JP2001110102A

JP2001110102A - 情報記録媒体

Info

Publication number: JP2001110102A
Application number: JP2000268873A
Authority: JP
Inventors: Yoshitane Tsuburaya; 欣胤円谷; Norio Ota; 憲雄太田
Original assignee: Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Maxell Holdings Ltd
Priority date: 1992-07-28
Filing date: 2000-09-05
Publication date: 2001-04-20

Abstract

(57)【要約】【課題】耐摩耗性および耐衝撃性により優れた情報記
録媒体を提供する。【解決手段】光磁気ディスク１１を、片面にレーザビ
ームスポットを案内するための案内溝１２ａや記録領域
のアドレスなどを表示するプリピット１２ｂが形成され
た透明基板１２と、第１エンハンス層１３と、磁性層１
４と、第２エンハンス層１５と、反射層１６と、断熱層
１７と、熱伝導層１８と、潤滑層１９とから構成する。
潤滑層１９の替わりに耐摩耗性の層を形成すること、又
は、潤滑剤が含有された耐摩耗性の層を形成することも
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録媒体に係
り、特に、その表面構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えばコンピュータの外部記憶装置とし
て実用化されている光磁気ディスク等の光磁気記録媒体
は、透明基板上に少なくとも磁性層（例えば、希土類−
遷移金属系の非晶質垂直磁化膜）を含む薄膜を形成して
なり、透明基板を通じて磁性層にレーザビームを照射
し、磁性層を局所的にキュリー温度近傍あるいはそれ以
上の温度まで昇温しつつ磁界発生装置より磁性層にバイ
アス磁界を印加し、磁性層の磁化の向きを可逆的に反転
させて情報の記録と消去とを行う。

【０００３】磁性層にバイアス磁界を印加する磁界発生
装置には、媒体駆動時、光磁気記録媒体上を摺動する接
触式と、光磁気記録媒体より離隔した位置に保持される
非接触式とがある。接触式の磁界発生装置は、磁界発生
部を磁性層により近接して配置することができ、かつ媒
体の面振れ等に追従して磁界発生部から磁性層までの距
離をほぼ一定に保つことができるので、小さな磁界で安
定な記録および消去を行うことができるという点で非接
触式よりも優れる。その反面、接触式の磁界発生装置
は、磁界発生装置自体及び光磁気記録媒体が摩擦や衝撃
により損傷しやすいという欠点を有している。一方、非
接触式の磁界発生装置の利害得失は、接触式の磁界発生
装置と逆であって、摩擦等の悪影響を受けにくいという
利点がある半面、駆動中の光磁気記録媒体に対して微小
な間隔を隔てて安定に保持することが難しく、大型化や
クラッシュによる磁界発生装置及び光磁気記録媒体の破
損等が問題になる。

【０００４】接触式の磁界発生装置の欠点を解決するた
めの手段としては、従来より、例えば特開昭６４−４２
０３９号公報に記載されているように、薄膜上に潤滑層
を形成したものや、例えば特開昭６４−４３８３４号公
報および特開平１−２２７２４１号公報に記載されてい
るように、薄膜上に高分子シートあるいは非磁性金属の
薄板を形成したものが提案されている。一方、非接触式
の磁界発生装置としては、従来より、光磁気記録媒体を
駆動したときに発生する空気流を利用して磁界発生装置
を媒体面から浮上させる浮動式などが提案されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】接触式の磁界発生装置
を実用性の高いものにするためには、前記公知技術のよ
うに光磁気記録媒体の耐摩耗性および耐衝撃性を改善す
るだけでは足りず、光磁気記録媒体と磁界発生装置との
摺動によって発生する摩擦熱の影響を除去するための何
らかの手段を必要とする。すなわち、摩擦熱によって磁
性層が昇温されると、レーザビーム照射による磁性層の
温度制御が困難になり、情報の誤記録や誤消去を起しや
すくなるからである。一方、浮動式の磁界発生装置は、
気象条件の変動や外部からの振動によってクラッシュを
生じやすいため、非接触式の磁界発生装置を実用性の高
いものにするためには、磁界発生装置をより確実に保持
する手段の開発が必要である。

【０００６】本発明は、かかる課題を解決するためにな
されたものであって、その目的は、耐摩耗性および耐衝
撃性により優れた情報記録媒体を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、前記の課題を
解決するため、第１に、透明基板の片面に磁性層を担持
してなる情報記録媒体において、前記磁性層の外側に、
石英、水晶、トパーズ、オルトケイ酸塩、ジルコニア、
コランダム、窒化珪素、炭化珪素、炭化ホウ素、窒化ホ
ウ素、ダイヤモンドから選択されるいずれかの硬質材料
からなる被覆層を形成するという構成にした。また、本
発明は、前記の課題を解決するため、第２に、透明基板
の片面に磁性層を担持してなる情報記録媒体において、
前記磁性層の外側に、黒鉛、炭素、ヘキサデカン、ブチ
ルステアレート、オレイン酸、エチルステアレート、ス
テアリン酸、オクタデシルアミン、固形ステアリン酸か
ら選択されるいずれかの潤滑剤からなる被覆層を形成す
るという構成にした。

【０００８】さらに、本発明は、前記の課題を解決する
ため、第３に、透明基板の片面に磁性層を担持してなる
情報記録媒体において、前記磁性層の外側に、黒鉛、炭
素、ヘキサデカン、ブチルステアレート、オレイン酸、
エチルステアレート、ステアリン酸、オクタデシルアミ
ン、固形ステアリン酸より選択されるいずれかの潤滑剤
を含有させた石英、水晶、トパーズ、オルトケイ酸塩、
ジルコニア、コランダム、窒化珪素、炭化珪素、炭化ホ
ウ素、窒化ホウ素又はダイヤモンドより選択されるいず
れかの硬質材料からなる被覆層を形成するという構成に
した。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光磁気ディス
クと、当該光磁気ディスクを装着して情報の記録、再生
及び消去を行う光磁気ドライブ装置の第１例を、図１及
び図２によって説明する。図１は本例に係る光磁気ディ
スクとドライブ装置の構成説明図であり、図２は光磁気
ディスクと磁気ヘッドとの相互関係を示す断面図であ
る。これらの図において、１１は光磁気ディスク、２１
は光磁気ディスク１１を回転駆動するディスク駆動部、
３１は光磁気ディスク１１に設けられた磁性層１４にレ
ーザビームスポットを照射する光学ヘッド、５１は磁性
層１４にバイアス磁界を印加する磁界発生装置を示して
いる。

【００１０】本例の光磁気ディスク１１は、図２により
詳細に示すように、片面にレーザビームスポットを案内
するための案内溝１２ａや記録領域のアドレスなどを表
示するプリピット１２ｂが形成された透明基板１２と、
透明基板１２の案内溝１２ａ及びプリピット１２ｂの形
成面に担持された第１エンハンス層１３と、第１エンハ
ンス層１３上に積層された磁性層１４と、磁性層１４上
に積層された第２エンハンス層１５と、第２エンハンス
層１５上に積層された反射層１６と、反射層１６上に積
層された断熱層１７と、断熱層１７上に積層された熱伝
導層１８と、熱伝導層１８上に積層された潤滑層１９と
から構成されている。

【００１１】透明基板１２は、例えばガラスなどの透明
セラミック材料や、ポリカーボネート、ポリメチルメタ
クリレート、ポリメチルペンテン、エポキシなどの硬質
透明樹脂材料をもって、中心部にセンター孔１２ｂを有
する所望直径の円板状に形成される。案内溝１２ａ及び
プリピット１２ｂは、センター孔１２ｂと同心の渦巻状
もしくは同心円状に形成される。なお、案内溝１２ａ及
びプリピット１２ｂの形成方法については、公知に属す
る事項でありかつ本発明の要旨とは直接関係がないの
で、説明を省略する。

【００１２】第１エンハンス層１３は、透明基板１２と
磁性層１４との間で信号再生用ビームを多重反射させ、
見かけ上のカー回転角を大きくすることによって再生感
度を向上させるものであって、透明基板１２よりも光の
屈折率が大きな、例えば光の屈折率が２．０〜２．５程
度のＳｉＮ，ＳｉＯ，Ｎｄ₂Ｏ₃，ＺｒＯ₂，ＣｅＯ₂，Ｚ
ｎＳなどの誘電体によって形成される。

【００１３】磁性層１４は、公知に属する任意の組成の
光磁気記録用の磁性層を用いることができるが、特に、
Ｎｂ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｆ，Ｇｄなどの希土類元素とＰ
ｔ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｃｒ，Ｎｉなどの遷移金属とのアモル
ファス合金からなる垂直磁化膜が好適である。これら希
土類元素−遷移金属系の垂直磁化膜としては、スパッタ
リング法によって成膜されるＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ系の合金
が特に好適であり、これにＰｔやＮｂを添加したものも
良好な結果を得られる。

【００１４】第２エンハンス層１５は、磁性層１４の熱
が反射層１６に拡散するのを防止し、かつ磁性層１４を
衝撃や腐食などから保護し、さらには磁性層１４と反射
層１６との間で磁性層１４を透過したレーザビームを多
重反射させ、見かけ上のカー回転角を大きくすることに
よって再生感度を向上させるものであって、前記第１エ
ンハンス層１３と同種又は異種の誘電体によって形成さ
れる。

【００１５】反射層１６は、磁性層１４への透湿を防止
すると共に、磁性層１４を透過したレーザビームを入射
側に戻すためのものであって、例えばＡｕ，Ａｇ，Ｐ
ｔ，Ａｌなどの金属材料、あるいはこれら金属材料を主
成分とする、例えばＡｌ−ＴｉＯ2 ，Ａｌ−Ｔｉ，Ａｕ
−Ｓｎなどの合金材料、それにいわゆる銀鏡などの高反
射率材料によって形成される。

【００１６】断熱層１７は、例えばＡｌ₂Ｏ₃，ＳｉＯ，
ＳｉＯ₂，ＭｇＦ₂，水ガラスなどの無機物のほか、例え
ば光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、ポリテトラフルオロエ
チレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化
ビニリデン、ポリフィニレンオキシド、ポリスルホン、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、
ポリベンズイミダゾールなどの耐熱性高分子材料の塗膜
や蒸着膜をもって形成することもできるし、熱伝導層１
８が箔体にて形成される場合には、前記反射層１６と熱
伝導層１８とを接着する接着剤もしくは粘着剤をもって
形成することもできる。なお、断熱層材料としては、記
録・再生用光に対して透明な材料であることがより好ま
しい。

【００１７】熱伝導層１８は、Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａ
ｌ，Ｃｕ，Ｓｎ，Ｓｉ，Ｃｅ，Ｌａ，Ｉｎ，Ｇｅ，Ｐ
ｂ，Ｂｉ，Ｔｅ，Ｔａ，Ｓｃ，Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｃｄ，
Ｚｎ，Ｓｅ，Ｓｂ，Ｇａ，Ｍｇ，Ｂ，Ｃ等の金属材料又
は非金属材料、もしくはＣｅＯ₂，Ｌａ₂Ｏ₃，ＳｉＯ，
ＳｉＯ₂，Ｉｎ₂Ｏ₃，Ａｌ₂Ｏ₃，ＧｅＯ，ＧｅＯ₂，Ｐｂ
Ｏ，ＳｎＯ，ＳｎＯ₂，Ｂｉ₂Ｏ₃，ＴｅＯ₂，Ｔａ₂Ｏ₅，
Ｓｃ₂Ｏ₃，Ｙ₂Ｏ₃，ＴｉＯ ₂，ＺｒＯ₂，Ｖ₂Ｏ₅，Ｎｂ₂
Ｏ₅，Ｃｒ₂Ｏ₃，ＷＯ₂，ＷＯ₃，ＣｄＳ，ＺｎＳ，Ｃｄ
Ｓｅ，ＺｎＳｅ，Ｉｎ₂Ｓ₃，Ｉｎ₂Ｓｅ₃，Ｓｂ₂Ｓ₃，Ｓ
ｂ₂Ｓｅ₃，Ｇａ₂Ｓ₃，Ｇａ₂Ｓｅ₃，ＧｅＳ，ＧｅＳｅ，
ＧｅＳｅ₂，ＳｎＳ，ＳｎＳ₂，ＳｎＳｅ，ＳｎＳｅ₂，
ＰｂＳ，ＰｂＳｅ，Ｂｉ₂Ｓｅ₃，Ｂｉ₂Ｓ₃，ＭｇＦ₂，
ＣｅＦ₂，ＣａＦ₂，ＴａＮ，Ｓｉ₃Ｎ₄，ＡｌＮ，ＢＮ，
ＴｉＢ₂，Ｂ₄Ｃ，ＳｉＣなどの合金または無機化合物の
蒸着膜をもって形成することもできるし、上記より選択
された物質の箔体をもって形成することもできる。ま
た、上記より選択された物質の粉状体または粒状体を分
散させた高分子材料をもって熱伝導層１８を形成するこ
ともできる。

【００１８】潤滑層１９は、黒鉛、炭素、ヘキサデカ
ン、ブチルステアレート、オレイン酸、エチルステアレ
ート、ステアリン酸、オクタデシルアミン、固形ステア
リン酸などの潤滑剤をもって形成される。潤滑層１９の
形成手段としては、これらの潤滑剤をエポキシ樹脂、光
硬化性樹脂、熱硬化性シリコーン化合物などに混合して
塗布、コーティングする方法、前記潤滑剤の溶剤溶液を
熱伝導層１８の表面にコーティングする方法、潤滑剤を
含浸させた高分子シートを熱伝導層１８の表面に貼着す
る方法、前記熱伝導層１８の表面をポリッシングし、形
成された微細な凹部内に潤滑剤を含浸させる方法などを
採ることができる。

【００１９】なお、熱伝導層１８の上の潤滑層１９の替
わりに、或いは前記熱伝導層１８と潤滑層１９の積層の
替わりに、耐摩耗性の層を形成した光磁気記録媒体がよ
り好ましい。この耐摩耗性の層は、磁界発生装置５１の
ヨーク５２ａ，５２ｂなどが摺動しても摩耗しにくい材
料から構成されている。

【００２０】層の表面がこすられて耐摩耗性であるに
は、こすられる層に用いた材料の硬さがこする物質の硬
さよりも硬さを高くするやり方がある。物質の硬さは、
例えば硬さ試験機によっていろいろな材料の硬さを比較
することによって測ることができる。硬さの試験法に
は、ブリネル硬さ、ビッカース硬さ、ロックウェル硬
さ、ショア硬さ、モース硬さなどがある。一般的な材料
の硬さは、樹脂、ガラス、石英（ＳｉＯ₂）、水晶（Ｓ
ｉＯ₂）、トパーズ｛Ａｌ₂Ｓｉ₄（Ｆ，ＯＨ）₂｝、オル
トケイ酸塩、ジルコニア（ＺｒＯ₂）、コランダム（Ａ
ｌ₂Ｏ₃）、窒化珪素（Ｓｉ₃Ｎ₄）、炭化珪素（Ｓｉ
Ｃ）、炭化ホウ素（Ｂ₄Ｃ）、窒化ホウ素（ＢＮ）、ダ
イヤモンドなどの順に高くなる。

【００２１】光磁気記録媒体の最外層が磁界発生装置５
１等の摺動、摩擦によって摩耗するのを防ぐ手段として
は、（１）光磁気記録媒体の最外層の硬度に比較して硬度が
低い物質を、磁界発生装置５１の媒体摺動面等に用い
る。

【００２２】（２）光磁気記録媒体の最外層及び磁界発
生装置５１の媒体摺動面等のどちらか一方に、或いは両
方に、潤滑剤を含む潤滑層を形成する。

【００２３】（３）光磁気記録媒体の最外層及び磁界発
生装置５１の媒体摺動面に、摩擦係数が小さい面組織、
或いは材料を用いる。特に、摩擦熱の発生が小さく、か
つ熱伝導性の高い材料、及び表面構造を用いる、といっ
た方法がある。

【００２４】上記（１）としては、石英（ＳｉＯ₂）、
水晶（ＳｉＯ₂）、トパーズ｛Ａｌ₂Ｓｉ₄（Ｆ，Ｏ
Ｈ）₂｝、オルトケイ酸塩、ジルコニア（ＺｒＯ₂）、コ
ランダム（Ａｌ₂Ｏ₃ ）、窒化珪素（Ｓｉ₃Ｎ₄）、炭化
珪素（ＳｉＣ）、炭化ホウ素（Ｂ₄Ｃ）、窒化ホウ素
（ＢＮ）、ダイヤモンド等、物質の硬さの順列から硬さ
の高い物質を選択して光磁気記録媒体の最外層に用い、
硬さの低い物質を選択して磁界発生装置５１の媒体摺動
面等に用いる。

【００２５】他の例として、光磁気記録媒体の最外層及
び磁界発生装置５１の媒体摺動面等のいずれかに、石英
（ＳｉＯ₂）、水晶（ＳｉＯ₂）、トパーズ｛Ａｌ₂Ｓｉ₄
（Ｆ，ＯＨ）₂｝、オルトケイ酸塩、ジルコニア（Ｚｒ
Ｏ₂）、コランダム（Ａｌ₂ Ｏ ₃）等から選択される物質
を用い、他方に窒化珪素（Ｓｉ₃Ｎ₄）、炭化珪素（Ｓｉ
Ｃ）、炭化ホウ素（Ｂ₄Ｃ）、窒化ホウ素（ＢＮ）、ダ
イヤモンド等から選択される物質（以下、セラミックと
総称する）を用いる組合せでも優れた効果がある。

【００２６】上記（２）としては、光磁気記録媒体の最
外層及び磁界発生装置５１の媒体摺動面等の両方に、耐
摩耗性の上記セラミック、ゴム、樹脂に黒鉛やその他上
記の潤滑剤を含有させたものを用いることができる。

【００２７】他の例としては、例えば光磁気記録媒体の
最外層に上記物質の硬さの高低順番などから選択される
物質を用いるか、或いは光磁気記録媒体の最外層の表面
を上記物質で被覆して、他方の磁界発生装置５１の媒体
摺動面等には耐摩耗性のゴムや樹脂、或いは該ゴムや樹
脂に黒鉛やその他の上記潤滑剤を含有させたものを用い
る組合せが好ましい。

【００２８】上記（３）としては、光磁気記録媒体の最
外層及び磁界発生装置５１の媒体摺動面等のいずれか
に、上記セラミックから選択される、特に熱伝導性が良
くかつ耐摩耗性の良いものを用い、他方に金属或いは上
記セラミックのうち熱伝導性が良いものを用いた組合せ
構成のものが好ましい。

【００２９】上記（１）、（２）、（３）に示した各実
施例の光磁気記録媒体の最外層及び磁界発生装置５１の
媒体摺動面等は、膜厚が１００Å〜数１０００Å程度の
場合ではスパッタ法、真空蒸着法、或いは化学蒸着法な
どによって形成しても良いが、膜厚が数μｍ程度を要す
る場合では、上記セラミック、潤滑剤などの粉末を樹脂
の溶液、或いは接着剤の溶液に混合した塗布液をコーテ
ィングする方法によって作られる。概して工業的には、
塗布コーティング方法の方が安価で、かつ大量生産に好
適なため有利である。また、塗布コーティング方法に用
いる接着剤としては、エポキシ樹脂系のもの、熱硬化性
接着系のもの、及び光或いは紫外線硬化性接着系のもの
等を用いることがより好ましい。

【００３０】一方、光磁気記録媒体では極微細なレーザ
ビームを用いて、数μｍ以下のオーダーのピット、グル
ーブ等の微細な素子信号を読み書きするために、ごみ、
埃、微粉末などエラーの原因になるものの発生は極力防
止しなくてはならない。このような観点から形成方法を
考慮しながら、上記（１）、（２）、（３）を総合する
と、光磁気記録媒体の最外層及び磁界発生装置５１の媒
体摺動面等のいずれか一方は、上記セラミック、石英
（ＳｉＯ2 ）、水晶（ＳｉＯ2 ）、トパーズ｛Ａｌ₂Ｓ
ｉ₄（Ｆ，ＯＨ）₂｝、オルトケイ酸塩、ジルコニア（Ｚ
ｒＯ₂）、コランダム（Ａｌ₂Ｏ₃）、窒化珪素（Ｓｉ₃Ｎ
₄）、炭化珪素（ＳｉＣ）、炭化ホウ素（Ｂ ₄Ｃ）、窒化
ホウ素（ＢＮ）、ダイヤモンド等から選択される物質を
用い、他方には液体状の潤滑剤が含有された珪素系化合
物、或いはセラミックが主成分のコーティング塗布膜を
用いるのが最も好ましい。

【００３１】本発明の実施例における光磁気記録媒体の
最外層及び磁界発生装置５１の媒体摺動面等は均一に平
滑であるか、或いはプリピット、プリグルーブ（案内
溝）の幅、長さ、或いは高さ、深さの１０分の１程度以
下（０．６μｍ以下）の粗さに形成されることが必要で
ある。

【００３２】次に、ドライブ装置の構成について説明す
る。

【００３３】ディスク駆動部２１は、図示しないスピン
ドルモータと、スピンドルモータの主軸である回転スピ
ンドル２２と、回転スピンドル２２の先端部よりやや下
方に固着されたターンテーブル２３とからなる。回転ス
ピンドル２２の先端部２２ａは、前記光磁気ディスク１
１のセンター孔１２ｂにやや密に挿入可能な直径に形成
されており、該先端部２２ａをセンター孔１２ｂに挿入
し、光磁気ディスク１１の下面をターンテーブル２３上
に載置することによって、光磁気ディスク１１の回転中
心を割り出せるようになっている。

【００３４】光学ヘッド３１は、投光光学系３２と、受
光光学系３３とを備えている。投光光学系３２は、半導
体レーザ３４と、半導体レーザ３４から出射されたレー
ザビーム３５を平行ビームにするコリメータレンズ３６
と、回折格子９０と、レーザビーム３４の光路を変更す
るビームスプリッタ３７と、光磁気ディスク１１の磁性
層１４にレーザスポット３４ａを合焦する対物レンズ３
８とからなる。一方、受光光学系３２は、前記対物レン
ズ３８と、前記ビームスプリッタ３７と、反射光の偏光
角を調整する半波長板３９と、検出レンズ群４０と、反
射光をＳ偏光成分とＰ偏光成分に分離するビームスプリ
ッタ４１と、Ｓ偏光成分４２を検出する第１の光検出器
４３と、Ｐ偏光成分４４を検出する第２の光検出器４５
とからなる。

【００３５】本例の磁界発生装置５１は、強磁性材料に
よって形成されたヨーク５２と、該ヨーク５２の一部に
巻回されたコイル５３と、ヨーク５２の外面に被着され
た被覆層５４とからなる。ヨーク５２は、断面形状が略
ヨの字形に形成されており、被覆層５４が設けられた外
側ヨーク５２ａ，５２ｂに比べて、コイル５３が巻回さ
れたセンターヨーク５２ｃがやや短く形成されている。
被覆層５４は、例えばカーボンや銅、それに前記光磁気
ディスク１１に形成された潤滑層１９を構成する潤滑
剤、それに前記した高硬度のセラミック材など、滑性及
び耐摩耗性に優れた材料をもって形成される。なお、図
では被覆層５４が外側ヨーク５２ａ，５２ｂの外周全体
に設けられているが、被覆層５４は、少なくとも外側ヨ
ーク５２ａ，５２ｂの媒体対向面に形成すれば足りる。

【００３６】本例の磁界発生装置５１においては、この
被覆層５４の下面が媒体摺動面に、センターヨーク５２
ｃの先端部が記録磁界または消去磁界Ｈの発生部になっ
ている。被覆層５４の表面からセンターヨーク５２ｃの
先端部までの段差ｓは、センターヨーク５２ｃの先端部
が光磁気ディスク１１に接触しないだけの大きさがあれ
ば足りる。一方、この段差ｓが大きくなるにしたがって
磁性層１４に印加される磁界が低下するため、これらを
考慮して段差ｓの大きさは、１〜５０μｍ程度とするこ
とが好ましい。

【００３７】前記磁性発生装置５１は、図１に示すよう
に、ジンバルばね５５を介してアーム５６に取り付けら
れており、前記ターンテーブル２３に光磁気ディスク１
１が装着された後、アーム５６を駆動することによっ
て、光磁気ディスク１１の潤滑層１９上に一定の圧力で
当接される。このとき、図２に示すように、センターヨ
ーク５２ｃの先端部が、光ヘッドの対物レンズ３８から
照射されたレーザビームスポットがアクセスされた情報
記録位置Ａ−Ａ上に位置付けられ、外側ヨーク５２ａ，
５２ｂが当該記録エリア外に当接される。

【００３８】前記実施例のドライブ装置は、磁界発生部
であるセンターヨーク５２ｃを光磁気記録媒体１１と非
接触に構成し、媒体摺動面が被覆層５４で被覆された外
側ヨーク５２ａ，５２ｂを記録トラック外に当接するよ
うにしたので、図２に示すように、光磁気記録媒体１１
と磁界発生装置５１との摺動によって発生した摩擦熱Ｊ
が情報の記録、再生、消去が行われている記録トラック
に直接作用せず、記録トラック上を磁界発生装置５１が
摺動する場合に比べて摩擦熱の影響を緩和することがで
きる。また、外側ヨーク５２ａ，５２ｂの外面に滑性及
び耐摩耗性に優れた材料からなる被覆層５４を設け、こ
の被覆層５４を介して外側ヨーク５２ａ，５２ｂを光磁
気ディスク１１に摺動させるようにしたので、強磁性体
からなる外側ヨーク５２ａ，５２ｂを直接摺動させる場
合に比べて摩擦熱の発生をより低減できる。特に、外側
ヨーク５２ａ，５２ｂの被覆層５４で発生した熱は、外
側ヨーク５２ａ，５２ｂから熱伝導によって放熱できる
ので、摩擦熱による温度の上昇を低減できる。よって、
レーザビーム照射による磁性層の温度制御が容易にな
り、情報の誤記録や誤消去が防止される。

【００３９】なお、前記実施例においては、磁界発生装
置５１として、センターヨーク５２ｃの両側に外側ヨー
ク５２ａ，５２ｂが設けられたいわゆる両ヨーク形の電
磁石を用いた場合を例にとって説明したが、図３に示す
ように、センターヨーク（磁界発生部）５２ｃの片側に
のみ外側ヨーク５２ａが設けられたいわゆる片ヨーク形
の電磁石を用いることもできる。

【００４０】また、前記実施例においては、磁界発生装
置５１として電磁石を用いた場合を例にとって説明した
が、磁気ヘッドや永久磁石など、他種の磁界発生装置を
用いた場合にも応用できる。

【００４１】さらに、前記実施例においては、磁界発生
装置５１の外側ヨーク５２ａ，５２ｂを光磁気ディスク
１１の記録トラック外に当接したが、光磁気ディスク１
１の磁界発生装置当接面及び磁界発生装置５１の媒体摺
動面の滑性が充分に高く、摩擦熱の発生を低レベルに押
さえることができる場合には、図４に示すように、磁界
発生装置５１の外側ヨーク５２ａ，５２ｂを光磁気ディ
スク１１の記録しようとするトラック上に当接すること
もできる。

【００４２】ドライブ装置の第２実施例を、図５に基づ
いて説明する。図５は第２実施例に係るドライブ装置の
説明図であって、符号６１は本例に係る磁界発生装置、
符号６２は磁界発生装置６１の保持部材、符号６３は保
持部材６２に設けられたボール状回転体からなるキャス
タ、符号６４はキャスタ６３を回転自在に支持するベア
リングを示し、その他前出の図１及び図２と対応する部
分には、それと同一の符号が表示されている。

【００４３】本例のドライブ装置は、ジンバルばね５５
を介してアーム５６の先端部にキャスタ６３を有する保
持部材６２を取付け、この保持部材６２に磁界発生装置
６１を搭載したことを特徴とする。本実施例の磁界発生
装置の移動に方向性はなく、３６０度いずれの方向にも
スムースに移動できる特徴がある。

【００４４】保持部材６２は、非磁性材料をもって形成
され、その下面にベアリング６４を介してキャスタ６３
が回転自在に取り付けられている。キャスタ６３は、少
なくとも光磁気ディスク１１のトラック方向及びそれと
直交する方向に滑らかに転動するものが用いられる。キ
ャスタ６３としては、潤滑剤として黒鉛等が混合された
加硫ゴムからなるものが特に好適であり、ベアリング６
４としては、セラミックベアリングが特に好適である。

【００４５】磁界発生装置６１は、外側ヨーク５２ａ，
５２ｂの外周面に被覆層５４が形成されていないこと、
及び外側ヨーク５２ａ，５２ｂの先端部よりもセンター
ヨーク５２ｃの先端部の方が外向きに突出形成されてい
ることを除き、第１実施例に係る磁界発生装置５１と同
様に形成される。この磁界発生装置６１は、図５に示す
ように、キャスタ６３を光磁気ディスク１１の潤滑層１
９に接したとき、センターヨーク５２ｃの先端部と潤滑
層１９との間に微小なギャップｇが形成されるようにし
て、非磁性の保持部材６２に取り付けられる。

【００４６】本例のドライブ装置は、キャスタ６３を光
磁気ディスク１１の潤滑層１９に当接して転動するよう
にしたので、磁界発生装置を摺動させる場合に比べて摩
擦熱の発生をより低減することができ、レーザビーム照
射による磁性層の温度制御が容易になって、情報の誤記
録や誤消去が防止される。特に、キャスタ６３をベアリ
ング６４を介して保持部材６２に取り付けたので、キャ
スタ６３の回転が円滑で摩擦熱の発生を低減する効果が
高い。また、磁界発生部であるセンターヨーク５２ｃの
先端部と光磁気ディスク１１の磁性層１４との間隔を常
に一定に保つことができるので、小さな磁界で安定な情
報の記録、消去を行なうことができる。なお、本例のド
ライブ装置においても、図３に示すような片ヨーク形の
電磁石を用いることができ、また、電磁石に代えて磁気
ヘッドや永久磁石など、他種の磁界発生装置を用いるこ
ともできる。

【００４７】また、本例においては、キャスタ６３をベ
アリング６４を介して保持部材６２に取り付けたが、ベ
アリングを介さずにキャスタ６３を直接保持部材６２に
取り付ける構造であっても良い。

【００４８】ドライブ装置の第３実施例を、図６に基づ
いて説明する。図６は第３実施例に係るドライブ装置の
説明図であって、符号２０は光磁気ディスク１１の表面
に形成された誘電体層、符号７１はばね状アーム、符号
７２は磁界発生装置６１を浮動させるスライダ、符号７
３は前記誘電体層２０及びスライダ７２に静電気を供給
する静電気発生源を示し、その他前出の図１、図２、及
び図５と対応する部分には、それと同一の符号が表示さ
れている。

【００４９】本例のドライブ装置は、光磁気ディスク１
１の表面に誘電体層２０を形成すると共に、ばね状アー
ム７１の先端部にスライダ７２と磁界発生装置６１とを
取付け、静電気発生源７３によって前記誘電体層２０及
びスライダ７２に同一極性の静電気を帯電させ、その反
発力によって磁界発生装置６１を光磁気ディスク１１か
ら浮上させるようにしたことを特徴とする。

【００５０】光磁気ディスク１１の表面に形成された誘
電体層２０は、磁性層１４などの保護膜を兼ねるもので
あって、例えばシリコンやアルミニウムの酸化物又は窒
化物などの無機誘電体、あるいは例えば紫外線硬化性樹
脂などの有機誘電体をもって形成される。スライダ７２
も、これらの誘電体をもって形成される。ばね状アーム
７１は、スライダ７２及び磁界発生装置６１を支持する
ものであって、例えばリン青銅などの弾性体によって形
成される。

【００５１】磁界発生装置６１は、前記第２実施例に係
るものと同様のものを用いることができる。磁界発生装
置６１は、光磁気ディスク１１との衝合を防止するた
め、図６に示すように、スライダ７２の下面より突出し
ないように設定することが好ましい。

【００５２】本例のドライブ装置は、光磁気ディスク１
１の表面に形成された誘電体層２０と、ばね状アーム７
１の先端部に磁界発生装置６１と共に取り付けられたス
ライダ７２とに同一極性の静電気を帯電させ、その反発
力によって磁界発生装置６１を光磁気ディスク１１から
浮上させるようにしたので、光磁気ディスク１１に摩擦
熱による悪影響をおよぼすことがない。また、単に光磁
気ディスク１１の回転駆動にともなって発生する空気流
によって磁界発生装置６１を浮上させるのではなく、同
一極性の静電気の反発力を利用して磁界発生装置６１を
浮上させるので、磁界発生装置６１のクラッシュを生じ
にくいという効果もある。

【００５３】なお、本例のドライブ装置においても、図
３に示すような片ヨーク形の電磁石を用いることがで
き、また、電磁石に代えて磁気ヘッドや永久磁石など、
他種の磁界発生装置を用いることもできる。

【００５４】また、前記誘電体層２０及びスライダ７２
の材料に導電材を用い、絶えず一定出力の静電気を静電
気発生源７３から供給する手段でも良いが、前記誘電体
層２０及びスライダ７２の材料に電気絶縁体を用い、誘
電体層２０及びスライダ７２の各々に静電気発生源７３
で同種の電荷を負荷させて用いても良い。

【００５５】ドライブ装置の第４実施例を、図７に基づ
いて説明する。図７は、第４実施例に係るドライブ装置
の説明図であって、符号８０は磁界発生装置６１の位置
制御用光学ヘッド、符号８１は光学ヘッド８０の外筒、
符号８２は対物レンズ８０ａが内装され、外筒８１内に
摺動自在に挿入された内筒、符号８３は外筒８１に対し
て内筒８２を昇降する位置制御用アクチュエータ、符号
８４は内筒８２に磁界発生装置６１を連結固定する連結
部材、符号８５は磁界発生装置６１を安定に保持するた
めの保持部材を示し、その他前出の図１、図２、及び図
５と対応する部分にはそれと同一の符号が表示されてい
る。

【００５６】本例のドライブ装置は、磁界発生装置６１
を位置制御用光学ヘッド８０の内筒８２に連結固定し、
対物レンズ８０ａと共に位置制御用アクチュエータ８３
にて駆動するようにしたことを特徴とする。

【００５７】連結部材８４は、非磁性材料をもって構成
されており、内筒８２を挿入可能な透孔８４ａと、磁界
発生装置６１のヨーク５２を挿入可能な透孔８４ｂとが
開設されている。透孔８４ａの内面には内筒８２が挿入
固定され、透孔８４ｂの内面にはヨーク５２が挿入固定
される。一方、保持部材８５は、非磁性材料をもって構
成されており、外筒８１を挿入可能な透孔８５ａと、ヨ
ーク５２の上面に突設された支持軸５２ｄを摺動自在に
挿入可能な透孔８５ｂとが開設されている。透孔８５ａ
の内面には外筒８１が挿入固定され、透孔８５ｂの内面
には支持軸５２ｄが摺動自在に挿入される。

【００５８】磁界発生装置６１は、前記第２実施例及び
第３実施例に係るものと同様のものを用いることができ
る。磁界発生装置６１は、光磁気ディスク１１との衝合
を防止するため、内筒８２が最下位まで下降した場合に
も、光磁気ディスク１１との間に微小なギャップｇがで
きるように設定することが好ましい。光磁気ディスク１
１を介して、この磁界発生装置６１のセンターヨーク５
２ｃと対向する部分には、図７に示すように、記録・再
生用光学ヘッド３１の対物レンズ３８が位置付けられ
る。

【００５９】本例のドライブ装置に適用される光磁気デ
ィスク１１は、磁界発生装置６１が完全に非接触である
ため、第１〜第３実施例のドライブ装置に適用される光
磁気ディスクとは異なり、最外側に潤滑層や耐摩耗性層
を要しない。したがって、図７に示すように、光磁気デ
ィスク１１の最外側を透明又は光反射性の保護膜１９ａ
にて覆うことができる。なお、図中の符号９１は、透明
基板１２の表面に設けられたＳｉＯ2 膜を示す。その
他、前出の図２と対応する部分にはそれと同一の符号が
表示されている。本例の光磁気ディスク１１を第１〜第
３実施例のドライブ装置に適用することも勿論可能であ
る。

【００６０】本例のドライブ装置は、磁界発生装置６１
を位置制御用光学ヘッド８０の内筒８２に固定したの
で、磁界発生装置６１のクラッシュを完全に防止でき
る。また、磁界発生装置６１を対物レンズ８０ａと共に
位置制御用アクチュエータ８３にて駆動するようにした
ので、磁界発生装置６１の磁界発生面と光磁気ディスク
１１の磁性層１４との間隔を常に一定に保つことができ
る。したがって、小さな磁界で安定な情報の記録、消去
を行なうことができる。

【００６１】なお、本例のドライブ装置においても、図
３に示すような片ヨーク形の電磁石を用いることがで
き、また、電磁石に代えて磁気ヘッドや永久磁石など、
他種の磁界発生装置を用いることもできる。

【００６２】また、前記各実施例においては、光磁気デ
ィスクを例にとって説明したが、カード状光磁気記録媒
体など他の形状の光磁気記録媒体にも応用できることは
勿論である。

【００６３】加えて、前記各実施例においては、案内溝
１２ａ上にプリピット１２ｂが形成された所謂イングル
ーブ方式の光磁気記録媒体を例にとって説明したが、相
隣接する案内溝間にプリピット１２ｂが形成された所謂
オンランド方式の光磁気記録媒体を用いることもでき
る。

【００６４】さらに、本発明は、主として磁界発生装置
の構成に関するものであるので、使用する光磁気記録媒
体については、前記実施例に拘らず、任意の構成のもの
を用いることができる。

【００６５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
磁性層の外側に所要の硬質材料や潤滑剤からなる被覆層
を設けたので、情報記録媒体の耐摩耗性を改善すること
ができ、接触式の磁界発生装置の適用が可能になること
から、磁界発生装置のクラッシュを解消することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例に係る光磁気ディスクとドライブ装置の
説明図である。

【図２】実施例に係る光磁気ディスクとドライブ装置の
要部拡大図である。

【図３】磁界発生装置の他の例を示す断面図である。

【図４】磁界発生装置の他の配設例を示す斜視断面図で
ある。

【図５】ドライブ装置の第２例を示す説明図である。

【図６】ドライブ装置の第３例を示す説明図である。

【図７】ドライブ装置の第４例を示す説明図である。

【符号の説明】

１１光磁気ディスク１２透明基板１２ａ案内溝１２ｂプリピット１３第１エンハンス層１４磁性層１５第２エンハンス層１６反射層１７断熱層１８熱伝導層１９潤滑層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板の片面に磁性層を担持してなる
情報記録媒体において、前記磁性層の外側に、石英、水
晶、トパーズ、オルトケイ酸塩、ジルコニア、コランダ
ム、窒化珪素、炭化珪素、炭化ホウ素、窒化ホウ素又は
ダイヤモンドより選択されるいずれかの硬質材料からな
る被覆層を形成したことを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２】透明基板の片面に磁性層を担持してなる
情報記録媒体において、前記磁性層の外側に、黒鉛、炭
素、ヘキサデカン、ブチルステアレート、オレイン酸、
エチルステアレート、ステアリン酸、オクタデシルアミ
ン又は固形ステアリン酸より選択されるいずれかの潤滑
剤からなる被覆層を形成したことを特徴とする情報記録
媒体。
【請求項３】透明基板の片面に磁性層を担持してなる
情報記録媒体において、前記磁性層の外側に、黒鉛、炭
素、ヘキサデカン、ブチルステアレート、オレイン酸、
エチルステアレート、ステアリン酸、オクタデシルアミ
ン、固形ステアリン酸より選択されるいずれかの潤滑剤
を含有させた石英、水晶、トパーズ、オルトケイ酸塩、
ジルコニア、コランダム、窒化珪素、炭化珪素、炭化ホ
ウ素、窒化ホウ素又はダイヤモンドより選択されるいず
れかの硬質材料からなる被覆層を形成したことを特徴と
する情報記録媒体。