒体 - Google Patents

光情報記録媒体

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JP2959645B2 JP3155436A JP15543691A JP2959645B2 JP 2959645 B2 JP2959645 B2 JP 2959645B2 JP 3155436 A JP3155436 A JP 3155436A JP 15543691 A JP15543691 A JP 15543691A JP 2959645 B2 JP2959645 B2 JP 2959645B2
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和三郎 太田
政志 中沢
道明 篠塚
功 宮本
均 中村
利彦 吉尾
政秋 石山
祐二 小野寺
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ光によって情報の
記録及び再生を行う光情報記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ光によって情報の記録及び再生を
行う光情報記録媒体は、光学的動画用ディスクや光学的
オーディオディスク、書込み型ディスク等として広く知
られている。これらの中の例えば書換えが出来る光磁気
ディスクを例にとると、TbFeCoやTbDyFeC
oのような希土類−遷移金属非晶質合金から成る記録層
をレーザ光が透過する厚さ(400Å以下)まで薄く
し、その上に反射層を設ける構成が提案されている(特
公昭62−27458号公報)。この構成はカー効果と
ファラデー効果の両方が利用出来るため再生信号が大き
くとれるという点で優れている。
【0003】しかしながら、高密度・大容量化になるに
つれて記録マークが小さくなるため、再生信号はなるべ
く大きい方が良いと言える。したがって上記構成に加え
て基板のレーザ光入射側に反射防止膜を設け、基板面に
おけるレーザ光の反射をなるべくおさえることによって
さらに再生特性の向上を図ることも行われている(特開
昭59−79445号公報)。
【0004】一方、光情報記録媒体において記録層を支
持する基板にはポリカーボネート樹脂やアクリル樹脂等
のプラスチックやガラスといった電気抵抗の高い材料が
用いられる。このため光情報記録媒体は一般に帯電しや
すい。光情報記録媒体が帯電すると、静電気により微小
な塵が外表面部に付着して情報の書込みや読出しの妨げ
になったり、帯電電荷が電子回路の誤動作の原因となっ
たりする。このような光情報記録媒体の帯電を防止する
目的で光情報記録媒体の外表面部分に帯電防止膜を設け
ることが提案されている(特開昭60−239946号
公報)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のように光情報記
録媒体の基板面は反射防止機能と帯電防止機能を併せ持
つことが望ましい訳であるが、従来これらの両機能を持
った光情報記録媒体は知られていない。
【0006】本発明は上述した事情に鑑みてなされたも
のであって、その目的とする所は、レーザ光波長に対し
て透光性を有する記録層(及び反射層)を用いた光情報
記録媒体の基板のレーザ光入射側に反射防止機能と帯電
防止機能の両方を持った多層膜をコートすることによっ
て、再生信号が高く、ゴミ、ホコリ等が付着しにくい高
信頼の媒体を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは鋭意
検討を重ねた結果、基板のレーザ光入射側に多層構造の
反射防止層を設けるとともにその内の少なくとも1層を
透明導電膜とすることにより上記目的を達成しうること
を見いだし、本発明を完成するに至った。
【0008】すなわち、本発明の光情報記録媒体は、透
明な基板上に少なくとも、再生光波長に対して透光性を
有する記録層、及び反射層が形成されており、さらに基
板のレーザ光入射側に多層構造の反射防止層が形成さ
れ、この反射防止層の1層以上が透明導電膜であること
を特徴としている。
【0009】以下、本発明を図1に沿って説明するが、
光情報記録媒体の中の1つである光磁気記録媒体を例に
とって行う。図1は本発明による光磁気記録媒体の一構
成例を示す断面図で、透明基板1のプリグルーブが形成
されている面上に干渉層2、記録層3及び反射層4が順
次積層されるとともに、他方の面側、すなわち記録再生
光の入射面側に反射防止層5が形成され、かつこの反射
防止層5が第1の透明絶縁膜5−1、透明導電膜5−2
及び第2の透明絶縁膜5−3の3層構造となっている。
【0010】〔基板〕本発明に用いる透明基板1として
は、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレ
ート(PMMA)、アモルファスポリオレフィン(AP
O)等の樹脂からなるプラスチック基板、又はアルミノ
珪酸、バリウム硼珪酸等のガラス板上にプリグルーブつ
き樹脂を形成した基板等が挙げられる。これらの基板は
ディスク形状をしており、厚みは0.6〜1.2 mm
程度である。
【0011】〔記録層〕記録層としてはTbFeCo,
NdDyFeCo,TbDyFeCo等の希土類と遷移
金属の非晶質合金薄膜、BaFe1219,CoFe
24,(Bi,Y)3Fe512等の酸化物薄膜、MnB
i,CoPt等の多結晶合金薄膜が挙げられ、これらは
いずれも膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有している。
厚みは合金薄膜の場合、200〜400Åが好ましい。
酸化物薄膜の場合、多くは記録再生光に対して透光性が
大きいので特に厚みに制約はないが1000〜5000
Åが好ましい。又記録層3は単層膜に限らず多層膜でも
良い。
【0012】〔干渉層〕本発明においては、上記基板1
と記録層3との間に干渉層2を設けても良い。この層に
は屈折率の高い(1.8以上) 透明膜を用い、この層に
おける再生光の多重反射を利用してみかけのカー回転角
を増大させることによってキャリアレベルを上げ、又反
射率を小さくすることでノイズレベルを低下させ、トー
タルでC/Nを向上させることを目的としている。又記
録層3が希土類と遷移金属とから成る非晶質合金薄膜の
ように酸化等の腐食を起こしやすい材料の場合、この干
渉層2は記録層3の酸化を防止する保護膜としての役割
りも兼ね備えていなければならない。それには空気中や
基板1からの水や酸素の侵入を防ぎ、それ自身の耐食性
が高く、記録層3との反応性が小さいことが必要であ
る。具体的な材料としては、SiO,SiO2,Al2
3,Ta25等の金属酸化物、Si,Al,Zr,Ge
等との金属窒化物、B4C,SiC等の無機炭化物、Z
nS等の金属硫化物が挙げられ、これらは複合していた
り(例、SiAlON,SiZrN)、多層膜であった
りしても良い。屈折率によって膜厚の最適値は異なる
が、通常500〜2000Åで好ましくは800〜12
00Åである。
【0013】〔反射層〕本発明においては記録層3上に
直接、もしくはさらに別の干渉層を介して反射層4を設
けている。この反射層4は再生光に対して反射率がなる
べく高い方が良く、具体的にはAl,Cu,Ag,T
i,Au,Pt等の金属膜或いはそれらを主体とする合
金膜が用いられる。
【0014】〔反射防止層〕本発明では、透明基板1の
記録再生光が入射する側の面に、少なくとも1層が透明
導電膜である多層構造の反射防止層5を設けており、本
発明の特徴はこの反射止層5にある。
【0015】反射防止層構造は、基板の屈折率をもと
に、従来、光学部品等において広く行われている反射防
止層の設計理論に則り、それぞれ独自の屈折率を持つフ
ッ化マグネシウム、一酸化珪素、二酸化珪素、酸化チタ
ン、酸化セリウム、酸化アルミニウム等、従来の光学部
品の反射防止層として用いられている透明絶縁膜と、n
=2前後の屈折率をもつIn23,ITO,SnO2,Z
nO等の無機材料による透明導電膜とを組合せて構成す
る。このような反射防止層構造においては層構造を構成
する各膜の厚さが薄いため、透明導電膜がたとえ外部に
直接露呈しなくても、十分な帯電防止効果を実現でき
る。
【0016】図1に示した反射防止層5はその1例であ
り、透明導電膜5−2を透明絶縁膜5−1及び5−3で
サンドイッチした3層から成っているが、前述したよう
に本発明においては透明導電膜が設けられる位置は任意
である。また、反射防止層5の構成層の数も任意であ
る。
【0017】干渉層2,記録層3,反射層4及び反射防
止層5を形成する手段としてはスパッタリング,イオン
プレーティング等の物理的蒸着法、プラズマCVDのよ
うな化学的蒸着法等が用いられる。又層構造は図1に示
した以外に、記録層と反射層との間にさらに干渉層を設
けたり、反射層上に紫外線硬化型樹脂からなるカバー層
を設けたり、又それらの膜面どうしを接合剤によって貼
合わせた構成でも本発明の効果はそこなわれない。
【0018】
【実施例】次に本発明の実施例を述べる。 実施例 直径130mm, 厚さ1.2mmのポリカーボネートを
基板として図1に示した構成で各層を形成し、本発明の
実施例の光磁気ディスクとした。各層の組成及び厚みを
表1に示す。
【表1】
【0019】比較例 上記実施例において反射防止層を設けないこと以外は同
様にして光磁気ディスクを作製し、比較例とした。
【0020】以上のようにして作製した各光磁気ディス
クのC/Nを下記の条件で測定した。その結果を表2に
示す。 (記録):レーザ光波長:830nm CAV1800rpm 周波数3.7MHz デューティ比22% 記録パワーはC/Nが最大となる値 (再生):CAV1800rpm 再生パワー1mW
【表2】 *1)上段:シェリフ 下段:アーカイバル
【0021】表2より本発明の実施例の方が比較例に比
べてC/Nが約2dB高くなっていることがわかる。
又、両媒体を各々接合剤によって貼合わせて両面仕様の
光磁気ディスクとし、10年相当の塵埃環境試験を行い
ビットエラー率(BER)の変化を調べた。その結果を
表2に併せて示す。比較例に示したディスクは、試験前
に比べて試験後のBERがシェリフ,アーカイバル共に
増加している一方、本発明のディスクは全く変化してお
らず、本発明の優位性が確認された。
【0022】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、レーザ
光波長に対して透光性を有する記録層、及び反射層を用
いた光情報記録媒体の基板のレーザ光入射側に反射防止
機能と帯電防止機能の両方を持った多層膜をコートする
ことによって、再生C/Nが高くかつゴミ、ホコリ等が
付着しない高信頼性の媒体が実現出来る。
【0023】尚、上記では本発明の説明を光磁気記録媒
体を例にして行ったが、記録層にAl,Au,Tu,B
i等の金属や、色素、相変化記録材料等を用いた光情報
記録媒体に本発明を適用した場合も同様な効果を得るこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による一構成例の光磁気記録媒体の層構
成を示す断面図である。
【符号の説明】
1 透明基板 2 干渉層 3 記録層 4 反射層 5 反射防止層 5−1 第1の透明絶縁膜 5−2 透明導電膜 5−3 第2の透明絶縁膜
フロントページの続き (72)発明者 篠塚 道明 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株 式会社リコー内 (72)発明者 宮本 功 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株 式会社リコー内 (72)発明者 中村 均 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株 式会社リコー内 (72)発明者 吉尾 利彦 鳥取県鳥取市北村10−3 リコーマイク ロエレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 石山 政秋 岩手県花巻市大畑10−109 リコー光学 株式会社内 (72)発明者 小野寺 祐二 岩手県花巻市大畑10−109 リコー光学 株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−102242(JP,A) 特開 昭63−160030(JP,A) 特開 平2−158932(JP,A) 特開 平3−119530(JP,A) 特開 昭61−265749(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 7/24 535 G11B 7/24 538

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明な基板上に少なくとも、再生光波長
    に対して透光性を有する記録層、及び反射層が形成され
    てなる光情報記録媒体において、基板の再生光が入射す
    る側に多層構造の反射防止膜を設け、この反射防止膜の
    1層以上が透明導電膜であることを特徴とする光情報記
    録媒体。
  2. 【請求項2】 透明導電膜がIn23,SnO2及びZ
    nOの内の1つ以上から成ることを特徴とする請求項1
    記載の光情報記録媒体。
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