JPH076427A

JPH076427A - 光磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH076427A
Application number: JP14926693A
Authority: JP
Inventors: Takumi Shimamori; 巧美島守; Yoko Ikeda; 陽子池田
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1993-06-21
Filing date: 1993-06-21
Publication date: 1995-01-10

Abstract

(57)【要約】【目的】６００ｎｍ以下の波長に対応した高記録密度
の光磁気記録媒体を提供することを目的とする。【構成】基板上に少なくとも、光磁気記録層、反射層
を有する光磁気記録媒体において、光磁気記録層をキュ
リー温度が２２０℃以上のものとし、かつ反射層を以下
の元素群の中の少なくとも１種を含有するＡｇ合金とし
たことを特徴とする光磁気記録媒体。元素群：Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｎ
ｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は熱磁気記録と磁気光学効
果を用いて光により情報の記録・再生を行う光磁気記録
媒体、及びそれを用いた光情報記録再生方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報量の飛躍的な増大に伴い、情
報記録媒体に対する記録密度向上の要求が高まってい
る。光ディスクは記録密度が高い上に、ランダムアクセ
ス性、可搬性に優れている。特に光磁気ディスクは繰り
返し記録が可能で、信頼性にも優れるため、コンピュー
タ用外部記憶装置、録音装置の記録媒体として既に商品
化されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】現在商品化されている
光磁気ディスクの記憶容量は直径５．２５インチのディ
スク片面当り３００メガバイト（ＭＢｙｔｅ）程度であ
る。これを１ギガバイト（ＧＢｙｔｅ）程度まで高める
ために、トラックピッチを短くすることや記録信号の変
調方式を変更することが提案されており、実用化の目処
が立ちつつある。

【０００４】しかしながら、現行技術の範囲内で記録密
度を更に向上させるのは、記録密度が既に理論的な限界
に近づいていることから不可能であると言わざるを得な
い。光ディスクにおける記録密度の理論的限界を決定す
るのは記録再生に使われるレーザ光の集光スポットの大
きさである。従って更に記録密度を高めるためにはレー
ザ光のスポットをより小さく絞ることが不可欠である。
レーザ光のスポット径ｄは使用するレーザ光の波長λと
対物レンズの開口数ＮＡにより次式（１）で表される。

【０００５】ただし、ｋはレンズの開口形状、入射光束
の強度分布によって決まる定数である。

【０００６】

【数１】ｄ＝ｋ・λ／ＮＡ・・・（１）レーザ光のスポット径ｄを小さくするためには、波長λ
の短い光源を用いること、及び開口数ＮＡの大きな対物
レンズを用いることが必要である。レンズの開口数を大
きくすると、焦点深度が浅くなり、またディスクの傾き
や基板の厚みむらに対する許容度が急激に低下してしま
うため、光ヘッドのサーボ能力が低下してしまう。

【０００７】従って、レンズの開口数は現行の０．５５
程度よりさほど大きくすることはできない。よって、レ
ーザ光のスポット径を小さくして記録密度を向上させる
ためには、光ヘッドの光源として現行の８３０ｎｍ、７
８０ｎｍよりも短い波長の光源を使用することが不可欠
である。光磁気ディスクの再生信号の品質を支配するの
は反射率と磁気カー回転角であり、より具体的には反射
率の平方根と磁気カー回転角との積という形で表され
る。これを性能係数と呼ぶこととする。

【０００８】現在商品化されている光磁気ディスクの記
録層としては、ＴｂＦｅＣｏに代表される重希土類−遷
移金属アモルファス合金が使われている。これら合金の
性能係数は現行光磁気ディスクドライブのレーザ光の波
長８００ｎｍ程度では比較的大きな値を示すが、光の波
長が短くなって６００ｎｍ以下になると急激に減少して
しまう。

【０００９】またドライブの信号検出に使われている光
検出素子のフォトダイオードの検出感度も、８００ｎｍ
付近では高いが６００ｎｍ以下になると急激に低下して
しまう。これらの事実は現行の技術では短波長側で再生
信号の強度が極端に低下してしまい、記録信号の安定し
た再生が不可能になることを意味している。

【００１０】以上に述べてきたように、記録密度の向上
を狙った短波長光源を用いた光磁気記録再生システムを
実現するには、短波長側での再生信号強度の低下が問題
となっている。先に述べたように、大きな再生信号を得
るためには記録媒体の性能係数を大きくすることと光検
出素子の感度を向上させる事が重要である。

【００１１】光磁気ディスクドライブで用いられている
光検出素子、フォトダイオードにおける光の検出は、光
がｐｎ接合付近の電子を伝導帯に励起し、伝導帯の電子
がｐｎ接合を移動し、フォトダイオードを電流が流れる
ことによりなされる。フォトダイオードを構成するＳｉ
半導体の光吸収係数は短波長側で大きくなるため、短波
長の光はフォトダイオード表面近傍で吸収されてしま
い、ｐｎ接合付近まで到達しにくくなる。

【００１２】その結果ｐｎ接合付近で励起される電子の
数が減少するため、光の検出感度が低下してしまう。よ
って短波長側で光検出素子の検出感度を向上させるのは
理論的に困難であり、短波長側で大きな再生信号を得る
ためには記録媒体の性能係数を大きくすることが重要で
ある。光磁気記録媒体は一般的には、透明基板上に、光
磁気記録層、光干渉層、光反射層、保護層等、複数の層
を設けることにより構成される。再生信号強度を支配す
る性能係数はこれらの全ての層を総合して考慮しなけれ
ばならない。

【００１３】本発明は全ての層を構成する材料、層厚、
及び層構成を最適化し、光磁気ディスクの６００ｎｍ以
下の波長での性能係数を高めた光磁気記録媒体を提供す
るとともに、それと６００ｎｍ以下の短波長光を用いた
光情報記録再生システムを提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは高記録密度
光磁気記録再生システムを提供すべく鋭意検討した結
果、基板上に少なくとも、光磁気記録層及び反射層を有
する光磁気記録媒体において、光磁気記録層をキュリー
温度が２２０℃以上のものとし、かつ反射層として少な
くとも元素群Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚ
ｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗの中から選ばれる１元素を含
むＡｇ合金を用いることにより６００ｎｍ以下の波長で
優れた性能係数を示す光磁気記録媒体が提供可能となる
ことを明らかにした。

【００１５】更に、この媒体に６００ｎｍ以下の波長を
用いて記録再生を行ったところ、優れた記録再生特性を
示し、高密度の光情報記録再生が実現できることが明ら
かになった。本発明は、基板上に少なくとも、光磁気記
録層、反射層を有する光磁気記録媒体において、磁性層
のキュリー温度を２２０℃以上とし、かつ反射層として
少なくとも元素群Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、
Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗの中から選ばれる１元素を
含むＡｇ合金を用いることを特徴とする光磁気記録媒、
及びその媒体に波長６００ｎｍ以下のレーザ光を用いて
情報の記録再生を行うことを特徴とする光情報記録再生
方法である。

【００１６】以下に本発明を更に詳しく説明する。本発
明にて用いられる光磁気記録媒体の基板としては、ガラ
ス、ポリカーボネート等のプラスチック、あるいはガラ
ス上に光ヘッド案内用の溝付き樹脂を形成した基板など
が挙げられる。溝の深さ、及び間隔は使用する波長に合
わせて最適化、つまり波長が短くなるほど溝を浅くし、
間隔を細かくするのが好ましい。このような基板の複屈
折は、光磁気信号の品質を損なわないよう極力小さいこ
とが望ましい。また基板の厚みは１〜２ｍｍ程度が一般
的である。

【００１７】本発明の光磁気記録層は波長６００ｎｍ以
下のレーザ光を集光させてキューリー点まで加熱し、外
部磁気ヘッドを用いて熱磁気記録を行う層である。記録
が行われるためには、磁化軸が膜面に対して垂直に向か
なければならないので、光磁気記録層としては垂直磁気
異方性の大きいことが望ましい。再生は、波長６００ｎ
ｍ以下のレーザ光（記録時のレーザ光より弱い光）を用
いてカー効果により行うものであるが、再生光の波長が
短くなって集光スポット径が小さくなると、単位面積当
りの光のエネルギー密度が高くなるため、再生光を照射
したときの光磁気記録層の温度は従来の８００ｎｍ程度
の波長の場合よりも高くなりやすい。

【００１８】光磁気記録層の温度が高くなると磁気カー
回転角が減少し、再生信号の出力が低下するが、低下の
割合は光磁気記録層のキュリー温度が低いほど著しい。
このため、光磁気記録層の物性を適切に調整する必要が
生ずる。従来の８００ｎｍ程度の波長用の光磁気記録層
のキュリー温度は１７０℃程度であるが、この媒体に４
８８ｎｍの波長の光源で記録再生を行ったところ、記録
感度が極端に向上し、Ｃ／Ｎが低下する。

【００１９】記録層の組成であるＴｂ−Ｆｅ−ＣｏのＣ
ｏ濃度を増すことによってキュリー温度は上昇するが、
キュリー温度を２２０℃前後にすると記録感度が低下
し、Ｃ／Ｎが向上することが分かった。よって６００ｎ
ｍ以下の波長の光を用いて記録再生を行うための光磁気
記録層の材料のキュリー温度としては２２０℃以上であ
ることが必須となる。

【００２０】このような条件を満たす光磁気記録層とし
ては、３ｄ遷移金属中のＣｏ濃度が１５原子％以上のＴ
ｂ−Ｆｅ−Ｃｏ非晶質合金、あるいは３ｄ遷移金属中の
Ｃｏ濃度が３５原子％以上のＮｄ−Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ非
晶質合金等が挙げられる。３ｄ遷移金属中のＣｏ濃度の
上限は６０原子％程度が望ましい。光磁気記録層の膜厚
は、レーザ光のパワーに対する記録感度、性能係数等を
考慮して使用する波長、及び反射層の光学定数に合わせ
て決定されなければならず、６００ｎｍ以下の波長、Ａ
ｇを主体とする反射層に合わせると光磁気記録層の膜厚
は３０ｎｍ以下が好適である。

【００２１】反射層は光磁気記録層を透過した光を反射
して再び光磁気記録層に戻す役割を担う。これにより光
の利用効率を高めると共に、反射率と磁気カー回転角が
増大し、性能係数が増大する。また、反射膜の組成は光
磁気記録媒体の熱伝導性に影響を与える。現在商品化さ
れている８００ｎｍ程度の波長に対応する光磁気ディス
クの反射層としてはアルミニウムあるいはアルミニウム
合金が使用されているのに対し、本発明では特定の元素
を含むＡｇ合金からなる反射層が使用されるのが特徴的
である。

【００２２】反射層として、従来のアルミニウム、アル
ミニウム合金、あるいは金を用いると６００ｎｍ以下の
波長で充分な性能係数を得ることができないが、Ａｇを
主体とする反射層を用い、先に述べた２２０℃以上のキ
ュリー温度を持つ光磁気記録層と組み合わせることによ
り、はじめて良好な性能係数を得ることが可能になるこ
とが分かった。

【００２３】これまでにも反射率の高い金属に着目し、
Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌを光磁気記録媒体の反射層に用
いるという特許が出願されている。（特開昭５８−８３
３６４号、特開昭５９−１３２４３４号、特開昭５９−
８１５０号、特開昭５９−３８７８１号等）これらの特
許の中で着目されている反射層の反射率は、空気から直
接反射層に光を入射した際の反射率である。

【００２４】しかしながら、このような反射率が性能係
数にとって本質的でないことは次の点から明かである。
即ち、光磁気記録媒体の反射層における光の反射は光磁
気記録層と反射層の界面、あるいは、光磁気記録層と反
射層との間に設けた断熱層（干渉層）と反射層の界面
で、両者の光学定数の違いにより起こっており、空気と
反射層の界面での反射とは全く異なるからである。

【００２５】また、Ａｇ合金反射層の果たす役割につい
て詳細に検討した結果、Ａｇ合金反射層によってもたら
される効果は高反射率を得ることよりは、むしろ光磁気
記録層のカー回転角を増大させる役割が大きいことが分
かった。例えば、従来のＡｌ合金からなる反射層を使用
した場合と、本発明のＡｇ合金を用いた場合の反射率、
カー回転角、性能係数を比較すると以下の表−１のよう
になり、Ａｇ合金を用いたメリットは反射率ではなく、
むしろカー回転角であることが分かる。測定波長は５０
０ｎｍである。

【００２６】

【表２】Ａｇ合金を反射層に用いた場合に、カー回転角の増大が
著しく、結果として良好な性能係数が得られる理由は、
Ａｇの屈折率ｎが６００ｎｍ以下の波長においても０．
５以下の小さな値を示すためであることが光学定数を用
いたシミュレーションにより判明した。

【００２７】また、他の高反射率金属である、Ａｕ、Ｃ
ｕにおいては、屈折率ｎが波長８００ｎｍ付近では小さ
くＡｇと同等であるが、波長６００ｎｍ以下の波長領域
ではＡｇよりもかなり大きくなり、０．５を超えるよう
になることが、光学定数の測定から判明した。更に、各
種金属、半導体の光学定数を測定したところ、６００ｎ
ｍ以下の可視光領域で屈折率が０．５以下の小さい値を
示す元素はＡｇだけであることが分かった。

【００２８】即ち、８００ｎｍ程度の波長ではＡｇ以外
のＡｕ、Ｃｕ、Ａｌ等を主体とする反射層を用いても良
好な特性が得られるが、６００ｎｍ以下の波長ではＡｇ
を主体とする反射層を用いないと良好な特性が得られな
いということになる。また、Ａｇを主体とする反射層は
２２０℃以上のキュリー温度を持つ光磁気記録層と組み
合わせることにより、はじめて６００ｎｍ以下の波長で
良好な特性を示す。

【００２９】８００ｎｍ程度の波長に対応する光磁気媒
体は、記録感度を良好にする為に２００℃以下、一般的
には１７０℃程度のキュリー温度を持つ光磁気記録層を
用いている。このような光磁気記録層とＡｇを主体とす
る反射層を組み合わせても、光磁気記録層が本来備える
磁気光学効果が小さいために、６００ｎｍ以下の波長で
優れた性能係数を得ることが出来ない。

【００３０】ところでＡｇ単体は熱伝導度が高く、記録
感度が悪いため、反射層にそのまま応用するのは困難で
ある。そこでＡｇの熱伝導度低減を鋭意検討した結果、
元素郡Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｎ
ｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗの中の少なくとも１元素を含むＡｇ
合金において、６００ｎｍ以下の波長における屈折率が
０．５以下であること、熱伝導度が十分に低いことが同
時に実現することを見いだした。

【００３１】反射層の熱伝導度の評価には注意を要す
る。光磁気記録媒体に用いられる反射層の厚みは数十ｎ
ｍ程度が一般的である。ところが、このような薄膜の熱
伝導率は、組成が同じバルクの場合と大きく異なること
が知られている。従って、バルク、あるいは厚膜の熱伝
導率を測定して、薄膜の熱伝導率を類推することは無意
味と言える。

【００３２】一方、数十ｎｍの薄膜の熱伝導度を直接測
定することは、基板が薄膜に対して非常に厚く、基板に
よる熱伝導が大き過ぎるため、不可能である。ところ
で、Ａｇのような金属の熱伝導は自由電子が担うとされ
ている。また同時に、金属の自由電子は金属中の電気伝
導も担っている。よって、金属の熱伝導度と電気伝導度
が対応すると考えられる。実際、井上敏氏らの編による
のアグネ最新元素周期表のデータをもとに、各種金属元
素の熱伝導度と電気伝導度の対応を整理してみたとこ
ろ、非常にきれいな比例関係が見られることが分かっ
た。

【００３３】つまり、金属薄膜の電気伝導度を測定すれ
ば、金属薄膜の熱伝導度を決定できるということであ
る。そこで、反射層薄膜をガラス基板上に作製したもの
について、４端子法により電気抵抗率を測定し、電気伝
導度から熱伝導度を決定した。ちなみに、１００ｎｍ程
度の厚みのＡｇの熱伝導度は周期表から得られるバルク
のＡｇの熱伝導度とはかなり異なる値を示した。

【００３４】また、各元素のＡｇ合金中の添加濃度には
最適範囲があることも見いだした。即ち、添加元素濃度
が高過ぎると屈折率が増加し、０．５を超えてしまう上
に、逆に添加元素濃度が低過ぎる場合には熱伝導度の低
下が十分でないことが分かった。各元素の添加範囲（濃
度範囲）を以下に示す。

【００３５】

【表３】添加元素の濃度範囲Ｖ：０．５原子％以上、８．０
原子％以下Ｃｒ：０．８原子％以上、８．２原子％以下Ｍｎ：１．１原子％以上、７．５原子％以下Ｆｅ：０．７原子％以上、１２．１原子％以下Ｃｏ：０．８原子％以上、１２．５原子％以下Ｎｉ：１．３原子％以上、１４．２原子％以下Ｚｒ：０．２原子％以上、１．８原子％以下Ｎｂ：０．２原子％以上、４．０原子％以下Ｍｏ：０．２原子％以上、４．４原子％以下Ｔａ：０．６原子％以上、１０．８原子％以下Ｗ：０．１原子％以上、１．９原子％以下反射層には前記元素群の中から２元素以上を選択して添
加してもよいし、前記元素群以外の元素、例えば耐食性
を向上させるようなＡｕ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｃｕ等を更に添
加してもよいが、屈折率を０．５以下に保つためにはＡ
ｇ合金中のＡｇ濃度を７０原子％以上にしなければなら
ない。反射層の膜厚としては３０ｎｍ〜１００ｎｍが好
ましい。

【００３６】干渉層は誘電体からなり、光を干渉させる
層である。一般的には基板と光磁気記録層との間に設け
られ、基板と光磁気記録層と間で光を多重反射させ、見
かけ上の磁気カー回転角を増大させる役割、干渉効果を
担う。その厚みは使用する光の波長に合わせて変化させ
なければ、充分な干渉効果が得られない。４００ｎｍ〜
６００ｎｍの波長を考えると干渉層の厚みは２０ｎｍ〜
５５ｎｍとするのが好適である。

【００３７】これは一次干渉点を利用する場合である
が、二次干渉点を利用して干渉層の厚みを１２０ｎｍ〜
２００ｎｍとすることもできる。また、基板と光磁気記
録層の間に設けられる干渉層は基板と光磁気記録層との
密着性を高める役割、光磁気記録層と基板を断熱する役
割、プラスチック基板を通して侵入してくる水分から光
磁気記録層を保護する役割等を合わせ持つ。

【００３８】干渉層として用いられる材料としては窒化
シリコン、酸化タンタル、酸化シリコン、酸化アルミニ
ウム、酸化チタン、硫化亜鉛等やこれらの混合物からな
るアモルファス薄膜が一般的である。誘電体からなる干
渉層は、更に光磁気記録層と反射層の間にも設けること
ができる。これにより更に光の干渉効果を高め、磁気カ
ー回転角を増大させることが可能である。

【００３９】ただし、６００ｎｍ以下の波長の場合、現
行の８００ｎｍ程度の波長に比べて干渉効果が大きく、
干渉効果による反射率の低減が著しい。反射率が極端に
低下するとトラッキングを行うための信号が微弱になっ
てしまう等の問題が生じる。従って、６００ｎｍ以下の
波長の光を用いる光磁気記録媒体においては、光磁気記
録層と反射層との間に誘電体からなる干渉層を設けず、
反射層を光磁気記録層に接して設けるのがむしろ好まし
い。

【００４０】以上に述べた各層を環境から化学的、物理
的に保護する保護層としては、アクリル系の紫外線硬化
樹脂等、硬質性の材料を用いるのが好適であり、反射層
の上にスピンコート法により厚み２〜２０μｍ程度塗布
した後、紫外線照射により硬化させて形成されるのが一
般的である。紫外線硬化樹脂等（有機物）からなる保護
層と反射層との間に、先に述べたような誘電体からなる
層を設けて、保護層としてもよい。

【００４１】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り、以下の実施例に限定されるものではない。実施例１基板としては厚さ１．２ｍｍのガラス基板を用いた。基
板上に誘電体層として、酸化タンタル薄膜を反応性スパ
ッタリング法により形成した。

【００４２】その後、その表面を高周波プラズマで５分
間エッチングし、表面を平滑化した。エッチング後の酸
化タンタル層の厚みが約３５ｎｍとなるように初期の膜
厚を設定した。次にこの酸化タンタル層の上にＴｂ₂₀Ｆ
ｅ₆₄Ｃｏ₁₆｛数値は原子％で成分量を示す、３ｄ遷移金
属（Ｆｅ）中のＣｏ濃度は２０％｝のアモルファス合金
を、直流マグネトロンスパッタリング法により膜厚約２
０ｎｍに形成し、光磁気記録層とした。

【００４３】Ａｇターゲット上にＶチップを置いて直流
マグネトロンスパッタを行い、約５０ｎｍの反射層を設
けた。分析を行った結果、反射層の組成はＶ１．４原子
％Ａｇ９８．６原子％であった。反射層の上に保護層と
して酸化タンタル層約４０ｎｍを設けた。スパッタ装置
から取り出した後、紫外線硬化樹脂をスピンコートし、
厚さ約３μｍの保護層を設けて、光磁気記録媒体とし
た。

【００４４】紫外線硬化樹脂を設けないこと以外は上と
同様の方法で作製したサンプルについて、温度を上昇さ
せながら磁気カーループの測定を行ったところ、２２０
℃においてもループは観測され、光磁気記録層のキュリ
ー温度は２２０℃以上であることが分かった。光源とし
て波長４８８ｎｍのＡｒレーザを用いた光磁気記録動特
性評価機により、光磁気記録媒体としての記録特性、再
生特性を評価した。記録条件、再生条件は以下の通りで
ある。

【００４５】記録条件線速１０ｍ／ｓ記録周波数２ＭＨｚｄｕｔｙ５０％記録印加磁界は２４ｋＡ／ｍとし、記録レーザパワーを
変化させた再生条件線速１０ｍ／ｓ再生レーザパワー１ｍＷ記録パワーを０．５ｍＷずつ変化させながらＣ／Ｎを測
定し、Ｃ／Ｎが立ち上がる記録パワー、ＰthとＣ／Ｎの
最大値を調べた結果を表−２に示した。Ｐthが大きいほ
ど記録感度が悪いことを意味する。

【００４６】実施例２光磁気記録層をＮｄ₁₀Ｔｂ₁₅Ｆｅ₃₈Ｃｏ₃₇｛数値は原子
％で成分量を示す、３ｄ遷移金属（Ｆｅ）中のＣｏ濃度
は４９％｝アモルファス合金約２０ｎｍとした以外は実
施例１と同様の方法で光磁気記録媒体を作製した。キュ
リー温度は２２０℃以上であった。光磁気記録媒体とし
ての記録特性、再生特性を評価した。結果を表−２に示
した。

【００４７】実施例３反射層がＴａＡｇ合金約５０ｎｍであること以外は実施
例１と同様の方法で光磁気記録媒体を作製した。反射層
の組成はＴａ２．０原子％、Ａｇ９８．０原子％であっ
た。光磁気記録媒体としての記録特性、再生特性を評価
した。結果を表−２に示した。

【００４８】比較例１光磁気記録層をＴｂ₂₀Ｆｅ₇₄Ｃｏ₆｛数値は原子％で成
分量を示す、３ｄ遷移金属（Ｆｅ）中のＣｏ濃度は７．
５％｝アモルファス合金約２０ｎｍとした以外は実施例
１と同様の方法で光磁気記録媒体を作製した。キュリー
温度は１７０℃程度であった。光磁気記録媒体としての
記録特性、再生特性を評価した。結果を表−２に示し
た。

【００４９】比較例２反射層をＡｇ単体約５０ｎｍとした以外は、実施例１と
同様の方法で光磁気記録媒体を作製した。光磁気記録媒
体としての記録特性、再生特性を評価した。結果を表−
２に示した。比較例３反射層をＡｌＴａ合金約５０ｎｍとした以外は、実施例
１と同様の方法で光磁気記録媒体を作製した。光磁気記
録媒体としての記録特性、再生特性を評価した。結果を
表−２に示した。

【００５０】

【表４】表−２より、実施例においては良好なＣ／Ｎが得られて
おり、記録感度にも問題が無いことが分かる。一方、比
較例１、３では記録感度は高いものの、Ｃ／Ｎが実施例
に比べてかなり劣ること、また比較例２ではＣ／Ｎは高
いが記録感度が極端に悪いことが分かる。

【００５１】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、現
行よりも波長の短い６００ｎｍ以下の波長に対応した高
性能の光磁気記録媒体を提供でき、６００ｎｍ以下の波
長の光を用いた高記録密度の光磁気記録システムが実現
される。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に少なくとも、光磁気記録層、反
射層を有する光磁気記録媒体において、光磁気記録層を
キュリー温度が２２０℃以上のものとし、かつ反射層を
以下の元素群の中の少なくとも１種を含有するＡｇ合金
としたことを特徴とする光磁気記録媒体。元素群：Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｎ
ｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ
【請求項２】Ａｇ合金に含有される元素の含有量が下
記の濃度範囲にあり、かつＡｇ合金中のＡｇ濃度が７０
原子％以上であることを特徴とする請求項１に記載の光
記録媒体。【表１】添加元素の濃度範囲Ｖ：０．５原子％以上、８．０
原子％以下Ｃｒ：０．８原子％以上、８．２原子％以下Ｍｎ：１．１原子％以上、７．５原子％以下Ｆｅ：０．７原子％以上、１２．１原子％以下Ｃｏ：０．８原子％以上、１２．５原子％以下Ｎｉ：１．３原子％以上、１４．２原子％以下Ｚｒ：０．２原子％以上、１．８原子％以下Ｎｂ：０．２原子％以上、４．０原子％以下Ｍｏ：０．２原子％以上、４．４原子％以下Ｔａ：０．６原子％以上、１０．８原子％以下Ｗ：０．１原子％以上、１．９原子％以下
【請求項３】光磁気記録層の厚みが３０ｎｍ以下であ
ることを特徴とする請求項２に記載の光磁気記録媒体。
【請求項４】光磁気記録層の反射層が設けられた側と
は反対の側に、厚みが２０ｎｍ以上、５５ｎｍ以下であ
る誘電体からなる光干渉層を設けたことを特徴とする請
求項３に記載の光磁気記録媒体。
【請求項５】光磁気記録層と反射層が接して設けられ
ていることを特徴とする請求項４に記載の光磁気記録媒
体。
【請求項６】光磁気記録層が、３ｄ遷移金属中のＣｏ
濃度が１５原子％以上のＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ非晶質合金、
あるいは、３ｄ遷移金属中のＣｏ濃度が３５原子％以上
のＮｄ−Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ非晶質合金であることを特徴
とする請求項４に記載の光磁気記録媒体。
【請求項７】請求項１の光磁気記録媒体に、波長６０
０ｎｍ以下のレーザ光を用いて記録再生を行うことを特
徴とする光情報記録再生方法。