JPH0464939A

JPH0464939A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH0464939A
Application number: JP17517990A
Authority: JP
Inventors: Yutaka Yoshida; 裕吉田; Shinichi Tachibana; 立花　信一
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1990-07-04
Filing date: 1990-07-04
Publication date: 1992-02-28

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野コ本発明は、光ビームにより記録・再生・消去を行なうこ
とが可能な光学的記録媒体に関し、特に磁場変調法によ
るオーバーライド（重ね書き）が可能な光磁気記録媒体
に関するものである。

［従来の技術］従来、オーバーライドが可能な光磁気ディスク及びその
装置としては、例えば特開昭５１−１０７１２１号公報
、特開昭６３−２１７５４８号公報、特開昭５９２１５
００８号公報、特公昭６０−４８８０６号公報等に記載
されているように、記録する情報に応じて光磁気記録層
への印加磁場を変調させる方式、或いはアイ　イー　イ
ー　イー（ＩＥＥＥ）　　ｒトランサクション　オン　
マグネティクス（Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎ　ｏｎＭａｇ
ｎｅｔｉｃｓ）　ＭＡＧ−２０Ｊ　　Ｖｏｌ、５．　１
０１３頁（１９８４年）に報告されているように、２個
の光スポットを用いる方式等が知られている。

また、従来の光学的記録媒体における保護層としては、
特開昭６１−１２３５９３号公報、特開昭６１−１３３
０６７号公報、特開昭６１−１３９９６１号公報、特開
昭６１−１５３８４４号公報等に開示されているように
、紫外線硬化型アクリレート系樹脂組成物により構成さ
れたものが用いられている。

上記の保護層を用いて光磁気記録層を保護している従来
の光学的記録媒体の代表的なものとしては、案内溝及び
プリフォーマット信号を有する樹脂基板上に真空蒸着、
スパッタリング等の方法によりＳｉＮ、　ＳｉＯｘ、　
ＺｎＳ、　ＳｉＣ等の無機誘電体の一種あるいは二種以
上を組み合わせた積層膜を形成し、その上にＧｄＴｂ、
　ＴｂＦｅ、　ＧｄＴｂＦｅ、　ＴｂＦｅＣｏ。

ＧｄＴｂＦｅＣｏ等の非晶質光磁気記録層を設け、その
光磁気記録層の上に前記無機誘電体と同様の積層膜を形
成し、さらにその上に紫外線硬化型アクリレート系樹脂
組成物からなる保護層を設けて光磁気記録層を保護して
なるものである。

［発明が解決しようとする課題］この様な光磁気記録層を有する光磁気記録媒体を用いた
、磁界変調方式のオーバーライド可能な光磁気記録シス
テムでは、始動時および停止時において、磁気ヘッドと
光磁気記録媒体の摺動が激しいために、度々磁気ヘッド
がクラッシュする問題が発生する。この磁気ヘッドのク
ラッシュの原因としては、摺動により発生する光磁気記
録媒体の削れくず、媒体摺動面の突起や硬度、周囲のゴ
ミの巻き込み等が考えられる。

従来、この磁気ヘッドのクラッシュを防止する対策とし
て、光磁気記録層の磁気ヘッドと対向する側に紫外線硬
化型アクリレート系樹脂などの樹脂を、例えば、１〜２
０ｐｍの厚さに積層した保護層を設けることが提案され
ているが、クラッシュの防止は不十分である。具体的に
は、磁気ディスクに樹脂からなる保護層が設けられてい
るが、Ｃ８Ｓ試験（Ｃｏｎｔａｃｔ　５ｔａｒｔ　５ｔ
ｏｐ　Ｔｅ５ｔ）を行うと、　１００万パスをクリアす
ることができず、ヘッドクラッシュが発生する状況であ
る。

即ち、従来の樹脂保護層は、耐摺動性が悪いものが多く
、また帯電性が大きいので周囲のゴミの巻き込みも多発
する問題があった。

本発明は、この様な従来技術の問題を解決するするため
になされたものであり、樹脂保護層に導電性無機微粒子
を含有させることにより、磁気ヘッドに対する耐摩耗性
に優れた光記録媒体を提供することを目的とするもので
ある。

［課題を解決するための手段］すなわち、本発明は、基板上に磁気記録層と無機誘電体
保護層の積層膜及び樹脂保護層を有する光記録媒体に於
て、前記樹脂保護層が導電性無機微粒子を含有すること
を特徴とする光記録媒体である。

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明は、磁気記録層と無機誘電体保護層の積層膜及び
樹脂保護層を有する光記録媒体に於て、前記樹脂保護層
に導電性セラミックス粒子、金属粒子等の導電性無機微
粒子を含有させることにより、前述の磁気ヘッドクラッ
シュの問題を解決し、記録された磁区の形状の改善を図
るものである。

本発明において、樹脂保護層には硬化性樹脂が用いられ
、例えば熱硬化性樹脂、紫外線や電子線などの放射線で
硬化される放射線硬化性樹脂等を用いることができる。

これらの中で、硬化速度が速く、案内溝及びプリフォー
マット信号を有する樹脂基板に対する熱的な影響が少な
い放射線硬化性樹脂、特に放射線硬化型アクリレート系
樹脂組成物が最適である。紫外線及び電子線硬化型樹脂
は同一の樹脂を用いることができる。但し、電子線硬化
型樹脂としては、重合開始剤が不要であるので、これを
省略することも可能である。紫外線硬化システムは装置
が簡便な点が利点であり、電子線硬化システムは、透過
率が高い為に粒子の多（含まれる系で有効である。両シ
ステムは必要に応じて選択すれば良い。

紫外線硬化型アクリレート系樹脂組成物としては、通常
、（Ａ）プレポリマー成分、（Ｂ）反応性希釈剤成分、
（Ｃ）光重合開始剤成分を混合した組成物よりなり、そ
の成分（Ａ）、　（Ｂ）、　　（Ｃ）の使用割合は、（
Ａ）成分５〜９５％；（Ｂ）成分９５〜５％（重量比）
、（Ｃ）成分０．１〜１０％（重量比）で組み入れた組
成物が用いられる。（Ａ）プレポリマー成分としては、
ポリオールポリアクリレート、ポリエステルアクリレー
ト、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等が
挙げられる。また、（Ｂ）反応性希釈剤成分としては、
多価アルコールのアクリル酸エステルが用いられる。（
Ｃ）光重合開始剤成分としては、公知の光重合開始剤が
用いられ、特に配合後の貯蔵安定性のよいものが好まし
く、例えば、ベンゾインアルキルエーテル系、アセトフ
ェノン系、プロピオフェノン系、アントラキノン系、チ
オキサントン系などである。これらは−種または二種以
上を任意の割合で混合して用いられている。

電子線硬化性樹脂としては、前述の紫外線硬化樹脂組成
物をそのまま用いることができる。また、（Ｃ）光重合
開始剤成分を省略することができる。

また、熱硬化性樹脂としては、ウレタン樹脂。

エポキシ樹脂等が挙げられる。

本発明において、前記樹脂保護層に含有される導電性無
機微粒子には、金属、セラミックス又はカーボンブラッ
クグラファイトなどを用いることができる。金属微粒子
を用いる場合には、腐食の問題があるので、耐酸化性の
良い元素、例えばＡｕなどを用いることが好適である。

また、導電性セラミックスとしては、例えばＳｎ、　Ｓ
ｂ変成ＴｉＯ、Ｔｉｅ、　ＳｎＯ３などを用いることが
できる。

これらの導電性無機微粒子の平均粒子径は、ＩＩＬｍ以
下、特に好ましくは０．５１Ｌｍ以下が望ましい。

ｌｐｍを越えると、磁気記録層の放熱にムラが起こり、
Ｃ／Ｎが悪化する原因となることがある。

導電性無機微粒子の導電性は比抵抗値で表示されること
が一般的であり、比抵抗値は、ｌＸｌ０’Ωｃｍ未満、
特にＩ　Ｘ　１０２Ω−ｃｍ未満が好ましい。

これらの導電性無機微粒子は、樹脂保護層を形成する硬
化性樹脂に均一に分散されて用いられ、その配合比は樹
脂１００重量部に対して、５〜２００重量部、好ましく
は】０〜５０重量部の範囲が望ましい。

樹脂保護層の厚さは２〜３０ｐｍ、好ましくは５〜１０
ＩＬｍの範囲が望ましい。２ｐｍ未満では外部からの傷
に対する保護層の保護機能が十分でなく、３０ｐｍをこ
えると樹脂保護層の硬化収縮により剥離を生じるために
好ましくない。

また、無機微粒子を含有する樹脂保護層の表面電気抵抗
はｌＸｌ０”０７口未満の値が適当である。

本発明における樹脂保護層の形成方法は、例えば、スピ
ンコーター、ロールコータ−、バーコーター等により、
導電性無機微粒子を含有する硬化性樹脂を塗布して、光
、紫外線、電子線の照射、加熱等により硬化させること
によって形成することができる。

また、樹脂保護層は、光学的記録媒体の片面あるいは両
面に設けることができる。

本発明の光学的記録媒体において、磁気記録層には特に
制限することなる広範囲のものを用いることができるが
、例えばＧｄＴｂ、　ＴｂＦｅ　　ＧｄＴｂＦｅ　　Ｔ
ｂＦｅＣｏ、　ＧｄＴｂＦｅＧｏ等の非晶質磁気記録層
が挙げられる。

無機誘電体保護層には、特に限定することはな（通常用
いられティるＳｉＪ、　Ｓｉｎ、、　Ｓｉｎ、　Ａｊ！
Ｎ等を使用することができる。

また、基板には、特に限定することはないが、例えば案
内溝及びプリフォーマット信号を有するポリカーボネー
ト樹脂、アクリル樹脂、ボリスヂレン樹脂、ポリオレフ
ィン系樹脂等よりなるものが用いられる。

［作用］本発明の光記録媒体は、基板上に磁気記録層と無機誘電
体保護層の積層膜及び樹脂保護層を有する光記録媒体に
於て、前記樹脂保護層が導電性無機微粒子を含有してい
るので、該導電性無機微粒子により、保護膜の耐摺動性
が大幅に向上し、かつ帯電性を下げることによって、ヘ
ッドクラッシュの発生を防止することができる。

［実施例］以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。

実施例１第１図は本発明の光記録媒体の一実施例を示す説明図で
ある。同図に示す光学的記録媒体を以下の様にして作成
した。まず、案内溝及びプリフォーマット信号を有する
厚さ　１．２ｍｍのポリカーボネートディスク基板１上
に、スパッタリング（スッパタ圧０．２Ｐａ、投入パワ
ー５００Ｗ　）により膜厚５００人の５ｉａＮａ層（無
機誘電体保護層）２を成膜し、その上に膜厚４００人の
非晶質ＧｄＦｅ層３、膜厚４００人の非晶質ＴｂＦｅ層
をスッパタ圧０．３Ｐａのスパッリングにて積層して磁
気記録層３を設け、更に７００人の５Ｌ３Ｎ４層４をス
ッパタ圧０．２Ｐａ、投入パワー５００Ｗで成膜して、
成膜板を得た。

次に、下記の（Ａ）光硬化性樹脂　　　　　　　　　１００重量部（
商品名ＳＰ（：　３３９、日本化薬■製）（Ｂ）　Ａｕ
粉末　　　　　　　　　　　　　１０重量部（平均粒子
径　０．２ルｍ、比抵抗値　３　Ｘ　１０−６Ω・ｃｍ）（Ａ）、　（Ｂ
）の混合物をボールミルにて５時間混線分散して得られ
た組成物を、スピンコーターにて塗布厚７ｐｍとなるよ
うに成膜板に塗布した後、日新ハイボルテージ社製、キ
ュアトロンＥＢＣ−２００−２０−１５型を用いて、加
速電圧１５０ＫＶでｌＯＭｒａｄの電子線を照射し、樹
脂保護層５を硬化させて、光磁気ディスクを製作した。

実施例２実施例１において、（Ｂ）　Ａｕ粉末１０重量部の代り
に、Ｓｎ、　Ｓｂ変成ＴｉＯ□粉末（チタン工業社製、
商品名　ＥＣＴ−５２、平均粒子径０．４ｐｍ、比抵抗
値５Ω・ｃｍ　）　１０重量部を用いた他は同様の方法
で光磁気ディスクを製作した。

実施例３実施例１において、（Ｂ）　Ａｕ粉末１０重量部の代り
に、Ｓｎ、　Ｓｂ変成ＴｉＯ□粉末（チタン工業■製、
商品名　ＥＣＴＴ−１、平均粒子径２．６１Ｌｍ、比抵
抗値２０Ω・ｃｍ　）　１０重量部を用いた他は同様の
方法で光磁気ディスクを製作した。

実施例４実施例１において、（Ｂ）　Ａｕ粉末１０重量部の代り
にＴｉＯ粉末（平均粒子径０．５ＩＬｍ、比抵抗値５Ω
・ｃｍ　）　１０重量部を用いた他は同様の方法で光磁
気ディスクを製作した。

比較例１実施例１において、（Ｂ）　Ａｕ粉末１０重量部を用い
ない他は同様の方法で光磁気ディスクを製作した。

比較例２実施例１において、（Ｂ）　Ａｕ粉末１０重量部の代り
に、（Ｂ）炭酸カルシウム粉末（平均粒子径０．５ｐｍ
、比抵抗値ｌＸｌ０”’Ω・ａｍ　）　１０重量部を用
いた他は同様の方法で光磁気ディスクを製作した。

比較例３実施例１において、（Ｂ）　Ａｕ粉末１０重量部に代り
に、非導電性ＴｉＯ２粉末（石原産業■製、商品名タイ
ベークＲ−５８０、平均粒径０゜５ｐｍ、比抵抗値１×
１Ｑ１４Ω・ｃｍ　）　１０重量部を用いた他は、同様
の方法で光磁気ディスクを製作した。

このようにして得られた各実施例及び比較例の光磁気デ
ィスクを、第２図に示すディスクドライブ装置を用いて
、Ｃ，Ｓ、　Ｓ試験を行った。Ｃ，Ｓ、　Ｓ試験は、磁
気ヘッド８を回転開始時及び停止時にはディスクに接触
させておき、ディスク回転中では浮上している、いわゆ
る浮上ヘッドを用いたもので、開始及び停止のくり返し
を１００万回行った。

その評価は、テスト終了後の樹脂保護層表面の傷の度合
（目視）で判定した。

その結果を表１に示す。

表　　１［発明の効果］以上説明した様に、本発明は、磁界変調オーバーライド
方式において、磁気ヘッドに対する耐摩耗特性の優れた
、光磁気記録媒体を提供することができる。

特に、本発明の光記録媒体は、磁場変調方式による光磁
気記録装置に用いられる光記録媒体に好適である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光記録媒体の一実施例を示す説明図お
よび第２図はＣ，Ｓ、　Ｓ明図である。］・・・基板２．４・・・　Ｓ　ｉ、　３　Ｎ　４層３・・・磁気記
録層５・・・樹脂保護層６・・・レンズ７・・・スピンドルモーター８・・・磁気ヘッド９・・・レーザー光試験の方法を示す説

Claims

【特許請求の範囲】

基板上に磁気記録層と無機誘電体保護層の積層膜及び樹
脂保護層を有する光記録媒体に於て、前記樹脂保護層が
導電性無機微粒子を含有することを特徴とする光記録媒
体。