JP3413762B2 - 光磁気消去方法 - Google Patents
光磁気消去方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、光磁気記録媒体に
記録された情報の消去方法に係り、特に、光学ヘッドと
接触式の磁界発生装置とを備えたドライブ装置を用いて
光磁気記録媒体に記録された情報を消去する場合におけ
る磁性層の昇温安定化方法に関する。 【０００２】 【従来の技術】例えばコンピュータの外部記憶装置とし
て実用化されている光磁気ディスク等の光磁気記録媒体
は、透明基板上に少なくとも磁性層（例えば、希土類−
遷移金属系の非晶質垂直磁化膜）を含む薄膜を形成して
なり、透明基板を通じて磁性層にレーザビームを照射
し、磁性層を局所的にキュリー温度近傍あるいはそれ以
上の温度まで昇温しつつ磁界発生装置より磁性層にバイ
アス磁界を印加し、磁性層の磁化の向きを可逆的に反転
させて情報の記録と消去とを行う。 【０００３】磁性層にバイアス磁界を印加する磁界発生
装置には、媒体駆動時、光磁気記録媒体上を摺動する接
触式と、光磁気記録媒体より離隔した位置に保持される
非接触式とがあるが、接触式の磁界発生装置は、磁界発
生部を磁性層により近接して配置することができ、かつ
媒体の面振れ等に関係なく常に磁界発生部から磁性層ま
での距離をほぼ一定に保つことができるので、小さな磁
界で安定な記録および消去を行うことができるという点
で非接触式よりも優れる。その反面、接触式の磁界発生
装置は、光磁気記録媒体の薄膜を摩耗や衝撃により損傷
しやすいという欠点を有している。 【０００４】かかる欠点を解決するため、従来において
は、光磁気記録媒体の耐摩耗性及び耐衝撃性を改善する
ことが試みられている。この種の公知例としては、例え
ば特開昭６４−４２０３９号公報に記載されているよう
に薄膜上に潤滑層を形成したものや、例えば特開昭６４
−４３８３４号公報および特開平１−２２７２４１号公
報に記載されているように薄膜上に高分子シートあるい
は非磁性金属の薄板を形成したものなどを挙げることが
できる。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】しかるに、光磁気記録
媒体について接触式の磁界発生装置の使用を可能にする
ためには、前記従来技術のように光磁気記録媒体の耐摩
耗性及び耐衝撃性を改善するだけでは足りず、光磁気記
録媒体と磁界発生装置との摺動によって発生する摩擦熱
の影響を除去するための何らかの手段を必要とする。す
なわち、摩擦熱によって磁性層が昇温されると、レーザ
ビーム照射による磁性層の温度制御が困難になり、情報
の誤記録や誤消去を起しやすくなるからである。 【０００６】本発明は、かかる課題を解決するためにな
されたものであって、その目的は、摩擦熱による悪影響
を受けにくく、安定な情報の記録が可能な光磁気消去方
法を提供することにある。 【０００７】 【課題を解決するための手段】本発明は、前記の目的を
達成するため、光磁気記録媒体を介してその両側に光学
ヘッドと接触式の磁界発生装置とを対向に配置し、これ
ら光学ヘッドおよび磁界発生装置に対して前記光磁気記
録媒体を相対的に駆動しつつ、前記光学ヘッドより前記
光磁気記録媒体の磁性層にレーザビームを照射すると共
に、前記磁界発生装置より当該レーザビームの照射部分
に磁界を印加して前記磁性層に記録された情報の消去を
行う光磁気消去方法において、前記光磁気記録媒体とし
て潤滑層を有するものを用いると共に、前記接触式の磁
界発生装置として前記光磁気記録媒体と接触しない磁界
発生部と当該磁界発生部を介してその両側に配置された
２つの媒体摺動部とを有するものを用い、前記磁界発生
部を前記光学ヘッドに備えられた対物レンズの光軸上に
位置付け、かつ、前記媒体摺動部を前記磁界発生部の先
端が位置付けられた記録トラック外に当接し、前記光磁
気記録媒体と前記磁界発生装置との摺動によって発生す
る摩擦熱を前記磁性層のレーザビーム照射部分に直接作
用させないことを特徴とする。 【０００８】前記したように、媒体摺動部を有する接触
式の磁界発生装置は、磁界発生部を磁性層により近接し
て配置することができ、かつ媒体の面振れ等に関係なく
常に磁界発生部から磁性層までの距離をほぼ一定に保つ
ことができるので、小さな磁界で安定な記録、再生、消
去等を行うことができる。また、磁界発生部の先端を情
報記録媒体に非接触に構成し、磁界発生装置の媒体摺動
部を磁界発生部の先端が位置付けられた記録トラック外
に当接すると、情報の記録、再生、消去等が行なわれる
磁界印加部分に直接情報記録媒体と磁界発生装置との摺
動によって発生した摩擦熱が作用しないので、情報の記
録、再生、消去等に及ぼす摩擦熱の悪影響を緩和するこ
とができる。特に、キュリー温度が低く、情報の記録、
再生、消去時、磁性層に微妙な温度制御が要求される光
磁気記録媒体においては、レーザビーム照射による磁性
層の温度制御が容易になり、情報の誤記録や誤消去が防
止される。 【０００９】 【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光磁気記録方
法を実行する光磁気記録媒体ドライブ装置の一例を、図
１及び図２によって説明する。 【００１０】図１において、１１は光磁気記録媒体、１
２は光磁気記録媒体１１に昇温用のレーザビームを合焦
する対物レンズ、１３は光磁気記録媒体１１にバイアス
磁界を印加する磁界発生装置を示している。 【００１１】光磁気記録媒体１１は、片面にレーザビー
ムスポットを案内するための案内溝や記録領域のアドレ
スを表示するプリピットなどのプリフォーマットパター
ン１が形成された透明基板２と、透明基板２のプリフォ
ーマットパターン形成面に担持された第１エンハンス層
３と、第１エンハンス層３上に積層された磁性層４と、
磁性層４上に積層された第２エンハンス層５と、第２エ
ンハンス層５上に積層された反射層６と、反射層６上に
積層された断熱層７と、断熱層７上に積層された高熱伝
導層８と、高熱伝導層８上に積層された潤滑層９とから
構成されている。 【００１２】透明基板２は、例えばガラスなどの透明セ
ラミック材料や、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート、ポリメチルペンテン、エポキシなどの硬質透
明樹脂材料をもって、ディスク状やカード状、それにテ
ープ状など任意の形状に形成される。プリフォーマット
パターン１は、この透明基板の表面に、微細な凹凸状に
形成される。なお、プリフォーマットパターン１の配列
や形成方法については、公知に属する事項であり、かつ
本発明の要旨とは直接関係がないので説明を省略する。 【００１３】第１エンハンス層３は、透明基板２と磁性
層４との間で信号再生用ビームを多重反射させ、見かけ
上のカー回転角を大きくすることによって再生感度を向
上させるものであって、透明基板１よりも光の屈折率が
大きな、例えば窒化珪素などの誘電体によって形成され
る。 【００１４】磁性層４は、公知に属する任意の組成の光
磁気記録用の磁性層を用いることができるが、特に、希
土類元素−遷移金属系の垂直磁化膜が好適である。希土
類元素−遷移金属系の垂直磁化膜としては、スパッタリ
ング法によって成膜されるテルビウム−鉄−コバルト系
の合金が特に好適であり、これに白金やニオブを添加し
たものも良好な結果を得られる。 【００１５】第２エンハンス層５は、磁性層４の熱が反
射層６に拡散するのを防止し、かつ磁性層４を衝撃や腐
食などから保護し、さらには磁性層４と反射層６との間
で磁性層４を透過したレーザビームを多重反射させ、見
かけ上のカー回転角を大きくすることによって再生感度
を向上させるものであって、前記第１エンハンス層３と
同様の誘電体によって形成される。 【００１６】反射層６は、磁性層４への透湿を防止する
と共に、磁性層４を透過したレーザビームを入射側に戻
すためのものであって、例えば金やアルミニウムなどの
金属材料、あるいはこれら金属材料を主成分とする合金
材料、それにいわゆる銀鏡などの高反射率材料によって
形成される。 【００１７】断熱層７は、例えばポリテトラフルオロエ
チレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化
ビニリデン、ポリフィニレンオキシド、ポリスルホン、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、
ポリベンズイミダゾールなどの耐熱性高分子材料の蒸着
膜をもって形成することもできるし、高熱伝導層８が箔
体にて形成される場合には、前記反射層６と高熱伝導層
８とを接着する接着剤もしくは粘着剤をもって形成する
こともできる。 【００１８】高熱伝導層８は、アルミニウム、銅、錫、
シリコン、セリウム、ランタン、インジウム、ゲルマニ
ウム、鉛、ビスマス、テルル、タンタル、スカンジウ
ム、イットリウム、チタン、ジルコニウム、カドミウ
ム、亜鉛、セレン、アンチモン、ガリウム、マグネシウ
ム、ホウ素、炭素などの金属材料または非金属材料、も
しくはＣｅＯ2，Ｌａ2Ｏ3，ＳｉＯ，ＳｉＯ2，Ｉｎ２Ｏ
3，Ａｌ2Ｏ3，ＧｅＯ，ＧｅＯ2，ＰｂＯ，ＳｎＯ，Ｓｎ
Ｏ2，Ｂｉ2Ｏ3，ＴｅＯ2，Ｔａ2Ｏ5，Ｓｃ2Ｏ3，Ｙ
2Ｏ3，ＴｉＯ2，ＺｒＯ2，Ｖ2Ｏ5，Ｎｂ2Ｏ5，Ｃｒ
2Ｏ3，ＷＯ2，ＷＯ3，ＣｄＳ，ＺｎＳ，ＣｄＳｅ，Ｚｎ
Ｓｅ，Ｉｎ2Ｓ3，Ｉｎ2Ｓｅ3，Ｓｂ2Ｓ3，Ｓｂ2Ｓｅ3，
Ｇａ2Ｓ3，Ｇａ2Ｓｅ3，ＧｅＳ，ＧｅＳｅ，ＧｅＳ
ｅ2，ＳｎＳ，ＳｎＳ2，ＳｎＳｅ，ＳｎＳｅ2，Ｐｂ
Ｓ，ＰｂＳｅ，Ｂｉ2Ｓｅ3，Ｂｉ2Ｓ3，ＭｇＦ2，Ｃｅ
Ｆ2，ＣａＦ2，ＴａＮ，Ｓｉ3Ｎ4，ＡｌＮ，ＢＮ，Ｔｉ
Ｂ2，Ｂ4Ｃ，ＳｉＣなどの合金または無機化合物の蒸着
膜をもって形成することもできるし、上記より選択され
た物質の箔体をもって形成することもできる。また、上
記より選択された物質の粉状体または粒状体を分散させ
た高分子材料をもって高熱伝導層８を形成することもで
きる。 【００１９】潤滑層９は、ヘキサデカン、ブチルステア
レート、オレイン酸、エチルステアレート、ステアリン
酸、オクタデシルアミン、固形ステアリン酸などの潤滑
剤をもって形成される。潤滑層９の形成手段としては、
潤滑剤の溶剤溶液を高熱伝導層８の表面にコーティング
する方法、潤滑剤を含浸させた高分子シートを高熱伝導
層８の表面に貼着する方法、前記高熱伝導層８の表面を
ポリッシングし、形成された微細な凹部内に潤滑剤を含
浸させる方法などを採ることができる。 【００２０】対物レンズ１２は、図示外の半導体レーザ
や光変調器それに検光子などと共に光学ヘッド１２ａ内
に組み込まれており、絞り込まれたレーザビーム１６を
前記プリフォーマットパターン１に沿って、前記磁性層
４に合焦する。なお、図１においては、レーザビーム１
６をプリフォーマットパターン１上に合焦した場合につ
いて図示されているが、相隣接するプリフォーマットパ
ターン１の間の平坦部（ランド部）に合焦することもで
きる。 【００２１】本例のドライブ装置には、磁性発生装置１
３として、強磁性材料によって形成されたヨーク１４
と、該ヨーク１４の一部に巻回されたコイル１５とから
なる電磁石が備えられている。ヨーク１４は、媒体駆動
時に光磁気記録媒体１１の潤滑層９に接触する外側ヨー
ク１４ａ，１４ｂと、光磁気記録媒体１１とは非接触の
センターヨーク１４ｃとから構成されており、外側ヨー
ク１４ａ，１４ｂの先端部が媒体摺動面に、センターヨ
ーク１４ｃの先端部が記録磁界または消去磁界Ｈの発生
部になっている。外側ヨーク１４ａ，１４ｂの先端部か
らセンターヨーク１４ｃの先端部までの段差ｓは、セン
ターヨーク１４ｃの先端部が光磁気記録媒体１１に接触
しないだけの大きさがあれば足りる。一方、この段差ｓ
が大きくなるにしたがって磁性層４に印加される磁界が
低下するため、これらを考慮して段差ｓの大きさは、１
〜５０μｍ程度とすることが好ましい。 【００２２】本例の磁界発生装置１３は、図１に示すよ
うに、磁界発生部であるセンターヨーク１４ｃの先端を
対物レンズ１２の光軸Ａ−Ａと同軸に位置付けることに
よって使用される。外側ヨーク１４ａ，１４ｂは、磁界
印加部分への摩擦熱の影響を少なくするため、図２に示
すように、センターヨーク１４ｃの先端が位置付けられ
た記録トラックから離隔した位置に当接した方が好まし
い。 【００２３】前記の磁界発生装置１３は、磁界発生部で
あるセンターヨーク１４ｃを光磁気記録媒体１１と非接
触に構成したので、図１に示すように、光磁気記録媒体
１１と外側ヨーク１４ａ，１４ｂとの摺動によって発生
した摩擦熱Ｊが情報の記録、再生、消去が行われている
部分に直接作用せず、磁界発生部を光磁気記録媒体１１
に摺動させる場合に比べて摩擦熱の影響を緩和すること
ができる。よって、レーザビーム照射による磁性層４の
温度制御が容易になり、情報の誤記録や誤消去が防止さ
れる。 【００２４】なお、前記においては、磁界発生装置１３
として電磁石を用いた場合を例にとって説明したが、磁
気ヘッドや永久磁石など、他種の磁界発生装置について
も同様に構成される。 【００２５】さらに、本発明は情報の消去方法に関する
ものであるので、光磁気記録媒体１１については前記実
施例に拘らず、任意の膜構造を有するものを適宜用いる
ことができる。また、前記実施例においては、光磁気記
録媒体の消去方法について説明したが、磁気記録媒体の
消去方法にも応用することができる。 【００２６】以下に本発明の実験例を示し、本発明の効
果を明らかにする。 【００２７】〈実験例１〉 射出成形法にて形成された円板状のポリカーボネート基
板のプリフォーマットパターン転写面に、ＳｉＮよりな
る第１エンハンス層と、テルビウム−鉄−コバルト系の
非晶質垂直磁化膜よりなる磁性層と、ＳｉＮよりなる第
２エンハンス層と、ＡｌＴｉよりなる反射層をスパッタ
リング法により順次積層し、多数の同一構成の光磁気デ
ィスクを作製した。 【００２８】しかる後に、それぞれ別個の光磁気ディス
クの反射層上に、厚さが異なる各種のアルミニウム箔を
接着剤にて接着し、断熱層および高熱伝導層を有する各
種の光磁気ディスクを作製した。 【００２９】最後に、各光磁気記録媒体のアルミニウム
箔上にステアリン酸のベンゼン溶液をスピンコートし、
乾燥して潤滑層付きの光磁気ディスクを作製した。 【００３０】また、比較例として、アルミニウム箔が接
着されておらず、かつ潤滑層が形成されていない点を除
いて、前記実験例１と同じに形成された光磁気ディスク
を作製した。 【００３１】この実験例１に係る光磁気ディスクを図１
の磁界発生装置を備えたドライブ装置に装着して情報の
記録、再生、消去を１０6 回繰り返した後のエラーレー
トと、比較例に係る光磁気ディスクを従来の接触式の磁
界発生装置を備えたドライブ装置に装着して情報の記
録、再生、消去を１０6 回繰り返した後のエラーレート
とを測定し、アルミニウム箔の厚さとエラーレートとの
関係を調べた。その結果を図３に示す。図３から明らか
なように、実験例１の光磁気ディスクは、厚さが約５４
μｍ以上のアルミニウム箔が接着されたものを除き、い
ずれも比較例の光磁気ディスクよりもエラーレートが減
少している。ただし、アルミニウム箔の厚さには最適値
があり、約１４〜４２μｍの厚さのアルミニウム箔が接
着された光磁気ディスクは、情報の記録、再生、消去を
１０6 回繰り返した後においても１×１０7 以下のエラ
ーレートを保持することができるが、これよりも薄いア
ルミニウム箔が接着された光磁気ディスクおよびこれよ
りも厚いアルミニウム箔が接着された光磁気ディスク
は、共にエラーレートが上昇する。これは、ある程度厚
いアルミニウム箔を接着しないと充分な摩擦熱の放熱効
果を得ることができず、反対にアルミニウム箔の厚さが
大きくなるほど磁界発生装置の磁界が透過しにくくなる
ためである。 【００３２】〈実験例２〉 実験例１と同様にして作製された光磁気ディスクの反射
層上に、２０μｍの厚さのアルミニウム箔を接着剤にて
接着し、次いでこのアルミニウム箔上にステアリン酸の
ベンゼン溶液をスピンコートし、乾燥して潤滑層付きの
光磁気ディスクを作製した。 【００３３】この実験例２に係る光磁気ディスクを、図
１の磁界発生装置を備えたドライブ装置であって磁界発
生装置の段差ｓの大きさが異なる種々のドライブ装置に
装着して情報の記録、再生、消去を行い、エラーレート
を測定した。図４に、段差ｓの大きさとエラーレートと
の関係を示す。図４から明らかなように、磁界発生装置
にわずかでも段差ｓを設けると（例えば、０．１μｍ程
度）エラーレートの改善に効果があるが、段差ｓを４０
μｍ以上にするとエラーレートが上昇に転じ、段差ｓを
約５２μｍ以上にするとエラーレートが段差ｓを有しな
い磁界発生装置を用いた場合よりも悪くなる。これは、
段差ｓが過大になると、磁界発生装置の磁界が磁性層に
達しなくなるためである。 【００３４】〈実験例３〉 実験例１に係る光磁気ディスク、および実験例１の欄で
説明した比較例に係る光磁気ディスクを温度８０℃、相
対湿度９０％の環境下に１０００時間した後、アルミニ
ウム箔の厚さと欠陥の総数との関係を調べた。その結果
を図５に示す。図５から明らかなように、反射層上にア
ルミニウム箔を接着すると欠陥の減少に顕著な効果があ
る。特に、厚さが１μｍ以上のアルミニウム箔を接着す
ると、欠陥を最低レベルにすることができる。 【００３５】実験例１および３より、反射層上に接着さ
れるアルミニウム箔の厚さは、１〜５０μｍとすること
が好ましいことがわかる。 【００３６】 【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
磁性層にバイアス磁界を印加するための磁界発生装置と
して、光磁気記録媒体と接触しない磁界発生部と当該磁
界発生部を介してその両側に配置された２つの媒体摺動
部とを有するものを用いるので、磁界発生部を光磁気記
録媒体の磁性層により近接して配置することができると
共に、光磁気記録媒体の面振れ等に関係なく常に磁界発
生部から磁性層までの距離をほぼ一定に保つことができ
て、小さな磁界で安定な情報の消去を行うことができ
る。また、磁界発生装置の磁界発生部を光学ヘッドに備
えられた対物レンズの光軸上に位置付けると共に、媒体
摺動部を磁界発生部の先端が位置付けられた記録トラッ
ク外に当接するので、情報の消去が行われるレーザビー
ム照射部分に直接光磁気記録媒体と磁界発生装置との摺
動によって発生した摩擦熱が作用せず、情報の消去に及
ぼす摩擦熱の悪影響を緩和することができる。さらに、
光磁気記録媒体として潤滑層を有するものを用いるの
で、光磁気記録媒体の耐摩耗性及び耐衝撃性を改善する
ことができる。
記録された情報の消去方法に係り、特に、光学ヘッドと
接触式の磁界発生装置とを備えたドライブ装置を用いて
光磁気記録媒体に記録された情報を消去する場合におけ
る磁性層の昇温安定化方法に関する。 【０００２】 【従来の技術】例えばコンピュータの外部記憶装置とし
て実用化されている光磁気ディスク等の光磁気記録媒体
は、透明基板上に少なくとも磁性層（例えば、希土類−
遷移金属系の非晶質垂直磁化膜）を含む薄膜を形成して
なり、透明基板を通じて磁性層にレーザビームを照射
し、磁性層を局所的にキュリー温度近傍あるいはそれ以
上の温度まで昇温しつつ磁界発生装置より磁性層にバイ
アス磁界を印加し、磁性層の磁化の向きを可逆的に反転
させて情報の記録と消去とを行う。 【０００３】磁性層にバイアス磁界を印加する磁界発生
装置には、媒体駆動時、光磁気記録媒体上を摺動する接
触式と、光磁気記録媒体より離隔した位置に保持される
非接触式とがあるが、接触式の磁界発生装置は、磁界発
生部を磁性層により近接して配置することができ、かつ
媒体の面振れ等に関係なく常に磁界発生部から磁性層ま
での距離をほぼ一定に保つことができるので、小さな磁
界で安定な記録および消去を行うことができるという点
で非接触式よりも優れる。その反面、接触式の磁界発生
装置は、光磁気記録媒体の薄膜を摩耗や衝撃により損傷
しやすいという欠点を有している。 【０００４】かかる欠点を解決するため、従来において
は、光磁気記録媒体の耐摩耗性及び耐衝撃性を改善する
ことが試みられている。この種の公知例としては、例え
ば特開昭６４−４２０３９号公報に記載されているよう
に薄膜上に潤滑層を形成したものや、例えば特開昭６４
−４３８３４号公報および特開平１−２２７２４１号公
報に記載されているように薄膜上に高分子シートあるい
は非磁性金属の薄板を形成したものなどを挙げることが
できる。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】しかるに、光磁気記録
媒体について接触式の磁界発生装置の使用を可能にする
ためには、前記従来技術のように光磁気記録媒体の耐摩
耗性及び耐衝撃性を改善するだけでは足りず、光磁気記
録媒体と磁界発生装置との摺動によって発生する摩擦熱
の影響を除去するための何らかの手段を必要とする。す
なわち、摩擦熱によって磁性層が昇温されると、レーザ
ビーム照射による磁性層の温度制御が困難になり、情報
の誤記録や誤消去を起しやすくなるからである。 【０００６】本発明は、かかる課題を解決するためにな
されたものであって、その目的は、摩擦熱による悪影響
を受けにくく、安定な情報の記録が可能な光磁気消去方
法を提供することにある。 【０００７】 【課題を解決するための手段】本発明は、前記の目的を
達成するため、光磁気記録媒体を介してその両側に光学
ヘッドと接触式の磁界発生装置とを対向に配置し、これ
ら光学ヘッドおよび磁界発生装置に対して前記光磁気記
録媒体を相対的に駆動しつつ、前記光学ヘッドより前記
光磁気記録媒体の磁性層にレーザビームを照射すると共
に、前記磁界発生装置より当該レーザビームの照射部分
に磁界を印加して前記磁性層に記録された情報の消去を
行う光磁気消去方法において、前記光磁気記録媒体とし
て潤滑層を有するものを用いると共に、前記接触式の磁
界発生装置として前記光磁気記録媒体と接触しない磁界
発生部と当該磁界発生部を介してその両側に配置された
２つの媒体摺動部とを有するものを用い、前記磁界発生
部を前記光学ヘッドに備えられた対物レンズの光軸上に
位置付け、かつ、前記媒体摺動部を前記磁界発生部の先
端が位置付けられた記録トラック外に当接し、前記光磁
気記録媒体と前記磁界発生装置との摺動によって発生す
る摩擦熱を前記磁性層のレーザビーム照射部分に直接作
用させないことを特徴とする。 【０００８】前記したように、媒体摺動部を有する接触
式の磁界発生装置は、磁界発生部を磁性層により近接し
て配置することができ、かつ媒体の面振れ等に関係なく
常に磁界発生部から磁性層までの距離をほぼ一定に保つ
ことができるので、小さな磁界で安定な記録、再生、消
去等を行うことができる。また、磁界発生部の先端を情
報記録媒体に非接触に構成し、磁界発生装置の媒体摺動
部を磁界発生部の先端が位置付けられた記録トラック外
に当接すると、情報の記録、再生、消去等が行なわれる
磁界印加部分に直接情報記録媒体と磁界発生装置との摺
動によって発生した摩擦熱が作用しないので、情報の記
録、再生、消去等に及ぼす摩擦熱の悪影響を緩和するこ
とができる。特に、キュリー温度が低く、情報の記録、
再生、消去時、磁性層に微妙な温度制御が要求される光
磁気記録媒体においては、レーザビーム照射による磁性
層の温度制御が容易になり、情報の誤記録や誤消去が防
止される。 【０００９】 【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光磁気記録方
法を実行する光磁気記録媒体ドライブ装置の一例を、図
１及び図２によって説明する。 【００１０】図１において、１１は光磁気記録媒体、１
２は光磁気記録媒体１１に昇温用のレーザビームを合焦
する対物レンズ、１３は光磁気記録媒体１１にバイアス
磁界を印加する磁界発生装置を示している。 【００１１】光磁気記録媒体１１は、片面にレーザビー
ムスポットを案内するための案内溝や記録領域のアドレ
スを表示するプリピットなどのプリフォーマットパター
ン１が形成された透明基板２と、透明基板２のプリフォ
ーマットパターン形成面に担持された第１エンハンス層
３と、第１エンハンス層３上に積層された磁性層４と、
磁性層４上に積層された第２エンハンス層５と、第２エ
ンハンス層５上に積層された反射層６と、反射層６上に
積層された断熱層７と、断熱層７上に積層された高熱伝
導層８と、高熱伝導層８上に積層された潤滑層９とから
構成されている。 【００１２】透明基板２は、例えばガラスなどの透明セ
ラミック材料や、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート、ポリメチルペンテン、エポキシなどの硬質透
明樹脂材料をもって、ディスク状やカード状、それにテ
ープ状など任意の形状に形成される。プリフォーマット
パターン１は、この透明基板の表面に、微細な凹凸状に
形成される。なお、プリフォーマットパターン１の配列
や形成方法については、公知に属する事項であり、かつ
本発明の要旨とは直接関係がないので説明を省略する。 【００１３】第１エンハンス層３は、透明基板２と磁性
層４との間で信号再生用ビームを多重反射させ、見かけ
上のカー回転角を大きくすることによって再生感度を向
上させるものであって、透明基板１よりも光の屈折率が
大きな、例えば窒化珪素などの誘電体によって形成され
る。 【００１４】磁性層４は、公知に属する任意の組成の光
磁気記録用の磁性層を用いることができるが、特に、希
土類元素−遷移金属系の垂直磁化膜が好適である。希土
類元素−遷移金属系の垂直磁化膜としては、スパッタリ
ング法によって成膜されるテルビウム−鉄−コバルト系
の合金が特に好適であり、これに白金やニオブを添加し
たものも良好な結果を得られる。 【００１５】第２エンハンス層５は、磁性層４の熱が反
射層６に拡散するのを防止し、かつ磁性層４を衝撃や腐
食などから保護し、さらには磁性層４と反射層６との間
で磁性層４を透過したレーザビームを多重反射させ、見
かけ上のカー回転角を大きくすることによって再生感度
を向上させるものであって、前記第１エンハンス層３と
同様の誘電体によって形成される。 【００１６】反射層６は、磁性層４への透湿を防止する
と共に、磁性層４を透過したレーザビームを入射側に戻
すためのものであって、例えば金やアルミニウムなどの
金属材料、あるいはこれら金属材料を主成分とする合金
材料、それにいわゆる銀鏡などの高反射率材料によって
形成される。 【００１７】断熱層７は、例えばポリテトラフルオロエ
チレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化
ビニリデン、ポリフィニレンオキシド、ポリスルホン、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、
ポリベンズイミダゾールなどの耐熱性高分子材料の蒸着
膜をもって形成することもできるし、高熱伝導層８が箔
体にて形成される場合には、前記反射層６と高熱伝導層
８とを接着する接着剤もしくは粘着剤をもって形成する
こともできる。 【００１８】高熱伝導層８は、アルミニウム、銅、錫、
シリコン、セリウム、ランタン、インジウム、ゲルマニ
ウム、鉛、ビスマス、テルル、タンタル、スカンジウ
ム、イットリウム、チタン、ジルコニウム、カドミウ
ム、亜鉛、セレン、アンチモン、ガリウム、マグネシウ
ム、ホウ素、炭素などの金属材料または非金属材料、も
しくはＣｅＯ2，Ｌａ2Ｏ3，ＳｉＯ，ＳｉＯ2，Ｉｎ２Ｏ
3，Ａｌ2Ｏ3，ＧｅＯ，ＧｅＯ2，ＰｂＯ，ＳｎＯ，Ｓｎ
Ｏ2，Ｂｉ2Ｏ3，ＴｅＯ2，Ｔａ2Ｏ5，Ｓｃ2Ｏ3，Ｙ
2Ｏ3，ＴｉＯ2，ＺｒＯ2，Ｖ2Ｏ5，Ｎｂ2Ｏ5，Ｃｒ
2Ｏ3，ＷＯ2，ＷＯ3，ＣｄＳ，ＺｎＳ，ＣｄＳｅ，Ｚｎ
Ｓｅ，Ｉｎ2Ｓ3，Ｉｎ2Ｓｅ3，Ｓｂ2Ｓ3，Ｓｂ2Ｓｅ3，
Ｇａ2Ｓ3，Ｇａ2Ｓｅ3，ＧｅＳ，ＧｅＳｅ，ＧｅＳ
ｅ2，ＳｎＳ，ＳｎＳ2，ＳｎＳｅ，ＳｎＳｅ2，Ｐｂ
Ｓ，ＰｂＳｅ，Ｂｉ2Ｓｅ3，Ｂｉ2Ｓ3，ＭｇＦ2，Ｃｅ
Ｆ2，ＣａＦ2，ＴａＮ，Ｓｉ3Ｎ4，ＡｌＮ，ＢＮ，Ｔｉ
Ｂ2，Ｂ4Ｃ，ＳｉＣなどの合金または無機化合物の蒸着
膜をもって形成することもできるし、上記より選択され
た物質の箔体をもって形成することもできる。また、上
記より選択された物質の粉状体または粒状体を分散させ
た高分子材料をもって高熱伝導層８を形成することもで
きる。 【００１９】潤滑層９は、ヘキサデカン、ブチルステア
レート、オレイン酸、エチルステアレート、ステアリン
酸、オクタデシルアミン、固形ステアリン酸などの潤滑
剤をもって形成される。潤滑層９の形成手段としては、
潤滑剤の溶剤溶液を高熱伝導層８の表面にコーティング
する方法、潤滑剤を含浸させた高分子シートを高熱伝導
層８の表面に貼着する方法、前記高熱伝導層８の表面を
ポリッシングし、形成された微細な凹部内に潤滑剤を含
浸させる方法などを採ることができる。 【００２０】対物レンズ１２は、図示外の半導体レーザ
や光変調器それに検光子などと共に光学ヘッド１２ａ内
に組み込まれており、絞り込まれたレーザビーム１６を
前記プリフォーマットパターン１に沿って、前記磁性層
４に合焦する。なお、図１においては、レーザビーム１
６をプリフォーマットパターン１上に合焦した場合につ
いて図示されているが、相隣接するプリフォーマットパ
ターン１の間の平坦部（ランド部）に合焦することもで
きる。 【００２１】本例のドライブ装置には、磁性発生装置１
３として、強磁性材料によって形成されたヨーク１４
と、該ヨーク１４の一部に巻回されたコイル１５とから
なる電磁石が備えられている。ヨーク１４は、媒体駆動
時に光磁気記録媒体１１の潤滑層９に接触する外側ヨー
ク１４ａ，１４ｂと、光磁気記録媒体１１とは非接触の
センターヨーク１４ｃとから構成されており、外側ヨー
ク１４ａ，１４ｂの先端部が媒体摺動面に、センターヨ
ーク１４ｃの先端部が記録磁界または消去磁界Ｈの発生
部になっている。外側ヨーク１４ａ，１４ｂの先端部か
らセンターヨーク１４ｃの先端部までの段差ｓは、セン
ターヨーク１４ｃの先端部が光磁気記録媒体１１に接触
しないだけの大きさがあれば足りる。一方、この段差ｓ
が大きくなるにしたがって磁性層４に印加される磁界が
低下するため、これらを考慮して段差ｓの大きさは、１
〜５０μｍ程度とすることが好ましい。 【００２２】本例の磁界発生装置１３は、図１に示すよ
うに、磁界発生部であるセンターヨーク１４ｃの先端を
対物レンズ１２の光軸Ａ−Ａと同軸に位置付けることに
よって使用される。外側ヨーク１４ａ，１４ｂは、磁界
印加部分への摩擦熱の影響を少なくするため、図２に示
すように、センターヨーク１４ｃの先端が位置付けられ
た記録トラックから離隔した位置に当接した方が好まし
い。 【００２３】前記の磁界発生装置１３は、磁界発生部で
あるセンターヨーク１４ｃを光磁気記録媒体１１と非接
触に構成したので、図１に示すように、光磁気記録媒体
１１と外側ヨーク１４ａ，１４ｂとの摺動によって発生
した摩擦熱Ｊが情報の記録、再生、消去が行われている
部分に直接作用せず、磁界発生部を光磁気記録媒体１１
に摺動させる場合に比べて摩擦熱の影響を緩和すること
ができる。よって、レーザビーム照射による磁性層４の
温度制御が容易になり、情報の誤記録や誤消去が防止さ
れる。 【００２４】なお、前記においては、磁界発生装置１３
として電磁石を用いた場合を例にとって説明したが、磁
気ヘッドや永久磁石など、他種の磁界発生装置について
も同様に構成される。 【００２５】さらに、本発明は情報の消去方法に関する
ものであるので、光磁気記録媒体１１については前記実
施例に拘らず、任意の膜構造を有するものを適宜用いる
ことができる。また、前記実施例においては、光磁気記
録媒体の消去方法について説明したが、磁気記録媒体の
消去方法にも応用することができる。 【００２６】以下に本発明の実験例を示し、本発明の効
果を明らかにする。 【００２７】〈実験例１〉 射出成形法にて形成された円板状のポリカーボネート基
板のプリフォーマットパターン転写面に、ＳｉＮよりな
る第１エンハンス層と、テルビウム−鉄−コバルト系の
非晶質垂直磁化膜よりなる磁性層と、ＳｉＮよりなる第
２エンハンス層と、ＡｌＴｉよりなる反射層をスパッタ
リング法により順次積層し、多数の同一構成の光磁気デ
ィスクを作製した。 【００２８】しかる後に、それぞれ別個の光磁気ディス
クの反射層上に、厚さが異なる各種のアルミニウム箔を
接着剤にて接着し、断熱層および高熱伝導層を有する各
種の光磁気ディスクを作製した。 【００２９】最後に、各光磁気記録媒体のアルミニウム
箔上にステアリン酸のベンゼン溶液をスピンコートし、
乾燥して潤滑層付きの光磁気ディスクを作製した。 【００３０】また、比較例として、アルミニウム箔が接
着されておらず、かつ潤滑層が形成されていない点を除
いて、前記実験例１と同じに形成された光磁気ディスク
を作製した。 【００３１】この実験例１に係る光磁気ディスクを図１
の磁界発生装置を備えたドライブ装置に装着して情報の
記録、再生、消去を１０6 回繰り返した後のエラーレー
トと、比較例に係る光磁気ディスクを従来の接触式の磁
界発生装置を備えたドライブ装置に装着して情報の記
録、再生、消去を１０6 回繰り返した後のエラーレート
とを測定し、アルミニウム箔の厚さとエラーレートとの
関係を調べた。その結果を図３に示す。図３から明らか
なように、実験例１の光磁気ディスクは、厚さが約５４
μｍ以上のアルミニウム箔が接着されたものを除き、い
ずれも比較例の光磁気ディスクよりもエラーレートが減
少している。ただし、アルミニウム箔の厚さには最適値
があり、約１４〜４２μｍの厚さのアルミニウム箔が接
着された光磁気ディスクは、情報の記録、再生、消去を
１０6 回繰り返した後においても１×１０7 以下のエラ
ーレートを保持することができるが、これよりも薄いア
ルミニウム箔が接着された光磁気ディスクおよびこれよ
りも厚いアルミニウム箔が接着された光磁気ディスク
は、共にエラーレートが上昇する。これは、ある程度厚
いアルミニウム箔を接着しないと充分な摩擦熱の放熱効
果を得ることができず、反対にアルミニウム箔の厚さが
大きくなるほど磁界発生装置の磁界が透過しにくくなる
ためである。 【００３２】〈実験例２〉 実験例１と同様にして作製された光磁気ディスクの反射
層上に、２０μｍの厚さのアルミニウム箔を接着剤にて
接着し、次いでこのアルミニウム箔上にステアリン酸の
ベンゼン溶液をスピンコートし、乾燥して潤滑層付きの
光磁気ディスクを作製した。 【００３３】この実験例２に係る光磁気ディスクを、図
１の磁界発生装置を備えたドライブ装置であって磁界発
生装置の段差ｓの大きさが異なる種々のドライブ装置に
装着して情報の記録、再生、消去を行い、エラーレート
を測定した。図４に、段差ｓの大きさとエラーレートと
の関係を示す。図４から明らかなように、磁界発生装置
にわずかでも段差ｓを設けると（例えば、０．１μｍ程
度）エラーレートの改善に効果があるが、段差ｓを４０
μｍ以上にするとエラーレートが上昇に転じ、段差ｓを
約５２μｍ以上にするとエラーレートが段差ｓを有しな
い磁界発生装置を用いた場合よりも悪くなる。これは、
段差ｓが過大になると、磁界発生装置の磁界が磁性層に
達しなくなるためである。 【００３４】〈実験例３〉 実験例１に係る光磁気ディスク、および実験例１の欄で
説明した比較例に係る光磁気ディスクを温度８０℃、相
対湿度９０％の環境下に１０００時間した後、アルミニ
ウム箔の厚さと欠陥の総数との関係を調べた。その結果
を図５に示す。図５から明らかなように、反射層上にア
ルミニウム箔を接着すると欠陥の減少に顕著な効果があ
る。特に、厚さが１μｍ以上のアルミニウム箔を接着す
ると、欠陥を最低レベルにすることができる。 【００３５】実験例１および３より、反射層上に接着さ
れるアルミニウム箔の厚さは、１〜５０μｍとすること
が好ましいことがわかる。 【００３６】 【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
磁性層にバイアス磁界を印加するための磁界発生装置と
して、光磁気記録媒体と接触しない磁界発生部と当該磁
界発生部を介してその両側に配置された２つの媒体摺動
部とを有するものを用いるので、磁界発生部を光磁気記
録媒体の磁性層により近接して配置することができると
共に、光磁気記録媒体の面振れ等に関係なく常に磁界発
生部から磁性層までの距離をほぼ一定に保つことができ
て、小さな磁界で安定な情報の消去を行うことができ
る。また、磁界発生装置の磁界発生部を光学ヘッドに備
えられた対物レンズの光軸上に位置付けると共に、媒体
摺動部を磁界発生部の先端が位置付けられた記録トラッ
ク外に当接するので、情報の消去が行われるレーザビー
ム照射部分に直接光磁気記録媒体と磁界発生装置との摺
動によって発生した摩擦熱が作用せず、情報の消去に及
ぼす摩擦熱の悪影響を緩和することができる。さらに、
光磁気記録媒体として潤滑層を有するものを用いるの
で、光磁気記録媒体の耐摩耗性及び耐衝撃性を改善する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光磁気記録方法を実行するドライ
ブ装置の説明図である。 【図２】記録トラックに対する磁界発生部及び媒体摺動
部の配列を示す説明図である。 【図３】アルミニウム箔の厚さとエラーレートとの関係
を示すグラフ図である。 【図４】磁界発生装置の段差とエラーレートとの関係を
示すグラフ図である。 【図５】アルミニウム箔の厚さと欠陥の総数との関係を
示すグラフ図である。 【符号の説明】 １１ 光磁気記録媒体 １２ 対物レンズ １３ 磁界発生装置 １４ ヨーク １４ａ，１４ｂ 外側ヨーク １４ｃ センターヨーク １５ コイル ｓ 段差
ブ装置の説明図である。 【図２】記録トラックに対する磁界発生部及び媒体摺動
部の配列を示す説明図である。 【図３】アルミニウム箔の厚さとエラーレートとの関係
を示すグラフ図である。 【図４】磁界発生装置の段差とエラーレートとの関係を
示すグラフ図である。 【図５】アルミニウム箔の厚さと欠陥の総数との関係を
示すグラフ図である。 【符号の説明】 １１ 光磁気記録媒体 １２ 対物レンズ １３ 磁界発生装置 １４ ヨーク １４ａ，１４ｂ 外側ヨーク １４ｃ センターヨーク １５ コイル ｓ 段差
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 鈴木 浩幸
大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号 日立
マクセル株式会社内
(56)参考文献 特開 平４−139623（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G11B 11/105
G11B 5/02
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 光磁気記録媒体を介してその両側に光学
ヘッドと接触式の磁界発生装置とを対向に配置し、これ
ら光学ヘッドおよび磁界発生装置に対して前記光磁気記
録媒体を相対的に駆動しつつ、前記光学ヘッドより前記
光磁気記録媒体の磁性層にレーザビームを照射すると共
に、前記磁界発生装置より当該レーザビームの照射部分
に磁界を印加して前記磁性層に記録された情報の消去を
行う光磁気消去方法において、前記光磁気記録媒体とし
て潤滑層を有するものを用いると共に、前記接触式の磁
界発生装置として前記光磁気記録媒体と接触しない磁界
発生部と当該磁界発生部を介してその両側に配置された
２つの媒体摺動部とを有するものを用い、前記磁界発生
部を前記光学ヘッドに備えられた対物レンズの光軸上に
位置付け、かつ、前記媒体摺動部を前記磁界発生部の先
端が位置付けられた記録トラック外に当接し、前記光磁
気記録媒体と前記磁界発生装置との摺動によって発生す
る摩擦熱を前記磁性層のレーザビーム照射部分に直接作
用させないことを特徴とする光磁気消去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36765098A JP3413762B2 (ja) | 1998-12-24 | 1998-12-24 | 光磁気消去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36765098A JP3413762B2 (ja) | 1998-12-24 | 1998-12-24 | 光磁気消去方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04246599A Division JP3088569B2 (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | 光磁気記録方法および光磁気消去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11265533A JPH11265533A (ja) | 1999-09-28 |
| JP3413762B2 true JP3413762B2 (ja) | 2003-06-09 |
Family
ID=18489852
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36765098A Expired - Fee Related JP3413762B2 (ja) | 1998-12-24 | 1998-12-24 | 光磁気消去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3413762B2 (ja) |
-
1998
- 1998-12-24 JP JP36765098A patent/JP3413762B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11265533A (ja) | 1999-09-28 |
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